JP2001093409A - プラズマディスプレイパネル形成用材料の塗布液供給装置および塗布システム - Google Patents

プラズマディスプレイパネル形成用材料の塗布液供給装置および塗布システム

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JP2001093409A
JP2001093409A JP27353899A JP27353899A JP2001093409A JP 2001093409 A JP2001093409 A JP 2001093409A JP 27353899 A JP27353899 A JP 27353899A JP 27353899 A JP27353899 A JP 27353899A JP 2001093409 A JP2001093409 A JP 2001093409A
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coating
plasma display
forming
display panel
defoaming
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English (en)
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Nobuyuki Terauchi
伸行 寺内
Shinichi Sakano
真一 坂野
Tomohiro Suzuki
智博 鈴木
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Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 第1の課題として、PDP形成用の材料の塗
布を行う時、塗布液中に気泡の混入の無いようにする機
構を提案する。第2の課題として、PDP形成用の材料
の塗布を行う時、塗布液にはゴミ等の異物が混入しない
ようにする機構を提案する。第3の課題として、PDP
形成用の材料の塗布を行う時、塗布液には前記材料の凝
集物の発生が無いようにする機構を提案する。 【解決手段】 本発明は、プラズマディスプレイパネ
ル形成用材料をプラズマディスプレイパネル上に塗布す
る塗布部へ前記材料を供給する塗布液供給装置におい
て、少なくともプラズマディスプレイパネル形成用材料
である低融点ガラスペーストと希釈溶剤等の低粘度液体
とを混合する混合部と、前記プラズマディスプレイパネ
ル形成用材料中のゴミ・凝集物等を除去するろ過部と、
前記プラズマディスプレイパネル形成用材料中の気泡を
除去する脱泡部と、少なくとも前記装置内において前記
プラズマディスプレイパネル形成用材料である塗布液を
移送する送液部と、を有する構成とした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、塗布液の混合部
と、ろ過部と、脱泡部と、塗布液を移送する送液部とを
有するプラズマディスプレイパネル(以下、PDPと記
す)形成用材料の塗布液供給装置、および、塗布システ
ムに関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般にPDPは2枚の対向するガラス基
板上に電極をそれぞれ設け、併せて誘電体層、保護層、
蛍光体層、隔壁を、必要に応じて設ける。これらの各層
に必要なPDP形成用の材料が、スクリーン印刷、凹版
印刷、ダイコート、ディスペンスコート、ドライフィル
ム等により塗布される。各層は、焼成工程を経て完成さ
れる。
【0003】この2枚の対向するガラス基板を一定の間
隔に保持してセル空間を形成して、このセル空間内を真
空にしてNe、Xe等を主体とするガスを封入した構造
になっている。そして、これらの電極間に電圧を印加
し、電極周辺の微少なセル空間内で放電を発生させるこ
とにより、各セル空間内に設けた蛍光体層を発光させ
て、種々の情報を表示する。このPDPの従来技術とし
て米国特許5674553号と米国特許5661500
号等がある。
【0004】しかしながら、電極、誘電体層、保護層、
蛍光体層、隔壁の各層に気泡が含まれていると、この層
にへこみである凹部が発生したり、または、この層に穴
が空いて下の層が露出することもある。この結果、各層
の機能が損なわれるという第1の問題が発生する。
【0005】また、電極、誘電体層、保護層、蛍光体
層、隔壁の各層に有機物であるゴミ等の異物が含まれて
いると、焼成工程にて有機物が焼き飛び、この層にへこ
みである凹部が発生したり、または、この層に穴が空い
て下の層が露出することもある。この結果、各層の機能
が損なわれるという上記と同様の第2の問題が発生す
る。
【0006】また、PDP形成用の材料にゴミ等の異物
や前記材料の凝集物が含まれていると、スクリーン印刷
時にはスクリーンの目詰まりが発生し、凹版印刷時には
凹部に目詰まりが発生し、ダイコート時にはスリットノ
ズル部分が詰まり、ディスペンスコート時にはノズル部
分が詰まるという第3の問題が発生する。もちろん、こ
のような詰まりにより各層が均一な膜厚が形成出来なか
ったり、PDP形成用の材料が塗布できなかったりす
る。
【0007】また、電極、誘電体層、保護層、蛍光体
層、隔壁の各層に無機物のゴミ等の異物や、当該各層に
必要なPDP形成用の材料の凝集物が含まれていると、
乾燥・焼成工程にて無機物が残ったり、凝集物があまり
収縮しなかったりして、この層に凸部が発生するという
第4の問題が発生する。一般に前記材料には有機成分が
含まれるため均一に分散していれば、乾燥・焼成工程に
おいて有機成分がなくなり各層は均一に収縮する。この
為、有機成分の少ない前記材料の凝集物が存在している
と、凝集物はあまり収縮しないことになる。
【0008】上記第1の問題、第2の問題、第4の問題
が複合してくると各層に凹凸が発生して各層の平坦性が
損なわれるという問題となる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】第1の課題として、P
DP形成用の材料の塗布を行う時、塗布液中に気泡の混
入の無いようにする機構を提案する。
【0010】第2の課題として、PDP形成用の材料の
塗布を行う時、塗布液にはゴミ等の異物が混入しないよ
うにする機構を提案する。
【0011】第3の課題として、PDP形成用の材料の
塗布を行う時、塗布液には前記材料の凝集物の発生が無
いようにする機構を提案する。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明のプラズマディスプレイパネル形成用材料の塗
布液供給装置は以下のように構成する。
【0013】プラズマディスプレイパネル形成用材料を
プラズマディスプレイパネル上に塗布する塗布部へ前記
材料を供給する塗布液供給装置において、少なくともプ
ラズマディスプレイパネル形成用材料である低融点ガラ
スペーストと希釈溶剤等の低粘度液体とを混合する混合
部と、前記プラズマディスプレイパネル形成用材料中の
ゴミ・凝集物等を除去するろ過部と、前記プラズマディ
スプレイパネル形成用材料中の気泡を除去する脱泡部
と、少なくとも前記装置内において、前記プラズマディ
スプレイパネル形成用材料である塗布液を移送する送液
部と、を有する。
【0014】前記混合部が、プラズマディスプレイパネ
ル形成用材料を入れる容器と、該容器内に挿入し前記材
料を攪拌する攪拌機構と、からなることが望ましい。
【0015】前記脱泡部が、−600mmHg以下に減
圧が可能な減圧機構と、攪拌機構またはペーストの表面
積を広げる機構と、からなることが望ましい。
【0016】前記ろ過部が、少なくとも金属繊維からな
るフィルター1種類を含むことが望ましい。
【0017】前記金属繊維からなるフィルターの開口が
20μm径以下のサイズの粒子に対して1%以下のろ過
精度を有することがさらに望ましい。
【0018】前記送液部が、ポンプまたはピストン式押
出し機またはエアー圧送またはそれらの組み合わせで行
うことが望ましい。
【0019】前記混合部、ろ過部、脱泡部、塗布部の全
て、または一部が配管を介して接続されており、その間
の送液が送液部で行われていることが望ましい。
【0020】前記混合部と脱泡部とを一体として混合処
理と脱泡処理とを行える混合・脱泡部としてもよい。
【0021】また、上記課題を解決するために本発明の
プラズマディスプレイパネル形成用材料の塗布システム
は以下のように構成する。
【0022】プラズマディスプレイパネル形成用材料の
塗布液を、以下のいずれかの順序で移送することを特徴
とするプラズマディスプレイパネル形成用材料の塗布シ
ステム。 (1)混合・脱泡部 → ろ過部 → 塗布装置 (2)混合部 → ろ過部 → 脱泡部 → 塗布装置 (3)混合部 → 脱泡部 → ろ過部 → 塗布装置 (4)混合部 → ろ過部 → 脱泡部付き塗布装置
【0023】プラズマディスプレイパネル形成用材料の
塗布液の移送は、貯蔵タンクを介して行う。すなわち、
上記の各部と各部または各部と塗布装置との間の移送を
貯蔵タンクを介して行ってもよい。
【0024】前記貯蔵タンクに攪拌機構が具備されてい
ることが望ましい。
【0025】また、脱泡部と塗布装置との間に−600
mmHg以下に減圧可能な配管と減圧機構を有していて
もよい。
【0026】また、塗布装置内にろ過部を内蔵していて
もよい。
【0027】また、使用するペーストの粘度は、回転粘
度計による粘度測定方法でせん断速度が0.1sec−
1における粘度η1が4000P以下、10sec−1
における粘度η2が40P以上であるチクソ性塗布液で
あることがより望ましい。
【0028】前記塗布装置は、スクリーン印刷装置、凹
版印刷装置、ダイヘッド等のスリットノズルを有する塗
布装置、ディスペンサを用いた塗布装置であってもよ
い。
【0029】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態の例を
図面を参照して詳細に説明する。
【0030】図1は、本発明の実施の形態に係る概略構
成図である。主に塗布システム1は、塗布液供給装置2
と塗布装置3とで構成されている。塗布液供給装置2の
構成要素としては、混合部4、ろ過部5、脱泡部6、送
液部7がある。塗布装置3の構成要素としては、塗布部
8、塗布部駆動機構9、パネル載置部10、パネル載置
部駆動機構11である。この他にPDP12がある。
【0031】まず、PDP形成用材料として第1の塗布
材料と第2の塗布材料とを混合部4に入れて均一になる
ように混合する。ここでは、2種類の塗布材料を混合し
ているが、3種類でも4種類でも、必要な種類の塗布材
料を均一になるように混合すればよい。具体的な第1、
第2の塗布材料は、低融点ガラスペースト、希釈溶剤、
蛍光体材料、Ag等の電極材料、感光性材料、バインダ
ー樹脂、光重合性単量体、光重合開始剤等である。混合
した結果、PDP形成用材料である電極、又は、誘電体
層、又は、保護層、又は、蛍光体層、又は、隔壁用の均
一な塗布液を得ることができる。この得られた塗布液の
粘度は、回転粘度計による粘度測定方法でせん断速度が
0.1sec-1における粘度η1が4000P以下、1
0sec-1における粘度η2が40P以上であるチクソ
性塗布液であることが適している。
【0032】混合して得た均一な塗布液を、ろ過部5を
介してゴミ等の異物や凝集物を取り除く。ゴミ等の異物
は、混合する前の第1、第2の塗布材料に含まれてい
る。凝集物は、混合する前の第1、第2の塗布材料に既
に含まれている場合もある。この場合、混合しても凝集
物を均一に分散できない場合がある。また、混合した
後、時間が経つと混合して得た均一な塗布液でも凝集物
が発生する。このようなゴミ等の異物や凝集物を取り除
く為に混合して得た塗布液をろ過部5を介して処理する
のである。この結果、第2、第3の課題を解決できる。
【0033】ろ過部5を介して得た塗布液は、脱泡部6
において塗布液内に混入している気泡を取り除く。この
結果、第1の課題を解決できる。
【0034】このような混合部4、ろ過部5、脱泡部6
への塗布液の移送は、送液部7により行う。ろ過部5、
脱泡部6の移送順は異なっても構わない。送液部7で
は、混合前の塗布材料や混合後の塗布液の送液の実行や
送液の管理を行う。送液方法には、各部を配管で接続し
て送液する方法や各部を配管では接続せずに貯蔵タンク
を用いて各部へ送液する方法がある。送液部7は、ポン
プまたはピストン式押出し機またはエアー圧送またはそ
れらの組み合わせで行うことでよい。
【0035】塗布液供給装置2にある混合部4、ろ過部
5、脱泡部6を経た結果、得られた塗布液は、送液部7
により塗布装置3の塗布部8へ送液される。また、被塗
布物であるPDP12は、パネル載置部10にバキュー
ム固定されており、PDP12と塗布部8との位置関係
は塗布部駆動機構9とパネル載置部駆動機構11により
所定の位置関係に調整される。塗布液は塗布部8を介し
てPDP12上に塗布される。
【0036】塗布装置3は、スクリーン印刷装置、凹版
印刷装置、ダイヘッド等のスリットノズルを有する塗布
装置、ディスペンサを用いた塗布装置などである。塗布
部8は、スクリーン印刷装置ではスクリーン板とスキー
ジに対応し、凹版印刷装置では凹版に対応し、ダイヘッ
ド等のスリットノズルを有する塗布装置ではダイヘッド
に対応し、ディスペンサを用いた塗布装置ではディスペ
ンサに対応する。ここで、前記凹版は平型でもロールで
もよい。
【0037】図2は、本発明の実施の形態に係る塗布シ
ステムの概略構成例を示す図である。基本的には、図2
に示す概略構成例(A)、(B)、(C)、(D)では
複数の塗布材料を最初に混合部4にて混合処理して塗布
液の粘度等の均一性を確保した後、ろ過部5、脱泡部6
にてそれぞれの処理を行い、その後、塗布部8へと移送
している。
【0038】概略構成例(A)、(B)、(C)、
(D)で、ろ過処理に関しては、塗布液供給装置2内の
ろ過部5にて一度行った後、塗布装置3の塗布部8の直
前に別のろ過部(記載しない)を設けて置くとよい。こ
れにより、塗布部8の直前までに送液された塗布液内に
発生した凝集物を取り除くことができる。また、配管や
貯蔵タンク内に入ったゴミ等の異物も併せて取り除くこ
ともできる。
【0039】図2に示す概略構成例(A)は、塗布液供
給装置2に設けた混合部4、ろ過部5、脱泡部6をこの
記載した順にそれぞれの処理を行った後、塗布装置3へ
塗布液を送液する塗布システムである。図1で説明した
順序と同じ塗布システム1である。混合部4の装置イメ
ージは、図3(A)、(B)である。ろ過部5の装置イ
メージは、図4(A)、(B)である。脱泡部6の装置
イメージは、図5(A)、(B)である。この場合、脱
泡のみであるので図5(A)の攪拌ハネは無くてもよ
い。
【0040】図2に示す概略構成例(B)は、概略構成
例(A)の混合部5と脱泡部6とを入れ替えた場合であ
る。つまり、混合部4にて混合処理して塗布液の粘度等
の均一性を確保した後、脱泡部6にて塗布液から気泡を
取り除き、ろ過部5にてゴミ等の異物や凝集物を取り除
く。これらの処理を行った後、塗布装置3へ塗布液を送
液する塗布システムである。混合部4の装置イメージ
は、図3(A)、(B)である。ろ過部5の装置イメー
ジは、図4(A)、(B)である。脱泡部6の装置イメ
ージは、図5(A)、(B)である。この場合、脱泡の
みであるので図5(A)の攪拌ハネは無くてもよい。
【0041】図2に示す概略構成例(C)は、混合部と
脱泡部とを一体化した混合・脱泡部21において複数の
塗布材料を混合して脱泡する。ろ過部5でろ過処理を行
った後、塗布装置3へ塗布液を送液する塗布システムで
ある。混合・脱泡部21の装置イメージは図5(A)で
ある。ろ過部5の装置イメージは、図4(A)、(B)
である。
【0042】図2に示す概略構成例(D)は、脱泡部6
が塗布装置3内に設けた場合である。塗布液供給装置2
に設けた混合部4、ろ過部5をこの順にそれぞれの処理
を行った後、塗布装置3へ塗布液を送液する。そして、
塗布装置3内の脱泡部6にて脱泡処理後、塗布部8を経
て前記塗布液を塗布する。この塗布システムの特徴は、
塗布装置3内でバキューム装置等で脱泡を行うことであ
るが、脱泡部6として独立する必要はなく、これらの塗
布液の溜まり部分を密閉してバキューム装置等で脱泡し
てもよい。ダイヘッドやディスペンサであれば、容易に
密閉構造を製造できる。混合部4の装置イメージは、図
3(A)、(B)である。ろ過部5の装置イメージは、
図4(A)、(B)である。脱泡部6の装置イメージ
は、図5(A)、(B)である。この場合、脱泡のみで
あるので図5(A)の攪拌ハネは無くてもよい。
【0043】図3は、本発明の実施の形態に係る混合部
4の装置イメージ図である。図3(A)は、1軸タイプ
の混合部である。塗布材料31は容器32に蓄えられて
いる。そして、攪拌ハネ用の回転軸33の先端に固定さ
れた攪拌ハネ34が前記塗布材料31内に挿入されてお
り、必要に応じて回転軸33を中心に攪拌ハネ34を回
転することにより複数の塗布材料31を混合する。
【0044】また、攪拌ハネは、ハネの直径が容器内径
の0.5倍以上であるものが望ましい。そして、攪拌は
材料粘度がせん断速度10sec-1において、粘度バラ
ツキが±5%以内で行われることが望ましく、その時の
攪拌条件は下記に示す数1で計算されるパラメータ値が
1000[-]以下であることが望ましい。混合部内部に
は混合を目的とした上記攪拌ハネ以外にせん断を塗布材
料に与える目的で、ディスパーミキサー等の補助的機構
を設けても良い。
【0045】
【数1】
【0046】ここでいう仕込み量とは、容器内蓄えられ
る塗布材料の量である。
【0047】図3(B)は、2軸タイプの混合部であ
る。プラネタリータイプとも呼ばれる。図3(A)との
違いは、攪拌ハネ用の回転軸33が攪拌ハネ34を回転
さると同時に、攪拌ハネ用の回転軸33が別な回転軸3
5を中心にして容器33の外周に沿って大きく回転(公
転)する点である。基本構成が2軸タイプであれば、更
にディスパー等の攪拌子を追加した3軸以上のタイプで
もよい。この場合は、上記式の回転数に公転の回転数を
代入する。混合部内部には混合を目的とした上記攪拌ハ
ネ以外にせん断を塗布材料に与える目的で、ディスパー
ミキサー等の補助的機構を設けても良い。
【0048】図4は、本発明の実施の形態に係るろ過部
5の装置イメージ図である。PDPでは誘電体層が20
μm程度であり、これより大きい凝集物は取り除きた
い。この為、フィルターは金属繊維からなるフィルター
で開口が20μm以上であることが望ましい。そして、
このフィルターでは、20μm径以下のサイズの粒子に
対して1%以下のろ過精度を有することが望ましい。図
4(A)は、カプセルフィルタータイプのろ過部であ
る。黒色の太い矢印「→」は塗布材料の流れ41を示
す。塗布材料は、配管42を経由してガイド板45で流
れ方向をガイドされながら、フィルターの容器43に入
る。さらに別なガイド板45で流れ方向をガイドされな
がら、容器43内に配置されているフィルター44に流
れ込む。そして、塗布材料はゴミ等の異物や凝集物を取
り除かれてフィルター44の下層部分から再び配管42
に流れ戻る。
【0049】図4(B)は、ディスクフィルタータイプ
のろ過部である。一般のペーストこしきのように機械的
圧力でフィルターを通過させるタイプである。黒色の太
い矢印「→」は塗布材料の流れ41を示す。塗布材料を
フィルターの容器46に上から入れる。容器46に入っ
た塗布材料を上から押圧回転部材48を回転させながら
押圧し、容器46の下層に設けたフィルター47から下
へ押し流す。これにより、塗布材料は、ゴミ等の異物や
凝集物を取り除かれてフィルター47の下層部分から流
れ出てくる。
【0050】図5は、本発明の実施の形態に係る脱泡部
6の装置イメージ図である。脱泡するために、脱泡部に
は−600mmHg以下に減圧が可能な減圧機構が望ま
しい。図5(A)は、混合脱泡用の脱泡部である。塗布
材料51は減圧容器52に蓄えられ、さらに当該容器に
は蓋53が設けられることにより、脱泡部は密閉されて
いる。この密閉された脱泡部にはバキューム装置が設け
られており、減圧することで塗布材料内の気泡を除くこ
とができる。そして、攪拌ハネ用の回転軸54の先端に
固定された攪拌ハネ55が前記塗布材料51内に挿入さ
れており、必要に応じて回転軸54を中心に攪拌ハネ5
5を回転することにより塗布材料51を混合し塗布液を
かき混ぜることでさらに脱泡の効率を高めることができ
る。基本的に塗布材料を攪拌しながら減圧を行うことで
脱泡できる。もちろん、攪拌と減圧は同時に行なわなく
ても良い。
【0051】図5(B)は、連続脱泡用の脱泡部であ
る。減圧容器52にはバキューム装置が設けられてお
り、減圧することで当該容器52内を通過する塗布材料
内の気泡を除くことができる。配管57を介して塗布材
料を減圧容器52内へ連続的に供給する。そして、展開
板58で塗布材料の表面積を広げることでさらに脱泡し
やすくする。この展開板58には、溝を付けた方がさら
に脱泡しやすい。そして、脱泡された塗布材料は減圧容
器の下に溜まり、その下に設けた配管57から排出す
る。もちろん、表面積を広げる方法としては、多列のノ
ズルから塗布材料を流し出す方法を行ってもよい。その
他、超音波による脱法部や加熱による脱法部を用いても
良い。
【0052】図6は本発明の実施の形態に係る貯蔵タン
クの使用例を示す図である。この使用例は、貯蔵タンク
61を図2(C)で示した塗布システムへ適応した例で
ある。まず、塗布材料を混合・脱泡部21で所定の処理
を施し、ろ過部5でろ過処理を施した後、直接塗布装置
3へ移送せず、一度貯蔵タンク61で保管する。そし
て、貯蔵タンク61に保管されている塗布材料を塗布装
置3で使用する際に、貯蔵タンク61と塗布装置3と接
続して使用する。もちろん、図2(C)で示した塗布シ
ステムに限定するわけではない。このように混合部、脱
泡部、ろ過部、塗布部の各処理部間のどこかに貯蔵タン
ク61を使用することにより、先の予定の塗布材料を製
造して保管しておくことができ、運用がスムーズにな
る。また、貯蔵タンク61に攪拌機構62を付与するこ
とにより塗布材料の凝集物の発生防止、粘度の均一性を
保つことができ、保存性を上げることが可能となる。塗
布材料に気泡の混入があっても取り除けるように貯蔵タ
ンク61にバキューム装置等の脱泡機構を持たせるとさ
らによい。
【0053】
【発明の効果】本発明により、異物、凝集物、気泡が無
く且つ粘度が一定の塗布液を供給できる塗布液供給装置
および塗布システムを提供することができる。この結
果、塗布処理中、終始塗布液の粘度が一定であり、膜厚
分布、塗布量の安定性が確保できる。また、塗布膜の平
坦性が確保できる。また、局所的欠点が無いことも確保
できる。さらに、本発明では、回転粘度計による粘度測
定方法でせん断速度が0.1sec-1における粘度η1
が4000P以下、10sec-1における粘度η2が4
0P以上の高いチキソ性を有する塗布材料を用いる為、
ダイヘッド等の塗布部への供給を、安定的に、均一な粘
度で異物、凝集物、気泡の混入の無い良好な状態で可能
となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態に係る概略構成図
【図2】本発明の実施の形態に係る概略構成例を示す図
【図3】本発明の実施の形態に係る混合部のイメージ図
【図4】本発明の実施の形態に係るろ過部のイメージ図
【図5】本発明の実施の形態に係る脱泡部のイメージ図
【図6】本発明の実施の形態に係る貯蔵タンクの使用例
を示す図
【符号の説明】
1…塗布システム 2…塗布液供給装置 3…塗布装置 4…混合部 5…ろ過部 6…脱泡部 7…送液部 8…塗布部 9…塗布部駆動機構 10…パネル載置部 11…パネル載置部駆動機構 12…PDP 21…混合・脱泡部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 智博 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 Fターム(参考) 5C027 AA01 AA05 AA09 AA10 5C040 FA01 FA04 GC19 GD09 GE09 GF19 GG09 JA31 KA07 MA23

Claims (18)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】プラズマディスプレイパネル形成用材料を
    プラズマディスプレイパネル上に塗布する塗布部へ前記
    材料を供給する塗布液供給装置において、 少なくともプラズマディスプレイパネル形成用材料であ
    る低融点ガラスペーストと希釈溶剤等の低粘度液体とを
    混合する混合部と、 前記プラズマディスプレイパネル形成用材料中のゴミ・
    凝集物等を除去するろ過部と、 前記プラズマディスプレイパネル形成用材料中の気泡を
    除去する脱泡部と、 少なくとも前記装置内において、前記プラズマディスプ
    レイパネル形成用材料である塗布液を移送する送液部
    と、 を有することを特徴とするプラズマディスプレイパネル
    形成用材料の塗布液供給装置。
  2. 【請求項2】請求項1における混合部が、プラズマディ
    スプレイパネル形成用材料を入れる容器と、該容器内に
    挿入し前記材料を攪拌する攪拌機構と、からなることを
    特徴とするプラズマディスプレイパネル形成用材料の塗
    布液供給装置。
  3. 【請求項3】請求項1における脱泡部が、−600mm
    Hg以下に減圧が可能な減圧機構と、攪拌機構またはペ
    ーストの表面積を広げる機構と、からなることを特徴と
    するプラズマディスプレイパネル形成用材料の塗布液供
    給装置。
  4. 【請求項4】請求項1におけるろ過部が、少なくとも金
    属繊維からなるフィルター1種類を含むことを特徴とす
    るプラズマディスプレイパネル形成用材料の塗布液供給
    装置。
  5. 【請求項5】請求項4における金属繊維からなるフィル
    ターが20μm径以下のサイズの粒子に対して1%以下
    のろ過精度を有することを特徴とするプラズマディスプ
    レイパネル形成用材料の塗布液供給装置。
  6. 【請求項6】請求項1における送液部が、ポンプまたは
    ピストン式押出し機またはエアー圧送またはそれらの組
    み合わせで行うことを特徴とするプラズマディスプレイ
    パネル形成用材料の塗布液供給装置。
  7. 【請求項7】請求項1における混合部、ろ過部、脱泡
    部、塗布部の全て、または一部が配管を介して接続され
    ており、その間の送液が送液部で行われていることを特
    徴とするプラズマディスプレイパネル形成用材料の塗布
    液供給装置。
  8. 【請求項8】請求項1における混合部と脱泡部とを一体
    として混合処理と脱泡処理とを行える混合・脱泡部とす
    ることを特徴とするプラズマディスプレイパネル形成用
    材料の塗布液供給装置。
  9. 【請求項9】プラズマディスプレイパネル形成用材料の
    塗布液を、以下のいずれかの順序で移送することを特徴
    とするプラズマディスプレイパネル形成用材料の塗布シ
    ステム。 (1)混合・脱泡部 → ろ過部 → 塗布装置 (2)混合部 → ろ過部 → 脱泡部 → 塗布装置 (3)混合部 → 脱泡部 → ろ過部 → 塗布装置 (4)混合部 → ろ過部 → 脱泡部付き塗布装置
  10. 【請求項10】請求項9において、プラズマディスプレ
    イパネル形成用材料の塗布液の移送を貯蔵タンクを介し
    て行うことを特徴とするプラズマディスプレイパネル形
    成用材料の塗布システム。
  11. 【請求項11】請求項10における貯蔵タンクに攪拌機
    構が具備されていることを特徴とするプラズマディスプ
    レイパネル形成用材料の塗布システム。
  12. 【請求項12】請求項9において、脱泡部と塗布装置と
    の間に−600mmHg以下に減圧可能な配管と減圧機
    構を有していることを特徴とするプラズマディスプレイ
    パネル形成用材料の塗布システム。
  13. 【請求項13】請求項9において、塗布装置内にろ過部
    を内蔵していることを特徴とするプラズマディスプレイ
    パネル形成用材料の塗布システム。
  14. 【請求項14】請求項9において、使用する塗布液の粘
    度は、回転粘度計による粘度測定方法でせん断速度が
    0.1sec-1における粘度η1が4000P以下、1
    0sec -1における粘度η2が40P以上であるチクソ
    性塗布液であることを特徴とするプラズマディスプレイ
    パネル形成用材料の塗布システム。
  15. 【請求項15】請求項9における塗布装置がスクリーン
    印刷装置であることを特徴とするプラズマディスプレイ
    パネル形成用材料の塗布システム。
  16. 【請求項16】請求項9における塗布装置が凹版印刷装
    置であることを特徴とするプラズマディスプレイパネル
    形成用材料の塗布システム。
  17. 【請求項17】請求項9における塗布装置がダイヘッド
    等のスリットノズルを有する塗布装置であることを特徴
    とするプラズマディスプレイパネル形成用材料の塗布シ
    ステム。
  18. 【請求項18】請求項9における塗布装置がディスペン
    サを用いた塗布装置であることを特徴とするプラズマデ
    ィスプレイパネル形成用材料の塗布システム。
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