JP2000051771A - 塗布液供給装置 - Google Patents
塗布液供給装置Info
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- JP2000051771A JP2000051771A JP22120898A JP22120898A JP2000051771A JP 2000051771 A JP2000051771 A JP 2000051771A JP 22120898 A JP22120898 A JP 22120898A JP 22120898 A JP22120898 A JP 22120898A JP 2000051771 A JP2000051771 A JP 2000051771A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 特に、高いチキソ性を有する塗布液を、所定
の粘度で、安定的に、良好な状態で、ダイへ供給できる
塗布液供給装置を提供する。 【解決手段】 ダイ等の塗布部に、低融点ガラスペース
ト等のペーストを供給する塗布液供給装置であって、タ
ンク内においてペースト原液に希釈溶剤を加え、攪拌
し、所定粘度にペーストを調整する攪拌部と、ペースト
中のゴミ、凝集物を除去するために濾過を行うフィルタ
リング部と、ペースト中の気泡を減圧して除去するため
に脱泡処理を行う脱泡用タンクと、塗布部にペーストを
供給するペースト供給用タンクとを備え、これらをこの
順に、必要に応じ制御バルブを介して配管にて接続して
いる。更に具体的には、攪拌部は、軸を中心として攪拌
治具を回転させるもので、且つ、軸および攪拌治具全体
が一体となり、所定の周期的な移動動作を行うものであ
る。
の粘度で、安定的に、良好な状態で、ダイへ供給できる
塗布液供給装置を提供する。 【解決手段】 ダイ等の塗布部に、低融点ガラスペース
ト等のペーストを供給する塗布液供給装置であって、タ
ンク内においてペースト原液に希釈溶剤を加え、攪拌
し、所定粘度にペーストを調整する攪拌部と、ペースト
中のゴミ、凝集物を除去するために濾過を行うフィルタ
リング部と、ペースト中の気泡を減圧して除去するため
に脱泡処理を行う脱泡用タンクと、塗布部にペーストを
供給するペースト供給用タンクとを備え、これらをこの
順に、必要に応じ制御バルブを介して配管にて接続して
いる。更に具体的には、攪拌部は、軸を中心として攪拌
治具を回転させるもので、且つ、軸および攪拌治具全体
が一体となり、所定の周期的な移動動作を行うものであ
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ペーストをダイ等
の塗布部に供給するための塗布液供給装置に関するもの
であり、特に、高チクソ性を有する、プラズマディスプ
レイパネルの背面板の障壁形成用のベースト等を、ダイ
に供給するための塗布液供給装置に関する。
の塗布部に供給するための塗布液供給装置に関するもの
であり、特に、高チクソ性を有する、プラズマディスプ
レイパネルの背面板の障壁形成用のベースト等を、ダイ
に供給するための塗布液供給装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、プラズマディスプレイパネル（以
下ＰＤＰとも記す）は、その奥行きの薄いこと、軽量で
あること、更に鮮明な表示と液晶パネルに比べ視野角が
広いことにより、種々の表示装置に利用されつつある。
一般に、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、２
枚の対向するガラス基板にそれぞれ規則的に配列した一
対の電極を設け、その間にネオン、キセノン等を主体と
するガスを封入した構造となっている。そして、これら
の電極間に電圧を印加し、電極周辺の微小なセル内で放
電を発生させることにより、各セルを発光させて表示を
行うようにしている。特に情報表示をするためには、規
則的に並んだセルを選択的に放電発光させている。
下ＰＤＰとも記す）は、その奥行きの薄いこと、軽量で
あること、更に鮮明な表示と液晶パネルに比べ視野角が
広いことにより、種々の表示装置に利用されつつある。
一般に、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、２
枚の対向するガラス基板にそれぞれ規則的に配列した一
対の電極を設け、その間にネオン、キセノン等を主体と
するガスを封入した構造となっている。そして、これら
の電極間に電圧を印加し、電極周辺の微小なセル内で放
電を発生させることにより、各セルを発光させて表示を
行うようにしている。特に情報表示をするためには、規
則的に並んだセルを選択的に放電発光させている。
【０００３】ここで、ＰＤＰの構成を、図５に示すＡＣ
型ＰＤＰの１例を挙げて説明しておく。図５はＰＤＰ構
成斜視図であるが、分かり易くするため前面板（ガラス
基板６１０）、背面板（ガラス基板７２０）とを実際よ
り離して示してある。図５に示すように、２枚のガラス
基板７１０、７２０が互いに平行に且つ対向して配設さ
れており、両者は背面板となるガラス基板７２０上に互
いに平行に設けられた障壁（セル障壁とも言う）７３０
により、一定の間隔に保持されている。前面板となるガ
ラス基板７１０の背面側には、放電維持電極である透明
電極７４０とバス電極である金属電極７５０とで構成さ
れる複合電極が互いに平行に形成され、これを覆って、
誘電体層７６０が形成されており、更にその上に保護層
（ＭｇＯ層）７７０が形成されている。また、背面板と
なるガラス基板７２０の前面側には前記複合電極と直交
するように障壁７３０間に位置してアドレス電極７８０
が互いに平行に形成されており、更に障壁７３０の壁面
とセル底面を覆うように螢光面７９０が設けられてい
る。障壁７３０は放電空間を区画するためのもので、区
画された各放電空間をセルないし単位発光領域と言う。
このＡＣ型ＰＤＰは面放電型であって、前面板上の複合
電極間に交流電圧を印加して、放電させる構造である。
この場合、交流をかけているために電界の向きは周波数
に対応して変化する。そして、この放電により生じる紫
外線により螢光体７９０を発光させ、前面板を透過する
光を観察者が視認できるものである。なお、ＤＣ型ＰＤ
Ｐにあっては、電極は誘電体層で被膜されていない構造
を有する点でＡＣ型と相違するが、その放電効果は同じ
である。また、図５に示すものは、ガラス基板７２０の
一面に下地層７６７を設けその上に誘電体層７６５を設
けた構造となっているが、下地層７６７、誘電体層７６
５は必ずしも必要としない。
型ＰＤＰの１例を挙げて説明しておく。図５はＰＤＰ構
成斜視図であるが、分かり易くするため前面板（ガラス
基板６１０）、背面板（ガラス基板７２０）とを実際よ
り離して示してある。図５に示すように、２枚のガラス
基板７１０、７２０が互いに平行に且つ対向して配設さ
れており、両者は背面板となるガラス基板７２０上に互
いに平行に設けられた障壁（セル障壁とも言う）７３０
により、一定の間隔に保持されている。前面板となるガ
ラス基板７１０の背面側には、放電維持電極である透明
電極７４０とバス電極である金属電極７５０とで構成さ
れる複合電極が互いに平行に形成され、これを覆って、
誘電体層７６０が形成されており、更にその上に保護層
（ＭｇＯ層）７７０が形成されている。また、背面板と
なるガラス基板７２０の前面側には前記複合電極と直交
するように障壁７３０間に位置してアドレス電極７８０
が互いに平行に形成されており、更に障壁７３０の壁面
とセル底面を覆うように螢光面７９０が設けられてい
る。障壁７３０は放電空間を区画するためのもので、区
画された各放電空間をセルないし単位発光領域と言う。
このＡＣ型ＰＤＰは面放電型であって、前面板上の複合
電極間に交流電圧を印加して、放電させる構造である。
この場合、交流をかけているために電界の向きは周波数
に対応して変化する。そして、この放電により生じる紫
外線により螢光体７９０を発光させ、前面板を透過する
光を観察者が視認できるものである。なお、ＤＣ型ＰＤ
Ｐにあっては、電極は誘電体層で被膜されていない構造
を有する点でＡＣ型と相違するが、その放電効果は同じ
である。また、図５に示すものは、ガラス基板７２０の
一面に下地層７６７を設けその上に誘電体層７６５を設
けた構造となっているが、下地層７６７、誘電体層７６
５は必ずしも必要としない。
【０００４】そして、従来、上記ＰＤＰに使用する背面
板の障壁の形成方法としては、ガラス基板上に障壁形成
材料を障壁パターン形状に、スクリーン印刷にて複数回
繰り返して重ねて印刷して所要の高さに積み上げ、乾燥
させる第１の方法（スクリーン印刷法と呼ばれる）、あ
るいは、ガラス基板上に障壁形成材料を全面に塗布した
後、塗布面上にサンドブラストに耐性を有するレジスト
を所定形状にパターニング形成し、該レジストをマスク
としてサンドブラストにより障壁形成材料を所定形状に
形成する第２の方法（サンドブラスト法と呼ばれる）が
採られていた。
板の障壁の形成方法としては、ガラス基板上に障壁形成
材料を障壁パターン形状に、スクリーン印刷にて複数回
繰り返して重ねて印刷して所要の高さに積み上げ、乾燥
させる第１の方法（スクリーン印刷法と呼ばれる）、あ
るいは、ガラス基板上に障壁形成材料を全面に塗布した
後、塗布面上にサンドブラストに耐性を有するレジスト
を所定形状にパターニング形成し、該レジストをマスク
としてサンドブラストにより障壁形成材料を所定形状に
形成する第２の方法（サンドブラスト法と呼ばれる）が
採られていた。
【０００５】しかし、上記第１の方法によるＰＤＰに使
用する障壁の形成においては、障壁としての所定の厚さ
を得るには、数回〜１０数回程度のペーストのスクリー
ン印刷が必要で手間がかかる上に、印刷精度の管理が必
要となり、品質的にも満足のいくものを得ることが難し
く、現在では、第２の方法が主流となっている。
用する障壁の形成においては、障壁としての所定の厚さ
を得るには、数回〜１０数回程度のペーストのスクリー
ン印刷が必要で手間がかかる上に、印刷精度の管理が必
要となり、品質的にも満足のいくものを得ることが難し
く、現在では、第２の方法が主流となっている。
【０００６】第２の方法によるＰＤＰに使用する背面板
の障壁形成においては、背面板となるガラス板面上に図
４に示すようなストレートマニホールド型Ｔダイにより
ペースト状の障壁形成用材料を塗布した後、ガラス板上
の障壁形成用材料をサンドブラストに耐性のあるマスク
で覆い、ノズルからガラスビーズ等の研磨砂を高圧空気
にて吹きつけ、マスクから露出した部分を選択的に切削
して、障壁を形成していた。尚、図４（ｂ）、図４
（ｃ）は、それぞれ、は図４（ａ）のＢ１−Ｂ２、Ｂ３
−Ｂ４における断面を示した図であり、図４中、４１０
はストレートマニホールド型Ｔダイ、４１１は、塗液供
給口、４１３は塗液拡散部（マニホールド）、４１５は
スリット部、４２０は塗布液供給管である。また、Ｌ０
は長さを示す。しかし、ダイへの塗布液（以降ペースト
とも言う）の供給は、使用されるペースとが、回転粘度
計による粘度測定方法でせん断速度が０．１ｓｅｃ-1に
おける粘度η１が４０００Ｐ以下、１０ｓｅｃ-1におけ
る粘度η２が４０Ｐ以上であるチクソ性塗布液であり、
所定の粘度で、安定的に、良好な状態で、ダイへ供給す
ることが難しかった。
の障壁形成においては、背面板となるガラス板面上に図
４に示すようなストレートマニホールド型Ｔダイにより
ペースト状の障壁形成用材料を塗布した後、ガラス板上
の障壁形成用材料をサンドブラストに耐性のあるマスク
で覆い、ノズルからガラスビーズ等の研磨砂を高圧空気
にて吹きつけ、マスクから露出した部分を選択的に切削
して、障壁を形成していた。尚、図４（ｂ）、図４
（ｃ）は、それぞれ、は図４（ａ）のＢ１−Ｂ２、Ｂ３
−Ｂ４における断面を示した図であり、図４中、４１０
はストレートマニホールド型Ｔダイ、４１１は、塗液供
給口、４１３は塗液拡散部（マニホールド）、４１５は
スリット部、４２０は塗布液供給管である。また、Ｌ０
は長さを示す。しかし、ダイへの塗布液（以降ペースト
とも言う）の供給は、使用されるペースとが、回転粘度
計による粘度測定方法でせん断速度が０．１ｓｅｃ-1に
おける粘度η１が４０００Ｐ以下、１０ｓｅｃ-1におけ
る粘度η２が４０Ｐ以上であるチクソ性塗布液であり、
所定の粘度で、安定的に、良好な状態で、ダイへ供給す
ることが難しかった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】このように、プラズマ
ディスプレイ用背面板の障壁をストレートマニホールド
型Ｔダイを用いて形成にする場合においては、塗布液
（ペースト）を安定的に、良好な状態で、ダイへ供給す
る方法が求められていた。本発明は、このような状況の
もと、ＰＤＰ用の背面板の障壁の作製の際、ダイに所定
の粘度で、安定的に、良好な状態で、塗布液（ペース
ト）を供給できる塗布液供給装置を提供しようとするも
のである。
ディスプレイ用背面板の障壁をストレートマニホールド
型Ｔダイを用いて形成にする場合においては、塗布液
（ペースト）を安定的に、良好な状態で、ダイへ供給す
る方法が求められていた。本発明は、このような状況の
もと、ＰＤＰ用の背面板の障壁の作製の際、ダイに所定
の粘度で、安定的に、良好な状態で、塗布液（ペース
ト）を供給できる塗布液供給装置を提供しようとするも
のである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の塗布液供給装置
は、ダイ等の塗布部に、低融点ガラスペースト等のペー
ストを供給する塗布液供給装置であって、タンク内にお
いてペースト原液に希釈溶剤を加え、攪拌し、所定粘度
にペーストを調整する攪拌部と、ペースト中のゴミ、凝
集物を除去するために濾過を行うフィルタリング部と、
ペースト中の気泡を減圧して除去するために脱泡処理を
行う脱泡用タンクと、塗布部にペーストを供給するペー
スト供給用タンクとを備え、これらをこの順に、必要に
応じ制御バルブを介して配管にて接続していることを特
徴とするものである。そして、上記において、脱泡用タ
ンクと、ペースト供給用タンクとを一つのタンクで兼用
していることを特徴とするものである。そしてまた、上
記における攪拌部は、軸を中心として攪拌治具を回転さ
せるもので、且つ、軸および攪拌治具全体が一体とな
り、所定の周期的な移動動作を行うものであることを特
徴とするものである。また、上記における攪拌部のタン
クは、底部より攪拌後のペーストを送り出すもので、底
部が漸次下側にその断面を細くしていることを特徴とす
るものである。また、上記におけるペーストは、回転粘
度計による粘度測定方法でせん断速度が０．１ｓｅｃ-1
における粘度η１が４０００Ｐ以下、１０ｓｅｃ-1にお
ける粘度η２が４０Ｐ以上であるチクソ性塗布液である
ことを特徴とするものである。
は、ダイ等の塗布部に、低融点ガラスペースト等のペー
ストを供給する塗布液供給装置であって、タンク内にお
いてペースト原液に希釈溶剤を加え、攪拌し、所定粘度
にペーストを調整する攪拌部と、ペースト中のゴミ、凝
集物を除去するために濾過を行うフィルタリング部と、
ペースト中の気泡を減圧して除去するために脱泡処理を
行う脱泡用タンクと、塗布部にペーストを供給するペー
スト供給用タンクとを備え、これらをこの順に、必要に
応じ制御バルブを介して配管にて接続していることを特
徴とするものである。そして、上記において、脱泡用タ
ンクと、ペースト供給用タンクとを一つのタンクで兼用
していることを特徴とするものである。そしてまた、上
記における攪拌部は、軸を中心として攪拌治具を回転さ
せるもので、且つ、軸および攪拌治具全体が一体とな
り、所定の周期的な移動動作を行うものであることを特
徴とするものである。また、上記における攪拌部のタン
クは、底部より攪拌後のペーストを送り出すもので、底
部が漸次下側にその断面を細くしていることを特徴とす
るものである。また、上記におけるペーストは、回転粘
度計による粘度測定方法でせん断速度が０．１ｓｅｃ-1
における粘度η１が４０００Ｐ以下、１０ｓｅｃ-1にお
ける粘度η２が４０Ｐ以上であるチクソ性塗布液である
ことを特徴とするものである。
【０００９】尚、チキソ性とは、チキソトロピー性のこ
とで、非ニュートン性の物質で、時間に依存した流動特
性を持ち、一定のずり速度状態において見かけ粘度が時
間とともに減少し、ずり変形の力を除くと徐々に復元す
る性質であり、ここで言う粘度とは見掛け粘度で、非ニ
ュートン性を有する物質の粘度を、ある任意のずり速度
の下でニュートン性物質としてみなして求めた粘度の値
である。また、上記粘度の測定は、円錐円板粘度計ない
し回転円錐式粘度計とも呼ばれる回転粘度計により行う
ことができる。ここでは、株式会社キャリメ製のＣ．
Ｓ．レオメータにて粘度測定を行った結果に基づいたも
のである。
とで、非ニュートン性の物質で、時間に依存した流動特
性を持ち、一定のずり速度状態において見かけ粘度が時
間とともに減少し、ずり変形の力を除くと徐々に復元す
る性質であり、ここで言う粘度とは見掛け粘度で、非ニ
ュートン性を有する物質の粘度を、ある任意のずり速度
の下でニュートン性物質としてみなして求めた粘度の値
である。また、上記粘度の測定は、円錐円板粘度計ない
し回転円錐式粘度計とも呼ばれる回転粘度計により行う
ことができる。ここでは、株式会社キャリメ製のＣ．
Ｓ．レオメータにて粘度測定を行った結果に基づいたも
のである。
【００１０】
【作用】本発明の塗布液供給装置は、このような構成に
することにより、所定の粘度で、安定的に、良好な状態
で、塗布液（ペースト）をダイに供給できるものとして
いる。そして、特に、ＰＤＰ用の背面板の障壁形成用の
ペースト等の高いチクソ性を有する塗布液（ペースト）
を塗布する際に有効である。具体的には、ダイ等の塗布
部に、低融点ガラスペースト等のペーストを供給する塗
布液供給装置であって、タンク内においてペースト原液
に希釈溶剤を加え、攪拌し、所定粘度にペーストを調整
する攪拌部と、ペースト中のゴミ、凝集物を除去するた
めに濾過を行うフィルタリング部と、ペースト中の気泡
を減圧して除去するために脱泡処理を行う脱泡用タンク
と、塗布部にペーストを供給するペースト供給用タンク
とを備え、これらをこの順に、必要に応じ制御バルブを
介して配管にて接続していることにより、これを達成し
ている。尚、脱泡用タンクと、ペースト供給用タンクと
を一つのタンクで兼用させることもできる。また、攪拌
部は、軸を中心として攪拌治具を回転させるもので、且
つ、軸および攪拌治具全体が一体となり、所定の周期的
な移動動作を行うものであることをにより、攪拌を効果
的に行えるものとしており、特に、ＰＤＰ用の背面板の
障壁形成に用いられるペーストのような、回転粘度計に
よる粘度測定方法でせん断速度が０．１ｓｅｃ-1におけ
る粘度η１が４０００Ｐ以下、１０ｓｅｃ-1における粘
度η２が４０Ｐ以上であるチクソ性塗布液である高いチ
キソ性を有するペーストには有効である。また、攪拌部
のタンクは、底部より攪拌後のペーストを送り出すもの
で、底部が漸次下側にその断面を細くしていることによ
り、攪拌部のタンクから送り出すペーストの終点を分か
りやすくしており、これにより、余分な気泡がペースト
中に入り込まないように制御できる。尚、塗布の対象と
なるのは、ＰＤＰの背面板の障壁形成用材料（ペース
ト）に限定されないことは言うまでもなく、例えば同じ
ＰＤＰの他の層を形成するためのペースト塗布に本発明
のダイを用いても良い。
することにより、所定の粘度で、安定的に、良好な状態
で、塗布液（ペースト）をダイに供給できるものとして
いる。そして、特に、ＰＤＰ用の背面板の障壁形成用の
ペースト等の高いチクソ性を有する塗布液（ペースト）
を塗布する際に有効である。具体的には、ダイ等の塗布
部に、低融点ガラスペースト等のペーストを供給する塗
布液供給装置であって、タンク内においてペースト原液
に希釈溶剤を加え、攪拌し、所定粘度にペーストを調整
する攪拌部と、ペースト中のゴミ、凝集物を除去するた
めに濾過を行うフィルタリング部と、ペースト中の気泡
を減圧して除去するために脱泡処理を行う脱泡用タンク
と、塗布部にペーストを供給するペースト供給用タンク
とを備え、これらをこの順に、必要に応じ制御バルブを
介して配管にて接続していることにより、これを達成し
ている。尚、脱泡用タンクと、ペースト供給用タンクと
を一つのタンクで兼用させることもできる。また、攪拌
部は、軸を中心として攪拌治具を回転させるもので、且
つ、軸および攪拌治具全体が一体となり、所定の周期的
な移動動作を行うものであることをにより、攪拌を効果
的に行えるものとしており、特に、ＰＤＰ用の背面板の
障壁形成に用いられるペーストのような、回転粘度計に
よる粘度測定方法でせん断速度が０．１ｓｅｃ-1におけ
る粘度η１が４０００Ｐ以下、１０ｓｅｃ-1における粘
度η２が４０Ｐ以上であるチクソ性塗布液である高いチ
キソ性を有するペーストには有効である。また、攪拌部
のタンクは、底部より攪拌後のペーストを送り出すもの
で、底部が漸次下側にその断面を細くしていることによ
り、攪拌部のタンクから送り出すペーストの終点を分か
りやすくしており、これにより、余分な気泡がペースト
中に入り込まないように制御できる。尚、塗布の対象と
なるのは、ＰＤＰの背面板の障壁形成用材料（ペース
ト）に限定されないことは言うまでもなく、例えば同じ
ＰＤＰの他の層を形成するためのペースト塗布に本発明
のダイを用いても良い。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明の塗布液供給装置の実施の
形態の例を挙げて、これを基に本発明を説明する。図１
は実施の形態の１例を示した概略構成図で、図２は、図
１に示す実施の形態の１例の変形例を示した概略構成図
で、図３は攪拌部を拡大して示した図である。図１〜図
３中、１１０は攪拌部、１１１は攪拌治具、１１２はモ
ータ、１１３はタンク、１１３Ａは底部、１１５は軸、
１２０はフィルタリング部、１３０は脱泡用タンク、１
４０はペースト供給用タンク、１４０Ａは脱泡兼用のペ
ースト供給用タンク、１５０は高圧窒素供給源、１５５
真空引き部、１６１〜１６７、１６１Ａは配管、１７１
〜１７７、１７１Ａは制御バルブ、１８１〜１８３は高
圧用配管、１９１〜１９３は制御バルブ、２００はペー
スト、２００Ａは攪拌液（ペースト）、２１０はダイで
ある。図１に示す実施の形態の１例は、高いチキソ性を
有し、ＰＤＰ用の背面板の障壁形成の際に用いられる低
融点ガラスからなるペーストのダイへの供給装置であ
る。そして、ペースト原液に希釈溶剤を加え、攪拌し、
所定粘度にペーストを調整する攪拌部１１０と、ペース
ト中のゴミ、凝集物を除去するために濾過を行うフィル
タリング部１２０と、ペースト中の気泡を減圧して除去
するために脱泡処理を行う脱泡用タンク１３０と、ダイ
に塗布液を供給するペースト供給用のペースト供給用タ
ンクとを備え、これらをこの順に、必要に応じ制御バル
ブを介して配管にて接続している。本例においては、ペ
ーストの搬送は、すべて、窒素圧により行っているが、
圧力空気等の他の気体を用いても良い。また、液送用ポ
ンプを使用してもペーストの搬送は可能である。この障
壁形成用のペーストとしては、通常、回転粘度計による
粘度測定方法でせん断速度が０．１ｓｅｃ-1における粘
度η１が４０００Ｐ以下、１０ｓｅｃ-1における粘度η
２が４０Ｐ以上である低融点ガラスペーストが用いられ
る。尚、障壁形成用のペーストは、低融点ガラスフリッ
ト、フィラー（アルミナ、ジルコニア等）、顔料、樹
脂、溶剤からなり、成過程で流動して固着するための低
融点ガラスフリットを主成分とし含むことから、一般
に、低融点ガラスないし低融点ガラスペーストと呼ばれ
る。
形態の例を挙げて、これを基に本発明を説明する。図１
は実施の形態の１例を示した概略構成図で、図２は、図
１に示す実施の形態の１例の変形例を示した概略構成図
で、図３は攪拌部を拡大して示した図である。図１〜図
３中、１１０は攪拌部、１１１は攪拌治具、１１２はモ
ータ、１１３はタンク、１１３Ａは底部、１１５は軸、
１２０はフィルタリング部、１３０は脱泡用タンク、１
４０はペースト供給用タンク、１４０Ａは脱泡兼用のペ
ースト供給用タンク、１５０は高圧窒素供給源、１５５
真空引き部、１６１〜１６７、１６１Ａは配管、１７１
〜１７７、１７１Ａは制御バルブ、１８１〜１８３は高
圧用配管、１９１〜１９３は制御バルブ、２００はペー
スト、２００Ａは攪拌液（ペースト）、２１０はダイで
ある。図１に示す実施の形態の１例は、高いチキソ性を
有し、ＰＤＰ用の背面板の障壁形成の際に用いられる低
融点ガラスからなるペーストのダイへの供給装置であ
る。そして、ペースト原液に希釈溶剤を加え、攪拌し、
所定粘度にペーストを調整する攪拌部１１０と、ペース
ト中のゴミ、凝集物を除去するために濾過を行うフィル
タリング部１２０と、ペースト中の気泡を減圧して除去
するために脱泡処理を行う脱泡用タンク１３０と、ダイ
に塗布液を供給するペースト供給用のペースト供給用タ
ンクとを備え、これらをこの順に、必要に応じ制御バル
ブを介して配管にて接続している。本例においては、ペ
ーストの搬送は、すべて、窒素圧により行っているが、
圧力空気等の他の気体を用いても良い。また、液送用ポ
ンプを使用してもペーストの搬送は可能である。この障
壁形成用のペーストとしては、通常、回転粘度計による
粘度測定方法でせん断速度が０．１ｓｅｃ-1における粘
度η１が４０００Ｐ以下、１０ｓｅｃ-1における粘度η
２が４０Ｐ以上である低融点ガラスペーストが用いられ
る。尚、障壁形成用のペーストは、低融点ガラスフリッ
ト、フィラー（アルミナ、ジルコニア等）、顔料、樹
脂、溶剤からなり、成過程で流動して固着するための低
融点ガラスフリットを主成分とし含むことから、一般
に、低融点ガラスないし低融点ガラスペーストと呼ばれ
る。
【００１２】攪拌部１１０のタンク１１３は、底部１１
３Ａより攪拌後のペースト２００を送り出すもので、底
部１１３Ａが漸次下側にその断面を細くしている。これ
により、攪拌部１１０のタンク１１３Ａから送り出すペ
ーストの終点を分かりやすくしており、余分な気泡がペ
ースト２００中に入り込まないように制御できる。ま
た、攪拌部１１０は、モータ１１２を駆動源として、軸
１１５を中心として攪拌治具１１１を回転させるもので
あるが、図３に攪拌部１１０を拡大して示すように、更
に、軸１１５および攪拌治具１１１全体が一体となり、
所定の周期的な移動動作を行うものである。即ち、図３
のＰ０の箇所、Ｐ１箇所を繰り返し周期的に移動する。
これにより、ＰＤＰ用の障壁形成用の高チキソ性を有す
るペーストの攪拌を安定的に、良い状態で行えるものと
している。尚、配管１６１Ａは、不要のペーストを除去
したり、攪拌後、ペーストを攪拌部１１０からフィルタ
リング部１２０へ送る際、最後の方で、搬送用の窒素圧
が気泡として入り込まないように、するための分岐管
で、制御バルブ１７１を閉じ、制御バルブ１７１Ａを開
いた状態で、タンク１１１内の残留物を除去する。タン
ク１１１内の清掃の際にも使用される。
３Ａより攪拌後のペースト２００を送り出すもので、底
部１１３Ａが漸次下側にその断面を細くしている。これ
により、攪拌部１１０のタンク１１３Ａから送り出すペ
ーストの終点を分かりやすくしており、余分な気泡がペ
ースト２００中に入り込まないように制御できる。ま
た、攪拌部１１０は、モータ１１２を駆動源として、軸
１１５を中心として攪拌治具１１１を回転させるもので
あるが、図３に攪拌部１１０を拡大して示すように、更
に、軸１１５および攪拌治具１１１全体が一体となり、
所定の周期的な移動動作を行うものである。即ち、図３
のＰ０の箇所、Ｐ１箇所を繰り返し周期的に移動する。
これにより、ＰＤＰ用の障壁形成用の高チキソ性を有す
るペーストの攪拌を安定的に、良い状態で行えるものと
している。尚、配管１６１Ａは、不要のペーストを除去
したり、攪拌後、ペーストを攪拌部１１０からフィルタ
リング部１２０へ送る際、最後の方で、搬送用の窒素圧
が気泡として入り込まないように、するための分岐管
で、制御バルブ１７１を閉じ、制御バルブ１７１Ａを開
いた状態で、タンク１１１内の残留物を除去する。タン
ク１１１内の清掃の際にも使用される。
【００１３】フィルタリング部１２０のフィルターとし
ては、ペーストが、低融点ガラスフリット、フィラー
（アルミナ、ジルコニア等）等を含むものであることか
ら、ステンレスなどの耐磨耗性のあるフィルターが好ま
しい。ＰＤＰ用の障壁形成用のペーストの場合、開口１
０〜１００μｍのフィルター（例えば、山信工業株式会
社製のＸＳＵＰ−０４Ｍ−１−Ｍ−０Ｖ１）が好まし
い。また、フィルタリング部１２０としては、開放系の
装置（例えば、株式会社トープロ企画製の高粘度ペース
トこし機、ＰＦ−１５００Ａ）を用いても良く、この場
合は、制御バルブ１７２を介さず、直接脱泡用タンク１
３０へペーストを投入できる。
ては、ペーストが、低融点ガラスフリット、フィラー
（アルミナ、ジルコニア等）等を含むものであることか
ら、ステンレスなどの耐磨耗性のあるフィルターが好ま
しい。ＰＤＰ用の障壁形成用のペーストの場合、開口１
０〜１００μｍのフィルター（例えば、山信工業株式会
社製のＸＳＵＰ−０４Ｍ−１−Ｍ−０Ｖ１）が好まし
い。また、フィルタリング部１２０としては、開放系の
装置（例えば、株式会社トープロ企画製の高粘度ペース
トこし機、ＰＦ−１５００Ａ）を用いても良く、この場
合は、制御バルブ１７２を介さず、直接脱泡用タンク１
３０へペーストを投入できる。
【００１４】同様に、各タンク、各配管は、いずれも、
使用する窒素圧に耐え、且つ、使用するペースト素材に
耐性のあるものを使用する。
使用する窒素圧に耐え、且つ、使用するペースト素材に
耐性のあるものを使用する。
【００１５】図１に示す本例の塗布液供給装置を用い、
ＰＤＰ用の障壁形成用のペーストをダイ２１０へ供給す
る場合について、処理の１例を以下説明する。まず、攪
拌部１１０のタンク１１３にペースト原液と希釈溶剤を
入れ、攪拌を行う。攪拌部１１０は、モータ１１２の回
転により攪拌治具１１１を回転させて攪拌を行うもので
あり、ＰＤＰ用の障壁形成用のペーストの場合は、希釈
溶剤を高粘度のペースト原液（粘度１５００Ｐ程度）に
加え、所定の粘度（３００〜５００Ｐ程度）にする。攪
拌後、ペーストを、配管１６１を通して、フィルタリン
グ部１２０へ送り、濾過し、ペースト中に含まれる、ゴ
ミ、凝集物を除去する。攪拌部１１０からフィルタリン
グ部１２０へのペースト２００の供給は、制御バルブ１
７１を開き、且つ、制御バルブ１９１、１９４を開いた
状態で、窒素供給源１５０からの窒素圧により行う。
ＰＤＰ用の障壁形成用のペーストをダイ２１０へ供給す
る場合について、処理の１例を以下説明する。まず、攪
拌部１１０のタンク１１３にペースト原液と希釈溶剤を
入れ、攪拌を行う。攪拌部１１０は、モータ１１２の回
転により攪拌治具１１１を回転させて攪拌を行うもので
あり、ＰＤＰ用の障壁形成用のペーストの場合は、希釈
溶剤を高粘度のペースト原液（粘度１５００Ｐ程度）に
加え、所定の粘度（３００〜５００Ｐ程度）にする。攪
拌後、ペーストを、配管１６１を通して、フィルタリン
グ部１２０へ送り、濾過し、ペースト中に含まれる、ゴ
ミ、凝集物を除去する。攪拌部１１０からフィルタリン
グ部１２０へのペースト２００の供給は、制御バルブ１
７１を開き、且つ、制御バルブ１９１、１９４を開いた
状態で、窒素供給源１５０からの窒素圧により行う。
【００１６】フィルタリング部１２０にて、濾過された
ペースト２００は、制御バルブ１７２を開いた状態で、
脱泡用タンク１３０に送られ、ペースト中の気泡を除去
するための脱泡処理が行われる。制御バルブ１７２、１
７３、および制御バルブ１９２を閉じ、制御バルブ１７
７を開き、真空引き部１５５により、脱泡用タンク１３
０内を減圧する。ＰＤＰ用の障壁形成用のペーストの場
合、通常、７５０ｍｍＨｇ以下で、３０分程度、減圧し
て行われる。尚、真空引き部１５５としては、真空ポン
プ等が用いられる。
ペースト２００は、制御バルブ１７２を開いた状態で、
脱泡用タンク１３０に送られ、ペースト中の気泡を除去
するための脱泡処理が行われる。制御バルブ１７２、１
７３、および制御バルブ１９２を閉じ、制御バルブ１７
７を開き、真空引き部１５５により、脱泡用タンク１３
０内を減圧する。ＰＤＰ用の障壁形成用のペーストの場
合、通常、７５０ｍｍＨｇ以下で、３０分程度、減圧し
て行われる。尚、真空引き部１５５としては、真空ポン
プ等が用いられる。
【００１７】次いで、脱泡処理されたペーストをペース
ト供給用タンク１４０に送り込み、必要に応じ、制御バ
ルブ１７５を介して、ダイ２１０へとペースト２００を
供給する。脱泡用タンク１３０からペースト供給用タン
ク１４０へのペースト２００の供給は、制御バルブ１７
２、１７７を閉じ、制御バルブ１７３と制御バルブ１９
２、１９４を開いた状態で、窒素供給源１５０からの窒
素圧により行う。また、ペースト供給用タンク１４０か
らダイ２１０へのペースト２００の供給は、制御バルブ
１７３を閉じ、制御バルブ１７３を開き、且つ、制御バ
ルブ１９３、１９４を開いた状態で、窒素供給源１５０
からの窒素圧により行う。
ト供給用タンク１４０に送り込み、必要に応じ、制御バ
ルブ１７５を介して、ダイ２１０へとペースト２００を
供給する。脱泡用タンク１３０からペースト供給用タン
ク１４０へのペースト２００の供給は、制御バルブ１７
２、１７７を閉じ、制御バルブ１７３と制御バルブ１９
２、１９４を開いた状態で、窒素供給源１５０からの窒
素圧により行う。また、ペースト供給用タンク１４０か
らダイ２１０へのペースト２００の供給は、制御バルブ
１７３を閉じ、制御バルブ１７３を開き、且つ、制御バ
ルブ１９３、１９４を開いた状態で、窒素供給源１５０
からの窒素圧により行う。
【００１８】上記処理は、図１に示す本例の塗布液供給
装置の処理の１例であり、これに限定されない。各制御
バルブを適当に操作して、適宜、処理部をそれぞれ動作
させる。また、各処理部の間に、分岐用の配管と、その
配管に開閉バルブを設けたり、配管を二股にして、それ
ぞれ開閉バルブを設け、各部を取外しできるようにして
おくと、トラブル対応や清掃作業が比較的簡単に行え
る。本例の塗布液供給装置は、このように、原液と希釈
液の攪拌して、ダイ２１０まで、ペースト２００を供給
するが、この間は、人手がペーストに直接触れることも
なく、外気にふれることもないため、ゴミがはいり難い
構造である。また、塗布用のペーストを脱泡用タンク１
３０とペースト供給用タンク１４０とに蓄えておくこと
ができ、量産するような塗布作業にも対応できるもので
ある。
装置の処理の１例であり、これに限定されない。各制御
バルブを適当に操作して、適宜、処理部をそれぞれ動作
させる。また、各処理部の間に、分岐用の配管と、その
配管に開閉バルブを設けたり、配管を二股にして、それ
ぞれ開閉バルブを設け、各部を取外しできるようにして
おくと、トラブル対応や清掃作業が比較的簡単に行え
る。本例の塗布液供給装置は、このように、原液と希釈
液の攪拌して、ダイ２１０まで、ペースト２００を供給
するが、この間は、人手がペーストに直接触れることも
なく、外気にふれることもないため、ゴミがはいり難い
構造である。また、塗布用のペーストを脱泡用タンク１
３０とペースト供給用タンク１４０とに蓄えておくこと
ができ、量産するような塗布作業にも対応できるもので
ある。
【００１９】本例の変形例としては、図２に示すよう
な、図１に示す本例の装置における脱泡用タンク１３０
と、ペースト供給用タンク１４０とを一つのタンク（脱
泡兼用のペースト供給用タンク１４０Ａ）で兼用させる
装置が挙げられる。尚、図２に示す変形例の場合は、フ
ィルタリング部１２０にてフィルタリング後のペースト
は、脱泡兼用のペースト供給タンク１４０Ａに直接送り
込まれ、その中で脱泡処理が行われる。その他の点につ
いては、図１に示す本例と同じで、各部の説明、動作説
明は省略する。
な、図１に示す本例の装置における脱泡用タンク１３０
と、ペースト供給用タンク１４０とを一つのタンク（脱
泡兼用のペースト供給用タンク１４０Ａ）で兼用させる
装置が挙げられる。尚、図２に示す変形例の場合は、フ
ィルタリング部１２０にてフィルタリング後のペースト
は、脱泡兼用のペースト供給タンク１４０Ａに直接送り
込まれ、その中で脱泡処理が行われる。その他の点につ
いては、図１に示す本例と同じで、各部の説明、動作説
明は省略する。
【００２０】
【発明の効果】本発明は、上記のように、回転粘度計に
よる粘度測定方法でせん断速度が０．１ｓｅｃ-1におけ
る粘度η１が４０００Ｐ以下、１０ｓｅｃ-1における粘
度η２が４０Ｐ以上の高いチキソ性を有するペーストの
ダイへの供給を、安定的に良好な状態で、できる塗布液
供給装置の提供を可能とした。この結果、ＰＤＰ用の背
面板の障壁形成用のペーストのダイへの供給を、所定の
粘度で、安定的に、良好な状態で、塗布液（ペースト）
を供給できるものとし、品質的にも、量産面でも対応で
きるものとした。
よる粘度測定方法でせん断速度が０．１ｓｅｃ-1におけ
る粘度η１が４０００Ｐ以下、１０ｓｅｃ-1における粘
度η２が４０Ｐ以上の高いチキソ性を有するペーストの
ダイへの供給を、安定的に良好な状態で、できる塗布液
供給装置の提供を可能とした。この結果、ＰＤＰ用の背
面板の障壁形成用のペーストのダイへの供給を、所定の
粘度で、安定的に、良好な状態で、塗布液（ペースト）
を供給できるものとし、品質的にも、量産面でも対応で
きるものとした。
【図１】本発明の実施の形態の１例を示した概略図
【図２】本発明の実施の形態の１例の変形例を示した概
略図
略図
【図３】攪拌部を拡大して示した概略図
【図４】ダイを示した断面図
【図５】ＰＤＰ基板を説明するための図
１１０ 攪拌部 １１１ 攪拌治具 １１２ モータ １１３ タンク １１３Ａ 底部 １１５ 軸 １２０ フィルタリング部 １３０ 脱泡用タンク １４０ ペースト供給用タンク １４０Ａ 脱泡兼用のペースト供給用タンク １５０ 高圧窒素供給源 １５５ 真空引き部 １６１〜１６７ 配管 １６１Ａ 配管 １７１〜１７７ 制御バルブ １７１Ａ 制御バルブ １８１〜１８３ 配管 １９１〜１９３ 制御バルブ ２００ ペースト ２００Ａ 攪拌液（ペースト） ２１０ ダイ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｊ 11/02 Ｈ０１Ｊ 11/02 Ｆターム(参考） 4D011 AA16 4D075 AC02 DB13 DC16 DC21 EA05 EA31 4F041 AA05 AB01 BA07 BA31 BA32 BA35 CA03 CA17 4F042 AA13 AB00 BA15 CA01 CA05 CA06 CA07 CB08 CB19 CB25 5C040 GF19 JA02 JA31 JA40 KA08 KB19 KB28 LA17
Claims (5)
- 【請求項１】 ダイ等の塗布部に、低融点ガラスペース
ト等のペーストを供給する塗布液供給装置であって、タ
ンク内においてペースト原液に希釈溶剤を加え、攪拌
し、所定粘度にペーストを調整する攪拌部と、ペースト
中のゴミ、凝集物を除去するために濾過を行うフィルタ
リング部と、ペースト中の気泡を減圧して除去するため
に脱泡処理を行う脱泡用タンクと、塗布部にペーストを
供給するペースト供給用タンクとを備え、これらをこの
順に、必要に応じ制御バルブを介して配管にて接続して
いることを特徴とする塗布液供給装置。 - 【請求項２】 請求項１において、脱泡用タンクと、ペ
ースト供給用タンクとを一つのタンクで兼用しているこ
とを特徴とする塗布液供給装置。 - 【請求項３】 請求項１ないし２における攪拌部は、軸
を中心として攪拌治具を回転させるもので、且つ、軸お
よび攪拌治具全体が一体となり、所定の周期的な移動動
作を行うものであることを特徴とする塗布液供給装置。 - 【請求項４】 請求項１ないし３における攪拌部のタン
クは、底部より攪拌後のペーストを送り出すもので、底
部が漸次下側にその断面を細くしていることを特徴とす
る塗布液供給装置。 - 【請求項５】 請求項１ないし４におけるペーストは、
回転粘度計による粘度測定方法でせん断速度が０．１ｓ
ｅｃ-1における粘度η１が４０００Ｐ以下、１０ｓｅｃ
-1における粘度η２が４０Ｐ以上であるチクソ性塗布液
であることを特徴とする塗布液供給装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22120898A JP2000051771A (ja) | 1998-08-05 | 1998-08-05 | 塗布液供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22120898A JP2000051771A (ja) | 1998-08-05 | 1998-08-05 | 塗布液供給装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000051771A true JP2000051771A (ja) | 2000-02-22 |
Family
ID=16763166
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22120898A Withdrawn JP2000051771A (ja) | 1998-08-05 | 1998-08-05 | 塗布液供給装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000051771A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002219399A (ja) * | 2001-01-29 | 2002-08-06 | Nec Corp | ダイコータ |
| JP2015071712A (ja) * | 2013-10-03 | 2015-04-16 | コニカミノルタ株式会社 | 塗布液の製造方法 |
| US9169422B2 (en) | 2011-09-28 | 2015-10-27 | 3M Innovative Properties Company | Method of coating liquid optically clear adhesives onto rigid substrates |
| US9623644B2 (en) | 2013-12-20 | 2017-04-18 | 3M Innovative Properties Company | Profiled coatings for enabling vacuumless lamination of stencil printed liquid optically clear adhesives |
-
1998
- 1998-08-05 JP JP22120898A patent/JP2000051771A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002219399A (ja) * | 2001-01-29 | 2002-08-06 | Nec Corp | ダイコータ |
| US9169422B2 (en) | 2011-09-28 | 2015-10-27 | 3M Innovative Properties Company | Method of coating liquid optically clear adhesives onto rigid substrates |
| JP2015071712A (ja) * | 2013-10-03 | 2015-04-16 | コニカミノルタ株式会社 | 塗布液の製造方法 |
| US9623644B2 (en) | 2013-12-20 | 2017-04-18 | 3M Innovative Properties Company | Profiled coatings for enabling vacuumless lamination of stencil printed liquid optically clear adhesives |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20051101 |