JPH11194501A

JPH11194501A - プロキシミティー露光装置、およびプロキシミティー露光装置におけるギャップ調整方法

Info

Publication number: JPH11194501A
Application number: JP9366831A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Matsumoto; 武司松本; Nobuyuki Niwa; 信之丹羽
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1997-12-26
Filing date: 1997-12-26
Publication date: 1999-07-21

Abstract

(57)【要約】【課題】絵柄や基板サイズよらず、マスク、基板間の
ギャップを測定でき、１つのプロキシミティー露光装置
で種々の絵柄や基板サイズに対応できるプロキシミティ
ー露光装置を提供する。【解決手段】基板保持台に基板を保持し、マスクと密
着させずに（マスクと基板間に隙間をもたせ）、マスク
を介して平行な露光光を基板に照射することにより、基
板へのパターン露光を行うプロキシミティー露光装置で
あって、基板の厚みを測定する基板厚み測定部と、マス
ク面の位置と基板保持台の面の位置を検出することによ
り、マスク、基板保持台間のギャップを測定するギャッ
プセンサーと、マスク、基板間のギャップを制御する制
御部と、マスク、基板間のギャップを所望の値に設定す
るギャップ設定入力部とを備え、基板厚み測定部の測定
結果と、ギャップセンサーの測定結果に基づき、マス
ク、基板間のギャップを算出し、これとギャップ設定入
力部から入力されたマスク、基板間のギャップとを比較
し、比較結果にもとづき、マスク、基板間のギャップを
制御するものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プロキシミティー
露光装置に関するもので、特に、基板に作製される電極
配線等の絵柄によらずマスクと基板とのギャップ調整が
できるプロキシミティー露光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、プラズマディスプレイパネル（以
下ＰＤＰとも記す）は、その奥行きの薄いこと、軽量で
あること、更に鮮明な表示と液晶パネルに比べ視野角が
広いことにより、種々の表示装置に利用されつつある。
例えば、ＡＣ型のＰＤＰは、例えば、図７に示すような
構造をしており、２枚の対向するガラス基板７１０、７
２０にそれぞれ規則的に配列した一対の、バス電極であ
る金属電極７５０と透明電極７４０からなる複合電極と
アドレス７８０を設け、その間にネオン、キセノン等を
主体とするガスを封入した構造となっている。そして、
これらの電極間に電圧を印加し、電極周辺の微小なセル
内で放電を発生させることにより、各セルを発光させて
表示を行うようにしている。尚、図７はＰＤＰ構成斜視
図であるが、分かり易くするため前面板（ガラス基板７
１０）、背面板（ガラス基板７２０）とを実際より離し
て示してある。また、ＤＣ型ＰＤＰにあっては、電極は
誘電体層で被膜されていない構造を有する点でＡＣ型と
相違するが、その放電効果は同じである。また、図７に
示すものは、ガラス基板７２０の一面に下地層７６７を
設けその上に誘電体層７６５を設けた構造となっている
が、下地層７６７、誘電体層７６５は必ずしも必要とし
ない。

【０００３】そして、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）
は、ＡＣ型の場合、例えば、図６に示すようにして、背
面板、前面板をそれぞれ別個の工程で作製し、両者を用
いてＰＤＰをアセンブリして作製していた。以下、ＰＤ
Ｐ用の背面板、前面板の作製工程を簡単に説明する。先
ず、背面板の作製工程を説明する。はじめに、ガラス基
板を用意し（Ｓ６１１）、ガラス基板に厚膜印刷法によ
り陰極用（電極配線用）ペーストを所定パターンで印刷
し、これを乾燥、焼成し、電極配線を形成する。（Ｓ６
１２）次いで、このガラス基板の電極配線形成側上に障壁（バ
リアリブとも言う）を、印刷法ないしサンドブラスト法
により形成する。（Ｓ６１３）印刷法の場合、ガラス基板に厚膜印刷法により障壁（バ
リアリブ）形成用ペーストを所定のパターンに印刷し、
これを乾燥する。障壁の層厚は厚く（例えば１６０り２
００μｍの厚さ）１回の厚膜印刷ではこの膜厚が得られ
ないため、障壁形成用ペーストの印刷および乾燥は複数
回行う。所定の膜厚が得られた後、ペーストの焼成がな
される。サンドブラスト法の場合は、障壁形成材料をガ
ラス基板上に塗布し、更にこの上に所定のレシストパタ
ーンを形成した後、研磨砂を吹きかけレジストパターン
に対応した形状に障壁形成材料を加工して、これを焼成
して障壁を形成する。更に、障壁が形成された基板に厚
膜印刷法により蛍光体用ペースト（例えば、酸化インジ
ウム含有の螢光体用ペースト）を所定パターンに印刷
し、次いでその乾燥及び焼成を行い（Ｓ６１４）、背面
板を形成する。（Ｓ６１５）

【０００４】次に、前面板の作製工程を説明する。先
ず、ガラス基板を用意し（Ｓ６２１）、ガラス基板に例
えばＩＴＯ（ＩｎｄｉｕｍＴｉｎＯｘｉｄｅ）の蒸
着層をパターニングする。（Ｓ６２１）パターニングは通常のフォトリソ工程（リゾグラフィー
技術）により行う。次いで、Ｃｒ−Ｃｕ−Ｃｒ（クロ
ム、銅、クロム）の３層を蒸着やスパッタリングにより
成膜し（Ｓ６２２）、同様にフォトリソ工程（リゾグラ
フィー技術）によりパターニングして、あるいは電極配
線用ペーストを所定パターンで印刷して、パターニング
されたＩＴＯ膜とともに、放電用の電極配線を形成す
る。（Ｓ６２３）次いで、ペースト状にした低融点ガラスのベタ印刷によ
り、透明誘電体層を形成して（Ｓ６２４）、前面板が得
られる。（Ｓ６２５）

【０００５】このように、ＰＤＰ用の背面板、前面板の
作製においては、フォトリソ工程（リソグラフィ技術を
伴う工程）が多くあり、これらの工程においては、基板
保持台に基板を保持し、マスクと密着させずに（マスク
と基板間に隙間をもたせ）、マスクを介して平行な露光
光を基板に照射することにより、基板へのパターン露光
を行うプロキシミティー露光装置を用いて、基板のパタ
ーニングを行う場合が多かった。しかし、図５に示すよ
うに、従来のプロキシミティー露光装置においては、ギ
ャップセンサー５７０により、マスク５２０の面位置と
基板保持台５１９上の基板５３０の反射部５３０Ａの面
位置を検出することにより、マスク、基板間のギャップ
を求め、これに基づいてマスク、基板間のギャップ調整
を行っていた為、１つのプロキシミティー露光装置で、
基板に作製する種々の電極配線の絵柄（パターンとも言
う）に対応できなかった。詳しくは、ギャップセンサー
の検出用の光を透過させるマスク５２０の光透過窓５２
５に対応する位置に、検出用の光を正反射させるの反射
部を基板に設けることが何らかの理由によりできない場
合、例えば、その位置に電極配線の絵柄を設けるため反
射部を設けることができない場合には、マスク、基板間
のギャップ調整が行えなかった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】上記のように、従来の
プロキシミティー露光装置においては、特に、基板に作
製される電極配線等の絵柄によっては、検出用の光を正
反射させる反射部を基板に設けるできず、マスク、基板
間のギャップ調整ができず、この対応が求められてい
た。本発明は、これに対応するもので、基板に作製され
る電極配線等の絵柄によらず、マスク、基板間のギャッ
プを測定でき、１つのプロキシミティー露光装置で基板
に作製される電極配線等の種々の絵柄に対応できるプロ
キシミティー露光装置を提供しようとするものである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明のプロキシミティ
ー露光装置は、基板保持台に基板を保持し、マスクと密
着させずに（マスクと基板間に隙間をもたせ）、マスク
を介して平行な露光光を基板に照射することにより、基
板へのパターン露光を行うプロキシミティー露光装置で
あって、基板の厚みを測定する基板厚み測定部と、マス
ク面の位置と基板保持台の面の位置を検出することによ
り、マスク、基板保持台間のギャップを測定するギャッ
プセンサーと、マスク、基板間のギャップを制御する制
御部と、マスク、基板間のギャップを所望の値に設定す
るギャップ設定入力部とを備え、基板厚み測定部の測定
結果と、ギャップセンサーの測定結果に基づき、マス
ク、基板間のギャップを算出し、これとギャップ設定入
力部から入力されたマスク、基板間のギャップとを比較
し、比較結果にもとづき、マスク、基板間のギャップを
制御するものであることを特徴とするものである。そし
て、上記において、ギャップセンサーは、検出するため
の検出光を供給する検出光光源部と光学的位置検出部と
を備え、マスクに設けたギャップ測定用の光透過窓で検
出光の一部を反射させ、マスク面の位置を求め、検出光
の一部を透過させ、該光透過窓に対応した位置の基板保
持台の面に設けられた、該光透過窓を透過した検出光を
正反射するための光反射部からの検出光の反射光を、再
度光透過窓を通過させて検出し、その光反射部の面の位
置を求め、基板保持台の面の位置を検出するものである
ことを特徴とするものである。そしてまた、上記におけ
る厚みセンサーは、基板保持台とは別の試料台ないし搬
送部上に基板を載せ、基板の厚さを測定するもので、基
板の表裏面それぞれの変位を検出する２つの変位計とそ
れらの制御部および演算部とを有し、試料台ないし搬送
部の面の位置を基準として、基板の表裏面それぞれの変
位を検出し、検出された結果にもどづき前記演算部にて
演算して、基板厚を測定するものであることを特徴とす
るものである。また、上記において、基板サイズ＜マス
クサイズ≦基板保持台サイズ、であることを特徴とする
ものである。また、上記において、マスクには基板のサ
イズより外側にギャップ測定用の光透過窓が設けられて
いることを特徴とするものである。また、上記における
基板は、液晶表示装置（ＬＣＤ）ないしプラズマディス
プレイパネル（ＰＤＰ）用の基板であることを特徴とす
るものである。

【０００８】本発明のプロキシミティー露光装置におけ
るギャップ調整方法は、基板保持台に基板を保持し、マ
スクと密着させずに（マスクと基板間に隙間をもた
せ）、マスクを介して平行な露光光を基板に照射するこ
とにより、基板へのパターン露光を行うプロキシミティ
ー露光装置における、マスク、基板間のギャップ調整方
法で、予め基板の厚み測定をしておき、且つ、光学的位
置検出部により、マスク面の位置と基板を保持する基板
保持台の面の位置を検出することによりマスク、基板保
持台間のギャップを測定し、マスク、基板間のギャップ
を算出し、算出した結果に基づき、マスク、基板間のギ
ャップを調整することを特徴とするものである。尚、こ
こでは、マスク面とは、マスクの露光するパターンが形
成されている側の面を意味している。

【０００９】

【作用】本発明のプロキシミティー露光装置は、このよ
うな構成にすることにより、基板に作製する絵柄によら
ず、マスク、基板間のギャップを測定でき、１つのプロ
キシミティー露光装置で基板に作製する種々の絵柄に対
応できるプロキシミティー露光装置の提供を可能として
いる。具体的には、基板の厚みを測定する基板厚み測定
部と、マスク面の位置と基板保持台の面の位置を検出す
ることにより、マスク、基板保持台間のギャップを測定
するギャップセンサーと、マスク、基板間のギャップを
制御する制御部と、マスク、基板間のギャップを所望の
値に設定するギャップ設定入力部とを備え、基板厚み測
定部の測定結果と、ギャップセンサーの測定結果に基づ
き、マスク、基板間のギャップを算出し、これとギャッ
プ設定入力部から入力されたマスク、基板間のギャップ
とを比較し、比較結果にもとづき、マスク、基板間のギ
ャップを制御するものであることにより、これを達成し
ている。即ち、基板厚み測定部により、予め基板の厚さ
を測定し、且つ、ギャップセンサーによりマスク、基板
保持台間のギャップを測定することにより、両測定結果
からマスク、基板間ギャップを算出でき、これにより、
図５に示す、従来のプロキシミティー露光装置のよう
に、基板面を直接ギャップセンサにより測定する必要は
なく、基板に作製する絵柄に影響を受けずに、マスク、
基板間ギャップを得ることができる。

【００１０】本発明のプロキシミティー露光装置におけ
るギャップ調整方法は、このような構成にすることによ
り、プロキシミティー露光装置において、基板面を直接
ギャップセンサにより測定せずに、マスク、基板間ギャ
ップを得ることを可能としている。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明のプロキシミティー露光装
置の実施の形態を挙げて説明する。図１は本発明のプロ
キシミティー露光装置の実施の形態の１例の全体構成を
示す概略平面図であり、図２（ａ）は要部拡大図で、図
２（ｂ）はギャップセンサーとそのギャップ測定原理を
説明するための図で、図３は本発明のプロキシミティー
露光装置におけるギャップ調整法の１例を示したフロー
図で、図４は基板厚さ測定部を説明するための概略断面
図である。尚、各図とも、分かり易くするため、要部以
外の部分については、省略してある。図１、図２中、１
００はプロキシミティー露光装置、１１０は露光部、１
１１はアライメント部、１１３は光源部、１１５は露光
光、１１７はホルダー、１１９は基板保持台、１１９Ａ
は反射部、１２０はマスク、１２３は光透過窓、１２５
はマスクライブラリー（保管部）、１３０は基板、１４
０は基板供給部、１５０は基板排出部、１６０は基板厚
さ測定部、１７０はギャップセンサー、１７３は光学的
位置検出部、１７５は光源部、１８０は制御部、１９０
はギャップ設定入力部、２１０は半導体レーザ駆動回
路、２２０は半導体レーザ（発光素子）、２３０は透光
レンズ、２４０はレーザ光、２４５は反射光、２５０受
光レンズ、２６０は光位置検出素子（光センサー部）、
２７０信号増幅回路、２８０は試料、Ａ０、Ａ１、Ａ２
は試料面（反射部１１９Ａの面）、Ｓ０、Ｓ１、Ｓ２は
光位置検出素子（光センサー部）の光到達位置である。
図１に示すプロキシミティー露光装置は、ＰＤＰ用の基
板をパターニングするための露光装置で、基板保持台に
基板を保持し、マスクと密着させずに、マスクと基板間
に隙間をもたせ、マスクを介して平行な露光光を基板に
照射することにより、基板へのパターン露光を行うプロ
キシミティー露光装置である。そして、基板１３０の厚
みを測定する基板厚さ測定部１６０と、マスク面と基板
保持台の面の位置を検出することにより、マスク、基板
保持台間のギャップを測定するギャップセンサー１７０
と、マスク、基板間のギャップを制御する制御部１８０
と、マスク、基板間のギャップを所望の値に設定するギ
ャップ設定入力部１９０とを備えており、基板厚さ測定
部１６０の測定結果と、ギャップセンサー１７０の測定
結果に基づき、マスク、基板間のギャップを算出し、こ
れとギャップ設定入力部１９０から入力されたマスク、
基板間のギャップとを比較し、比較結果にもとづき、マ
スク、基板間のギャップを制御部１８０にて制御するも
のである。尚、図１に示すギャップセンサー１７０は水
平方向、垂直方向（矢印方向）にその位置を移動できる
ものである。

【００１２】図１に示すプロキシミティー露光装置１０
０においては、露光するための基板１３０は、基板供給
部１４０から露光部１１０に、基板面を水平にした状態
（Ｐ１の状態）で供給され、基板は基板保持台１１９に
保持され（Ｐ２の状態）、略鉛直方向に設けられている
マスクに対向させるために、立てて、マスク面、基板面
がともに鉛直方向になっている状態で両者のアライメン
トを行うものである。そして、露光後には、再度、基板
面を水平の状態に戻され、この状態で、基板１３０は基
板排出部１５０側へ排出される。（Ｐ３の状態）尚、このようにマスク１２０、基板１３０を、その面が
ともに鉛直方向になるようにしてアライメントし、たり
露光する理由は、マスクは、大きく、その自重により、
たわみを発生するためである。

【００１３】図２（ａ）に示すように、ギャップ測定用
に設けたマスク１２０の光透過窓１２３は、基板保持台
の反射部１１９Ａと対応するもので、ギャップセンサー
１７０の光源部１７５から照射された検出光は、光透過
窓１２３でその一部がマスク表面で反射され、光学的位
置検出部１７３へ到達し、マスク面位置が測定される。
更に一部は光透過窓１２３を透過し、反射部１１９Ａに
て正反射され、反射光が光学的位置検出部１７３へ到達
し、反射部１１９Ａの面位置が測定される。図２（ｂ）
は、更に、光源部１７５と光学的検出部１７３の構造を
具体的に挙げたもので、通常、非接触変位計と呼ばれる
ものである。ここで、図２（ｂ）に示す変位計の位置検
出原理を簡単説明しておく。尚、ここで用いられている
非接触変位計は、三角測量式レーザ変位計とも呼ばれる
ものである。この変位計（ギャップセンサー１７０）に
おいては、透光レンズ２３０を介して試料２８０（反射
部１１９Ａに相当）に照射された反射光が、試料２８０
（反射部１１９Ａ）の面が基準位置Ａ０にあるとき受光
レンズ２５０を介して光位置検出素子２６０の基準の位
置にＳ０に到達するようになっており、且つ、試料２８
０（反射部１１９Ａ）の面が基準位置Ａ０からずれたＡ
１位置にあるとき、これにともない、試料面Ａ１からの
反射光は、光位置検出素子３６０の基準の位置Ｓ０から
所定の距離だけずれた位置Ｓ１へ到達するようになって
おり、同様に、試料２８０（反射部１１９Ａ）の面が基
準位置Ａ０からずれたＡ２位置にあるとき、これにとも
ない、試料面Ａ２からの反射光は、光位置検出素子２６
０の基準の位置Ｓ０から所定の距離だけずれた位置Ｓ２
へ到達するようになっている。即ち、光位置検出素子に
おける光到達位置と試料面の位置とが対応がとれるよう
になっている。このため、光位置検出素子における光到
達位置を検出することにより、試料面の位置を検出がで
きるものである。

【００１４】基板厚さ測定部１６０は、例えば、図４に
示すようにして、基板４８０の厚さを測定するものであ
る。簡単には、２つの変位計（光学式センサー４１０と
接触式センサー４２０）により、基板搬送面（基板搬送
コロ４４０の上面）を基準とした時の基板表裏それぞれ
変位を検出し、両者の和（またと差）により基板厚を得
る。尚、２つの変位計は、特に、接触式、非接触式に限
定はされないが、膜面保護の観点から、膜面側には非接
触式を用いることが好ましい。図４に示す例は、基板搬
送コロ４４０上での基板厚の測定であるが、固定された
試料台上に基板を置いた状態でも、試料台の面を基準と
して、同様に、基板厚の測定ができることは言うまでも
ない。

【００１５】光源部１１３としては、通常、反射式のも
のが用いられ、平行光がマスク面に照射される。光源と
しては超高圧水銀灯等が用いられる。マスクライブラリ
ー（保管部）１２５はマスク１２０を保管するためのも
ので、露光に用いるマスクにゴミや汚れが付着しないよ
うに保管するものである。基板供給部１４０は基板１３
０を供給する所で、ここで基板厚さ測定部１６０により
基板の厚みを測定する。また、基板排出部１５０は露光
後の基板を排出する所である。尚、図１に示す装置１０
０全体を、空調が管理されているクリーンルーム内、な
いし、クリーンブース内にて使用する。

【００１６】次いで、プロキシミティー露光装置１００
における基板露光動作を、図１、図２を参照にして図３
に基づいて説明する。同時に本発明のプロキシミティー
露光装置におけるギャップ調整方法の実施の形態の１例
の説明に代える。先ず、マスク１２０をホルダー１１７
にセットする。（Ｓ３１１）図２に示すようにマスクのギャップセンサー用の光透過
窓１２３は、基板１３０領域よりも外側に設けられてい
る。次いで、露光するための基板１３０の厚みを、基板
供給部１４０において、予め、基板厚さ測定部１６０に
より測定しておく。（Ｓ３１２）基板厚さ測定部１６０による測定は、基板面を水平にし
た状態で行い、この状態で、基板１３０を露光部１１０
へ供給し、基板保持台１１９に保持した（Ｓ３１３）
後、鉛直方向にその面がなるように、ホルダーに固定さ
れているマスク１２０に対向させるために基板１３０を
立て、アライメントを行う。（Ｓ３１４）アライメント方法については周知であり、ここでは省略
する。次いで、ギャップセンサー１７０にて、マスク面
と基板を保持している基板保持台１１９の反射部１１９
Ａの位置を測定する。（Ｓ３１５）次いで、上記、基板厚さ測定部１６０の測定結果および
ギャッフセンサーの測定結果をあわせて、マスク、基板
間のギャップを算出する。（Ｓ３１６）一方、所望のマスク、基板間ギャップをギャップ設定入
力部１９０により、入力しておく。（Ｓ３１７）そして、ステップＳ３１６で得られたギャップとギャッ
プ設定入力部１９０から入力されたギャップとを比較す
る。（Ｓ３１８）両ギャップの差を取り、その値が許容範囲であるか否か
を判断し（Ｓ３１９）、許容範囲である場合には、光源
部１１３からの露光光１１５を照射し、マスクを介して
基板への露光がなされる。（Ｓ３２１）通常は露光光１１５がマスクへ照射されないようにシャ
ッター（図示していない）にて遮蔽されている。また、
許容範囲にない場合には、両ギャップの差がプラスであ
るか、マイナスであるかにより、所望の方向にギャップ
を変更するが、この制御は制御部１８０にて行う。尚、
制御部１８０の詳細については省略する。そして、ギャ
ップセンサー１７０による測定を行い、算出されたギャ
ップと入力されたギャップとの差が許容範囲に入るまで
繰り返す。

【００１７】図１に示す例は、基板保持台１１９の反射
部（図２に示す１１９Ａ）の面位置を検出し、この面と
マスク１２０間のギャップを測定し、基板厚さ測定部１
６０により測定された基板の厚さとあわせて、基板、マ
スク間のギャップを算出しているが、これの他に、ギャ
ップセンサーを図１に示す位置以外に設け、従来の図５
に示す測定により基板、マスク間のギャップを求める機
能も同時に持たせても良い。尚、図５に示すギャップ測
定の場合は、マスクに設けたギャップ測定用の光透過窓
で一部の検出光を反射させマスク面の位置を検出し、更
に一部の検出光を透過させ、ギャップ測定用の光透過窓
に対応した位置の基板面に設けられた光透過窓を透過し
た検出光を正反射する光反射部からの検出光の反射光
を、再度光透過窓を通過させて検出し、その光反射部の
面の位置を求め、マスクと基板のギャップを得る。

【００１８】

【発明の効果】本発明は、上記のように、基板に作製す
る電極配線等の絵柄によらず、マスク、基板間のギャッ
プを測定でき、１つのプロキシミティー露光装置で基板
に作製する種々の絵柄に対応できるプロキシミティー露
光装置の提供を可能としている。特に、ますますの大型
化と、セルの微細化が進み、多種の絵柄、多種の基板サ
イズが用いられる、プラズマディスプレイパネル用の基
板やＬＣＤ用の基板のパターニングに有効で、結果、Ｐ
ＤＰ用の基板やＬＣＤ用の基板の量産に対応できるもの
としている。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のプロキシミティー露光装置の実施の形
態の１例の全体構成を示す概略平面図

【図２】図２（ａ）は要部拡大図で、図２（ｂ）はギャ
ップセンサーとそのギャップ測定原理を説明するための
図

【図３】本発明のプロキシミティー露光装置におけるギ
ャップ調整法の１例を示したフロー図

【図４】基板厚さ測定部の１例を示した図

【図５】従来のプロキシミティー露光装置におけるギャ
ップ調整方法を説明するための図

【図６】ＰＤＰ用基板の製造工程図

【図７】ＰＤＰを説明するための斜視図

【符号の説明】

１００プロキシミティー露光装置１１０露光部１１１アライメント部１１３光源部１１５露光光１１７ホルダー１１９基板保持台１１９Ａ反射部１２０マスク１２３光透過窓１２５マスクライブラリー（保管部）１３０基板１４０基板供給部１５０基板排出部１６０基板厚さ測定部１７０ギャップセンサー１７３光学的位置検出部１７５光源部１８０制御部１９０ギャップ設定入力部２１０半導体レーザ駆動回路２２０半導体レーザ（発光素子）２３０透光レンズ２４０レーザ光２４５反射光２５０受光レンズ２６０光位置検出素子（光センサー部）２７０信号増幅回路２８０試料（反射部１１９Ａに相当）Ａ０、Ａ１、Ａ２試料面（反射部１１９Ａの面）Ｓ０、Ｓ１、Ｓ２光位置検出素子（光センサー部）の
光到達位置４１０光学式センサー４２０接触式センサー４２５接触部４３０装置架台４４０基板搬送コロ４４５基板搬送コロ支持部４８０基板５１７ホルダー５１９基板保持台５２０マスク５２５光透過窓５３０基板５３０Ａ反射部５７０ギャップセンサー５７３光学的位置検出部５７５光源部７１０、７２０ガラス基板７３０障壁（セル障壁とも言う）７４０透明電極７５０金属電極７６０誘電体層７６５誘電体層７６７下地層７７０保護層（ＭｇＯ層）７８０アドレス電極７９０螢光面

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板保持台に基板を保持し、マスクと密
着させずに、マスクを介して平行な露光光を基板に照射
することにより、基板へのパターン露光を行うプロキシ
ミティー露光装置であって、基板の厚みを測定する基板
厚み測定部と、マスク面の位置と基板保持台の面の位置
を検出することにより、マスク、基板保持台間のギャッ
プを測定するギャップセンサーと、マスク、基板間のギ
ャップを制御する制御部と、マスク、基板間のギャップ
を所望の値に設定するギャップ設定入力部とを備え、基
板厚み測定部の測定結果と、ギャップセンサーの測定結
果に基づき、マスク、基板間のギャップを算出し、これ
とギャップ設定入力部から入力されたマスク、基板間の
ギャップとを比較し、比較結果にもとづき、マスク、基
板間のギャップを制御するものであることを特徴とする
プロキシミティー露光装置。
【請求項２】請求項１において、ギャップセンサー
は、検出するための検出光を供給する検出光光源部と光
学的位置検出部とを備え、マスクに設けたギャップ測定
用の光透過窓で検出光の一部を反射させ、マスク面の位
置を求め、検出光の一部を透過させ、該光透過窓に対応
した位置の基板保持台の面に設けられた、該光透過窓を
透過した検出光を正反射するための光反射部からの検出
光の反射光を、再度光透過窓を通過させて検出し、その
光反射部の面の位置を求め、基板保持台の面の位置を検
出するものであることを特徴とするプロキシミティー露
光装置。
【請求項３】請求項１ないし２における厚みセンサー
は、基板保持台とは別の試料台ないし搬送部上に基板を
載せ、基板の厚さを測定するもので、基板の表裏面それ
ぞれの変位を検出する２つの変位計とそれらの制御部お
よび演算部とを有し、試料台ないし搬送部の面の位置を
基準として、基板の表裏面それぞれの変位を検出し、検
出された結果にもどづき前記演算部にて演算して、基板
厚を測定するものであることを特徴とするプロキシミテ
ィー露光装置。
【請求項４】請求項１ないし３において、基板サイズ
＜マスクサイズ≦基板保持台サイズ、であることを特徴
とするプロキシミティー露光装置。
【請求項５】請求項４において、マスクには基板のサ
イズより外側にギャップ測定用の光透過窓が設けられて
いることを特徴とするプロキシミティー露光装置。
【請求項６】請求項１ないし５における基板は、液晶
表示装置（ＬＣＤ）ないしプラズマディスプレイパネル
（ＰＤＰ）用の基板であることを特徴とするプロキシミ
ティー露光装置。
【請求項７】基板保持台に基板を保持し、マスクと密
着させずに、マスクを介して平行な露光光を基板に照射
することにより、基板へのパターン露光を行うプロキシ
ミティー露光装置における、マスク、基板間のギャップ
調整方法で、予め基板の厚み測定をしておき、且つ、光
学的位置検出部により、マスク面の位置と基板を保持す
る基板保持台の面の位置を検出することによりマスク、
基板保持台間のギャップを測定し、マスク、基板間のギ
ャップを算出し、算出した結果に基づき、マスク、基板
間のギャップを調整することを特徴とするプロキシミテ
ィー露光装置におけるギャップ調整方法。