JPH05303009A - マイクロレンズアレー原版およびマイクロレンズアレー作製方法 - Google Patents
マイクロレンズアレー原版およびマイクロレンズアレー作製方法Info
- Publication number
- JPH05303009A JPH05303009A JP10990492A JP10990492A JPH05303009A JP H05303009 A JPH05303009 A JP H05303009A JP 10990492 A JP10990492 A JP 10990492A JP 10990492 A JP10990492 A JP 10990492A JP H05303009 A JPH05303009 A JP H05303009A
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- JP
- Japan
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- etching
- microlens array
- photoresist
- original plate
- mla
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 大面積のＭＬＡ原版を容易に作製するととも
に、大量のＭＬＡを効率的に作製する。 【構成】 金属板に塗布したフォトレジストをパターニ
ングしてスプレーエッチングし、フォトレジストを剥離
してマイクロレンズアレー原版を作製し、さらに作製し
たマイクロレンズアレー原版上にフォトポリマーを滴下
して基板を積層し、紫外線照射または電子線照射により
フォトポリマーを硬化した後、マイクロレンズアレー原
版から剥離することによりマイクロレンズアレーを作製
することを特徴とする。
に、大量のＭＬＡを効率的に作製する。 【構成】 金属板に塗布したフォトレジストをパターニ
ングしてスプレーエッチングし、フォトレジストを剥離
してマイクロレンズアレー原版を作製し、さらに作製し
たマイクロレンズアレー原版上にフォトポリマーを滴下
して基板を積層し、紫外線照射または電子線照射により
フォトポリマーを硬化した後、マイクロレンズアレー原
版から剥離することによりマイクロレンズアレーを作製
することを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はマイクロレンズアレー原
版およびマイクロレンズアレーの作製方法に関するもの
である。
版およびマイクロレンズアレーの作製方法に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】マイクロレンズアレー（以下ＭＬＡと言
う）は、直径数μｍ〜数１００μｍの微小な半球状レン
ズを分布させたものであり、液晶表示素子等のブラック
マトリックスによる影響をなくして明るさを増すためな
どに使用されている。このようなＭＬＡの作製は、金属
製のＭＬＡ原版を作製し、これを金型として射出成形等
により複製しており、ＭＬＡ原版を作製する技術として
は電子ビームを用いて描画するものが提案されている
（特開平１ー２６１６０１号公報）。
う）は、直径数μｍ〜数１００μｍの微小な半球状レン
ズを分布させたものであり、液晶表示素子等のブラック
マトリックスによる影響をなくして明るさを増すためな
どに使用されている。このようなＭＬＡの作製は、金属
製のＭＬＡ原版を作製し、これを金型として射出成形等
により複製しており、ＭＬＡ原版を作製する技術として
は電子ビームを用いて描画するものが提案されている
（特開平１ー２６１６０１号公報）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら電子ビー
ムを用いて描画する方法では、描画に時間がかかるとと
もに、描画面積が制限されるため、１０ｃｍ角以上の大
面積のＭＬＡ原版を作製することは事実上困難であっ
た。本発明は上記課題を解決するためのもので、大面積
のＭＬＡ原版を容易に作製し、大量のＭＬＡを容易に作
製することができるマイクロレンズアレー原版およびマ
イクロレンズアレー作製方法を提供することを目的とす
る。
ムを用いて描画する方法では、描画に時間がかかるとと
もに、描画面積が制限されるため、１０ｃｍ角以上の大
面積のＭＬＡ原版を作製することは事実上困難であっ
た。本発明は上記課題を解決するためのもので、大面積
のＭＬＡ原版を容易に作製し、大量のＭＬＡを容易に作
製することができるマイクロレンズアレー原版およびマ
イクロレンズアレー作製方法を提供することを目的とす
る。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決すべく種
々研究の結果、金属板をウエットエッチングすることに
より、大面積のＭＬＡ原版が容易に作製することができ
ること、同時に、エッチングはスプレーエッチングと
し、スプレー圧の制御によりエッチング孔形状が変化
し、レンズ形状が制御可能であること、エッチング温
度、エッチング時間を変えることにより、エッチング孔
の大きさが変化し、レンズの大きさを制御できることを
見出して本発明に到達したものである。
々研究の結果、金属板をウエットエッチングすることに
より、大面積のＭＬＡ原版が容易に作製することができ
ること、同時に、エッチングはスプレーエッチングと
し、スプレー圧の制御によりエッチング孔形状が変化
し、レンズ形状が制御可能であること、エッチング温
度、エッチング時間を変えることにより、エッチング孔
の大きさが変化し、レンズの大きさを制御できることを
見出して本発明に到達したものである。
【０００５】以下、本発明について詳細に説明する。図
１（ａ）に示すように、金属板１の表面を処理および洗
浄した後にフォトレジスト２を塗布する。金属板１に使
用する金属としては、エッチングされるものであれば何
でもよいが、例えばＬｉ、Ｋ、Ｃａ、Ｎａ、Ｍｇ、Ａ
ｌ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｃｒ（３価）、Ｆｅ（２価）、Ｃｄ、
Ｃｏ（２価）、 Ｎｉ、Ｓｎ（２価）、Ｐｂ、Ｆｅ（３
価）の単体及びこれらの合金を用いることができる。中
でもＮｉ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｃｒはその後の複製工程の剥離
性が良好であり使用し易い。
１（ａ）に示すように、金属板１の表面を処理および洗
浄した後にフォトレジスト２を塗布する。金属板１に使
用する金属としては、エッチングされるものであれば何
でもよいが、例えばＬｉ、Ｋ、Ｃａ、Ｎａ、Ｍｇ、Ａ
ｌ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｃｒ（３価）、Ｆｅ（２価）、Ｃｄ、
Ｃｏ（２価）、 Ｎｉ、Ｓｎ（２価）、Ｐｂ、Ｆｅ（３
価）の単体及びこれらの合金を用いることができる。中
でもＮｉ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｃｒはその後の複製工程の剥離
性が良好であり使用し易い。
【０００６】金属板の処理および洗浄は、表面の酸化物
層や不純物、異物を取り除くために行うので、アルカリ
洗浄、酸による処理、イオンビーム照射等が有効であ
る。
層や不純物、異物を取り除くために行うので、アルカリ
洗浄、酸による処理、イオンビーム照射等が有効であ
る。
【０００７】また、フォトレジストはポジ型、ネガ型の
どちらでも用いることが可能であり、ポジ型であればナ
フトキノンジアジド系等、ネガ型であればカゼイン、ゼ
ラチン、ＰＶＡ等と重クロム酸塩を混ぜたものやゴム系
のものを使用する。特に、サイドエッチが大きい場合
は、ＰＶＡと重クロム酸塩を混ぜたもの、ゴム系が好適
に用いられる。
どちらでも用いることが可能であり、ポジ型であればナ
フトキノンジアジド系等、ネガ型であればカゼイン、ゼ
ラチン、ＰＶＡ等と重クロム酸塩を混ぜたものやゴム系
のものを使用する。特に、サイドエッチが大きい場合
は、ＰＶＡと重クロム酸塩を混ぜたもの、ゴム系が好適
に用いられる。
【０００８】次に、フォトレジストをパターニングす
る。フォトレジストがポジ型であれば、マイクロレンズ
に相当する円形状の内側に、ネガ型ならば円形状の外側
に露光し、現像、水洗いを経て所定のパターンを得る。
次いで、パターニングしたフォトレジストの上部からエ
ッチング液３をスプレーしてエッチングする（図１
（ｂ））。エッチング液としては、塩化物系では塩化第
二鉄や塩化第二銅の含有液を、過酸化物系では過硫酸ア
ンモニウム、そのアンモニア錯体、硫酸、過酸化水素、
塩素酸塩の含有液を用いるとよい。エッチング液の管理
は比重と温度を一定にするのが好ましく、比重と温度で
エッチング速度が変化する。
る。フォトレジストがポジ型であれば、マイクロレンズ
に相当する円形状の内側に、ネガ型ならば円形状の外側
に露光し、現像、水洗いを経て所定のパターンを得る。
次いで、パターニングしたフォトレジストの上部からエ
ッチング液３をスプレーしてエッチングする（図１
（ｂ））。エッチング液としては、塩化物系では塩化第
二鉄や塩化第二銅の含有液を、過酸化物系では過硫酸ア
ンモニウム、そのアンモニア錯体、硫酸、過酸化水素、
塩素酸塩の含有液を用いるとよい。エッチング液の管理
は比重と温度を一定にするのが好ましく、比重と温度で
エッチング速度が変化する。
【０００９】エッチング方法としては、レンズの開口角
を大きくするときにはスプレーエッチングするのがよ
く、スプレーの圧力を大きくする程レンズの開口角を大
きくすることができる。図１（ｃ）に示すように、エッ
チングがフォトレジストの裏側にも廻り込み、ウエット
エッチングの等方性によりレンズ機能を有するような形
状のエッチング孔が得られる。
を大きくするときにはスプレーエッチングするのがよ
く、スプレーの圧力を大きくする程レンズの開口角を大
きくすることができる。図１（ｃ）に示すように、エッ
チングがフォトレジストの裏側にも廻り込み、ウエット
エッチングの等方性によりレンズ機能を有するような形
状のエッチング孔が得られる。
【００１０】所望の形状が得られたら直ちに水洗してエ
ッチング反応を終了し、フォトレジストを剥離すると図
１（ｄ）に示すようなＭＬＡ原版が得られる。剥離液は
フォトレジストの種類に応じて使い、有機溶媒やアルカ
リが好適に使用できる。
ッチング反応を終了し、フォトレジストを剥離すると図
１（ｄ）に示すようなＭＬＡ原版が得られる。剥離液は
フォトレジストの種類に応じて使い、有機溶媒やアルカ
リが好適に使用できる。
【００１１】次に、図１で示す方法で作製したＭＬＡ原
版を用いたＭＬＡの作製工程の例について説明する。 〔例１〕２Ｐ（Ｐｈｏｔｏ ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉ
ｏｎ）法 図２（ａ）に示すように、前述した工程で得られたＭＬ
Ａ原版１上に、フォトポリマー５を滴下し、次いで図２
（ｂ）に示すようにＭＬＡの基板６を上から載せ、フォ
トポリマーが均一に広がってから、図２（ｃ）に示すよ
うに上から紫外線又は電子線を照射して硬化する。硬化
後に、図２（ｄ）に示すように基板を上に持ち上げると
フォトポリマーと金属板が剥離されＭＬＡ７が作製され
る。このときの基板はガラス、プラスチック等が使用で
き、紫外線を照射する場合は透明な基板が好ましい。ま
た、フォトポリマーとの接着性に応じてプライマー、シ
ランカップリング剤等で処理すればよい。
版を用いたＭＬＡの作製工程の例について説明する。 〔例１〕２Ｐ（Ｐｈｏｔｏ ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉ
ｏｎ）法 図２（ａ）に示すように、前述した工程で得られたＭＬ
Ａ原版１上に、フォトポリマー５を滴下し、次いで図２
（ｂ）に示すようにＭＬＡの基板６を上から載せ、フォ
トポリマーが均一に広がってから、図２（ｃ）に示すよ
うに上から紫外線又は電子線を照射して硬化する。硬化
後に、図２（ｄ）に示すように基板を上に持ち上げると
フォトポリマーと金属板が剥離されＭＬＡ７が作製され
る。このときの基板はガラス、プラスチック等が使用で
き、紫外線を照射する場合は透明な基板が好ましい。ま
た、フォトポリマーとの接着性に応じてプライマー、シ
ランカップリング剤等で処理すればよい。
【００１２】〔例２〕プレス法 ＭＬＡ原版の上に熱可塑性樹脂を載せ、温度をかけなが
ら上から圧力をかけ、徐冷して温度を下げてから剥離す
るとＭＬＡが得られる。 〔例３〕射出成形法 ＭＬＡ原版を金型とし、通常の射出成形をすればＭＬＡ
が得られる。なお、上記例１〜３のいずれの方法を用い
てもよいが、複屈折が特に小さい必要がある場合は、例
１の方法が望ましい。
ら上から圧力をかけ、徐冷して温度を下げてから剥離す
るとＭＬＡが得られる。 〔例３〕射出成形法 ＭＬＡ原版を金型とし、通常の射出成形をすればＭＬＡ
が得られる。なお、上記例１〜３のいずれの方法を用い
てもよいが、複屈折が特に小さい必要がある場合は、例
１の方法が望ましい。
【００１３】本発明においては、 スプレーエッチングにおいて、スプレー圧を大きくす
る程、孔深さ／孔径が大きいものが得られ、レンズの大
きさも同様になる。 スプレーエッチングにおいて、エッチング温度が高い
程、エッチング反応が促進され、孔形状が大きくなり、
レンズも大きくなる。 スプレーエッチングにおいて、エッチング時間が長い
程、エッチング反応が促進され、孔形状が大きくなり、
レンズも大きくなる。 これら、、の制御によりエッチング孔即ちレンズ
の大きさ、形状を制御することができる。後述する実施
例１の条件で、エッチング温度を変えた場合のＭＬＡ原
版の断面形状を図３に、エッチング時間を変えた場合の
ＭＬＡ原版の断面形状を図４にそれぞれ示す。
る程、孔深さ／孔径が大きいものが得られ、レンズの大
きさも同様になる。 スプレーエッチングにおいて、エッチング温度が高い
程、エッチング反応が促進され、孔形状が大きくなり、
レンズも大きくなる。 スプレーエッチングにおいて、エッチング時間が長い
程、エッチング反応が促進され、孔形状が大きくなり、
レンズも大きくなる。 これら、、の制御によりエッチング孔即ちレンズ
の大きさ、形状を制御することができる。後述する実施
例１の条件で、エッチング温度を変えた場合のＭＬＡ原
版の断面形状を図３に、エッチング時間を変えた場合の
ＭＬＡ原版の断面形状を図４にそれぞれ示す。
【００１４】
【作用】本発明はウエットエッチングによりＭＬＡ原版
を作製するようにしたので、大きな原版を容易に作製す
ることができ、スプレーエッチングを使用してスプレー
圧、エッチング温度、エッチング時間を調節することに
よりＭＬＡ形状を容易に制御することが可能である。ま
た、作製したＭＬＡ原版から容易に大量のＭＬＡを作製
することができる。
を作製するようにしたので、大きな原版を容易に作製す
ることができ、スプレーエッチングを使用してスプレー
圧、エッチング温度、エッチング時間を調節することに
よりＭＬＡ形状を容易に制御することが可能である。ま
た、作製したＭＬＡ原版から容易に大量のＭＬＡを作製
することができる。
【００１５】
【実施例】以下に実施例を説明する。 〔実施例１〕３０ｃｍ角の金属板（ＡＫ材０．２ｍｍ
厚）の両面をアルカリで洗浄した。ポリビニルアルコー
ル（重合度５００、けん化度８８％）の２０％水溶液に
重クロム酸アンモニウムを１％加えて金属板上にスピン
コートした。スピンコート後の乾燥膜厚が約５μｍにな
るように３０秒、４００ｒｐｍの条件とした。塗膜を乾
燥後、円形のドットの直径５０μｍのパターン原稿をの
せ、密着プリンタで紫外線を１Ｊ／ｃｍ2 照射した。現
像には４０℃の純水を用い、未露光部を除去し、水洗し
た。その後１５０℃、３０分間ポストベークした。次
に、エッチング液（塩化第２鉄溶液、７０℃、５０ボー
メ）をスプレー圧１．５ｋｇ／ｃｍ2 でスプレーエッチ
ングした。エッチング時間６分後に水洗してエッチング
反応を終わらせた。さらに、５０℃の１０％ＮａＯＨ溶
液に浸漬し、表面をこすりフォトレジストを剥離した。
次に、これをＭＬＡ原版として２Ｐ法によりＭＬＡを作
製した。基板には、厚さ３ｍｍ、２０ｃｍ角のソーダガ
ラスを用い、洗浄後シランカップリング処理をした。フ
ォトポリマーとしては、 アロニクス Ｍ３１５ ３０部 アロニクス Ｍ８０３０ ６８部 イルガキュア １８４ ２部 を用いた。フォトポリマーを滴下してガラス基板を設置
してフォトポリマーを均一に広げた後、紫外線を超高圧
水銀ランプで１００ｍＪ／ｃｍ2 照射した。その後、剥
離したところ、基板上に均一なＭＬＡが形成できた。マ
イクロレンズの大きさは直径１００μｍ、深さ３０μｍ
であった。このＭＬＡを液晶パネルに設置したところ、
ブラックマトリックスにあたる光が減少し、画面の明る
さが１．２倍になった。また、１枚の原版から１０００
枚のＭＬＡが作製できた。
厚）の両面をアルカリで洗浄した。ポリビニルアルコー
ル（重合度５００、けん化度８８％）の２０％水溶液に
重クロム酸アンモニウムを１％加えて金属板上にスピン
コートした。スピンコート後の乾燥膜厚が約５μｍにな
るように３０秒、４００ｒｐｍの条件とした。塗膜を乾
燥後、円形のドットの直径５０μｍのパターン原稿をの
せ、密着プリンタで紫外線を１Ｊ／ｃｍ2 照射した。現
像には４０℃の純水を用い、未露光部を除去し、水洗し
た。その後１５０℃、３０分間ポストベークした。次
に、エッチング液（塩化第２鉄溶液、７０℃、５０ボー
メ）をスプレー圧１．５ｋｇ／ｃｍ2 でスプレーエッチ
ングした。エッチング時間６分後に水洗してエッチング
反応を終わらせた。さらに、５０℃の１０％ＮａＯＨ溶
液に浸漬し、表面をこすりフォトレジストを剥離した。
次に、これをＭＬＡ原版として２Ｐ法によりＭＬＡを作
製した。基板には、厚さ３ｍｍ、２０ｃｍ角のソーダガ
ラスを用い、洗浄後シランカップリング処理をした。フ
ォトポリマーとしては、 アロニクス Ｍ３１５ ３０部 アロニクス Ｍ８０３０ ６８部 イルガキュア １８４ ２部 を用いた。フォトポリマーを滴下してガラス基板を設置
してフォトポリマーを均一に広げた後、紫外線を超高圧
水銀ランプで１００ｍＪ／ｃｍ2 照射した。その後、剥
離したところ、基板上に均一なＭＬＡが形成できた。マ
イクロレンズの大きさは直径１００μｍ、深さ３０μｍ
であった。このＭＬＡを液晶パネルに設置したところ、
ブラックマトリックスにあたる光が減少し、画面の明る
さが１．２倍になった。また、１枚の原版から１０００
枚のＭＬＡが作製できた。
【００１６】〔実施例２〕実施例１と同様でスプレー圧
を２．５ｋｇ／ｃｍ2 にしたところ、エッチング孔の深
さが深くなり、ＭＬＡの開口数も大きくなった。そのた
め画面の明るさも１．４倍になった。
を２．５ｋｇ／ｃｍ2 にしたところ、エッチング孔の深
さが深くなり、ＭＬＡの開口数も大きくなった。そのた
め画面の明るさも１．４倍になった。
【００１７】〔実施例３〕画素の小さい液晶パネル用に
パターンの円形ドットを直径５μｍとしてエッチング時
間を２分にしたところ、直径１０μｍ、深さ３μｍのマ
イクロレンズからなるアレーが形成できた。
パターンの円形ドットを直径５μｍとしてエッチング時
間を２分にしたところ、直径１０μｍ、深さ３μｍのマ
イクロレンズからなるアレーが形成できた。
【００１８】〔実施例４〕金属板をＮｉ板、フォトレジ
ストをＦＰＥＲ Ｎｏ．１００（富士薬品）、現像液を
トリクロロエチレン、剥離液Ｎｏ．８（富士薬品）を用
いたところ、実施例１と同様のＭＬＡ原版が作製でき、
さらにフォトポリマーとの剥離性が良好なことから、１
枚の原版から３０００枚のＭＬＡを作製できた。
ストをＦＰＥＲ Ｎｏ．１００（富士薬品）、現像液を
トリクロロエチレン、剥離液Ｎｏ．８（富士薬品）を用
いたところ、実施例１と同様のＭＬＡ原版が作製でき、
さらにフォトポリマーとの剥離性が良好なことから、１
枚の原版から３０００枚のＭＬＡを作製できた。
【００１９】〔実施例５〕実施例３と同様にし、エッチ
ング温度を８０℃にしたところ、直径１３μｍ、深さ５
μｍのマイクロレンズが得られた。 〔実施例６〕実施例３と同様にし、エッチング時間を１
０分にしたところ、直径１５μｍ、深さ６μｍのマイク
ロレンズが得られた。
ング温度を８０℃にしたところ、直径１３μｍ、深さ５
μｍのマイクロレンズが得られた。 〔実施例６〕実施例３と同様にし、エッチング時間を１
０分にしたところ、直径１５μｍ、深さ６μｍのマイク
ロレンズが得られた。
【００２０】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、金属板を
ウエットエッチングすることにより大面積のＭＬＡ原版
を容易に作製することができ、また、スプレーエッチン
グを使用し、スプレー圧、エッチング温度、エッチング
時間を調節することによりＭＬＡ形状を制御することが
でき、また、作製したＭＬＡ原版から容易に大量のＭＬ
Ａを作製することが可能となる。
ウエットエッチングすることにより大面積のＭＬＡ原版
を容易に作製することができ、また、スプレーエッチン
グを使用し、スプレー圧、エッチング温度、エッチング
時間を調節することによりＭＬＡ形状を制御することが
でき、また、作製したＭＬＡ原版から容易に大量のＭＬ
Ａを作製することが可能となる。
【図１】 ＭＬＡ原版作製工程を説明する図である。
【図２】 ＭＬＡ原版からＭＬＡを作製する工程を説明
する図である。
する図である。
【図３】 エッチング温度を変えたときのエッチング孔
の断面図である。
の断面図である。
【図４】 エッチング時間を変えたときのエッチング孔
の断面図である。
の断面図である。
１…金属板（ＭＬＡ原版）、２…フォトレジスト、３…
エッチング液、５…フォトポリマー、６…基板、７…Ｍ
ＬＡ。
エッチング液、５…フォトポリマー、６…基板、７…Ｍ
ＬＡ。
Claims (6)
- 【請求項１】 金属板に塗布したフォトレジストをパタ
ーニングする段階、パターニングされたフォトレジスト
をエッチング液でエッチングする段階、エッチング後フ
ォトレジストを剥離する段階からなるマイクロレンズア
レー原版作製方法。 - 【請求項２】 請求項１記載の方法において、エッチン
グはスプレーエッチングで行い、スプレー圧を制御して
レンズ形状を制御することを特徴とするマイクロレンズ
アレー原版作製方法。 - 【請求項３】 請求項１記載の方法において、エッチン
グ温度、エッチング時間を制御してレンズの大きさを制
御するようにしたことを特徴とするマイクロレンズアレ
ー原版作製方法。 - 【請求項４】 請求項１乃至３のうち何れか１項記載の
方法により作製したマイクロレンズアレー原版上にフォ
トポリマーを滴下して基板を積層し、紫外線照射または
電子線照射によりフォトポリマーを硬化した後、マイク
ロレンズアレー原版から剥離することを特徴とするマイ
クロレンズアレーの作製方法。 - 【請求項５】 請求項１乃至３のうち何れか１項記載の
方法により作製したマイクロレンズアレー原版上に熱可
塑性樹脂を載せ、加熱かつ加圧した後、徐冷し、熱可塑
性樹脂をマイクロレンズアレー原版から剥離することを
特徴とするマイクロレンズアレーの作製方法。 - 【請求項６】 請求項１乃至３のうち何れか１項記載の
方法により作製したマイクロレンズアレー原版を金型と
し、射出成形することを特徴とするマイクロレンズアレ
ーの作製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10990492A JPH05303009A (ja) | 1992-04-28 | 1992-04-28 | マイクロレンズアレー原版およびマイクロレンズアレー作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10990492A JPH05303009A (ja) | 1992-04-28 | 1992-04-28 | マイクロレンズアレー原版およびマイクロレンズアレー作製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05303009A true JPH05303009A (ja) | 1993-11-16 |
Family
ID=14522109
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10990492A Pending JPH05303009A (ja) | 1992-04-28 | 1992-04-28 | マイクロレンズアレー原版およびマイクロレンズアレー作製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05303009A (ja) |
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1041405A1 (en) * | 1999-03-29 | 2000-10-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Microstructure array, and apparatus and method for forming the microstructure array, and a mold for fabricating a microstructure array |
| EP1041407A1 (en) * | 1999-04-01 | 2000-10-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Microstructure array, and methods of fabricating a microstructure array, a mold for forming a microstructure array, and a microlens array |
| EP1041406A1 (en) * | 1999-04-01 | 2000-10-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Microstructure array, and methods of fabricating a microstructure array, a mold for forming a microstructure array, and a microlens array |
| KR100313902B1 (ko) * | 1999-10-19 | 2001-11-15 | 구자홍 | 마이크로-렌즈 제조방법 |
| US6506623B2 (en) | 2000-09-28 | 2003-01-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Microstructure array, mold for forming a microstructure array, and method of fabricating the same |
| KR20030019654A (ko) * | 2001-08-29 | 2003-03-07 | 일진다이아몬드(주) | 마이크로렌즈 제조용 몰드 및 이를 이용한 마이크로렌즈의제조방법 |
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