JPH11128805A - チクソ性塗布液用ダイおよびチクソ性塗布液の塗布方法 - Google Patents
チクソ性塗布液用ダイおよびチクソ性塗布液の塗布方法Info
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- JPH11128805A JPH11128805A JP9317728A JP31772897A JPH11128805A JP H11128805 A JPH11128805 A JP H11128805A JP 9317728 A JP9317728 A JP 9317728A JP 31772897 A JP31772897 A JP 31772897A JP H11128805 A JPH11128805 A JP H11128805A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 Ｔダイを用いてチクソ性塗布液を塗布する際
に、Ｔダイの塗布幅方向の吐出量分布を良好にできるス
トレートマニホールド型Ｔダイおよび塗布方法を提供し
ようとするものである。 【解決手段】 塗液供給口と塗液拡散部とスリット部を
有するストレートマニホールド型Ｔダイにおいて、前記
塗液供給口を２個以上備えている。
に、Ｔダイの塗布幅方向の吐出量分布を良好にできるス
トレートマニホールド型Ｔダイおよび塗布方法を提供し
ようとするものである。 【解決手段】 塗液供給口と塗液拡散部とスリット部を
有するストレートマニホールド型Ｔダイにおいて、前記
塗液供給口を２個以上備えている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、チクソ性を有する
塗布液を塗布するためのストレートマニホールド型Ｔダ
イおよびチクソ性を有する塗布液の塗布方法に関し、特
に、プラズマディスプレイパネルの背面板の障壁形成用
の高チクソ性を有する塗布液の塗布方法に関する。
塗布液を塗布するためのストレートマニホールド型Ｔダ
イおよびチクソ性を有する塗布液の塗布方法に関し、特
に、プラズマディスプレイパネルの背面板の障壁形成用
の高チクソ性を有する塗布液の塗布方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、プラズマディスプレイパネル（以
下ＰＤＰとも記す）は、その奥行きの薄いこと、軽量で
あること、更に鮮明な表示と液晶パネルに比べ視野角が
広いことにより、種々の表示装置に利用されつつある。
一般に、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、２
枚の対向するガラス基板にそれぞれ規則的に配列した一
対の電極を設け、その間にネオン、キセノン等を主体と
するガスを封入した構造となっている。そして、これら
の電極間に電圧を印加し、電極周辺の微小なセル内で放
電を発生させることにより、各セルを発光させて表示を
行うようにしている。特に情報表示をするためには、規
則的に並んだセルを選択的に放電発光させている。
下ＰＤＰとも記す）は、その奥行きの薄いこと、軽量で
あること、更に鮮明な表示と液晶パネルに比べ視野角が
広いことにより、種々の表示装置に利用されつつある。
一般に、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、２
枚の対向するガラス基板にそれぞれ規則的に配列した一
対の電極を設け、その間にネオン、キセノン等を主体と
するガスを封入した構造となっている。そして、これら
の電極間に電圧を印加し、電極周辺の微小なセル内で放
電を発生させることにより、各セルを発光させて表示を
行うようにしている。特に情報表示をするためには、規
則的に並んだセルを選択的に放電発光させている。
【０００３】ここで、ＰＤＰの構成を、図６に示すＡＣ
型ＰＤＰの１例を挙げて説明しておく。図６はＰＤＰ構
成斜視図であるが、分かり易くするため前面板（ガラス
基板６１０）、背面板（ガラス基板６２０）とを実際よ
り離して示してある。図６に示すように、２枚のガラス
基板６１０、６２０が互いに平行に且つ対向して配設さ
れており、両者は背面板となるガラス基板６２０上に互
いに平行に設けられた障壁（セル障壁とも言う）６３０
により、一定の間隔に保持されている。前面板となるガ
ラス基板６１０の背面側には、放電維持電極である透明
電極６４０とバス電極である金属電極６５０とで構成さ
れる複合電極が互いに平行に形成され、これを覆って、
誘電体層６６０が形成されており、更にその上に保護層
（ＭｇＯ層）６７０が形成されている。また、背面板と
なるガラス基板６２０の前面側には前記複合電極と直交
するように障壁６３０間に位置してアドレス電極６８０
が互いに平行に形成されており、更に障壁６３０の壁面
とセル底面を覆うように螢光面６９０が設けられてい
る。障壁６３０は放電空間を区画するためのもので、区
画された各放電空間をセルないし単位発光領域と言う。
このＡＣ型ＰＤＰは面放電型であって、前面板上の複合
電極間に交流電圧を印加し、で放電させる構造である。
この場合、交流をかけているために電界の向きは周波数
に対応して変化する。そして、この放電により生じる紫
外線により螢光体６９０を発光させ、前面板を透過する
光を観察者が視認できるものである。なお、ＤＣ型ＰＤ
Ｐにあっては、電極は誘電体層で被膜されていない構造
を有する点でＡＣ型と相違するが、その放電効果は同じ
である。また、図６に示すものは、ガラス基板６２０の
一面に下地層６６７を設けその上に誘電体層６６５を設
けた構造となっているが、下地層６６７、誘電体層６６
５は必ずしも必要としない。
型ＰＤＰの１例を挙げて説明しておく。図６はＰＤＰ構
成斜視図であるが、分かり易くするため前面板（ガラス
基板６１０）、背面板（ガラス基板６２０）とを実際よ
り離して示してある。図６に示すように、２枚のガラス
基板６１０、６２０が互いに平行に且つ対向して配設さ
れており、両者は背面板となるガラス基板６２０上に互
いに平行に設けられた障壁（セル障壁とも言う）６３０
により、一定の間隔に保持されている。前面板となるガ
ラス基板６１０の背面側には、放電維持電極である透明
電極６４０とバス電極である金属電極６５０とで構成さ
れる複合電極が互いに平行に形成され、これを覆って、
誘電体層６６０が形成されており、更にその上に保護層
（ＭｇＯ層）６７０が形成されている。また、背面板と
なるガラス基板６２０の前面側には前記複合電極と直交
するように障壁６３０間に位置してアドレス電極６８０
が互いに平行に形成されており、更に障壁６３０の壁面
とセル底面を覆うように螢光面６９０が設けられてい
る。障壁６３０は放電空間を区画するためのもので、区
画された各放電空間をセルないし単位発光領域と言う。
このＡＣ型ＰＤＰは面放電型であって、前面板上の複合
電極間に交流電圧を印加し、で放電させる構造である。
この場合、交流をかけているために電界の向きは周波数
に対応して変化する。そして、この放電により生じる紫
外線により螢光体６９０を発光させ、前面板を透過する
光を観察者が視認できるものである。なお、ＤＣ型ＰＤ
Ｐにあっては、電極は誘電体層で被膜されていない構造
を有する点でＡＣ型と相違するが、その放電効果は同じ
である。また、図６に示すものは、ガラス基板６２０の
一面に下地層６６７を設けその上に誘電体層６６５を設
けた構造となっているが、下地層６６７、誘電体層６６
５は必ずしも必要としない。
【０００４】そして、従来、上記ＰＤＰに使用する背面
板の障壁の形成方法としては、ガラス基板上に障壁形成
材料を障壁パターン形状に、スクリーン印刷にて複数回
繰り返して重ねて印刷して所要の高さに積み上げ、乾燥
させる第１の方法（スクリーン印刷法と呼ばれる）、あ
るいは、ガラス基板上に障壁形成材料を全面に塗布した
後、塗布面上にサンドブラストに耐性を有するレジスト
を所定形状にパターニング形成し、該レジストをマスク
としてサンドブラストにより障壁形成材料を所定形状に
形成する第２の方法（サンドブラスト法と呼ばれる）が
採られていた。
板の障壁の形成方法としては、ガラス基板上に障壁形成
材料を障壁パターン形状に、スクリーン印刷にて複数回
繰り返して重ねて印刷して所要の高さに積み上げ、乾燥
させる第１の方法（スクリーン印刷法と呼ばれる）、あ
るいは、ガラス基板上に障壁形成材料を全面に塗布した
後、塗布面上にサンドブラストに耐性を有するレジスト
を所定形状にパターニング形成し、該レジストをマスク
としてサンドブラストにより障壁形成材料を所定形状に
形成する第２の方法（サンドブラスト法と呼ばれる）が
採られていた。
【０００５】しかし、上記第１の方法によるＰＤＰに使
用する障壁の形成においては、障壁としての所定の厚さ
を得るには、数回〜１０数回程度のペーストのスクリー
ン印刷が必要で手間がかかる上に、印刷精度の管理が必
要となり、品質的にも満足のいくものを得ることが難し
く、現在では、第２の方法が主流となっている。
用する障壁の形成においては、障壁としての所定の厚さ
を得るには、数回〜１０数回程度のペーストのスクリー
ン印刷が必要で手間がかかる上に、印刷精度の管理が必
要となり、品質的にも満足のいくものを得ることが難し
く、現在では、第２の方法が主流となっている。
【０００６】第２の方法によるＰＤＰに使用する背面板
の障壁形成においては、背面板となるガラス板面上に図
４に示すようなストレートマニホールド型Ｔダイにより
ペースト状の障壁形成用材料を塗布した後、ガラス板上
の障壁形成用材料をサンドブラストに耐性のあるマスク
で覆い、ノズルからガラスビーズ等の研磨砂を高圧空気
にて吹きつけ、マスクから露出した部分を選択的に切削
して、障壁を形成していた。尚、図４（ｂ）、図４
（ｃ）はそれぞれ、図４（ａ）のＢ１−Ｂ２、Ｂ３−Ｂ
４における断面図であり、図４（ａ）中、一点鎖線は塗
液拡散部（マニホールド）の位置を示したものである。
障壁形成用材料の塗布にストレートマニホールド型Ｔダ
イが用いられる理由は、コートハンガー型やフィシュテ
イル型と比べてその作製が容易で、幅広い塗液性質に対
応でき、取扱が簡単なためであるが、このストレートマ
ニホールド型Ｔダイによる塗布においては、チクソ性が
高い塗液の場合にＴダイの塗布幅方向で吐出量の差が顕
著となるという問題がある。これ故、ＰＤＰに使用する
背面板の障壁の形成において良い品質を得るには、障壁
形成用材料を背面板の障壁形成領域全体にわたり均一に
塗布形成することが前提となるが、障壁形成用材料（塗
布液）が高いチクソ性を示すため、障壁形成用材料の塗
布においてダイの塗布幅方向の吐出量の場所による差が
顕著に出てしまい問題となっていた。即ち、ＰＤＰ用の
背面板の障壁形成全領域において均一な塗布膜厚を得る
ことができず問題となっていた。
の障壁形成においては、背面板となるガラス板面上に図
４に示すようなストレートマニホールド型Ｔダイにより
ペースト状の障壁形成用材料を塗布した後、ガラス板上
の障壁形成用材料をサンドブラストに耐性のあるマスク
で覆い、ノズルからガラスビーズ等の研磨砂を高圧空気
にて吹きつけ、マスクから露出した部分を選択的に切削
して、障壁を形成していた。尚、図４（ｂ）、図４
（ｃ）はそれぞれ、図４（ａ）のＢ１−Ｂ２、Ｂ３−Ｂ
４における断面図であり、図４（ａ）中、一点鎖線は塗
液拡散部（マニホールド）の位置を示したものである。
障壁形成用材料の塗布にストレートマニホールド型Ｔダ
イが用いられる理由は、コートハンガー型やフィシュテ
イル型と比べてその作製が容易で、幅広い塗液性質に対
応でき、取扱が簡単なためであるが、このストレートマ
ニホールド型Ｔダイによる塗布においては、チクソ性が
高い塗液の場合にＴダイの塗布幅方向で吐出量の差が顕
著となるという問題がある。これ故、ＰＤＰに使用する
背面板の障壁の形成において良い品質を得るには、障壁
形成用材料を背面板の障壁形成領域全体にわたり均一に
塗布形成することが前提となるが、障壁形成用材料（塗
布液）が高いチクソ性を示すため、障壁形成用材料の塗
布においてダイの塗布幅方向の吐出量の場所による差が
顕著に出てしまい問題となっていた。即ち、ＰＤＰ用の
背面板の障壁形成全領域において均一な塗布膜厚を得る
ことができず問題となっていた。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】このように、プラズマ
ディスプレイ用背面板の障壁をストレートマニホールド
型Ｔダイを用いて形成にする場合においては、Ｔダイの
塗布幅方向で吐出量の差が顕著に出るため、この対応が
求められていた。本発明は、このような状況のもと、ス
トレートマニホールド型Ｔダイを用いてチクソ性塗布液
を塗布する際に、Ｔダイの塗布幅方向の吐出量分布を良
好にできるストレートマニホールド型Ｔダイおよび塗布
方法を提供しようとするものである。
ディスプレイ用背面板の障壁をストレートマニホールド
型Ｔダイを用いて形成にする場合においては、Ｔダイの
塗布幅方向で吐出量の差が顕著に出るため、この対応が
求められていた。本発明は、このような状況のもと、ス
トレートマニホールド型Ｔダイを用いてチクソ性塗布液
を塗布する際に、Ｔダイの塗布幅方向の吐出量分布を良
好にできるストレートマニホールド型Ｔダイおよび塗布
方法を提供しようとするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明のチクソ性塗布液
用ダイは、塗液供給口と塗液拡散部とスリット部を有す
るストレートマニホールド型Ｔダイにおいて、前記塗液
供給口を２個以上備えていることを特徴とするものであ
る。そして、上記において、塗液拡散部の断面積が１〜
１００ｃｍ2 、スリット幅が５０〜１０００μｍ、スリ
ット長さが５〜１００ｍｍであることを特徴とするもの
である。また、本発明のチクソ性塗布液の塗布方法は、
塗液供給口と塗液拡散部とスリット部を有し、且つ、塗
液供給口を２個以上有するストレートマニホールド型Ｔ
ダイを用いるチクソ性塗布液の塗布方法であり、塗布液
は、回転粘度計による粘度測定方法でせん断速度が０．
１ｓｅｃ-1における粘度η１が４０００Ｐ以下、１０ｓ
ｅｃ-1における粘度η２が４０Ｐ以上であることを特徴
とするものである。尚、チキソ性とは、チキソトロピー
性のことで、非ニュートン性の物質で、時間に依存した
流動特性を持ち、一定のずり速度状態において見掛け粘
度が時間とともに減少し、ずり変形の力を除くと徐々に
復元する性質であり、ここで言う粘度とは見掛け粘度
で、非ニュートン性を有する物質の粘度を、ある任意の
ずり速度の下でニュートン性物質としてみなして求めた
粘度の値である。また、粘度測定は、円錐円板粘度計な
いし回転円錐式粘度計とも呼ばれる回転粘度計により行
うことができる。ここでは、株式会社キャリメ製のＣ．
Ｓ．レオメータにて粘度測定を行った結果に基づいたも
のである。
用ダイは、塗液供給口と塗液拡散部とスリット部を有す
るストレートマニホールド型Ｔダイにおいて、前記塗液
供給口を２個以上備えていることを特徴とするものであ
る。そして、上記において、塗液拡散部の断面積が１〜
１００ｃｍ2 、スリット幅が５０〜１０００μｍ、スリ
ット長さが５〜１００ｍｍであることを特徴とするもの
である。また、本発明のチクソ性塗布液の塗布方法は、
塗液供給口と塗液拡散部とスリット部を有し、且つ、塗
液供給口を２個以上有するストレートマニホールド型Ｔ
ダイを用いるチクソ性塗布液の塗布方法であり、塗布液
は、回転粘度計による粘度測定方法でせん断速度が０．
１ｓｅｃ-1における粘度η１が４０００Ｐ以下、１０ｓ
ｅｃ-1における粘度η２が４０Ｐ以上であることを特徴
とするものである。尚、チキソ性とは、チキソトロピー
性のことで、非ニュートン性の物質で、時間に依存した
流動特性を持ち、一定のずり速度状態において見掛け粘
度が時間とともに減少し、ずり変形の力を除くと徐々に
復元する性質であり、ここで言う粘度とは見掛け粘度
で、非ニュートン性を有する物質の粘度を、ある任意の
ずり速度の下でニュートン性物質としてみなして求めた
粘度の値である。また、粘度測定は、円錐円板粘度計な
いし回転円錐式粘度計とも呼ばれる回転粘度計により行
うことができる。ここでは、株式会社キャリメ製のＣ．
Ｓ．レオメータにて粘度測定を行った結果に基づいたも
のである。
【０００９】
【作用】本発明のチクソ性塗布液用ダイは、このような
構成にすることにより、チクソ性塗布液を塗布する際
に、ダイの塗布幅方向の吐出量分布を良好にできるスト
レートマニホールド型Ｔダイの提供を可能としている。
即ち、ストレートマニホールド型Ｔダイの塗液供給口を
２個以上とすることにより、塗液供給口が１個の場合に
比べ、塗布液のマニホールドの塗布幅方向移動による圧
力損失量を減らすことができるものとしており、特に、
高いチクソ性を有する塗布液の場合は効果的である。こ
の結果、ダイの塗布幅方向での塗布液の吐出量分布を良
化できる。更に、マニホールドの塗液拡散部の断面積を
１〜１００ｃｍ2 、スリット幅を５０〜１０００μｍ、
スリット長さを５〜１００ｍｍとすることにより、幅広
い塗液性質に対応可能としている。これは、塗布条件が
ある程度変化しても、Ｔダイの各吐出部において、均一
な塗布を可能なことを意味しており、取扱が簡単とな
る。尚、塗布の対象となるのは、ＰＤＰの背面板の障壁
形成用材料（ペースト）に限定されないことは言うまで
もなく、例えば同じＰＤＰの他の層を形成するためのペ
ースト塗布に本発明のダイを用いても良い。
構成にすることにより、チクソ性塗布液を塗布する際
に、ダイの塗布幅方向の吐出量分布を良好にできるスト
レートマニホールド型Ｔダイの提供を可能としている。
即ち、ストレートマニホールド型Ｔダイの塗液供給口を
２個以上とすることにより、塗液供給口が１個の場合に
比べ、塗布液のマニホールドの塗布幅方向移動による圧
力損失量を減らすことができるものとしており、特に、
高いチクソ性を有する塗布液の場合は効果的である。こ
の結果、ダイの塗布幅方向での塗布液の吐出量分布を良
化できる。更に、マニホールドの塗液拡散部の断面積を
１〜１００ｃｍ2 、スリット幅を５０〜１０００μｍ、
スリット長さを５〜１００ｍｍとすることにより、幅広
い塗液性質に対応可能としている。これは、塗布条件が
ある程度変化しても、Ｔダイの各吐出部において、均一
な塗布を可能なことを意味しており、取扱が簡単とな
る。尚、塗布の対象となるのは、ＰＤＰの背面板の障壁
形成用材料（ペースト）に限定されないことは言うまで
もなく、例えば同じＰＤＰの他の層を形成するためのペ
ースト塗布に本発明のダイを用いても良い。
【００１０】また、本発明のチクソ性塗布液の塗布方法
は、このような構成にすることにより、ストレートマニ
ホールド型Ｔダイを用いたチキソ性を示す塗布液の良好
な塗布を可能とするものである。回転粘度計による粘度
測定方法でせん断速度が０．１ｓｅｃ-1における粘度η
１を４０００Ｐ以下とする理由は、塗布においてレベリ
ングができるようにするためで、１０ｓｅｃ-1における
粘度η２を４０Ｐ以上とする理由は、塗布後に液が垂れ
ないようにするためである。本発明の塗布方法の適用
は、ＰＤＰの背面板の障壁形成用材料（ペースト）に限
定されないことは言うまでもない。
は、このような構成にすることにより、ストレートマニ
ホールド型Ｔダイを用いたチキソ性を示す塗布液の良好
な塗布を可能とするものである。回転粘度計による粘度
測定方法でせん断速度が０．１ｓｅｃ-1における粘度η
１を４０００Ｐ以下とする理由は、塗布においてレベリ
ングができるようにするためで、１０ｓｅｃ-1における
粘度η２を４０Ｐ以上とする理由は、塗布後に液が垂れ
ないようにするためである。本発明の塗布方法の適用
は、ＰＤＰの背面板の障壁形成用材料（ペースト）に限
定されないことは言うまでもない。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明のチクソ性塗布液用ダイの
実施の形態の第１の例を図１に示し、これを基に本発明
を説明する。図１（ａ）は実施の形態の１例の正面図
で、図形１（ｂ）はそのＡ１−Ａ２における断面を示し
たものであり、図１（ａ）中、一点鎖線は塗液拡散部
（マニホールド）の位置を示したものである。図１中、
１１０はストレートマニホールド型Ｔダイ、１１１、１
１２は塗液供給口、１１３は塗液拡散部（マニホール
ド）、１１５はスリット部、１２０、１２１、１２２、
１２３は塗布液供給管である。図形１に示すストレート
マニホールド型Ｔダイ１１０は、２個の塗液供給口１１
１、１１２をそれぞれ塗布幅の中心から１／４の長さの
箇所に設けたものである。塗液供給口１１１、１１２と
において同じ状態とするために、塗液供給口１１１に塗
布液を供給する管（塗布液供給管１２０、１２１、１２
２）にそれぞれ対応する塗液供給口１１２に塗布液を供
給する管（塗布液供給管１２０、１２１、１２３）は、
それぞれ同じサイズ、同じ形状、同じ材質としている。
即ち、ここでは、塗布液供給管１２０は塗布液供給管１
２１の中心位置にて分岐されている。このようにしてい
ることにより、塗布幅方向全域に跨がり、塗液供給口１
１１ないし１１２からの距離を塗布幅Ｌ全体の１／４以
下としており、この結果、塗液拡散部（マニホールド）
内における塗布液の圧力損失のバラツキを、図４に示す
従来の１個の塗液供給口４１１を持つストレートマニホ
ールド型Ｔダイ４１０に比べ少なくしている。尚、図４
に示す従来のものにおいては、塗液供給口４１１からの
距離は塗布幅Ｌ０全体の１／２以下である。
実施の形態の第１の例を図１に示し、これを基に本発明
を説明する。図１（ａ）は実施の形態の１例の正面図
で、図形１（ｂ）はそのＡ１−Ａ２における断面を示し
たものであり、図１（ａ）中、一点鎖線は塗液拡散部
（マニホールド）の位置を示したものである。図１中、
１１０はストレートマニホールド型Ｔダイ、１１１、１
１２は塗液供給口、１１３は塗液拡散部（マニホール
ド）、１１５はスリット部、１２０、１２１、１２２、
１２３は塗布液供給管である。図形１に示すストレート
マニホールド型Ｔダイ１１０は、２個の塗液供給口１１
１、１１２をそれぞれ塗布幅の中心から１／４の長さの
箇所に設けたものである。塗液供給口１１１、１１２と
において同じ状態とするために、塗液供給口１１１に塗
布液を供給する管（塗布液供給管１２０、１２１、１２
２）にそれぞれ対応する塗液供給口１１２に塗布液を供
給する管（塗布液供給管１２０、１２１、１２３）は、
それぞれ同じサイズ、同じ形状、同じ材質としている。
即ち、ここでは、塗布液供給管１２０は塗布液供給管１
２１の中心位置にて分岐されている。このようにしてい
ることにより、塗布幅方向全域に跨がり、塗液供給口１
１１ないし１１２からの距離を塗布幅Ｌ全体の１／４以
下としており、この結果、塗液拡散部（マニホールド）
内における塗布液の圧力損失のバラツキを、図４に示す
従来の１個の塗液供給口４１１を持つストレートマニホ
ールド型Ｔダイ４１０に比べ少なくしている。尚、図４
に示す従来のものにおいては、塗液供給口４１１からの
距離は塗布幅Ｌ０全体の１／２以下である。
【００１２】塗液拡散部（マニホールド）１１３は、塗
布幅方向全域に跨がり、塗液供給口１１１、１１２から
塗布液の供給を受けるもので、その断面は図１（ｂ）に
示すように、略半円状をしている。尚、断面形状はこれ
に限定はされない。塗液拡散部（マニホールド）１１３
の断面積Ｓｍを１〜１００ｃｍ2 、スリット幅Ｗｓを５
０〜１０００μｍ、スリット長さＬｓを５〜１００ｍｍ
とすることにより、幅広い塗液性質に対応可能としでき
る。これは、塗布条件がある程度変化しても、Ｔダイの
各吐出部において、均一な塗布を可能にすることを意味
し、これにより取扱が簡単となる。
布幅方向全域に跨がり、塗液供給口１１１、１１２から
塗布液の供給を受けるもので、その断面は図１（ｂ）に
示すように、略半円状をしている。尚、断面形状はこれ
に限定はされない。塗液拡散部（マニホールド）１１３
の断面積Ｓｍを１〜１００ｃｍ2 、スリット幅Ｗｓを５
０〜１０００μｍ、スリット長さＬｓを５〜１００ｍｍ
とすることにより、幅広い塗液性質に対応可能としでき
る。これは、塗布条件がある程度変化しても、Ｔダイの
各吐出部において、均一な塗布を可能にすることを意味
し、これにより取扱が簡単となる。
【００１３】ストレートマニホールド型Ｔダイの各部の
材質としては機械的、化学的に実用に耐えるものであれ
ば特に限定はされない。通常、ＰＤＰの背面板の焼成過
程で軟化しないアルミナ、ジルコニアなどの無機粉体
と、焼成過程で流動して固着するための低融点ガラス粉
末と、さらに焼成前のこれら粉体を塗膜化するために焼
成により気化、燃焼、分解等をして消失し得る樹脂とを
少量含んだペーストが障壁形成用材料として用いられる
ため、ＰＤＰ背面板の障壁形成用材料を塗布する場合の
ダイ材質としては、ステンレス、アルミニウム、チタ
ン、セラミック等が用いられている。
材質としては機械的、化学的に実用に耐えるものであれ
ば特に限定はされない。通常、ＰＤＰの背面板の焼成過
程で軟化しないアルミナ、ジルコニアなどの無機粉体
と、焼成過程で流動して固着するための低融点ガラス粉
末と、さらに焼成前のこれら粉体を塗膜化するために焼
成により気化、燃焼、分解等をして消失し得る樹脂とを
少量含んだペーストが障壁形成用材料として用いられる
ため、ＰＤＰ背面板の障壁形成用材料を塗布する場合の
ダイ材質としては、ステンレス、アルミニウム、チタ
ン、セラミック等が用いられている。
【００１４】次いで、実施の形態の第２の例を図２に示
す。ストレートマニホールド型Ｔダイ２１０は、４個の
塗液供給口２１１、２１２、２１３、２１４をそれぞ
れ、図２に示すように、塗布幅方向全域に跨がり、塗液
供給口からの距離を塗布幅全体の１／８以下としてお
り、この結果、塗液拡散部（マニホールド）内における
塗布液の圧力損失のバラツキを、図４に示す従来の１個
の塗液供給口を持つストレートマニホールド型Ｔダイ
や、図１に示す２個の塗液供給口を持つストレートマニ
ホールド型Ｔダイやに比べ少なくしている。４個の塗液
供給口２１１、２１２、２１３、２１４における塗布液
の状態を同じとするために、各塗液供給口に塗布液を供
給するそれぞれ対応する管については図１に示す第１の
例と同様、それぞれ互いに同じものを用いており、更
に、管２２０、２２２、２２３は、それぞれ管２２１、
管２２４、管２２５の中心位置にて分岐されている。
尚、図２（ａ）中、一点鎖線は塗液拡散部（マニホール
ド）の位置を示したものである。
す。ストレートマニホールド型Ｔダイ２１０は、４個の
塗液供給口２１１、２１２、２１３、２１４をそれぞ
れ、図２に示すように、塗布幅方向全域に跨がり、塗液
供給口からの距離を塗布幅全体の１／８以下としてお
り、この結果、塗液拡散部（マニホールド）内における
塗布液の圧力損失のバラツキを、図４に示す従来の１個
の塗液供給口を持つストレートマニホールド型Ｔダイ
や、図１に示す２個の塗液供給口を持つストレートマニ
ホールド型Ｔダイやに比べ少なくしている。４個の塗液
供給口２１１、２１２、２１３、２１４における塗布液
の状態を同じとするために、各塗液供給口に塗布液を供
給するそれぞれ対応する管については図１に示す第１の
例と同様、それぞれ互いに同じものを用いており、更
に、管２２０、２２２、２２３は、それぞれ管２２１、
管２２４、管２２５の中心位置にて分岐されている。
尚、図２（ａ）中、一点鎖線は塗液拡散部（マニホール
ド）の位置を示したものである。
【００１５】図１や図２に示すようにして、本発明にお
いては、Ｔダイの塗布幅方向への塗布液進行に伴う塗布
液の圧力損失のバラツキを図４に示す従来のＴダイに比
べ少なくし、塗布幅方向全域に渡り、塗液拡散部（マニ
ホールド）内の塗布液の状態を平均化しており、これに
より、従来の図１に示すストレートマニホールド型Ｔダ
イに比べ、高チキソ性を有する塗布液を塗布する場合に
おいても、塗布幅方向で吐出量に大きな差がでないよう
にしている。尚、図１、図２に示す実施の形態において
は、塗布液を供給するための管を分岐しているが、これ
は実施し易い形態を挙げたもので、必ずしもこのように
する必要はない。各塗液供給口において同じ状態にして
塗布液を供給できれば良いのである。
いては、Ｔダイの塗布幅方向への塗布液進行に伴う塗布
液の圧力損失のバラツキを図４に示す従来のＴダイに比
べ少なくし、塗布幅方向全域に渡り、塗液拡散部（マニ
ホールド）内の塗布液の状態を平均化しており、これに
より、従来の図１に示すストレートマニホールド型Ｔダ
イに比べ、高チキソ性を有する塗布液を塗布する場合に
おいても、塗布幅方向で吐出量に大きな差がでないよう
にしている。尚、図１、図２に示す実施の形態において
は、塗布液を供給するための管を分岐しているが、これ
は実施し易い形態を挙げたもので、必ずしもこのように
する必要はない。各塗液供給口において同じ状態にして
塗布液を供給できれば良いのである。
【００１６】本発明のチクソ性塗布液の塗布方法は、上
記図１、図２に示すような本発明の塗液供給口を２個以
上有するストレートマニホールド型Ｔダイを用いて、回
転粘度計による粘度測定方法でせん断速度が０．１ｓｅ
ｃ-1における粘度η１が４０００Ｐ以下、１０ｓｅｃ-1
における粘度η２が４０Ｐ以上であるチキソ性を有す
る、即ち、η１／η２が１より大の塗布液を塗布するも
のである。
記図１、図２に示すような本発明の塗液供給口を２個以
上有するストレートマニホールド型Ｔダイを用いて、回
転粘度計による粘度測定方法でせん断速度が０．１ｓｅ
ｃ-1における粘度η１が４０００Ｐ以下、１０ｓｅｃ-1
における粘度η２が４０Ｐ以上であるチキソ性を有す
る、即ち、η１／η２が１より大の塗布液を塗布するも
のである。
【００１７】
【実施例】更に、実際に図１に示す構造のストレートマ
ニホールド型Ｔダイにて、塗液拡散部（マニホールド）
の断面積Ｓｍを７．５ｃｍ2 、スリット幅Ｗｓを５００
μｍ、スリットの長さＬｓを４０ｍｍとしたものを作製
し、ＰＤＰの背面板の障壁を形成するためにガラス板
に、高いチキソ性を有する障壁形成用材料を塗布してみ
た。障壁形成用材料（塗布液）は、アルミナ、ジルコニ
アなどの無機粉体、低融点ガラス粉末、樹脂を少量含ん
だ原液を希釈溶剤を加え、所定粘度値にしたものであ
る。塗布液は、回転粘度計による粘度測定方法でせん断
速度が０．１ｓｅｃ-1における粘度η１が８９１．９
Ｐ、１０ｓｅｃ-1における粘度η２が２８０．６Ｐで、
η１／η２＝３．１７９と高いチキソ性を示すものであ
る。塗布後の膜厚分布を、ガラス板に塗布された８４０
ｍｍ×５８０ｍｍの領域内について調べた結果を図３
（ａ）に示す。尚、図３（ｂ）はガラス板と各測定位置
との関係を示したもので、ダイの塗布幅方向をＸ方向、
塗布方向をＹ方向として、Ｘ位置が３０ｍｍ、２００ｍ
ｍ、４０５ｍｍ、６４０ｍｍ、８１０ｍｍで、Ｙ位置が
３０ｍｍ、１５０ｍｍ、２９０ｍｍ、５５０ｍｍの各点
についてその膜厚を測定した。図３（ａ）では、〜
のグラフは、それぞれ、Ｙ方向位置が３０ｍｍ、１５０
ｍｍ、２９０ｍｍ、４３０ｍｍ、５５０ｍｍのものであ
る。全膜厚測定箇所の膜厚の平均値は１５７．８μｍ、
バラツキσは２．２μｍとして得られた。得られた膜厚
分布は実用に十分耐えるものである。 （比較例）比較例として、図５に、従来の図４に示すス
トレートマニホールド型Ｔダイで、拡散部（マニホール
ド）の断面積Ｓｍを７．５ｃｍ2 、スリット幅Ｗｓを５
００μｍ、スリットの長さＬｓを４０ｍｍとしたものを
作製し、実施例で使用した障壁用材料を用い、実施例で
使用したガラス板と同じものを用いて塗布し、塗布後膜
厚分布を調べて、表２に示す結果を得た。この場合は、
その平均値は１６２．０μｍ、バラツキσは５．７μｍ
であった。これより、実施例の塗布液供給口を２個もつ
ダイによる塗布は、図４に示す従来のダイによる塗布よ
り、得られる塗布膜のバラツキの点で優れていることが
分かる。尚、図５における、ガラス板内の膜厚の測定箇
所、及び〜の表示は、図３と同様である。
ニホールド型Ｔダイにて、塗液拡散部（マニホールド）
の断面積Ｓｍを７．５ｃｍ2 、スリット幅Ｗｓを５００
μｍ、スリットの長さＬｓを４０ｍｍとしたものを作製
し、ＰＤＰの背面板の障壁を形成するためにガラス板
に、高いチキソ性を有する障壁形成用材料を塗布してみ
た。障壁形成用材料（塗布液）は、アルミナ、ジルコニ
アなどの無機粉体、低融点ガラス粉末、樹脂を少量含ん
だ原液を希釈溶剤を加え、所定粘度値にしたものであ
る。塗布液は、回転粘度計による粘度測定方法でせん断
速度が０．１ｓｅｃ-1における粘度η１が８９１．９
Ｐ、１０ｓｅｃ-1における粘度η２が２８０．６Ｐで、
η１／η２＝３．１７９と高いチキソ性を示すものであ
る。塗布後の膜厚分布を、ガラス板に塗布された８４０
ｍｍ×５８０ｍｍの領域内について調べた結果を図３
（ａ）に示す。尚、図３（ｂ）はガラス板と各測定位置
との関係を示したもので、ダイの塗布幅方向をＸ方向、
塗布方向をＹ方向として、Ｘ位置が３０ｍｍ、２００ｍ
ｍ、４０５ｍｍ、６４０ｍｍ、８１０ｍｍで、Ｙ位置が
３０ｍｍ、１５０ｍｍ、２９０ｍｍ、５５０ｍｍの各点
についてその膜厚を測定した。図３（ａ）では、〜
のグラフは、それぞれ、Ｙ方向位置が３０ｍｍ、１５０
ｍｍ、２９０ｍｍ、４３０ｍｍ、５５０ｍｍのものであ
る。全膜厚測定箇所の膜厚の平均値は１５７．８μｍ、
バラツキσは２．２μｍとして得られた。得られた膜厚
分布は実用に十分耐えるものである。 （比較例）比較例として、図５に、従来の図４に示すス
トレートマニホールド型Ｔダイで、拡散部（マニホール
ド）の断面積Ｓｍを７．５ｃｍ2 、スリット幅Ｗｓを５
００μｍ、スリットの長さＬｓを４０ｍｍとしたものを
作製し、実施例で使用した障壁用材料を用い、実施例で
使用したガラス板と同じものを用いて塗布し、塗布後膜
厚分布を調べて、表２に示す結果を得た。この場合は、
その平均値は１６２．０μｍ、バラツキσは５．７μｍ
であった。これより、実施例の塗布液供給口を２個もつ
ダイによる塗布は、図４に示す従来のダイによる塗布よ
り、得られる塗布膜のバラツキの点で優れていることが
分かる。尚、図５における、ガラス板内の膜厚の測定箇
所、及び〜の表示は、図３と同様である。
【００１８】
【発明の効果】本発明は、上記のように、ストレートマ
ニホールド型Ｔダイを用いたチクソ性塗布液の塗布をす
る際に、Ｔダイの幅方向の吐出量分布を良好にできるス
トレートマニホールド型Ｔダイの提供を可能としてい
る。同時に良好な膜厚分布を得ることができるチクソ性
塗布液の塗布方法の提供を可能としている。そして、Ｐ
ＤＰの背面板の障壁を形成する際の、高いチキソ性を有
する障壁形成材料の良好な塗布を可能とし、結果、良品
質のＰＤＰの提供を実用的なものとした。尚、本発明の
チクソ性塗布液用ダイおよびチクソ性塗布液の塗布方法
は、ＰＤＰの背面板の障壁形成用材料の塗布の他にも適
用できることは言うまでもない。例えば同じＰＤＰの背
面板や前面板に形成される他の層の塗布に本発明のダイ
や塗布方法を用いても良い。
ニホールド型Ｔダイを用いたチクソ性塗布液の塗布をす
る際に、Ｔダイの幅方向の吐出量分布を良好にできるス
トレートマニホールド型Ｔダイの提供を可能としてい
る。同時に良好な膜厚分布を得ることができるチクソ性
塗布液の塗布方法の提供を可能としている。そして、Ｐ
ＤＰの背面板の障壁を形成する際の、高いチキソ性を有
する障壁形成材料の良好な塗布を可能とし、結果、良品
質のＰＤＰの提供を実用的なものとした。尚、本発明の
チクソ性塗布液用ダイおよびチクソ性塗布液の塗布方法
は、ＰＤＰの背面板の障壁形成用材料の塗布の他にも適
用できることは言うまでもない。例えば同じＰＤＰの背
面板や前面板に形成される他の層の塗布に本発明のダイ
や塗布方法を用いても良い。
【図１】本発明の実施の形態の第１の例を示した概略図
【図２】本発明の実施の形態の第２の例を示した概略図
【図３】実施例における膜厚分布を示した表の図
【図４】従来のストレートマニホールド型Ｔダイを示し
た図
た図
【図５】従来のストレートマニホールド型Ｔダイを用い
た場合の膜厚分布を示した図
た場合の膜厚分布を示した図
【図６】ＰＤＰ基板を説明するための図
１１０ ストレートマニホ
ールド型Ｔダイ １１１、１１２ 塗液供給口 １１３ 塗液拡散部（マニ
ホールド） １１５ スリット部 １２０、１２１、１２２、１２３ 塗布液供給管 ２１０ ストレートマニホ
ールド型Ｔダイ ２１１、２１２、２１３、２１４ 塗液供給口 ２２０〜２２９ 塗布液供給管 ２３０ 塗液拡散部（マニ
ホールド） ４１０ ストレートマニホ
ールド型Ｔダイ ４１１ 塗液供給口 ４１３ 塗液拡散部（マニ
ホールド） ４１５ スリット部 ４２０ 塗布液供給管
ールド型Ｔダイ １１１、１１２ 塗液供給口 １１３ 塗液拡散部（マニ
ホールド） １１５ スリット部 １２０、１２１、１２２、１２３ 塗布液供給管 ２１０ ストレートマニホ
ールド型Ｔダイ ２１１、２１２、２１３、２１４ 塗液供給口 ２２０〜２２９ 塗布液供給管 ２３０ 塗液拡散部（マニ
ホールド） ４１０ ストレートマニホ
ールド型Ｔダイ ４１１ 塗液供給口 ４１３ 塗液拡散部（マニ
ホールド） ４１５ スリット部 ４２０ 塗布液供給管
Claims (3)
- 【請求項１】 塗液供給口と塗液拡散部とスリット部を
有するストレートマニホールド型Ｔダイにおいて、前記
塗液供給口を２個以上備えていることを特徴とするチク
ソ性塗布液用ダイ。 - 【請求項２】 請求項１において、塗液拡散部の断面積
が１〜１００ｃｍ2、スリット幅が５０〜１０００μ
ｍ、スリット長さが５〜１００ｍｍであることを特徴と
するチクソ性塗布液用ダイ。 - 【請求項３】 塗液供給口と塗液拡散部とスリット部を
有し、且つ、塗液供給口を２個以上有するストレートマ
ニホールド型Ｔダイを用いるチクソ性塗布液の塗布方法
であり、塗布液は、回転粘度計による粘度測定方法でせ
ん断速度が０．１ｓｅｃ-1における粘度η１が４０００
Ｐ以下、１０ｓｅｃ-1における粘度η２が４０Ｐ以上で
あることを特徴とするチクソ性塗布液の塗布方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9317728A JPH11128805A (ja) | 1997-11-05 | 1997-11-05 | チクソ性塗布液用ダイおよびチクソ性塗布液の塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9317728A JPH11128805A (ja) | 1997-11-05 | 1997-11-05 | チクソ性塗布液用ダイおよびチクソ性塗布液の塗布方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11128805A true JPH11128805A (ja) | 1999-05-18 |
Family
ID=18091384
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9317728A Pending JPH11128805A (ja) | 1997-11-05 | 1997-11-05 | チクソ性塗布液用ダイおよびチクソ性塗布液の塗布方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11128805A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006205008A (ja) * | 2005-01-26 | 2006-08-10 | Canon Chemicals Inc | ゴムローラの塗工方法及び浸漬塗工装置 |
| JP2007000732A (ja) * | 2005-06-22 | 2007-01-11 | Toppan Printing Co Ltd | 単板塗布装置および塗布方法 |
| JP2010005616A (ja) * | 2008-05-30 | 2010-01-14 | Toppan Printing Co Ltd | 塗布装置および塗布方法 |
| US9169422B2 (en) | 2011-09-28 | 2015-10-27 | 3M Innovative Properties Company | Method of coating liquid optically clear adhesives onto rigid substrates |
| US9623644B2 (en) | 2013-12-20 | 2017-04-18 | 3M Innovative Properties Company | Profiled coatings for enabling vacuumless lamination of stencil printed liquid optically clear adhesives |
| CN112295757A (zh) * | 2019-07-31 | 2021-02-02 | 龙云株式会社 | 涂布喷嘴及涂布装置 |
| WO2023032852A1 (ja) * | 2021-09-02 | 2023-03-09 | 富士フイルム株式会社 | エクストルージョン型ダイ、塗工装置、及び塗工膜の製造方法 |
-
1997
- 1997-11-05 JP JP9317728A patent/JPH11128805A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006205008A (ja) * | 2005-01-26 | 2006-08-10 | Canon Chemicals Inc | ゴムローラの塗工方法及び浸漬塗工装置 |
| JP4573654B2 (ja) * | 2005-01-26 | 2010-11-04 | キヤノン化成株式会社 | ゴムローラの塗工方法及び浸漬塗工装置 |
| JP2007000732A (ja) * | 2005-06-22 | 2007-01-11 | Toppan Printing Co Ltd | 単板塗布装置および塗布方法 |
| JP2010005616A (ja) * | 2008-05-30 | 2010-01-14 | Toppan Printing Co Ltd | 塗布装置および塗布方法 |
| US9169422B2 (en) | 2011-09-28 | 2015-10-27 | 3M Innovative Properties Company | Method of coating liquid optically clear adhesives onto rigid substrates |
| US9623644B2 (en) | 2013-12-20 | 2017-04-18 | 3M Innovative Properties Company | Profiled coatings for enabling vacuumless lamination of stencil printed liquid optically clear adhesives |
| CN112295757A (zh) * | 2019-07-31 | 2021-02-02 | 龙云株式会社 | 涂布喷嘴及涂布装置 |
| WO2023032852A1 (ja) * | 2021-09-02 | 2023-03-09 | 富士フイルム株式会社 | エクストルージョン型ダイ、塗工装置、及び塗工膜の製造方法 |
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