JP4544343B2 - デバイスの製造方法およびエレクトロルミネッセンスディスプレイの製造方法 - Google Patents
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Description
エッチングする必要がある。エッチングは材料内に限定することも、あるいは、材料を貫
通するまでエッチングを続け、それによって下地材料を露出させることもできる。多くの
工業用途、例えば、電子デバイス、光学デバイスまたは光電子デバイスの製作においては
、エッチングステップはデバイス製作の非常に決定的な段階を形成する。これはエッチン
グプロセスは通常、デバイスが最終的に製造される精度を決定するからである。
作技術においてよく知られている。それゆえ、これらのプロセスは本発明の文脈において
は詳細に説明しない。しかしながら、近年、デバイスの新形態が提案され、その形態に対
しそのような従来のエッチング技術はプロセス上の厳しい懸念を呈する。さらに、比較的
長くしかし極端に狭いラインの長時間にわたるエッチングは、製造上の重大な問題を呈し
た。これは、要求される設定を最終製品中に提供する、機械的に丈夫なエッチングマスク
の製造が困難なためである。
のような下地材料のパターンを露出させるために材料層を貫通エッチングすることが要求
される特定のプロセスにおいて、基板表面は通常、一連のピークと谷と見なし得るある程
度の凹凸を呈している。したがって、材料を貫通エッチングして、エッチング中の材料の
残渣なく、基板のパターンを露出させるには、基板表面のピークが最初に露出した後もエ
ッチングを継続することが通常要求される。したがって、基板自身もエッチングプロセス
においてエッチングされる。多くの場合に、これは好ましくないことがある。なぜならば
、基板表面には非常に薄いコーティングが設けてあることがあり、したがって、エッチン
グプロセスは、オーバーエッチングが生じないようにするため必ず非常に慎重に制御され
なければならないからである。さらに、例えば、エレクトロルミネセンス有機ポリマー発
光ダイオードを含む表示デバイスあるいは有機ポリマートランジスタを含む集積回路のよ
うな電子デバイスにおける半導体有機材料の使用について広範な研究が現在なされつつあ
る。従来公知のエッチングプロセスは、以下で概略を述べるように、そのようなデバイス
の製作についてより一層大きい懸念を呈する。
マルチカラーディスプレイ製作のための斬新なアプローチである。エレクトロルミネセン
スディスプレイ中では、可溶性ポリマーが、例えば、ガラス、プラスチックまたはシリコ
ンといった固体基板上に堆積される。インクジェット印刷技術は、そのような技術が比較
的低コストであるだけでなく、インクジェット技術を広いエリアの処理に使用可能なため
、したがって比較的広いエリアのディスプレイの製造に使用可能なことから、可溶性ポリ
マーの堆積に提案されてきた。マルチカラーエレクトロルミネセンスディスプレイについ
ては、多数の可溶性有機ポリマーそれぞれをポリマーのドットのアレイとして堆積し、デ
ィスプレイ用の赤、緑および青の発光層とすることができる。インクジェット技術の使用
により、種々のポリマーのこの堆積が、パターニングプロセスにより引き起こされるポリ
マー材料の劣化なしで可能になる。
一方はパッシブマトリックスであり、他方はアクティブマトリックス機構である。アクテ
ィブマトリックスは、パターニングされた陽極ピクセルを有し、それぞれが薄膜駆動トラ
ンジスタ(有機ポリマーが電流駆動デバイスなので、通常はピクセル当たり2個)および
共通陰極を有している。パターニングされた陽極ピクセルと薄膜トランジスタ(TFT)
を製作するために、従来のフォトリソグラフィ法が一般に用いられる。このプロセスは、
有機層の堆積前に実行されるので、有機ポリマー材料の性能に影響しない。陰極は、すべ
てのピクセルに共通な伝導層とすることができるので、陰極を製造するために微細なパタ
ーニングは要求されない。それゆえ、共通陰極は、陰極のエッジフレームを規定する金属
シャドウマスクを用い、蒸着法を用いて有機層上に製作し得る。
行電極と列電極として配置されたパターニングされた陽極と陰極とを用いる。陰極の堆積
については、アクティブマトリックス機構の製作がより容易であるが、それでもアクティ
ブマトリックス機構は、個々のピクセルについてTFTを形成するため、パッシブマトリ
ックス機構よりもコストがかかる。それゆえ、そのようなディスプレイの好ましい駆動方
法は、パッシブマトリックスアドレッシング機構を用いることである。しかしながら、そ
のようなディスプレイ用の陽極および、とりわけ、陰極のパターニングにかなりの技術的
困難が伴う。
常、陽極はインジウム錫酸化物(ITO)から製作される。それはこの材料が導電性で、
比較的透明だからである。ITO層は基板上の連続層として形成され、次いで、フォトリ
ソグラフィプロセスを用いてパターニングされて陽極アレイが設けられる。しかしながら
、フォトリソグラフィプロセスはフォトマスクの使用を必要とする。陽極アレイの製作に
そのようなフォトマスクが一般的に使用される一方で、フォトマスクの使用は表示エリア
サイズの増加に伴ってますます難しくなる。なぜならば、マスクの全エリアにわたる設定
の要求精度を維持する際に問題に遭遇するからである。広いエリアのエレクトロルミネセ
ンスディスプレイと共に使用する場合、そのようなフォトマスクの使用は法外に高価なも
のとなり、これにより、比較的安価な有機ポリマー材料を使用することによる潜在的なコ
スト的利点が打ち消される。
引き起こされる。陰極は必ず可溶性有機ポリマー層の上に置かれなければならない。伝統
的なフォトリソグラフィ法は、陰極のパターニングには用いることができない。それは、
用いたエッチャントが下地有機材料をひどく損傷または劣化させるからである。したがっ
て、ステンレス製シャドウマスク使用のような他の技術が陰極パターニング用に提案され
てきたが、そのようなマスクは、製作されたアレイにおける要求解像度を欠いている。さ
らに、プレパターニングされたマッシュルーム型フォトレジストディバイダも提案されて
いるが、そのようなディバイダは、製造コストがかかり、さらに、それらの製作プロセス
を考慮すると、広いエリアのパターニングには適さない。
フステップを行うことによってシャドウマスクをパターニングすることも提案されてきた
。しかしながら、そのようなプロセスは解像度が悪いことが問題であり、通常は得られた
陰極アレイにおいて欠陥密度が受入れがたいほど高くなる。
ォトマスクまたはシャドウマスクの使用に頼らないプロセスにより確実に製作できる必要
性があることが理解される。さらに、被エッチング層の下地層が、選択されたエッチング
サブスタンスのエッチング停止層として容易に働けるように、エッチングサブスタンスを
容易に選択できる必要性もある。これはエッチングプロセスを大きく助けることになるで
あろう。その理由は、下地層を損傷または汚染する懸念なく、エッチングパターンにおけ
る良好な設定を確実にするために、エッチングステップを継続できるからである。これは
、有機ポリマーディスプレイのような有機ポリマーデバイスの製作について特にそうであ
り、この場合、そのようなプロセスは、ディスプレイ用陽極および陰極が、費用効率の高
い溶液で、広いエリアのディスプレイについても、公知のエッチングプロセス使用により
生じる汚染の懸念なく製作できるように採択し得る。
本発明に係るデバイスの製造方法の他の態様は、酸素プラズマを用いて第1材料の一部をドライエッチングし、前記第1材料の下に位置する下地材料の一部を露出させる第1工程と、ノズルを用いて前記第2材料を含む液体材料を前記下地材料の一部に接触するよう塗布する第2工程と、を含み、前記酸素プラズマにより、前記第1材料の前記液体材料に対する濡れ性より前記下地材料の一部の前記液体材料に対する濡れ性のほうが大きくなるものである、ことを特徴とするものであってもよい。
また、本発明に係るデバイスの製造方法の他の態様は、フッ素化有機溶媒を用いて第1材料の一部をウェットエッチングし、前記第1材料の下に位置する下地材料の一部を露出させる第1工程と、ノズルを用いて前記第2材料を含む液体材料を前記下地材料の一部に接触するよう塗布する第2工程と、を含み、前記フッ素化有機溶媒により、前記第1材料の前記液体材料に対する濡れ性より前記下地材料の一部の前記液体材料に対する濡れ性のほうが大きくなるものである、ことを特徴とするものであってもよい。
上記デバイスの製造方法において、前記下地材料の一部がライン状の溝の形状をしている、ことが好ましい。また、前記液体材料が極性溶媒を含むものである、ことが好ましい。また、前記第2工程において、前記液体材料が前記第1材料の上に堆積しないものである、ことが好ましい。また、前記第1材料が有機材料を含む、ことが好ましい。また、さらに、前記第2工程のあと、前記第1材料を除去する第3工程を含む、ことが好ましい。
本発明に従ってエッチャント(etchant)を堆積することにより、マスクを使用することなく、したがって上で論じたようなマスク使用に伴う問題を回避しつつ、精細なターゲットエリアをエッチングすることが可能である。本発明に従って、限定されたターゲットエリアを極めて精細にエッチングすることが可能となる。
プのプリントヘッドから堆積される。有利には、この方法は、材料を貫通エッチングして
下地材料の領域を露出する工程を含む。
より、下地材料の露出領域のアレイを提供する工程を含む。
料の領域を露出させる工程を含む。
された下地材料の露出領域の実質的に平行な細形のストリップのアレイを提供する。
サブスタンス小滴の直径を下回る。
部分を含み、そこではサブスタンスの更なる小滴が一方の境界部分上に堆積され、それに
よって前記一方の境界部分が他方の境界部分に向かって移行し、細形のストリップの幅を
減少させる。
ッチングプロセスを用いてエッチングする工程をさらに含む。
の形で堆積されるタイプのプリントヘッドからの更なるサブスタンスを堆積することによ
ってエッチングされる。
。
している層として堆積し得る。
イプのプリントヘッドから、下地材料の1つ以上の露出領域上に液体の形で選択的に堆積
される。
材料に対する材料の濡れ性よりも大きく、下地材料の1つ以上の露出領域上での更なる材
料の自己整列がもたらされる。
去される。
料は導電性材料層を含む。
含むことができ、有機材料は、ポリビニルフェノール、ポリビニルアルコールまたはポリ
メチルメタクリレート(PMMA)を含むことができる。
ル、1−プロパノールまたは2−プロパノールのうちの少なくとも1つを含む。
チックまたはシリコン、あるいはスプール可能なプラスチック材料のウェブから構成し得
る。
作できる。
ブスタンスは前記有機材料用溶媒を含む。
極性溶媒中に懸濁された有機材料を含み、プリントヘッドから堆積された時に、下地材料
の1つ以上の露出領域上で更なる有機材料の自己整列がもたらされるようになっている。
を用いたドライエッチング工程を含み、これは酸素プラズマを用いたドライエッチングの
後に行うのが有利である。
よって除去される。
チックまたはシリコン、あるいはスプール可能なプラスチック材料のウェブで構成され得
る。
る。
ルメタクリレート(PMMA)の上塗層を設ける工程を含み得る。
るサブスタンスを形成し得る。
含み、前記材料は前記アルキル溶液または酸性溶液に可溶な金属を含む。上記の要領で、
エッチマスクまたはシャドウマスクの製作が可能である。
び/または上記の代替形態に従って製作された電極を含む表示デバイスが提供される。
ポリマーを含む有機ポリマー発光層を含むのが有利である。
スは、前記フッ素化ポリマー層を溶解してそれにより該フッ素化ポリマー層中にディウェ
ッティングバンク構造を設けるためのフッ素化有機溶媒を含む。
ェッティングバンク構造が提供される。
ス表示デバイス用の陽極および陰極のインクジェットエッチングを用いた製作を参照して
説明する。
の基板2を備え、該基板は陽極4を支持しており、該陽極は、半透明のITO、ZnO2
または金属薄膜などの導電性材料の横列電極のアレイの形をしている。有機ポリマー層6
が陽極4の上に載るように設けてある。層6は、典型的には、Alq3の小さい分子また
は共役ポリマー混合物F8/F8BT/TBFで構成でき、ここで、F8は[ポリ(9,
9−ジオクチルフルオレン)]、F8BTは[ポリ(9,9−ジオクチルフルオレン−コ
−2,1,3−ベンゾチアジゾール)]、TFBは[ポリ(9,9−ジオクチルフルオレ
ン−コ−N−(4−ブチルフェニル)ジフェニルアミン)]である。これらの共役ポリマ
ーはポリフルオレンの誘導体であり、クロロホルム、トルエンおよびキシレンなどの有機
溶媒に可溶である。モノクロディスプレイを作るためにスピンコートが用いられ、インク
ジェット堆積技術は、マルチカラーディスプレイ用の種々のポリマーを堆積するために開
発されてきた。陰極8は、導電性材料の縦列カラム電極のアレイという形で、ポリマー層
6上に設けてある。ポリマー材料中への電子注入を助けるため、Ca、Li、Mg、Al
、Tiなどの、仕事関数が約4.0電子ボルト未満の低仕事関数元素が用いられ、希土類
元素は陰極電極用に用いられる。これらの元素は一般に化学的に不安定である。
従来のフォトリソグラフィプロセスを用いてITO層をエッチングして製作し得る。その
ようなプロセスにより、非常に高い解像度を達成でき、また容易に使用できる。なぜなら
ば、陽極4は、通常はガラス、プラスチックまたはシリコンである基板上に直接形成され
るからである。しかしながら、フォトリソグラフィ法は比較的複雑であり、時間がかかり
、また実装にコストがかかる。さらに、この複雑さはディスプレイサイズの増加に伴い増
大するが、これはフォトリソグラフィマスクが、マスクの全領域にわたって要求解像度で
製作するのが極めて困難になるからである。それゆえ、そのような技術は、有機ポリマー
ディスプレイ中の陽極の製作についてさえも理想的に適しているものではない。これは、
より低コストという有機ポリマー材料の利点が、特により大型サイズのディスプレイの製
造において、十分に実現できないからである。
含み得る層のフォトリソグラフィパターニングは、従来のLCDまたはLEDディスプレ
イにおいて、不要な領域12を選択的に取り除いて、要求されるパターンをフォトレジス
ト10のパターニングされた層中に設けるため、フォトレジストをドライまたはウェット
エッチングと組み合わせて用いて達成できる。代わりに、必要なパターンを達成するため
、フォトレジスト層は、蒸発または「リフトオフ」法と組み合わせて用い得る。そのよう
な技術は当該技術において公知であり、したがって、本発明の文脈中ではこれ以上説明し
ない。しかしながら、図1から理解されるように、有機ポリマーエレクトロルミネセンス
ディスプレイにおいて、陰極8は有機ポリマー層6の上に載っており、さらにこれと接触
している。それゆえ、陰極8の製作に、フォトリソグラフィ法が利用されると、非常に厳
しい困難および欠点に遭遇する。
ターニング後にフォトレジスト層を除去するために用いられるストリッパなどの、フォト
リソグラフィプロセスで用いられる薬品と反応する。例えば、層6の有機材料は、フォト
レジスト材料により溶解および/またはドーピングされ得る。ドーピングは多くの形態を
取り得るが、典型的には、有機材料内のクエンチまたはサイトトラッピングを引き起こし
得る。さらに、フォトレジストの露光に用いられるUV光は、有機層中で光酸化または結
合欠陥を引き起こし得る。
従来のフォトリソグラフィプロセスに対する有機ポリマー材料の反応に起因するこれら
の無意味ではない問題は、プロセス自身の実際のコスト負荷よりもずっと重大である。な
ぜなら、有機材料の実際の性能品質はこのプロセスを用いることによりひどく低下するか
らである。すなわち、製造コストが高いのに性能がより低いディスプレイが作り出される
。
されるように、このプロセスは、通常はステンレス製の、アパーチャ金属マスク14の使
用を伴う。陰極材料は蒸着により堆積されるが、マスク14は、金属マスクによる有機層
の汚染および有機層の欠陥発生を防止するため、有機層から若干離されている。蒸発させ
られた材料がマスクのアパーチャ18を通過するにつれて、その蒸着角は方向が変わるこ
とがあり、マスク中で規定された領域よりも広いエリアにわたって材料が堆積され、堆積
された陰極についての解像度が劣る。さらに、マスクは必ず、実際の要求陰極パターンの
ネガ像でなければならず、マスクは、比較的広いアパーチャ間に配置された(陰極アレイ
中の要素間の間隔に一致している)比較的細い金属片のみで成っている。この理由により
、マスクは機械的に堅牢ではなく、エリアが広いディスプレイ用の陰極の製造には使用で
きない。より広い金属片を設けてマスクをより堅牢にしても、隣接する陰極電極間の間隔
がそれに対応して増加し、これにより発光エリアおよびディスプレイの解像度が減少する
。さらに、ディスプレイの全エリアにわたり、平行な堆積ビームが必要である。理解され
るように、表示エリアが増大するにつれて、比較的広い堆積エリアにわたって平行な材料
ビームが確実に提供されるように、陰極材料源とターゲット基板との間の距離を増大させ
ることが必要になる。したがって、堆積室はサイズが大きくなり、さらに、蒸発させた材
料の大半はターゲット基板上ではなく、室の壁面に堆積する。これらの要因の両方が加工
コストを増大させ、そしてそれゆえ最終的な表示デバイスのコストを増大させる。さらに
、シャドウマスクの再利用を可能にするため、シャドウマスク上に蒸着された材料を除去
してマスク中のアパーチャ18の要求される設定を維持しなければならない。シャドウマ
スクの洗浄も、表示デバイス製造コストの上昇を招いて問題になり得る。
陰極パターニング用に提案されてきた。マッシュルーム型ディバイダは基板上に形成され
ており、有機ポリマー材料6および陰極8がその後に続堆積されている。これらのマッシ
ュルーム型ディバイダにより、互いに電気的に絶縁された陰極カラムを、金属製シャドウ
マスクを使用することなく、形成できる。しかしながら、マッシュルーム型ディバイダ2
0は、通常はフォトリソグラフィプロセスと等方性エッチングプロセスとを組み合わせて
製作されており、これはマスクを必要とし比較的冗長であり、したがって高価なプロセス
である。さらに、陰極材料を堆積するために必要な堆積ビームの角度を考慮すると、マッ
シュルーム型ディバイダ20の側面22上への材料堆積が斜め入射堆積ビームによって生
じ、陰極カラム間の短絡を引き起こし得る。これらの問題は、表示エリアのサイズに伴っ
て増大する。なぜならば、広いエリアのための蒸着プロセスは、小さいエリアよりもより
斜めの堆積ビームを必要とするからである。したがって、そのようなディバイダは、陰極
の広いエリアのパターニングには適さないことになる。
ve)有機ポリマー層上のパターニングされた陰極の製作に提案されてきた。一部を図5に
示したポリマーマスク24は、有機ポリマー層上に一連のラインとして印刷されており、
インクジェット印刷されたライン間の間隔は、その後に堆積された陰極における電極幅を
決定する。図5に示される隆起エリア中の不活性ポリマーマスク24は、弱い粘着テープ
を用いてリフトオフされる。しかしながら、そのような形態においては、インクジェット
堆積されたマスクのライン幅は比較的広く、典型的には100ミクロンを上回り、これに
より最終的なディスプレイ中の発光エリアが減少する。これは、特に高解像度ディスプレ
イにおいて非常に好ましくない。表面に堆積された溶液の広がりにより、インクジェット
パターニング法で細いラインを引くことは困難なので、このライン幅が上昇する。不活性
ポリマー溶液の広がりの結果、堆積された材料の厚さも薄くなり、それによって従来のリ
フトオフ法の適用が困難になる。さらに、このプロセスによりは、比較的高密度の欠陥も
生じ、やはり画像解像度に影響する。
導体材料を含むデバイスにおいても存在する。さらに、前に述べたように、比較的長いが
極端に狭いラインのパターニングは問題があることが常に立証されてきた。なぜならば、
エッチングマスクにそのようなラインを精細に規定するのに十分な機械的堅牢性を与えら
れないからである。本発明は、被エッチング材料上に小滴の形でエッチャントを堆積する
ことにより、公知の技術に伴うこれらの懸念の解決策を提供しようとするものである。も
し小滴の堆積が適正に制御されることができ、かつ被エッチング材料を溶解またはこれと
化学的に反応するようにエッチャントが選択されれば、非常に精細かつ精細に規定された
パターンが、フォトリソグラフィまたはシャドウマスクを必要とせずに、材料中にまたは
これを貫通してエッチングできる。
有するタイプのプリントヘッドの使用によって都合よく達成できることは、本発明によっ
て実現された。このタイプの容易に利用可能なプリントヘッドはインクジェットプリント
ヘッドであり、本発明はそのようなプリントヘッドを参照して以下で説明する。しかしな
がら、被エッチング材料の表面上をコンピュータ制御で動かされる、非常に精細な例えば
マイクロピペットの使用のような他の機構も、本発明の方法を実行するために用い得るこ
とは理解されるべきである。典型的には、本発明の方法を実行するために使用されるノズ
ルは、直径が約100ミクロンを下回る吐出開口部を有する。
る。しかしながら、エッチャントが、被エッチング材料と化学的に反応して、例えば洗浄
によって除去可能な更なる材料を提供するサブスタンスを同様に含み得ることも理解され
るべきである。
クジェットエッチングの原理に関連して本発明を説明する。とりわけインクジェットプリ
ントヘッドの利用によるこのエッチング原理は、特に有利であることが見出されている。
なぜならば、以下の説明から明らかになるように、エッチングにそのようなインクジェッ
トプリントヘッドを用いることにより、ディスプレイ用の陽極および陰極の両方を、フォ
トリソグラフィまたはシャドウマスクを用いることなく製作することが可能になるからで
ある。特に有機ポリマーディスプレイについては、表示エリアの増大に伴ってこれがます
ます重要になる。
なぜなら、困難度が、そしてそれゆえフォトまたはシャドウマスクを利用する公知のプ
ロセスを使用するコストが、大きく増大するからである。
料を含み得る材料層に関するそのようなインクジェットエッチングの原理を示すものであ
る。しかしながら、インクジェットエッチングの原理はそのような材料またはそのような
ディスプレイの製作に限定されるものでなく、マスク(例えば、オプティカルシャドウマ
スク)の製作またはディウェッティングバンク構造の製作のような精密なパターンを材料
中に規定することが必要な任意の用途においても、さらにはエレクトロルミネセンスディ
スプレイの製作にも用い得ることが理解されるべきである。
6を支持しており、この層は、ポリフルオレンまたはF8、F8BTもしくはTFBのよ
うな共役分子群と組み合わせたフルオレンのコポリマー、あるいはそれらの任意のブレン
ド物を含み得る。層6は、溶液のスピンコーティングまたはインクジェット堆積により適
用でき、前記溶液には、トルエン、キシレン、メシチレン、またはシクロヘキシルベンゼ
ンなどの非極性性有機溶媒が用いられる。ポリビニルフェノール(PVP)、ポリビニル
アルコール(PVA)またはポリメチルメタクリレート(PMMA)、共役分子または共
役ポリマーあるいはそれらのコポリマーのような極性有機材料の更なる層26が、発光層
6上に堆積される。典型的には、層26の厚さは約1ミクロンである。メタノール、エタ
ノール、ブタノール、イソプロパノール、1−プロパノール、2−1プロパノール、アセ
トンまたはジメチルイミダゾリジノンなどの極性溶媒はインクジェットプリントヘッド2
8から一連の小滴として層26上に堆積され、そのうちの2つ、すなわち小滴30および
32が図6A〜図6Fに示してある。
インクジェット堆積が非常に独特な厚さプロファイルを形成することが見出されている。
被エッチング材料のほとんどは固体表面上への堆積後の小滴のエッジ領域中に含まれ、小
滴の中央領域には比較的わずかな材料しかない。溶媒液滴による穴形成の物理学は、従来
のウェットエッチングプロセスの物理学とは異なる。従来のケースでは、大量のエッチャ
ントとリンス液がターゲット材料をエッチングし洗い去る。そのようなエッチングプロセ
スにおいては、材料は液体中に拡散されるか、基板から流し去られる。本発明においては
、材料は溶媒のバルクフローによって基板から除去されない。材料は、穴の中心領域から
エッジへ局所的に移動される。このエッチング機構は、定着性液滴中のミクロ流体フロー
の観点から理解される。このミクロ流体フローは、固体表面上の溶液滴からの、リング形
状の「コーヒー汚れ」の形成を説明するために提案されてきた。固定された接触線を有す
る表面上で溶液滴が乾燥する場合、そのような流れは、小滴全体の体積変化および蒸発速
度における差を補償しようとして起こる。液滴のエッジ領域においては、溶媒の蒸発速度
は高いが、体積変化は固定された接触線により制限される。一方、中心領域では、より大
きい体積変化が起きるが蒸発速度はより低い。放射状のミクロ流体フローは、この差を補
償するために、中心からエッジ領域へ溶液を供給する。結果として、エッジ領域において
溶質の堆積が増大し、中心領域では予期されるよりも薄い層が形成される。同じ機構が、
穴形成において生じるものと考えられている。溶媒滴が絶縁物上に堆積される場合、絶縁
物はこの溶媒中に部分的に溶解される。溶媒滴中へ溶解した絶縁物は、フローにより中心
部からエッジへ運ばれ、そこで凝固し、その結果としてクレーター状の穴を形成する。隆
起部中のポリマーは堆積された溶媒滴中に溶解されるが、中心領域へ拡散できない。なぜ
ならば、速いミクロ流体フローが、ポリマーを含んでいる溶液を押し戻すからである。言
い換えると、ポリマーの正味質量フローは常に中心からエッジ方向に起こり、その結果と
して材料が中心領域から完全に移動されることになる。
Bに示されるように、層26を溶媒中に部分的に溶解する。溶媒が蒸発するにつれ、図6
Cに示されるように、小滴30のエッジ周りで層26のポリマー材料のリング34が形成
される。これは、放射状のミクロ流体フローにより運ばれるポリマーに起因する。運ばれ
たポリマーは、図6Bに示されるエッジ領域で再堆積される。図6Dに示されるように、
次に、溶媒の第2の小滴32が、第1の小滴の堆積により形成されたリング34中に堆積
される。図6Eから、リング34が第2の小滴32を含むように作用し、溶媒の横方向へ
の広がりを防止することがわかる。第2の小滴32は、層26をさらにエッチングし、溶
媒が蒸発するにつれて、図6Fに示されるように、リング34の高さが増大する。層26
が貫通エッチングされて層6から成る下地材料の領域36が露出されるまで、溶媒のどの
ような後続の小滴もリング34によって同様に保持される。また、第1の溶媒小滴のみで
層の底部までポリマーを溶解することができ、下地材料までのエッチングが単独の小滴に
よって効果的に達成される場合には、第2および後続の小滴は必ずしも必要ではないこと
も言及されるべきである。しかしながら、後続の小滴は、エッチングされた穴の底部に到
着した後、形成された穴の底部からポリマー材料を完全に除去するの役立ち得る。図7A
および図7Bに示されるように、下地材料が不均一な表面を有する場合には、これはとり
わけ役立ち得る。
36に溶媒小滴が達すると、図7Aのピーク6aとして示される、層6の小さいピークが
最初に露出される。しかしながら、図7Aの暗い色の領域26aにより示される層26の
小さい領域は、層6のピーク6aの間に残る。溶媒は、層26の材料は溶解するが層6の
材料は溶解しないように選択されるので、すなわち層6の材料は、溶媒エエッチャントの
エッチング停止として働くので、後続の溶媒小滴は、層6をエッチングしてしまう懸念な
く領域36から領域26aを除去し、層6の表面から構成される底部を有する穴を層26
中に残すために用いることができ、前記穴は、図7Bに示されるように、層26の材料の
領域により汚染されない。
い有機絶縁物層上に、それぞれ1個、3個および8個の溶媒小滴をインクジェット堆積し
て形成された核形成リングを端から端まで走査して得た測定結果を示す。図8に示される
プロットから注目すべきことは、更なる溶媒小滴が層上にインクジェット堆積されるにつ
れて、層中にエッチングされた穴の幅が、壁構造が比較的大きい角度を有したまま、より
良好に規定される傾向があるということである。さらに、リング外部の層表面とほぼ同レ
ベルの穴またはリング内部の深さにおけるエッチング穴のサイズは、更なる小滴の堆積に
伴って減少する傾向がある。これは、エッチング穴の最下部領域において溶媒中に溶解し
た材料のいくらかが、溶媒の蒸発につれて穴の壁面上に再堆積されることに起因する。こ
れは、インクジェットエッチングのとりわけ有利な面であると考えられる。なぜならば、
非常に狭くかつ良好に規定されたパターンが、被パターニング層中にエッチングし得るか
らである。
溶媒小滴の直径を下回る幅を有するパターンまたはラインがエッチングできる。インクジ
ェットエッチングのこの面は、被エッチング材料を溶解する溶媒、または被エッチング材
料と化学的に反応することによってエッチングを行うサブスタンスの双方について利用で
きることは言及されるべきである。
ドノズルから吐出できる。しかしながら、一般にそのような溶媒の接触角は約8°であり
、したがって、堆積された溶媒小滴は一般に、ひとたび材料層上に堆積されると、約60
〜70ミクロンの直径を呈する。
を参照すると、溝は、Aとして示される幅を有し、この幅は堆積された溶媒小滴の直径、
溶媒タイプ、および層26表面の濡れ性により主として決定される。溝の境界部分37a
を被覆するべく後続の溶媒小滴が選択的に堆積される場合、境界部分37aを形成する層
26の材料は、後続の溶媒小滴中に溶解される。層26の材料は小滴内で流れ、小滴のエ
ッジに向かって集中する。これは、層26中の溝のエッチングの間に境界部分37a(核
形成エッジとしても公知)が形成される原理である。それゆえ、後続の溶媒小滴が境界部
分37a上に堆積されるにつれ、境界部分は、溝の反対側に位置する境界部分37bに向
かって移行させられ、それによって、溝の幅Aが減少させられる。これは図9Bのシフト
Bにより示される。この要領で、堆積された溶媒小滴の直径よりも幅が狭い、非常に狭い
ラインまたは溝がエッチングにより製作できる。上記の手法により、ひとたび溝が所望の
幅まで減少されると、このプロセスを、前記溝からオフセットされた位置、例えば図9A
に示されるような後続の小滴の右側で繰り返すことができ、それにより、隣接する溝間に
層26の材料の非常に狭い隆起部を形成でき、溝はそれぞれ、層26の表面上に堆積され
たときの溶媒小滴の直径を下回る幅を有している。
ス(organic light emitting device)における発光有機層(photoemissive organic lay
er)上のストリップ型陰極パターニングを説明するものである。
ニングを示すもので、前記層は、基板2上で支持された発光有機ポリマー(photoemissiv
e organic polymer)層6の上に置かれている。図10Bからわかるように、インクジェ
ットプリントヘッド(図示せず)は、層26の表面上を移動させられて、メタノール、エ
タノール、およびプロパノールなどの溶媒の複数の小滴を堆積する。好ましくは、小滴は
、隣接する小滴が互いに部分的に重なるように堆積される。この要領で、層26中に狭い
トラフすなわち溝が形成され、このプロセスは、溶媒が層26を完全に貫通エッチングし
て層6の細形のストリップ領域38を露出するまで繰り返される。次に、インクジェット
ヘッドは、層26の表面を横切って横方向に移動させられ、プロセスは、層26中の次の
トラフをエッチングするために繰り返され、隣接するトラフは、PVP有機絶縁材料の細
形の隆起部40により隔てられている。結果として得られる構造が図10Fに示してある
。層26のPVP有機絶縁材料が極性有機材料で、F8のような層6の発光有機材料(ph
otoemissive organic material)は非極性有機材料なので、層26の溶解および貫通エッ
チングに用いられる溶媒は層6を溶解しないことは言及されるべきである。それゆえ、層
6は、インクジェットエッチングプロセスに対する自然のエッチング停止層として働く。
上で説明したような層26のインクジェットエッチングを用いることにより、底部におけ
る幅が10ミクロン未満の隆起部40が容易に達成できる。
能である。しかしながら、実際には、インクジェット堆積によって材料を幅が約10ミク
ロンの狭いラインに堆積することは極めて困難である。たとえ堆積された小滴の直径が、
最新技術のインクジェットヘッドにとっても非常に小さいサイズである10ミクロンであ
ったとしても、この10ミクロン小滴は、基板上で20ミクロン以上に広がる。結果とし
て得られるライン幅は、表面張力が高くて広がりが少ない水ベース溶液で50ミクロン以
上であり、非極性有機溶媒ベース溶液では100ミクロン以上である。溶液の広がりのこ
の面は不利であるが、プリントヘッドの位置決めを適切に制御することにより、そのよう
な非常に狭いラインが達成できるようにするために、図9Aおよび図9Bに関して説明し
たように、この制限に対する解決策が提供できる。
る。陰極金属がこの薄層に蒸着される場合には、このPVP薄層は発光デバイスの効率を
低下させ得る。しかしながら、この薄層は、隆起部40の間の領域へ溶媒を多重堆積して
除去し得る。トルエンやキシレンなどの、発光層6の溶媒をPVPの溶媒に少量加えるこ
とも、非常に薄いPVP層を層6の表面から除去するのに非常に効果的である。例えば、
イソプロパノール98%とトルエン2%との混合物は、インクジェットエッチング用溶媒
として用い得る。混合物中のトルエンは発光層6をごくわずかにエッチングし、これによ
り、発光層6表面からのPVP層の完全除去が促進される。
うな導電性材料層42が次にPVP有機絶縁材料の隆起部40上に堆積される。層6のイ
ンクジェットエッチングにより、急勾配の側面部を有する隆起部40が形成されるのがわ
かる。それゆえ、図10Gからわかるように、層42は隆起部40間のトラフの底部領域
において、隆起部40の急勾配の側壁の領域44におけるよりもずっと厚く堆積する。導
電性層42は、スパッタリングまたは蒸着などの、任意の適切なプロセスを用いて堆積し
得る。図10Gに示される構造は次に、メタノール、エタノール、アセトン、またはプロ
パノールなどの、隆起部40のPVP材料用極性溶媒により洗浄される。層42が比較的
薄いか、または領域44に小さい穿孔を含んでおり、したがって溶媒が隆起部40に達し
てこれを溶解でき、図10Hに示されるように、発光有機ポリマー層6上に置かれた導電
性ストリップ46のアレイを形成できるので、このリフトオフプロセスは可能である。も
し必要であれば、このリフトオフプロセスは超音波浴を用いて実施でき、この浴中では、
超音波攪拌を適用して、領域44の導電性層42を破壊し、隆起部40の溶媒への暴露を
促進することができる。
陰極が、高価で難しいフォトマスクまたはシャドウマスクを必要とせずに、インクジェッ
トエッチングを用いて製造されたことが理解されるであろう。
インクジェットエッチングにおいて用いた溶媒は、発光層6表面に影響しない。
なぜならば、発光層6用の有機材料はエッチング溶媒に可溶性ではなく、さらに上で言
及したように、発光層6表面からパターニング材料(例えば、PVP)を除去することが
可能だからである。さらに、隆起部は幅10ミクロン未満に規定できるので、表示エリア
の損失は非常に小さい。例えば、100ミクロンピッチの陰極ストリップ間の20ミクロ
ン幅の離間領域は、インクジェットエッチングとリフトオフ法とにより非常に容易に達成
でき、これにより80%の発光エリア比が得られ、これは、非常に明るくかつ効率的な有
機発光ディスプレイを提供するのに十分である。
造においても非常に有利に用いることができ、前記ディスプレイは、前に述べたように、
通常はフォトマスクを用いる従来のフォトリソグラフィ法により製造されるが、この手法
は広いエリアのディスプレイの製造にはあまり適さない。ここで、このプロセスを図11
A〜図11Fを参照して説明する。
料として用いられるが、このことは、PVPがインクジェットエッチングに有用な唯一の
材料であることを意味するものではない。インクジェットエッチングは、どのような可溶
性材料または材料混合物で作られた層についても、該層に対する良好な可溶性を有する溶
媒を用いて利用可能である。パターニング材料についての重要な事柄は、下地層または基
板を実質的に溶解したり影響したりしない溶媒を用いることである。この条件で、下地層
または基板は、エッチング停止層として働くことができ、したがって、インクジェットエ
ッチングは、過剰または過少エッチングの懸念がないという付加的な利点と共に実施でき
る。また、ストリップ型だけでなく、ドットであっても、あるいはどのような任意のパタ
ーンであっても、エッチャントの吐出とインクジェットヘッドの並進とを制御することに
よって、エッチングできる。
ポリイソブチレン、ポリ(p−メチルスチレン)、ポリプロピレンまたはF8などの非極
性有機材料の層48を支持している。シリコンも用い得るけれども、基板2は一般的には
ガラス基板またはプラスチック基板である。層48は、一般的に、スピンコーティングに
より設け得る。図10A〜図10Hに関連して陰極形成について上で説明した手順と同様
に、層48用溶媒小滴を選択的に堆積するためにインクジェットプリントヘッドが用いら
れる。.A〜図11Cから、トルエンまたはキシレンなどの非極性炭化水素溶媒小滴50
が層48上に堆積され、それにより、一連のトラフが層48中にエッチングされて、基板
2により支持された非極性材料の隆起部52が形成される。この段階まで、種々の材料が
使われること以外、プロセスは陰極製造に関して上で説明したものと同じである。結果的
に得られる構造は、図11Cに見られる。酸素を用いたプラズマ処理は、極性溶液に対す
る基板表面の濡れ性を高めるために用い得る。次に、水などの極性溶媒中に溶解または懸
濁された、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)(PEDOT)あるいはポリピ
ロール、ポリアニリンのような導電性極性ポリマーの小滴54を堆積するためにインクジ
ェットプリントヘッド28が用いられる。隆起部52は非極性材料製なので、小滴54は
隆起部を溶解またはこれと反応しないが、隆起部52間のトラフ内に閉じ込められる。隆
起部52間の領域は、極性溶媒のための濡れ面を有しており、この濡れ面は、酸素を用い
たプラズマ処理によって強化でき、他方では、非極性隆起部52は、極性溶媒に対するデ
ィウェッティング特性を示す。導電性極性ポリマー溶液の小滴が、ディウェッティング隆
起部52間の(良好な濡れ表面を有する)基板上に堆積される時には、極性溶液は、基板
表面と隆起部表面との間の濡れ特性の違いのために、自然に隆起部間に閉じ込められる。
この自己整列機構は、たとえ隆起部52の幅が非常に小さくても、導電性ストリップ間の
短絡形成の防止に好都合である。なぜならば、導電性極性ポリマーは、隆起部の間の領域
に閉じ込められており、隆起部上に堆積しないからである。
非極性材料のどのような非常に薄い残留層をも除去するために、インクジェットエッチン
グ後に適用できる。プラズマは非常に薄い残留層をエッチングできる。さらに、有機材料
製である隆起部52の表面は、フッ化炭素蒸気によりフッ素化され、結果として、極性溶
液に対して非常にディウェッティング性の表面が得られる。基板がガラスなどの無機材料
製である時には、この表面はフッ素化されない。この結果、隆起部間の領域について濡れ
表面が得られる。これにより、隆起部間の導電性極性ポリマーの自己整列がさらに強化さ
れ、隣接する電極間の短絡可能性がさらに減少する。したがって、濡れ性の違いに起因す
る自己整列挙動は、そのようなプラズマエッチングステップを用いて強化できる。
導電性材料のストリップ56が残される。図11Eに示される構造は次に、非極性溶媒中
で洗浄して非極性材料の隆起部52を溶解することにより、図11Fに示されるように、
導電性極性材料の細形のストリップ56を基板上に残すことができる。
6の製造に用いることができ、このストリップは、したがって表示デバイス、特にエレク
トロルミネセンス表示デバイス用の陽極として用い得る。
うな発光有機ポリマー層でコートでき、それに図8(a)のPVP層26のような不活性
ポリマー層が続く。層26は次に、図10A〜図10Hに関して説明したように、インク
ジェットプリントヘッドおよび適切な溶媒を用いてエッチングして、ディスプレイ用陰極
を設けることができる。
ングを、選択的に堆積された適切な溶媒を用いたエッチングにより達成できることが上記
の説明からわかる。それゆえ、そのようなインクジェットエッチングは、エッチングマス
クまたはシャドウマスクを使用することなく、ディスプレイ用の陰極電極、陽極電極、ま
たはその両方の製造に用い得る。
中にパターン形成するのに有用である。例えば、隆起部52を有する基板のような構造が
酸素プラズマでドライエッチングされると、基板中にトラフが形成される。インクジェッ
トエッチングと従来のエッチングとを組合わせることにより、不溶性材料中にでさえ低コ
ストでパターン形成が可能である。
け有益である。したがって、本発明は、ガラスなどの硬質基板上に支持された層のエッチ
ングに限定されず、プラスチック製基板上でも同様に利用できる。さらに、種々の層にパ
ターンをエッチングするためにインクジェットプリントヘッドが使用されるので、本発明
は、スプール可能なプラスチック基板のウェブまたはロール上に支持された材料と共に用
い得る。そのような基板は、供給スプールから、種々の処理ステーションを経て、巻取り
スプールへ供給できる。前記ステーションでは、種々の層がことによるとインクジェット
プリントヘッドを用いて設けられ、続いてエッチングされ、また、インクジェットプリン
トヘッドを用いて、材料のウェブ上に表示デバイスを連続的に製造する。プラスチック製
ウェブは次に副分割されて、個別のディスプレイにされる。
た溶媒中に溶解し得る材料中のパターン形成に限定されないことが理解されるべきである
。被エッチング層とある種の化学反応を引き起こすサブスタンスの形のエッチャントも用
い得る。例えば、カルシウムとアルミニウムとの二重層は、水酸化ナトリウムと反応し得
る。それゆえ、インクジェットプリントヘッドによるアルミニウム上への水酸化ナトリウ
ムの選択的堆積により、表面に水酸化アルミニウムのパターンが残され、これは水で洗い
流せる。したがって、エッチャントとして使用するサブスタンスを適切に選択することに
より、インクジェットエッチングを、金属層のパターニングまたはマスク製造に用いるこ
とができる。インクジェットエッチングされたマスクは、下地層を、さらにドライまたは
ウェットエッチングあるいは化学ドーピングするために用い得る。さらに、オプティカル
シャドウマスクも、不透明な可溶性層のインクジェットエッチングによって製造し得る。
る。通常、ディウェッティングバンク構造は、バンク材料中のウェルのアレイという形を
しており、一般に接触角が低く堆積された表面上で広がる傾向がある非極性溶媒から堆積
された溶液であっても閉じ込めることができる。バンク構造は、例えば、インクジェット
堆積されたフッ素化有機溶媒でフッ素化ポリマー層をエッチングしてディウェッティング
バンク構造を設けることによっても、有利に形成できる。
グされた表面を用いることも提案されている。親水性領域は、自動ピンツールローディン
グストラテジーを用いてそれらの上に置かれた種々のDNAまたはたんぱく質溶液を収容
するのを助ける。この方法は、配列表面のDNA鎖またはたんぱく質の効率的な付着、操
作、およびハイブリダイゼーションを考慮している。しかしながら、表面へのDNA鎖ま
たはたんぱく質の付着化学が不可欠である一方、パターニングされた基板の形成も、テス
ト用サブスタンスが配列要素上に精確に置かれることが保証されるために必須の点である
。典型的には、そのような配列要素は、フォトリソグラフィ法を用いて製造することが提
案されている。しかしながら、そのような配列要素のパターニングされた表面は、本発明
の方法を使っても製造でき、さらに、試験用のDNAまたはたんぱく質試料も、本発明の
方法を用いて、パターニングされた表面上に堆積することができる。
て本発明を説明したが、貫通エッチングではなくて材料中のみのエッチングが必要とされ
る場合、したがって材料中に延びているエッチングパターンを設けることが要求される場
合にも、本発明は有効に使用できることも理解されるべきである。このように形成された
パターンは次に、本発明の方法、例えばインクジェットプリントヘッドの使用により、更
なる材料を受け入れるように構成することもできる。
ーヤー、カメラ、フィールド装置などのモバイルディスプレイ、あるいはデスクトップコ
ンピュータ、CCTVもしくはフォトアルバムなどの携帯型ディスプレイ、あるいは制御
室装置用ディスプレイなどの工業用ディスプレイ、といった多くのタイプの装置へ組み込
むためのディスプレイの製造に用いることができる。
上記の実施形態の1つによる表示デバイスがモバイルパーソナルコンピュータに応用さ
れている例を以下に説明する。
、パーソナルコンピュータ1100には、キーボード1102と表示ユニット1106と
を含む筐体1104が設けてある。表示ユニット1106は、上で説明した本発明に従っ
て製造された表示パネルを用いて実装されている。
次に、表示デバイスが携帯電話の表示部に応用された例を説明する。図13は、携帯電
話の形態を示す等角図である。この図面において、携帯電話1200には、複数の操作キ
ー1202と、イヤーピース1204と、マウスピース1206と、表示パネル100と
が備えてある。この表示パネル100は、上で説明し本発明に従って製造された表示パネ
ルを用いて実装されている。
次に、ファインダーとしてOEL表示デバイスを用いたデジタルスチルカメラを説明す
る。図14は、デジタルスチルカメラの形態と、外部デバイスとの接続を簡単に示す等角
図である。
タルスチルカメラ1300は、例えば電荷結合素子(CCD)を用いた光電変換により、
対象物の光学像から画像信号を生成する。デジタルスチルカメラ1300には、CCDか
らの画像信号に基づいた表示を実行するために、筐体1302の背面にOELエレメント
100が設けてある。したがって、表示パネル100は、対象物を表示するためのファイ
ンダーとして機能する。光学レンズとCCDとを含む受光ユニット1304が、筐体13
02の前面(図面では背後)に設けてある。
ャッターをリリースすると、CCDからの画像信号が回路板1308中のメモリーに転送
されて記憶される。デジタルスチルカメラ1300には、データ通信用のビデオ信号出力
端子1312と入出力端子1314とが筐体1302の側面に設けてある。図面に示され
るように、テレビモニタ1430とパーソナルコンピュータ1440が、必要なら、ビデ
オ信号端子1312および入出力端子1314にそれぞれ接続される。回路板1308の
メモリーに記憶された画像信号は、所定の操作により、テレビモニタ1430およびパー
ソナルコンピュータ1440に出力される。
に示されるデジタルスチルカメラ以外の電子装置の例としては、OELエレメントテレビ
セット、ビューファインダー型およびモニタリング型ビデオテープレコーダ、カーナビゲ
ーションシステム、ページャー、電子ノート、ポータブル計算機、ワードプロセッサ、ワ
ークステーション、TV電話、販売時点情報管理システム(POS)ターミナル、および
タッチパネルを備えたデバイスが含まれる。当然のことながら、上記のOELデバイスは
、これらの電子装置の表示部に適用できる。
をなし得ることは当業者により理解されるであろう。
ジスト、12,26a,36,44…領域、14…アパーチャ金属マスク、18…アパー
チャ、20…マッシュルーム型ディバイダ、22…側面、24…不活性ポリマーマスク、
26…PVP層、28…インクジェットプリントヘッド、30…第1の小滴、32…第2
の小滴、34…リング、37a,37b…境界部分、38…ストリップ領域、40,52
…隆起部、42…導電性材料層、46…導電性ストリップ、48…層、50…非極性炭化
水素溶媒小滴、54…小滴、56…ストリップ、100…表示パネル、1100,144
0…パーソナルコンピュータ、1102…キーボード、1104,1302…筐体、11
06…表示ユニット、1200…携帯電話、1202…操作キー、1204…イヤーピー
ス、1206…マウスピース、1300…デジタルスチルカメラ、1304…受光ユニッ
ト、1308…回路板、1312…ビデオ信号端子、1314…入出力端子、1430…
テレビモニタ、A…幅、B…シフト。
Claims (9)
- フッ化炭素プラズマを用いて第1材料の一部をドライエッチングし、前記第1材料の下に位置する下地材料の一部を露出させる第1工程と、
ノズルを用いて前記第2材料を含む液体材料を前記下地材料の一部に接触するよう塗布する第2工程と、を含み、
前記フッ化炭素プラズマにより、前記第1材料の前記液体材料に対する濡れ性より前記下地材料の一部の前記液体材料に対する濡れ性のほうが大きくなるものである、
ことを特徴とするデバイスの製造方法。 - 酸素プラズマを用いて第1材料の一部をドライエッチングし、前記第1材料の下に位置する下地材料の一部を露出させる第1工程と、
ノズルを用いて前記第2材料を含む液体材料を前記下地材料の一部に接触するよう塗布する第2工程と、を含み、
前記酸素プラズマにより、前記第1材料の前記液体材料に対する濡れ性より前記下地材料の一部の前記液体材料に対する濡れ性のほうが大きくなるものである、
ことを特徴とするデバイスの製造方法。 - フッ素化有機溶媒を用いて第1材料の一部をウェットエッチングし、前記第1材料の下に位置する下地材料の一部を露出させる第1工程と、
ノズルを用いて前記第2材料を含む液体材料を前記下地材料の一部に接触するよう塗布する第2工程と、を含み、
前記フッ素化有機溶媒により、前記第1材料の前記液体材料に対する濡れ性より前記下地材料の一部の前記液体材料に対する濡れ性のほうが大きくなるものである、
ことを特徴とするデバイスの製造方法。 - 請求項1ないし3のいずれか一項に記載のデバイスの製造方法において、
前記下地材料の一部がライン状の溝の形状をしている、
ことを特徴とするデバイスの製造方法。 - 請求項1ないし4のいずれか一項に記載のデバイスの製造方法において、
前記液体材料が極性溶媒を含むものである、
ことを特徴とするデバイスの製造方法。 - 請求項1ないし5のいずれか一項に記載のデバイスの製造方法において、
前記第2工程において、前記液体材料が前記第1材料の上に堆積しないものである、
ことを特徴とするデバイスの製造方法。 - 請求項1ないし6のいずれか一項に記載のデバイスの製造方法において、
前記第1材料が有機材料を含む、
ことを特徴とするデバイスの製造方法。 - 請求項1ないし7のいずれか一項に記載のデバイスの製造方法において、
さらに、前記第2工程のあと、前記第1材料を除去する第3工程を含む、
ことを特徴とするデバイスの製造方法。 - 請求項1ないし8のいずれか一項に記載のデバイスの製造方法を用いることを特徴とするエレクトロルミネッセンスディスプレイの製造方法。
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