JP2020520549A - 基板をアライメントする装置、システム及び方法 - Google Patents

Abstract

真空チャンバ（１０１）内で基板（１０）を処理する装置（１００）が記載されている。本装置は、第１の搬送路に沿って第１の方向（Ｘ）に第１のキャリア（１１）を搬送する第１のキャリア搬送システム（３１）と、第２の搬送路に沿って第１の方向（Ｘ）に第２のキャリア（１２）を搬送する第２のキャリア搬送システム（３２）とを含む。更に、本装置は、第１のキャリア（１１）と第２のキャリア（１２）との間の距離を測定する測定システム（１３０）を含む。距離は、第１の方向（Ｘ）に対して直交方向の距離である。【選択図】図１

Description

［０００１］本開示の実施形態は、２つ以上のキャリア、特に基板キャリア及びマスクキャリアを用いた真空チャンバ内で基板を処理する装置及びシステムに関する。更に、本開示の実施形態は、マスクキャリアに対する基板キャリアの距離を測定する方法、及びマスクキャリアに対して基板キャリアをアライメントする方法に関する。本開示の実施形態は特に、基板にコーティング材料を堆積させることに関し、基板は堆積前にマスクに対してアライメントされる。有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）デバイスの製造に、本書に記載の方法及び装置を使用することができる。

［０００２］基板に層を堆積させる技法は、例えば、熱蒸着、物理的気相堆積（ＰＶＤ）、及び化学気相堆積（ＣＶＤ）を含む。コーティングされた基板は、幾つかの用途及び幾つかの技術分野において使用することが可能である。例えば、コーティングされた基板を有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）デバイスの分野で使用可能である。ＯＬＥＤは、情報を表示するためのテレビ画面、コンピュータモニタ、携帯電話、他のハンドヘルドデバイス等の製造に使用されうる。ＯＬＥＤディスプレイ等のＯＬＥＤデバイスは、全て基板に堆積される２つの電極間に位置している有機材料の一又は複数の層を含みうる。

［０００３］コーティング材料を基板に堆積させている間、基板は基板キャリアによって保持され得、マスクはマスクキャリアによって基板の前に保持されうる。例えばマスクの開口パターンに対応する複数のピクセル等の材料パターンを、基板に堆積させることができる。

［０００４］ＯＬＥＤデバイスの機能性は通常、所定の範囲内にあるべき有機材料のコーティングの厚さによって変化する。高解像度ＯＬＥＤデバイスを得るには、蒸着材料の堆積に対する技術的な課題を克服する必要がある。特に、真空システムを通して基板キャリアとマスクキャリアを正確に且つ滑らかに搬送することは困難である。更に、例えば高解像度ＯＬＥＤデバイスを製造するために高品質の堆積結果を達成するには、マスクに対する基板の精密なアライメントが不可欠である。また更に、コーティング材料の効率的な利用は有益であり、システムのアイドル時間はできる限り短く維持されるべきである。

［０００５］したがって、真空チャンバ内で基板及びマスクを正確に、また確実に位置づけする及び／又はアライメントする、改善された装置、システム及び方法の提供に対する継続的な需要がある。

［０００６］上記を踏まえ、真空チャンバ内で基板を処理する装置、真空チャンバ内で基板を処理するシステム、第１のキャリアと第２のキャリアとの間の距離を測定する方法、及び第１のキャリアを第２のキャリアに対してアライメントする方法が提供される。本開示の別の態様、利点、及び特徴は、特許請求の範囲、明細書、及び添付の図面から明らかである。

［０００７］本開示の一態様によれば、真空チャンバ内で基板を処理する装置が提供される。本装置は、第１の搬送路に沿って第１の方向に第１のキャリアを搬送する第１のキャリア搬送システムと、第２の搬送路に沿って第１の方向に第２のキャリアを搬送する第２のキャリア搬送システムとを含む。更に、本装置は、第１のキャリアと第２のキャリアとの間の距離を測定する測定システムを含む。距離は、第１の方向に対して直交方向の距離である。

［０００８］本開示の別の態様によれば、真空チャンバ内で基板を処理する装置が提供される。本装置は、第１の搬送路に沿って第１の方向に第１のキャリアを搬送する第１のキャリア搬送システムと、第２の搬送路に沿って第１の方向に第２のキャリアを搬送する第２のキャリア搬送システムとを含む。更に、本装置は、第１のキャリアによって担持された基板と前記第２のキャリアによって担持されたマスクとの間の距離を測定する測定システムを含む。距離は、第１の方向に対して直交方向の距離である。測定システムは、第１の位置において第１のキャリアによって担持された基板と第２のキャリアによって担持されたマスクとの間の第１の距離を測定する第１の測定デバイスを含む。第１の測定デバイスは、第１の共焦点センサである。加えて、測定システムは、第１の位置とは異なる第２の位置において第１のキャリアによって担持された基板と第２のキャリアによって担持されたマスクとの間の第２の距離を測定する第２の測定デバイスを含む。第２の測定デバイスは、第２の共焦点センサである。更に、測定システムは、第１の位置及び第２の位置とは異なる第３の位置において第１のキャリアによって担持された基板と第２のキャリアによって担持されたマスクとの間の第３の距離を測定する第３の測定デバイスを含む。第３の測定デバイスは、第３の共焦点センサである。第１の測定デバイス、第２の測定デバイス及び第３の測定デバイスは線形アクチュエータに連結され、線形アクチュエータは第１の方向に対して直交方向の動きを提供する。

［０００９］本開示の別の態様によれば、基板を処理するシステムが提供される。本システムは、第１のキャリアと第２のキャリアとを含む、本書に記載のいずれかの実施形態に係る、真空チャンバ内で基板を処理する装置を含み、第１のキャリアは基板キャリアであり、第２のキャリアはマスクキャリアである。第１のキャリアは、測定システムの個々の測定デバイスを受容する貫通孔を含む。

［００１０］本開示の別の態様によれば、第１のキャリアと第２のキャリアとの間の距離を測定する方法が提供される。本方法は、真空チャンバ内の第１の位置に第１のキャリアを提供することと、第２のキャリアが第１のキャリアに対して実質的に平行であるように、真空チャンバ内の第２の位置に第２のキャリアを提供することとを含む。加えて、本方法は、測定システムの測定デバイスを第１のキャリアの個々の貫通孔の中へ導入することを含む。更に、本方法は、第１のキャリアに対して測定デバイスの位置を固定することと、測定デバイスを用いることによって第１のキャリアと第２のキャリアとの間の距離を測定することとを含む。

［００１１］本開示の更に別の態様によれば、第１のキャリアを第２のキャリアに対してアライメントする方法が提供される。本方法は、少なくとも３つの異なる位置において第１のキャリアと第２のキャリアとの間の少なくとも３つの距離を測定することを含む。加えて、本方法は、測定された少なくとも３つの距離間の差を特定することを含む。更に、本方法は、測定された少なくとも３つの距離間の差がなくなるように、第１のキャリアを第２のキャリアに対して移動させることを含む。

［００１２］実施形態はまた、本開示の方法を実行する装置も対象としており、記載の方法態様の各々を実施する装置の部品を含む。これらの方法態様は、ハードウェア部品、適切なソフトウェアによってプログラミングされたコンピュータを手段として、又は２つのいずれかの組み合わせ、あるいは他のいずれかの方法によって実施されうる。更に、本開示に係る実施形態は、記載の装置を操作する方法も対象としている。記載の装置を操作する方法は、装置の全ての機能を実行するための方法態様を含む。

［００１３］上述した本開示の特徴を詳細に理解できるように、実施形態を参照しながら、上記に要約した本開示をより具体的に説明する。添付の図面は本開示の実施形態に関し、以下に記載される。

本書に記載の実施形態に係る基板を処理する装置を示す概略図である。 測定システムが第１の位置にある、本書に記載の実施形態に係る基板を処理する装置を示す概略図である。 測定システムが第２の位置にある、本書に記載の実施形態に係る基板を処理する装置を示す概略図である。 本書に記載の別の実施形態に係る基板を処理する装置を示す、図４に示す線Ａ−Ａに沿った概略断面図である。 本書に記載の別の実施形態に係る基板を処理する装置を示す概略前面図であり、線Ａ−Ａに沿った断面図（図３参照）と、線Ｂ−Ｂに沿った断面図（図５参照）が示されている。 本書に記載の別の実施形態に係る基板を処理する装置を示す、図４に示す線Ｂ−Ｂに沿った概略断面図である。 本書に記載の実施形態に係る第１のキャリアと第２のキャリアとの間の距離を測定する方法を示すフロー図である。 本書に記載の実施形態に係る第１のキャリアを第２のキャリアに対してアライメントする方法を示すフロー図である。

［００１４］本開示の様々な実施形態をここで詳しく参照する。本開示の様々な実施形態の一又は複数の実施例を図面に示す。下記の図面の記載内で、同じ参照番号は同じ要素を指している。個々の実施形態に関する違いのみが記載される。各実施例は、本開示を説明するために提供されるものであり、本開示を限定するわけではない。更に、一実施形態の一部として示される又は記載される特徴を、他の実施形態に使用して、あるいは他の実施形態と併せて使用して、さらに別の実施形態を生み出すことができる。説明には、上記修正例及び変形例が含まれるように意図される。

［００１５］図１を例示的に参照すると、本開示に係る真空チャンバ１０１内で基板１０を処理する装置１００が記載されている。本書に記載の他のいずれかの実施形態と組み合わせうる実施形態によれば、装置１００は、第１の搬送路に沿って第１の方向Ｘに第１のキャリア１１を搬送する第１のキャリア搬送システム３１と、第２の搬送路に沿って第１の方向Ｘに第２のキャリア１２を搬送する第２のキャリア搬送システム３２とを含む。第１のキャリア１１は、基板１０を担持する基板キャリアであってよい。第２のキャリア１２は、マスク２０を担持するマスクキャリアであってよい。更に、本装置は、第１のキャリア１１と第２のキャリア１２との間の距離Ｄを測定する測定システム１３０を含む。とりわけ、図１に例示的に示すように、第１のキャリア１１と第２のキャリア１２との間の距離Ｄは、第１の方向Ｘに対して直交方向の距離である。図１において、第１の方向は紙の平面に対して直交する。例えば、第１のキャリア１１と第２のキャリア１２との間の距離Ｄは、図１に例示的に示すように、ｚ方向に延びていてよい。より具体的には、距離Ｄは、第１のキャリアと第２のキャリアとの間に設けられた間隙であってよい。間隙は、第１のキャリアと第２のキャリアの対向面の間に設けられた空間として理解することができる。したがって、測定システム１３０は、第１のキャリアと第２のキャリアとの間の間隙の幅を測定するように構成されうる。

［００１６］したがって、本書に記載の装置の実施形態は、従来の装置に比べて改善されている。とりわけ、キャリアの絶対位置が特定され制御される従来の装置とは対照的に、本書に記載の実施形態は、第２のキャリアに対する、とりわけ第２のキャリアによって担持されたマスクに対する、第１のキャリア、とりわけ第１のキャリアによって担持された基板の相対位置を測定するために有益に提供される。つまり、本書に記載の実施形態は、第１のキャリアの第２のキャリアとの接触、とりわけ基板のマスクとの接触が有利に回避されうるように、第１のキャリアと第２のキャリアとの間の間隙、とりわけ、第１のキャリアによって担持された基板と第２のキャリアによって担持されたマスクとの間の間隙を測定するように構成される。更に、第１のキャリアと第２のキャリアとの間の距離、とりわけ第１のキャリアによって担持された基板と第２のキャリアによって担持されたマスクとの間の距離を測定することは、第１のキャリアと第２のキャリアのアライメント、とりわけ第１のキャリアによって担持された基板と第２のキャリアによって担持されたマスクのアライメントの性能を改善するのに有益でありうる。例えば、第１のキャリアと第２のキャリアとの間の距離、とりわけ第１のキャリアによって担持された基板と第２のキャリアによって担持されたマスクとの間の距離、すなわち第１のキャリアと第２のキャリアとの間の間隙、とりわけ、第１のキャリアによって担持された基板と第２のキャリアによって担持されたマスクとの間の間隙についての情報が得られうる装置を提供することによって、第１のキャリア、とりわけ第１のキャリアによって担持された基板と、第２のキャリア、とりわけ第２のキャリアによって担持されたマスクが互いに平行であるか否かを特定することが有利に可能である。したがって、本開示の実施形態は、平行からの逸脱が検出された場合に、平行を確立するために第１のキャリアと第２のキャリアの相対位置、とりわけ基板とマスクの相対位置を調節することができるように、第１のキャリアと第２のキャリアの平行度、とりわけ第１のキャリアによって担持された基板と第２のキャリアによって担持されたマスクの平行度を測定するために有利に提供される。

［００１７］本開示の別の様々な実施形態をより詳細に記載する前に、本書で使用する幾つかの語に関する幾つかの態様を説明する。

［００１８］本開示において、「真空チャンバ内で基板を処理する装置」とは、真空条件下で本書に記載の基板を処理する、とりわけコーティングするように構成された装置として理解することができる。とりわけ、本書に記載の実施形態を、例えばＯＬＥＤディスプレイの製造のために、例えば蒸着処理によって大面積基板に一又は複数の材料を堆積させるのに用いることが可能である。したがって、本書に記載の装置の実施形態は、ＯＬＥＤデバイスの製造のために、材料、例えば有機材料を蒸着させるように構成されうる。一例として、堆積源は蒸着源、とりわけ基板に一又は複数の有機材料を堆積させてＯＬＥＤデバイスの層を形成するための蒸着源であってよい。

［００１９］本開示に係る「基板」は、例えば０．５ｍ^２以上、とりわけ１ｍ^２以上の表面積を有する、大面積基板であってよい。例えば、大面積基板は、約０．６７ｍ^２の表面積（０．７３×０．９２ｍ）に対応するＧＥＮ４．５、約１．４ｍ^２の表面積（１．１ｍ×１．３ｍ）に対応するＧＥＮ５、約４．２９ｍ^２の表面積（１．９５ｍ×２．２ｍ）に対応するＧＥＮ７．５、約５．７ｍ^２の表面積（２．２ｍ×２．５ｍ）に対応するＧＥＮ８．５、又は更に、約８．７ｍ^２の表面積（２．８５ｍ×３．０５ｍ）に対応するＧＥＮ１０でありうる。ＧＥＮ１１及びＧＥＮ１２などの更に次の世代及びそれに相当する表面積も同様に実装可能である。ＯＬＥＤディスプレイの製造においては、ハーフサイズのＧＥＮ世代も提供されうる。

［００２０］したがって、本書に記載の基板は、材料の堆積に適切ないずれかの材料でできていてよい。とりわけ、基板は透明であってよい。例えば、基板は、ガラス（例えばソーダ石灰ガラス、ホウケイ酸ガラス等）、金属、ポリマー、セラミック、複合材料、炭素繊維材料、又は堆積処理によってコーティングされうる、他のいずれかの材料又は材料の組み合わせから構成される群から選択される材料でできていてよい。

［００２１］本書に記載の他の実施形態と組み合わせうる幾つかの実施形態によれば、基板の厚さは０．１から１．８ｍｍでありうる。基板の厚さは、約０．９ｍｍ以下、例えば０．５ｍｍであってよい。本書で使用する「基板」という語は、実質的に非フレキシブルな基板、例えばウエハ、サファイア等の透明結晶片、又はガラス板を特に包含しうる。しかしながら、本開示はこれに限定されず、「基板」という語は、ウェブ又は箔等のフレキシブル基板も包含しうる。「実質的に非フレキシブル」という語は、「フレキシブル」と区別して理解される。具体的には、実質的に非フレキシブルな基板は、例えば、０．５ｍｍ以下等の０．９ｍｍ以下の厚さを有するガラス板等、ある程度の可撓性を有していてよく、実質的に非フレキシブルな基板の可撓性はフレキシブル基板と比べて低い。

［００２２］本開示において、「真空チャンバ」とは、真空堆積のために構成されたチャンバとして理解することができる。本書で使用する「真空」という語は、例えば１０ｍｂａｒ未満の真空圧を有する技術的真空の意味で理解することができる。通常、本書に記載の真空チャンバの圧力は、１０^−５ｍｂａｒと約１０^−８ｍｂａｒとの間、より典型的には１０^−５ｍｂａｒと１０^−７ｍｂａｒとの間、また更に典型的には約１０^−６ｍｂａｒと約１０^−７ｍｂａｒとの間でありうる。ある実施形態によれば、真空チャンバの圧力は、真空チャンバ内部の蒸着材料の部分圧、あるいは全圧のいずれか（真空チャンバ内で堆積される要素として蒸着材料のみが存在する場合はおおよそ同じでありうる）であると考えられうる。ある実施形態では、真空チャンバ内の全圧は、特に蒸着材料以外の第２の要素（例えば、ガス等）が真空チャンバ内に存在する場合、約１０^−４ｍｂａｒから約１０^−７ｍｂａｒまでの範囲でありうる。

［００２３］本開示において、「第１のキャリア」とは、図１に概略的に示すように、基板１０を保持するように構成されたキャリアとして理解することができる。したがって、第１のキャリアは基板キャリアでありうる。とりわけ、基板キャリアは、例えば真空チャンバ内で基板搬送路に沿って基板を担持するように構成されたキャリアデバイスとして理解することができる。例えば、基板キャリアは、基板にコーティング材料を堆積させている間に基板を保持しうる。したがって、本書に記載の「第１のキャリア」は、基板を含む第１のキャリアとして理解することができる。つまり、「第１のキャリア」は、基板を担持する第１のキャリアを指し示しうる。

［００２４］例えば、真空チャンバを通して搬送中、真空チャンバ内で基板を例えばマスクに対して位置づけしている間、及び／又は基板にコーティング材料を堆積させている間、基板は第１のキャリアの保持面に保持されうる。とりわけ、基板は、チャッキングデバイスによって、例えば静電チャックによって、あるいは磁気チャックによって第１のキャリアによって保持されうる。チャッキングデバイスは、第１のキャリアと一体化していてよい。ある実施形態では、基板は、例えば搬送中及び／又は堆積中に、基板キャリアによって非水平配向、とりわけ基本的に垂直配向に保持されうる。

［００２５］本書で使用する「基本的に垂直配向」は、垂直配向から、すなわち重力ベクトルから１０°未満、とりわけ５°未満の逸脱を有する配向として理解することができる。例えば、基板（又はマスク）の主面と重力ベクトルとの間の角度は、＋１０°と−１０°の間、とりわけ０°と−５°の間であってよい。幾つかの実施形態では、基板（又はマスク）の配向は、搬送中及び／又は堆積中は正確に垂直ではなく、垂直軸に対して例えば傾斜角０°と−５°の間、とりわけ−１°と−５°の間だけわずかに傾斜している場合がある。マイナスの角度は、基板（又はマスク）の配向を指し示しており、基板（又はマスク）は下に向けて傾斜している。堆積中に基板の配向が重力ベクトルから逸脱していることは有益であり得、より安定した堆積処理につながる可能性がある、あるいは、下に向いた配向は、堆積中の基板上の粒子を低減するのに好適でありうる。しかしながら、搬送中及び／又は堆積中の配向が正確に垂直である（＋／−１°）であることも可能である。他の実施形態では、基板及びマスクは、非垂直配向で搬送することができる、及び／又は基板を非垂直配向、例えば基本的に水平配向でコーティングすることができる。

［００２６］本書に記載の「第２のキャリア」とは、図１に概略的に示すように、マスク２０を保持するように構成されたキャリアとして理解することができる。したがって、第２のキャリアはマスクキャリアであってよい。とりわけ、「マスクキャリア」は、真空チャンバ内でマスク搬送路に沿ってマスクを搬送するためにマスクを担持するように構成されたキャリアデバイスとして理解することができる。例えば、マスクキャリアは、搬送中、基板に対してアライメントする間、及び／又は基板への堆積中にマスクを担持しうる。したがって、本書に記載の「第２のキャリア」は、マスクを含む第２のキャリアとして理解することができる。つまり、「第２のキャリア」という語は、マスクを担持する第２のキャリアを指し示しうる。

［００２７］幾つかの実施形態では、マスクは、搬送及び／又は堆積中、マスクキャリアによって非水平配向、とりわけ基本的に垂直配向に保持されうる。とりわけ、マスクは、チャッキングデバイス、例えばクランプ、静電チャック又は磁気チャック等の機械的チャックによってマスクキャリアに保持されうる。マスクキャリアに接続されうる、又はマスクキャリアと一体化することが可能である、他の種類のチャッキングデバイスも使用可能である。

［００２８］例えば、本書に記載のマスクは、エッジ除外マスク又はシャドウマスクであってよい。エッジ除外マスクは、基板のコーティング中に一又は複数のエッジ領域に材料が堆積しないように、基板の一又は複数のエッジ領域をマスキングするように構成されたマスクである。シャドウマスクは、基板に堆積されるべき複数の特徴をマスキングするように構成されたマスクである。例えば、シャドウマスクは、複数の小さい開口部、例えば小さい開口部のグリッドを含みうる。

［００２９］本開示において、「キャリア搬送システム」は、搬送路に沿ってキャリアを搬送するように構成されたシステムとして理解することができる。搬送路は、搬送中にキャリアがそれに沿って移動される経路又は軌道として理解することができる。例えば、図１を例示的に参照すると、第１のキャリア搬送システム３１は、第１の搬送路に沿って第１の方向Ｘに第１のキャリア１１を搬送するように構成され、第２のキャリア搬送システム３２は、第２の搬送路に沿って第１の方向（Ｘ）に第２のキャリア１２を搬送するように構成されることを理解すべきである。図１において、第１の方向Ｘは基本的に紙の平面に対して直交する。

［００３０］本書に記載の他の実施形態と組み合わせうる幾つかの実施形態によれば、第１のキャリア搬送システム３１は、真空チャンバ１０１内で第１のキャリア１１を非接触搬送するように構成されうる。例えば、第１のキャリア搬送システム３１は、磁力によって第１のキャリア１１を保持し搬送しうる。とりわけ、第１のキャリア搬送システム３１は、磁気浮上システムを含みうる。同様に、第２のキャリア搬送システム３２は、真空チャンバ１０１内で第２のキャリア１２を非接触搬送するように構成されうる。例えば、第２のキャリア搬送システム３２は、磁力によって第２のキャリア１２を保持し搬送しうる。とりわけ、第２のキャリア搬送システム３２は、磁気浮上システムを含みうる。

［００３１］本開示において、「測定システム」は、測定を行う、とりわけ、距離、例えば本書に記載の第１のキャリアと第２のキャリアとの間の距離を測定するように構成されたシステムとして理解することができる。とりわけ、測定システムは、光学測定技法を用いることによって、２つの物体、例えば第１のキャリアと第２のキャリアとの間の距離を測定するように構成されたシステムであってよい。例えば、測定システムは、距離の測定を行うための１つ、２つ、あるいはそれ以上の測定デバイス、例えば共焦点センサを含みうる。図１の点線矢印５によって例示的に示すように、通常、測定デバイス、特に共焦点センサは、放射線、特に光を放射するように構成される。

［００３２］本書で使用する「第１のキャリア」は、基板を含む「第１のキャリア」として理解することができ、「第２のキャリア」は、マスクを含む「第２のキャリア」として理解することができる。つまり、「第１のキャリア」は基板を担持する第１のキャリアを指し示していてよく、「第２のキャリア」はマスクを担持する第２のキャリアを指し示していてよい。

［００３３］したがって、「第１のキャリアと第２のキャリアとの間の距離」という表現は、第１のキャリアによって担持された基板と第２のキャリアによって担持されたマスクとの間の距離を指し示しうると理解すべきである。あるいは、「第１のキャリアと第２のキャリアとの間の距離」という表現は、第１のキャリアによって担持された基板と、第２のキャリアの本体、例えば第２のキャリアのフレームとの間の距離を指し示しうる。別の代替例によれば、「第１のキャリアと第２のキャリアとの間の距離」という表現は、第１のキャリアの本体、例えば第１のキャリアのフレームと、第２のキャリアの本体、例えば第２のキャリアのフレームとの間の距離を指し示しうる。「第１のキャリアと第２のキャリアとの間の距離」という表現の上記理解はまた、本書に記載の第１の距離Ｄ１、第２の距離Ｄ２、第３の距離Ｄ３及び第４の距離Ｄ４にも適用されうる。

［００３４］図１を例示的に参照する。本書に記載の他の実施形態と組み合わせうる幾つかの実施形態によれば、測定システム１３０は、第１の測定デバイス１３１Ａと第２の測定デバイス１３１Ｂとを含む。具体的には、第１の測定デバイス１３１Ａと第２の測定デバイス１３１Ｂは間隔を置いて配置されている。更に具体的には、第１の測定デバイス１３１Ａは、間隙Ｇの第１の側面Ｓ１で第１のキャリア１１と第２のキャリア１２との間の距離を測定するように配置され構成されうる。

［００３５］第２の測定デバイス１３１Ｂは、間隙Ｇの第２の側面Ｓ２で第１のキャリアと第２のキャリアとの間の距離を測定するように配置され構成されうる。間隙Ｇの第２の側面Ｓ２は、間隙Ｇの第１の側面Ｓ１とは反対である。したがって、異なる場所での距離の測定を有益に実行することができ、第１のキャリアと第２のキャリアが互いに平行であるか否かを特定することが可能になる。

［００３６］つまり、図３に例示的に示すように、本書に記載の他の実施形態と組み合わせうる実施形態によれば、測定システム１３０は、第１の位置Ｐ１で第１のキャリア１１と第２のキャリア１２との間の第１の距離Ｄ１を測定する第１の測定デバイス１３１Ａを含む。加えて、測定システム１３０は、第１の位置Ｐ１とは異なる第２の位置Ｐ２で第１のキャリア１１と第２のキャリア１２との間の第２の距離Ｄ２を測定する第２の測定デバイス１３１Ｂを含む。したがって、第１の距離Ｄ１が第２の距離Ｄ２と等しい場合、第１のキャリアと第２のキャリアは、第１の位置Ｐ１と第２の位置Ｐ２を接続している線に沿って互いに平行であると理解すべきである。

［００３７］本書に記載の他の実施形態と組み合わせうる幾つかの実施形態によれば、第１の測定デバイス１３１Ａは、第１の光学測定デバイス、とりわけ第１の共焦点センサである。したがって、第２の測定デバイス１３１Ｂは、第２の光学測定デバイス、とりわけ第２の共焦点センサでありうる。「光学測定デバイス」は、光学測定技法を用いることによって距離を測定するように構成されたデバイスとして理解することができる。「共焦点センサ」は、光を用いることによって変位を測定するように構成されたセンサとして理解することができる。例えば、通常、共焦点センサは、放射された光を異なる色に分離させた後に、検出器を使用して反射した色信号を識別する測定原理に基づいている。したがって、第１のキャリアと第２のキャリアとの間の距離が、接触しない方法で有益に測定されうる。更に、共焦点センサを用いることは、変位測定を非常に高い精度、例えばミクロンの範囲、あるいはサブミクロンの範囲で実行することができるという利点を有する。

［００３８］図１を例示的に参照する。本書に記載の他の実施形態と組み合わせうる幾つかの実施形態によれば、第１の測定デバイス１３１Ａと第２の測定デバイス１３１Ｂは保持機構１３２によって固定的に接続される。「保持機構」とは、本書に記載の第１の測定デバイスと第２の測定デバイスを保持するように構成された機械的構造として理解することができる。したがって、第１の測定デバイスの位置と第２の測定デバイスの位置を互いに有益に固定することができ、これは、第１のキャリアと第２のキャリアの平行度を特定するのに有利でありうる。

［００３９］図１に例示的に示すように、本書に記載の他の実施形態と組み合わせうる幾つかの実施形態によれば、測定システム１３０は、第１の測定デバイス１３１Ａと第２の測定デバイス１３１Ｂとを第１の方向Ｘに対して直交方向に、例えば図１に示すｚ方向に移動させる線形アクチュエータ１３５を含む。「線形アクチュエータ」は、並進運動を実施するように構成されたアクチュエータとして理解することができる。

［００４０］図２Ａは測定システム１３０が第１の位置にある装置１００を示す概略図であり、図２Ｂは測定システムが第２の位置にある装置を示す図である。したがって、図２Ａ及び図２Ｂから理解可能であるように、線形アクチュエータ１３５は、測定デバイスを第１の位置から第２の位置へ、及びその逆へ移動させるために用いられうる。例えば、第１の位置は移送位置であってよく、第２の位置は測定位置であってよい。移送位置（図２Ａ）は、第１のキャリアを測定デバイスに対して及び第２のキャリアに対して第１の方向Ｘに移動させることを可能にする位置として理解することができる。測定位置（図２Ｂ）は、第１のキャリアと第２のキャリアとの間の距離を測定するための変位測定が実行される測定デバイスの位置として理解することができる。とりわけ、図１及び図２Ｂに例示的に示すように、測定位置において、第１の測定デバイスと第２の測定デバイスが、第１のキャリアのそれぞれの受容部、とりわけ貫通孔の中に導入される。図２Ａに例示的に示すように、受容部８は、それぞれの測定デバイスの機械止め部を提供するように構成されうる。

［００４１］図３を例示的に参照する。本書に記載の他の実施形態と組み合わせうる幾つかの実施形態によれば、測定システム１３０は、第１の測定デバイス１３１Ａと第２の測定デバイス１３１Ｂの動きを第１の方向Ｘに対して直交方向に案内する案内機構１３６を備える。とりわけ、図３に例示的に示すように、案内機構１３６は、真空チャンバ１０１の外側に配置されうる。とりわけ、案内機構は、案内要素１３７と滑動要素１３８とを含みうる。滑動要素１３８は、案内要素１３７によって案内されるように構成されうる。通常、滑動要素１３８は、例えば線形アクチュエータを用いる等によって案内要素に対して移動可能である。したがって、滑動要素１３８は、図３に例示的に示すように、線形アクチュエータ１３５に連結されうる。

［００４２］本書に記載の他の実施形態と組み合わせうる幾つかの実施形態によれば、滑動要素１３８は、真空チャンバ１０１の壁１０２を通って延在しうる。とりわけ、図３に例示的に示すように、滑動要素の一部分が部分的に真空チャンバの外に配置されていてよく、滑動要素の他の部分が真空チャンバ内部に配置されていてよい。更に、滑動要素１３８は、図３に示すように、保持機構１３２に連結されうる。保持機構１３２は、真空チャンバ１０１内部に配置されうる。例示的な実行形態によれば、真空シールのために膜ベローズ１３９が設けられうる。更に、図３に例示的に示すように、真空ハウジング１４０が配設されうる。とりわけ、真空ハウジングは、真空チャンバ１０１の外壁、例えば図３に示す壁１０２に取り付けられうる。真空ハウジングは、好適な条件がもたらされ維持される区画として理解することができる。真空ハウジング１４０は通常、それぞれの測定デバイスに接続されたケーブルを受容するように構成される。

［００４３］図３に例示的に示すように、本書に記載の他の実施形態と組み合わせうる幾つかの実施形態によれば、真空チャンバ１０１内に堆積源１２５が配設される。堆積源１２５は、第１のキャリア１１によって保持された基板１０にコーティング材料を堆積させるように構成される。

［００４４］図４は、装置１００を示す概略前面図である。とりわけ、図４に、真空チャンバ１０１の実質的に垂直な外壁を示す。図４から見て取れるように、２つを超える真空ハウジング１４０、例えば３つ、４つあるいはそれ以上の真空ハウジングを真空チャンバの壁１０２に取り付けることが可能である。したがって、本書に記載の装置が３つ、４つあるいはそれ以上の測定デバイスを含みうることを理解すべきである。

［００４５］とりわけ、図５に例示的に示すように、本書に記載の他の実施形態と組み合わせうる幾つかの実施形態によれば、測定システム１３０は、第１の位置Ｐ１及び第２の位置Ｐ２とは異なる第３の位置Ｐ３において第１のキャリア１１と第２のキャリア１２との間の第３の距離Ｄ３を測定する第３の測定デバイス１３１Ｃを含む。図５に、図４に図示した線Ｂ−Ｂに沿った断面図を示し、図３に、図４に図示した線Ａ−Ａに沿った断面図を示す。したがって、第１のキャリアと第２のキャリアとの間の３つの距離又は変位を有益に測定することができ、第１のキャリアと第２との平面平行度を特定することができるという利点を有する。

［００４６］更に、図５を例示的に参照する。本書に記載の他の実施形態と組み合わせうる幾つかの実施形態によれば、測定システム１３０は、第１の位置Ｐ１、第２の位置Ｐ２、及び第３の位置Ｐ３とは異なる第４の位置Ｐ４において第１のキャリア１１と第２のキャリア１２との間の第４の距離Ｄ４を測定する第４の測定デバイス１３１Ｄを含む。したがって、３つ以下の測定デバイスが使用される構成に比べて高い精度で有益に、第１のキャリアと第２のキャリアの平面平行度を測定することができる。

［００４７］第３の測定デバイス１３１Ｃは、第３の光学測定デバイス、とりわけ第３の共焦点センサであってよい。したがって、第４の測定デバイス１３１Ｄは、第４の光学測定デバイス、とりわけ第４の共焦点センサであってよい。

［００４８］本書に記載の他の実施形態と組み合わせうる幾つかの実施形態によれば、第３の測定デバイス１３１Ｃと第４の測定デバイス１３１Ｄは、別の保持機構１４２によって固定的に接続される。とりわけ、別の保持機構１４２は、第１の方向Ｘに対して直交方向の動きを提供する別の線形アクチュエータ１４５に接続されうる。図５に示すように、滑動要素１３８、案内要素１３７、及び膜ベローズ１３９は、図３に関連して例示的に記載したように、類似の方法で配設されうる。

［００４９］本書に記載の他の実施形態と組み合わせうる幾つかの実施形態によれば、測定システム１５０は、図４に概略的に示すように、測定システムを真空チャンバの壁に接続させるための装着アセンブリを備える。

［００５０］本書に記載の他の実施形態と組み合わせうる特定の実施例によれば、真空チャンバ１０１内で基板を処理する装置１００は、第１の搬送路に沿って第１の方向Ｘに第１のキャリア１１を搬送するように構成された第１のキャリア搬送システム３１と、第２の搬送路に沿って第１の方向Ｘに第２のキャリア１２を搬送するように構成された第２のキャリア搬送システム３２とを含む。加えて、本装置は、第１のキャリア１１と第２のキャリア１２との間の距離Ｄを測定するように構成された測定システム１３０を含み、距離Ｄは第１の方向Ｘに対して直交方向の距離である。測定システム１３０は、第１の位置Ｐ１において第１のキャリア１１と第２のキャリア１２との間の第１の距離Ｄ１を測定する第１の測定デバイス１３１Ａを含む。第１の測定デバイス１３１Ａは通常、第１の共焦点センサである。加えて、測定システム１３０は、第１の位置Ｐ１とは異なる第２の位置Ｐ２において第１のキャリア１１と第２のキャリア１２との間の第２の距離Ｄ２を測定する第２の測定デバイス１３１Ｂを含む。第２の測定デバイス１３１Ｂは通常、第２の共焦点センサである。更に、測定システム１３０は、第１の位置Ｐ１及び第２の位置Ｐ２とは異なる第３の位置Ｐ３において第１のキャリア１１と第２のキャリア１２との間の第３の距離Ｄ３を測定する第３の測定デバイス１３１Ｃを含む。第３の測定デバイスは通常、第３の共焦点センサである。第１の測定デバイス１３１Ａ、第２の測定デバイス１３１Ｂ及び第３の測定デバイス１３１Ｃは線形アクチュエータに連結される。線形アクチュエータは、第１の方向Ｘに対して直交する動きを提供するように構成される。

［００５１］本開示の一態様によれば、基板を処理するシステムが以下に記載される。基板を処理するシステムは、本書に記載のいずれかの実施形態に係る基板を処理する装置を含む。更に、本システムは、第１のキャリア１１と第２のキャリア１２を含む。通常、第１のキャリア１１は基板キャリアであり、第２のキャリアはマスクキャリアである。とりわけ、第１のキャリアは、測定システム１３０の個々の測定デバイスを受容する貫通孔を含む。例えば、貫通孔は、図２Ａに関連して例示的に記載した受容部８として構成されうる。受容部は、測定システムが測定位置にあるときに、受容部の中へ導入されるそれぞれの測定デバイス用の機械的止め部を含みうる。本書に記載のいずれかの実施形態にしたがって測定システムを実行することができることを、理解すべきである。

［００５２］図６に示すフロー図を例示的に参照すると、本開示に係る第１のキャリア１１と第２のキャリア１２との間の距離を測定する方法２００の実施形態が記載されている。本書に記載の他の実施形態と組み合わせうる幾つかの実施形態によれば、本方法は、真空チャンバ内の第１の位置に第１のキャリアを提供すること（ブロック２１０）と、真空チャンバ内の第２の位置に第２のキャリアを提供すること（ブロック２２０）とを含む。通常、第１のキャリアと第２のキャリアは、互いに実質的に平行になるように提供される。加えて、本方法は、測定システムの測定デバイスを第１のキャリアの個々の貫通孔、例えば本書に記載の受容部８の中へ導入すること（ブロック２３０）を含む。更に、本方法は、第１のキャリアに対して測定デバイスの位置を固定すること（ブロック２４０）を含む。例えば、測定デバイスの位置は、図２Ａに関連して記載した受容部の止め部を用いることによって固定されうる。加えて、本方法は、測定デバイスを用いることによって第１のキャリア１１と第２のキャリア１２との間の距離を測定すること（ブロック２５０）を含む。

［００５３］本書に記載の他の実施形態と組み合わせうる幾つかの実施形態によれば、第１のキャリアと第２のキャリアとの間の距離を測定することは、少なくとも３つの異なる位置、とりわけ第１のキャリアの少なくとも３つの角において距離を測定することを含む。例えば、少なくとも３つの異なる位置は、本書に記載の第１の位置Ｐ１、第２の位置Ｐ２、第３の位置Ｐ３、及び第４の位置Ｐ４から構成される群から選択される３つの位置であってよい。

［００５４］図７に示すフロー図を例示的に参照すると、本開示に係る第２のキャリアに対して第１のキャリアをアライメントする方法３００の実施形態が記載されている。本方法は、少なくとも３つの異なる位置において第１のキャリアと第２のキャリアとの間の少なくとも３つの距離を測定すること（ブロック３１０）を含む。加えて、本方法は、測定された少なくとも３つの距離間の差を特定すること（ブロック３２０）を含む。更に、本方法は、測定された少なくとも３つの距離間の差がなくなるように、第２のキャリアに対して第１のキャリアを移動させること（ブロック３３０）を含む。

［００５５］例えば、第２のキャリアに対して第１のキャリアを移動させることは、第２のキャリアに対して第１のキャリア１１を正確に位置づけするように構成されたアライメントシステムを用いることを含みうる。したがって、本書に記載の装置は、真空チャンバ内に配設されたアライメントシステムを含みうる。更に、例えばコントローラによって、本書に記載の測定システムをアライメントシステムに接続させることができることを理解すべきである。したがって、測定システムによって得られた測定データが、第２のキャリアに対する第１のキャリアの位置が予め規定された位置にないことを示す場合、測定データは、アライメントシステムへ制御信号を送信するように構成されうるコントローラへ送信されうる。その結果、例えば第１のキャリアが第２のキャリアに対して平行であるように、第１のキャリアと第２のキャリアとの間の距離が有益に監視され制御されうる。

［００５６］本書に記載の実施形態によれば、第１のキャリアと第２のキャリアとの間の距離を測定する方法及び第２のキャリアに対して第１のキャリアをアライメントする方法は、コンピュータプログラム、ソフトウェア、コンピュータソフトウェア製品、及び装置の対応する構成要素と通信しているＣＰＵ、メモリ、ユーザインターフェース、及び入出力デバイスを有しうる相互に関連するコントローラを使用して行われうる。

［００５７］本書に記載の実施形態を考慮すると、基板蒸発器を処理する装置の実施形態、基板を処理するシステム、及びそれらの方法が最先端技術に対して改善されることを理解すべきである。とりわけ、本開示の実施形態はキャリアの絶対位置が特定され制御される最先端技術とは対照的な利点を有し、本書に記載の実施形態は、第１のキャリア、とりわけ第１のキャリアによって担持された基板の、第２のキャリア、とりわけ第２のキャリアによって担持されたマスクに対する相対位置の測定を有益に提供する。つまり、本書に記載の実施形態は、第１のキャリアの第２のキャリアとの接触、とりわけ基板のマスクとの接触が有利に回避されうるように、第１のキャリアと第２のキャリアとの間の間隙、とりわけ、第１のキャリアによって担持された基板と第２のキャリアによって担持されたマスクとの間の間隙を測定するように構成される。更に、本開示の実施形態は、第１のキャリアと第２のキャリアとの間の距離又は間隙、とりわけ第１のキャリアによって担持された基板と第２のキャリアによって担持されたマスクとの間の距離又は間隙を継続的に監視し制御することができるため、第１のキャリアと第２のキャリアのアライメント、とりわけ第１のキャリアによって担持された基板と第２のキャリアによって担持されたマスクのアライメントの性能の改善を提供する。したがって、本開示の実施形態は、平行からの逸脱が検出された場合に、平行を確立するために第１のキャリアと第２のキャリアの相対位置、とりわけ基板とマスクの相対位置を例えばアライメントシステムを使用することによって調節することができるように、第１のキャリアと第２のキャリアの平行度、とりわけ第１のキャリアによって担持された基板と第２のキャリアによって担持されたマスクの平行度の制御を有益に提供する。例えば、アライメントシステムは、第１のキャリアによって担持された基板と、第２のキャリア、とりわけ第２のキャリアによって担持されたマスクのアライメントを実施するように配置され構成されたアクチュエータ、とりわけ線形アクチュエータを含みうる。例えば、アクチュエータはピエゾアクチュエータであってよい。

［００５８］上記は本開示の実施形態を対象としているが、本開示の他の実施形態及び更なる実施形態を、それらの基本範囲を逸脱せずに考案することが可能であり、それらの範囲は、以下の特許請求の範囲によって決定される。

Claims (15)

1. 真空チャンバ（１０１）内で基板（１０）を処理する装置（１００）であって、
   第１の搬送路に沿って第１の方向（Ｘ）に第１のキャリア（１１）を搬送する第１のキャリア搬送システム（３１）と、
   第２の搬送路に沿って前記第１の方向（Ｘ）に第２のキャリア（１２）を搬送する第２のキャリア搬送システム（３２）と
   前記第１のキャリア（１１）と前記第２のキャリア（１２）との間の距離を測定する測定システム（１３０）であって、前記距離は前記第１の方向（Ｘ）に対して直交方向の距離である、測定システム（１３０）と
   を備える、装置（１００）。
2. 前記測定システム（１３０）は、
   第１の位置（Ｐ１）において前記第１のキャリア（１１）と前記第２のキャリア（１２）との間の第１の距離（Ｄ１）を測定する第１の測定デバイス（１３１Ａ）と、
   前記第１の位置（Ｐ１）とは異なる第２の位置（Ｐ２）において前記第１のキャリア（１１）と前記第２のキャリア（１２）との間の第２の距離（Ｄ２）を測定する第２の測定デバイス（１３１Ｂ）と
   を備える、請求項１に記載の装置（１００）。
3. 前記第１の測定デバイス（１３１Ａ）は第１の光学測定デバイス、とりわけ第１の共焦点センサであり、前記第２の測定デバイス（１３１Ｂ）は第２の光学測定デバイス、とりわけ第２の共焦点センサである、請求項２に記載の装置（１００）。
4. 前記第１の測定デバイス（１３１Ａ）と前記第２の測定デバイス（１３１Ｂ）は、保持機構（１３２）によって固定的に接続されている、請求項２又は３に記載の装置（１００）。
5. 前記測定システム（１３０）は、前記第１の測定デバイス（１３１Ａ）と前記第２の測定デバイス（１３１Ｂ）とを前記第１の方向（Ｘ）に対して直交方向に移動させる線形アクチュエータ（１３５）を備える、請求項２から４のいずれか一項に記載の装置（１００）。
6. 前記測定システム（１３０）は、前記第１の測定デバイス（１３１Ａ）と前記第２の測定デバイス（１３１Ｂ）の動きを、前記第１の方向（Ｘ）に対して直交方向に案内する案内機構を備える、請求項２から５のいずれか一項に記載の装置（１００）。
7. 前記測定システム（１３０）は、前記第１の位置（Ｐ１）及び前記第２の位置（Ｐ２）とは異なる第３の位置（Ｐ３）において前記第１のキャリア（１１）と前記第２のキャリア（１２）との間の第３の距離（Ｄ３）を測定する第３の測定デバイス（１３１Ｃ）を備える、請求項２から６のいずれか一項に記載の装置（１００）。
8. 前記測定システム（１３０）は、前記第１の位置（Ｐ１）、前記第２の位置（Ｐ２）及び前記第３の位置（Ｐ３）とは異なる第４の位置（Ｐ４）において前記第１のキャリア（１１）と前記第２のキャリア（１２）との間の第４の距離（Ｄ４）を測定する第４の測定デバイス（１３１Ｄ）を備える、請求項２から７のいずれか一項に記載の装置（１００）。
9. 前記第３の測定デバイス（１３１Ｃ）と前記第４の測定デバイス（１３１Ｄ）は、別の保持機構、とりわけ前記第１の方向（Ｘ）に対して直交方向の動きを提供する別の線形アクチュエータ（１４５）に接続されている別の保持機構（１４２）によって、固定的に接続されている、請求項７又は８に記載の装置（１００）。
10. 前記測定システム（１３０）は、前記測定システムを前記真空チャンバの壁に接続する装着アセンブリを備える、請求項１から９のいずれか一項に記載の装置（１００）。
11. 真空チャンバ（１０１）内で基板（１０）を処理する装置（１００）であって、
    第１の搬送路に沿って第１の方向（Ｘ）に第１のキャリア（１１）を搬送する第１のキャリア搬送システム（３１）と、
    第２の搬送路に沿って前記第１の方向（Ｘ）に第２のキャリア（１２）を搬送する第２のキャリア搬送システム（３２）と
    前記第１のキャリア（１１）によって担持された前記基板（１０）と前記第２のキャリア（１２）によって担持されたマスク（２０）との間の距離を測定する測定システム（１３０）であって、前記距離は前記第１の方向（Ｘ）に対して直交方向の距離である、測定システム（１３０）と、
    を備え、
    前記測定システム（１３０）は、
    第１の位置（Ｐ１）において前記第１のキャリア（１１）によって担持された前記基板（１０）と前記第２のキャリア（１２）によって担持された前記マスク（２０）との間の第１の距離（Ｄ１）を測定する、第１の共焦点センサである第１の測定デバイス（１３１Ａ）と、
    前記第１の位置（Ｐ１）とは異なる第２の位置（Ｐ２）において前記第１のキャリア（１１）によって担持された前記基板（１０）と前記第２のキャリア（１２）によって担持された前記マスク（２０）との間の第２の距離（Ｄ２）を測定する、第２の共焦点センサである第２の測定デバイス（１３１Ｂ）と、
    前記第１の位置（Ｐ１）及び前記第２の位置（Ｐ２）とは異なる第３の位置（Ｐ３）において前記第１のキャリア（１１）によって担持された前記基板（１０）と前記第２のキャリア（１２）によって担持された前記マスク（２０）との間の第３の距離（Ｄ３）を測定する、第３の共焦点センサである第３の測定デバイス（１３１Ｃ）と
    を備え、
    前記第１の測定デバイス（１３１Ａ）、前記第２の測定デバイス（１３１Ｂ）及び前記第３の測定デバイス（１３１Ｃ）は線形アクチュエータに連結され、前記線形アクチュエータは、前記第１の方向（Ｘ）に対して直交方向の動きを提供するように構成されている、装置（１００）。
12. 基板を処理するシステムであって、請求項１から１１のいずれか一項に記載の装置（１００）を備え、第１のキャリア（１１）と第２のキャリア（１２）とを備え、前記第１のキャリア（１１）は基板キャリアであり、前記第２のキャリア（１２）はマスクキャリアであり、前記第１のキャリアは、前記測定システム（１３０）の個々の測定デバイスを受容する貫通孔を備える、システム。
13. 第１のキャリア（１１）と第２のキャリア（１２）との間の距離を測定する方法であって、
    真空チャンバ内の第１の位置に前記第１のキャリアを提供することと、
    前記第２のキャリアが前記第１のキャリアに対して実質的に平行であるように、真空チャンバ内の第２の位置に前記第２のキャリアを提供することと、
    測定システムの測定デバイスを前記第１のキャリアの個々の貫通孔の中へ導入することと、
    前記第１のキャリアに対して前記測定デバイスの位置を固定することと、
    前記測定デバイスを用いることによって前記第１のキャリアと前記第２のキャリアとの間の前記距離を測定することと
    を含む方法。
14. 前記第１のキャリア（１１）と前記第２のキャリア（１２）との間の前記距離を測定することは、少なくとも３つの異なる位置、とりわけ前記第１のキャリアの少なくとも３つの角において前記距離を測定することを含む、請求項１３に記載の方法。
15. 第１のキャリア（１１）を第２のキャリア（１２）に対してアライメントする方法であって、
    少なくとも３つの異なる位置において第１のキャリアと前記第２のキャリアとの間の少なくとも３つの距離を測定することと、
    測定された前記少なくとも３つの距離間の差を特定することと、
    測定された前記少なくとも３つの距離間の差がなくなるように、前記第１のキャリアを前記第２のキャリアに対して移動させること
    を含む方法。

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