JP2005140935A5 - - Google Patents

Claims (8)

1. プロキシミティ方式を用いた基板の露光方法であって、
   チャック上の基板の露光を行う露光位置と、チャックに対して基板のロード／アンロードを行うロード／アンロード位置とを設け、
   基板を固定して冷却するチャックを複数用意して、各チャックをロード／アンロード位置から露光位置へ順次移動させ、
   露光位置で１つのチャック上の基板の露光を行っている間に、ロード／アンロード位置で他のチャックに対する基板のロード／アンロードと他のチャック上の基板の冷却とを行うことを特徴とする露光方法。
2. 露光位置で基板をＸＹ方向にステップ移動させて、基板の一面を複数のショットに分けて露光することを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
3. 露光位置で１つのチャック上の基板の露光を行っている間に、ロード／アンロード位置でさらに他のチャック上の基板のプリアライメントを行うことを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
4. プロキシミティ方式を用いた基板の露光装置であって、
   マスクと、
   基板を固定して冷却する複数のチャックと、
   前記チャック上の基板の露光を行う露光位置と、
   前記チャックに対して基板のロード／アンロードを行うロード／アンロード位置と、
   前記各チャックを搭載して前記ロード／アンロード位置から前記露光位置へ順次移動する複数のステージと、
   前記ロード／アンロード位置にある前記チャックに対して基板のロード／アンロードを行う基板搬送手段とを備えたことを特徴とする露光装置。
5. 前記ステージは、露光位置でＸＹ方向にステップ移動することを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
6. 前記ステージは、ロード／アンロード位置で基板のプリアライメントを行うことを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
7. 請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の露光方法を用いて、基板上にパターンを形成することを特徴とする基板製造方法。
8. 請求項４乃至請求項６のいずれか１項に記載の露光装置を用いて、基板上にパターンを形成することを特徴とする基板製造方法。