JP4529326B2 - 磁気記録媒体用支持体及び磁気記録テープ - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気記録媒体用支持体、特にＤＶＣシステムのＶＴＲ等の画像データが大量にデジタル記録される磁気記録媒体に好適な磁気記録媒体用支持体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
１９９５年に実用化された民生用デジタルビデオテープは、厚さ６〜７μｍのベースフィルム上にＣｏの金属磁性薄膜を真空蒸着により設け、その表面にダイヤモンド状カーボン膜をコーティングしてなり、ＤＶミニカセットを使用したカメラ一体型ビデオの場合には基本仕様（ＳＤ仕様）で１時間の録画時間をもつ。
【０００３】
このデジタルビデオカセット（ＤＶＣ）は、家庭用で世界で初のデジタルビデオカセットであり、ａ．小型ボディながら、膨大な情報が記録できる、ｂ．信号が劣化しないから、何年たっても画質・音質が劣化しない、ｃ．雑音の妨害を受けないから高画質・高音質が楽しめる、ｄ．ダビングを繰り返しても映像が劣化しない、等のメリットを持ち、市場の評価は高い。
【０００４】
また１９９８年にはＳＤ仕様で１時間２０分の録画時間をもつＤＶミニカセットテープ（ＤＶＣ−ＬＰテープ）が実用化され、そのベースフィルムには、厚さ４〜５μｍのポリエチレン−２，６−ナフタレートフィルム（例えば特開平５−１８５５０７号公報）、あるいはデジタルデータストレージ（ＤＤＳ−２，３，４）テープ用ベースとして知られている芳香族ポリアミドフィルム（例えば特開平１０−１６２３４９、特開平１０−１１４０３８号公報等）が用いられていて、このテープも長時間の録画時間を持ち、市場の評価は高い。
【０００５】
録画時間を長時間化するためには、テープ走行速度を２／３に落とすことにより、基本仕様のトラックピッチを１０μｍから６．７μｍと狭くし、長時間モード（ＬＰモード）とすることが実施されており、現在、前記ＤＶミニカセットで９０分、１２０分の録画時間が実現されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、更なる大幅な長時間の録画時間が望まれている。その実現のためには、磁気テープの更なる薄手化、すなわち磁気テープのベースフィルムをさらに薄手化する手法がある。しかし、さらに薄手化すると磁気テープのスティフネスが低下し、磁気テープと磁気ヘッドとの接触（ヘッドタッチ）が不良となり磁気テープの電磁変換特性が大幅に不良となる。
【０００７】
さらに、作成される磁気テープの面積記録密度を向上させること、すなわち磁気テープのトラックピッチを現在の１０μｍから５μｍや４μｍへと狭くし、長時間記録を可能とすることも望まれている。
【０００８】
そこで、本発明では、フィルムの薄手化に伴うスティフネスの低下を補うため、ベースフィルムの補強を図り、かつ、ベースフィルムの寸法安定性の向上を図ることにより、更なる大幅な長時間の録画時間をＤＶミニカセットテープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間１５０分以上）を実現化させ得る磁気記録媒体用支持体を提供し、さらにＤＶＣ磁気記録方式に好適な磁気テープを提供する事を目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
かかる目的を達成するために、本発明は以下の構成からなる。
【００１０】
すなわち、本発明の磁気記録媒体用支持体は、ポリエステルと耐熱性高分子とを構成材料としてなるポリエステルフィルムの片側の表面上に、金属、半金属及び合金並びにこれらの酸化物及び複合物から選ばれた材料からなる薄膜が形成され、他方の片側表面上に、粒径が５〜３０ｎｍの微細粒子と有機化合物とを含有する被膜が形成されてなる磁気記録媒体用支持体であって、該被膜の表面に前記微細粒子による微細表面突起が存在し、該微細表面突起の個数が１００万〜１億個／ｍｍ2であり、高さ５０〜１２０ｎｍの表面突起の個数が１５００個／ｍｍ2以下、高さ１２０ｎｍ以上の表面突起個数が９０個／１００ｃｍ2以下であり、該被膜の表面のＲａ値が1〜５ｎｍであり、かつ、ポリエステルフィルムのガラス転移温度が３９５Ｋ以上であり、ポリエステルフィルムのガラス転移温度が、構成材料のポリエステルの単独体フィルムのガラス転移温度より１０Ｋ以上高いことを特徴とする。
【００１１】
そのポリエステルがポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレン−２、６−ナフタレートであることが好ましい。また、耐熱性高分子が、４５０Ｋ以上のガラス転移温度を有する高分子であることが好ましく、特に、ポリイミドまたはポリエーテルイミドであることが好ましい。耐熱性高分子のポリエステルフィルム中における含有量が５〜４０重量％であることが好ましい。
【００１２】
また、トラックピッチが７μｍ以下のデジタル記録方式の磁気テープ用に用いられる磁気記録媒体用支持体であることが好ましい。本発明の磁気記録テープは、それら磁気記録媒体用支持体の被膜側の表面上に強磁性金属薄膜層が設けられてなることを特徴とする。
【００１３】
【発明の実施の形態】
本発明におけるポリエステルフィルムはポリエステルと耐熱性高分子を構成材料としてなるフィルムである。
【００１４】
ポリエステルとしては分子配向により高強度フィルムとなり得るポリエステルであればよいが、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレートが好ましい。即ち、その構成成分の８０％以上がエチレンテレフタレート又はエチレンナフタレートであるポリエチレンテレフタレート又はポリエチレン−２，６−ナフタレートが好ましい。エチレンテレフタレート、エチレンナフタレート以外のポリエステル共重合体成分としては、例えばジエチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、ポリエチレングリコール、ｐ−キシリレングリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノールなどのジオール成分、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、イソフタル酸、５−ナトリウムスルホイソフタル酸などのジカルボン酸成分、トリメリット酸、ピロメリット酸などの多官能ジカルボン酸成分、ｐ−オキシエトキシ安息香酸などが挙げられる。さらに、上記のポリエステルは、他にポリエステルと非反応性のスルホン酸のアルカリ金属塩誘導体、該ポリエステルに実質的に不溶なポリアルキレングリコールなどの少なくとも一つを５重量％を越えない程度に混合してもよい。
【００１５】
耐熱性高分子としては、ポリエチレンテレフタレートと相溶し得る耐熱性ポリマーであれば特に限定されないが、ガラス転移温度（Ｔｇ）が４５０Ｋ以上のものが好ましい。ポリスルホン（Ｔｇ ４６３Ｋ付近）、ポリイミド（Ｔｇ ６８３Ｋ付近）、ポリエーテルイミド（Ｔｇ ４９０Ｋ付近）等が使用できる。ポリイミド、ポリエーテルイミド、特に２，２−ビス［４−（２，３−ジカルボキシフェノキシ）フェニル］プロパン二無水物とｍ−フェニレンジアミンとの縮合物がポリエステルとの相溶性が良好で好ましい。耐熱性高分子を添加することによりポリエステルの熱収縮率が低下し，寸法安定性が向上する。この効果はベースフィルムを高強力化した場合にも発現し、薄物化した場合のベースフィルムの高強度化に伴う熱収縮率の悪化、寸法安定性の悪化を防止することができる。
【００１６】
このポリエステルフィルムの片側の表面には、金属、半金属及び合金並びにこれらの酸化物及び複合物から選ばれた材料からなる薄膜が形成されている。薄膜の材料としては、具体的にはＡｌ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ａｇ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｍｎなどの金属、Ｓｉ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｓｃ、Ｓｂなどの半金属があげられる。これらの金属及び半金属の合金、それら複合物としては、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ａｕ、Ｃｏ−Ｙ、Ｃｏ−Ｌａ、Ｃｏ−Ｐｒ、Ｃｏ−Ｇｄ、Ｃｏ−Ｓｍ、Ｃｏ−Ｐｔ、Ｎｉ−Ｃｕ、Ｍｎ−Ｂｉ、Ｍｎ−Ｓｂ、Ｍｎ−Ａｌ、Ｆｅ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｎｉ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ、Ｎｉ−Ｃｏ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｏ、Ｓｉ−Ｃ、Ｓｉ−Ｎ、Ｃｕ−Ａｌ−Ｏ、Ｓｉ−Ｎ−Ｏ、Ｓｉ−Ｃ−Ｏなどが挙げられる。酸化物としては酸化アルミニウム、アルミナ、酸化ケイ素、二酸化ケイ素等が挙げられる。
【００１７】
このようにポリエステルフィルムの片側の表面に薄膜が形成されていることにより、支持体のヤング率が向上する。薄膜の厚さは一般的には、２０〜５００ｎｍの厚さが好ましく、５０〜３００ｎｍの範囲がより有効である。２０ｎｍを下回ると強化の目的を達成しがたく、５００ｎｍを越えると薄膜がポリエステルフィルムより剥離しがちとなるので好ましくない。薄膜を形成していない厚さ２〜５μｍのポリエステルフィルムの支持体から作成されたＤＶＣテープは、繰返し再生することによって伸びてしまい再生時のＤＯが増加するし、さらにＤＶＣテープのエッジも磁気ヘッドにより変形し、わかめ状になり、再生時のＤＯが増加する。
【００１８】
本発明においては、ポリエステルフィルムの、薄膜形成側とは反対側の片側表面に、微細粒子と有機化合物とを含有する被膜が形成されている。この被膜の表面（以下、表面Ａという）には前記微細粒子による微細表面突起が存在し、該微細表面突起の個数が１００万〜１億個／ｍｍ2、該微細粒子の粒径が５〜３０ｎｍである。この微細表面突起により、表面Ａ上に真空蒸着により形成される強磁性金属薄膜層の記録・再生時のビデオヘッドによる磨耗が少なくなる。微細粒子の粒径が５ｎｍより小さいと、あるいは微細表面突起の個数が１００万個／ｍｍ2より少ないと、磁気テープの磁性層表面に存在する微細表面突起個数が１００万個／ｍｍ2を下回り、強磁性金属薄膜層が記録・再生時に、ビデオヘッドにより磨耗してしまい適していない。微細表面突起の粒径が３０ｎｍより大きいと、磁気テープの磁性層表面上に発現される微細表面突起の高さが高くなり磁気テープの出力特性が低下するので適していない。微細表面突起個数が１億個／ｍｍ2より多いと、磁気テープの磁性層表面に存在する微細表面突起個数が１億個／ｍｍ2を上回り強磁性金属薄膜層が粗面すぎて、磁気テープの出力特性が低下するので適していない。
【００１９】
微細表面突起は、微細粒子を有機化合物に含有させてなる被膜層をポリエステルフィルム表面に形成させることにより設けられる。微細粒子の平均粒径は５〜３０ｎｍ、より好ましくは８〜２５ｎｍであり、その粒子種としては、シリカ、炭酸カルシウム、アルミナのような無機化合物、ポリアクリル酸球、ポリスチレン球等の有機化合物、シリカ、アルミナ、炭酸カルシウム等の無機粒子を核として、有機高分子で被覆した粒子等が使用できるが、これらに限定されない。被膜層に使用される有機化合物としてはポリビニルアルコール、トラガントゴム、カゼイン、ゼラチン、セルロース誘導体、水溶性ポリエステル、ポリウレタン、アクリル樹脂、アクリル−ポリエステル樹脂等の有極性高分子これらのブレンド体が使用できるが、これらに限定されない。
【００２０】
本発明のポリエステルフィルムの片側表面Ａに存在する高さ５０〜１２０ｎｍの表面突起の個数は１５００個／ｍｍ2以下である。上記高さ範囲の表面突起が上記個数より多く存在すると、磁気テープの磁性層表面に存在する高さ５０〜１２０ｎｍの表面突起個数が１５００個／ｍｍ2を超え、エラーレートが増大するので適していない。
【００２１】
本発明のポリエステルフィルムの片側表面Ａに存在する、高さ１２０ｎｍ以上の表面突起個数は９０個／１００ｃｍ2以下である。上記高さの表面突起が、上記個数より多く存在すると、磁気テープの磁性層表面に存在する高さ１２０ｎｍ以上の表面突起個数が９０個／１００ｃｍ2を超え、ドロップアウトが増大するので適していない。
【００２２】
本発明のポリエステルフィルムの片側表面ＡのＲａ値は表面Ａ上に真空蒸着により形成される強磁性金属薄膜膜の記録・再生時の磁気ヘッドによる磨耗を極力少なくし、および磁気テープの出力特性を良好に保つために１〜５ｎｍ、好ましくは２〜４ｎｍである。Ｒａ値が１ｎｍ未満であると、表面Ａ上に真空蒸着により形成される強磁性金属薄膜層のＲａが１ｎｍ未満となり平滑すぎて、ＤＶＣビデオカメラ内での録画、再生時に磁気ヘッドにより磁気テープの強磁性金属薄膜が磨耗してしまい好ましくない。Ｒａ値が５ｎｍを超えると、該強磁性金属薄膜層のＲａが５ｎｍを超え、粗面すぎて、磁気テープの出力特性が低下し好ましくない。
【００２３】
本発明のポリエステルフィルムのガラス転移温度は、構成材料のポリエステルの単独からなるポリエステルフィルムのガラス転移温度より１０Ｋ以上高いのが好ましく、特に、１５〜４０Ｋ高いのが好ましい。このガラス転移温度の高い水準が１０Ｋ未満であると、ポリエステルフィルムの寸法安定性、熱収縮率は構成材料のポリエステル単独体からなるフィルムと大差ないので、磁気テープのトラックピッチを現状の１０μｍから５、４μｍへと減少させたとき、磁気テープの保存時の寸法変化、収縮により記録時のトラックと再生時のトラックの位置が一致せず再生出力が低下し、ＤＯが増加してしまう。
【００２４】
フィルム中の耐熱性高分子の含有量は、５〜４０重量％であることが好ましく、より好ましくは７〜３５重量％、さらに好ましくは１０〜３０重量％である。耐熱性高分子の含有量が５重量％未満であると、ポリエステルフィルムのガラス転移温度を十分に上昇させることができないので好ましくない。耐熱性高分子の含有量が４０重量を超えるとポリエステルフィルムの機械的強度の低下が目立つようになるので、ＤＶＣビデオカメラ内でのＤＶＣテープ走行性の不良、エッジ変形が起きやすくなり好ましくない。
【００２５】
本発明の磁気記録媒体用支持体において、被覆層形成側とは反対側のポリエステルフィルム表面（Ｂ面側という）には、前記したとおり薄膜が形成される。このポリエステルフィルムＢ面側は、シリコーン等の潤滑剤が含まれたより粗い被覆層により、あるいは、より大きな微細粒子を含有するポリエステルフィルム層（積層されたフィルム層）により構成されることが好ましいが、特にこれらに限定されるものではない。なおここで用いられる微細粒子としては炭酸カルシウム、シリカ、アルミナ、ポリスチレン等が例示される。この微細粒子としては、平均粒子径が好ましくは１００〜１０００ｎｍ、より好ましくは１５０〜９００ｎｍのものが用いられ、添加量としては好ましくは０．０５〜１．０重量％、より好ましくは０．０８〜０．８重量％である。
【００２６】
ポリエステルフィルムＢ面側に薄膜が形成されてなる支持体において、薄膜の表面のＲａ値は、ポリエステルフィルムの片側表面Ａ上に強磁性薄膜を設けた後にロール状の巻取りにより薄膜表面の粗さが転写し強磁性薄膜層にうねり状の変形が起きるのを最小限にするために、５〜３５ｎｍ、より好ましくは８〜２５ｎｍが望ましい。
【００２７】
本発明の磁気記録テープは、本発明の支持体の表面Ａ上に真空蒸着により形成される強磁性金属薄膜層を設けてなるものであり、使用する金属薄膜は公知のものを使用でき、特に限定されないが、鉄、コバルト、ニッケル、またはそれらの合金の強磁性体からなるものが好ましい。金属薄膜層の厚さは２０〜３００ｎｍであればよい。この金属薄膜層上に１０ｎｍ程度の厚みのダイヤモンド状カーボン膜をコーティングし、更にその上に潤滑剤処理することが好ましい。
【００２８】
本発明の磁気記録テープでは、薄膜表面上に、固体微粒子および結合剤からなり、必要に応じて各種添加剤を加えた溶液を塗布することにより形成されるバックコート層が設けられていることが好ましく、固体微粒子、結合剤、添加剤は公知のものを使用でき、特に限定されない。バックコート層の厚さは０．３〜１．５μｍ程度であればよい。
【００２９】
次に本発明の磁気記録媒体用支持体及び磁気記録テープの製法を説明する。
【００３０】
本発明におけるポリエステルフィルムは、例えば、ポリエステルを溶融、成形、二軸延伸、熱固定、熱固定後の巻取りからなる通常のプラスチックフィルム製造工程において、溶融に供するポリエステルとして、耐熱性高分子をブレンド率５〜４０重量％でブレンドさせたポリエステル原料を用い、縦、横方向に、１１０〜１８０℃で２．９〜５．７倍、３．７〜７．２倍で延伸し、１９０〜２２０℃の温度で熱固定を行うことにより製造することができる。
【００３１】
具体的には、共押出し技術の使用により含有粒子を可能な限り除いた層Ａ用の原料と積極的に微粒子を含有させた層Ｂ用の原料とを積層させてＡ／Ｂ積層フィルムにして押出し、一方向に延伸した後、平滑なポリエステルフィルムのＡ面側に、平均粒径が５〜３０ｎｍ、好ましくは８〜２０ｎｍの微細粒子を０．５〜１２．０重量％、好ましくは０．６〜１０．０重量％含む有機化合物からなる塗液Ａを塗布して表面Ａ側に被覆層を形成させる。
【００３２】
Ａ層は、磁気テープの磁気ヘッドによる耐久性を更に増すために、その内部に微細粒子を含ませた層でもよい。例えば、Ａ層を形成するポリエステル層内に平均粒径が３０〜１５０ｎｍ、好ましくは４０〜１００ｎｍの微細粒子を０．０１〜１．０重量％、好ましくは０．０２〜０．８重量％含ませ、その表面上に表面突起をもたせてもよい。
【００３３】
Ｂ層を積層させない単層フィルムの場合は、一方向に延伸した後の平滑なポリエステルフィルムのＢ面側に、即ち、塗液Ａの塗布面とは反対側の面に、滑剤を含む塗液を塗布する易滑処理をしてもよい。
【００３４】
一方向に延伸後に、塗液Ａを塗布した後、他方向に延伸し、さらに、熱固定して巻取ることによって、被膜が形成されたポリエステルフィルムが得られる。得られたポリエステルフィルムにおいて、被膜の表面（表面Ａ）のＲａ値は、形成させた被覆層内の微粒子、成分、Ａ層内部の微細粒子の調整により、所望水準に調整することができる。
【００３５】
本発明の支持体において、ポリエステルフィルムのガラス転移温度を、構成材料のポリエステル単独体からなるポリエステルフィルムのガラス転移温度より１０Ｋ以上高くするためには、ガラス転移温度が４５０Ｋ以上の耐熱性高分子を選び、この耐熱性高分子をポリエステルフィルム中に５〜４０重量％の含有割合となるよう、構成材料のポリエステルとブレンドすればよい。耐熱性高分子のガラス転移温度が低い場合は含有量を増し、高い場合は含有量を減少させて調整し、前記二軸延伸、熱処理を実施することにより達成できる。
【００３６】
ガラス転移温度が４５０Ｋ以上の耐熱性高分子としては、ポリスルホン（Ｔｇ４６３Ｋ付近）、ポリイミド（Ｔｇ ６８３Ｋ付近）、ポリエーテルイミド（Ｔｇ ４９０Ｋ付近）等が使用でき、なかでも、ポリイミド、ポリエーテルイミドが好ましく、特に２，２−ビス［４−（２，３−ジカルボキシフェノキシ）フェニル］プロパン二無水物とｍ−フェニレンジアミンとの縮合物が好ましい。
【００３７】
被膜が形成されたポリエステルフィルムには、そのＢ面上に、Ａｌ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ａｇ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｍｎなどの金属、Ｓｉ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｓｃ、Ｓｂなどの半金属、これらの金属及び半金属の合金、それら複合物であるＦｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ａｕ、Ｃｏ−Ｙ、Ｃｏ−Ｌａ、Ｃｏ−Ｐｒ、Ｃｏ−Ｇｄ、Ｃｏ−Ｓｍ、Ｃｏ−Ｐｔ、Ｎｉ−Ｃｕ、Ｍｎ−Ｂｉ、Ｍｎ−Ｓｂ、Ｍｎ−Ａｌ、Ｆｅ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｎｉ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ、Ｎｉ−Ｃｏ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｏ、Ｓｉ−Ｃ、Ｓｉ−Ｎ、Ｃｕ−Ａｌ−Ｏ、Ｓｉ−Ｎ−Ｏ、Ｓｉ−Ｃ−Ｏ等、またこれらの金属、半金属および合金の酸化物、複合物などを用いて、薄膜が形成され、本発明の支持体が作成される。その酸化物としては酸化アルミニウム、アルミナ、酸化ケイ素、二酸化ケイ素等が挙げられる。薄膜の形成法は特に限定しないが真空蒸着法が一般的である。薄膜の厚さは、一般的には２０〜５００ｎｍの厚さが好ましく、５０〜３００ｎｍの範囲がより有効である。
【００３８】
本発明の磁気記録媒体用支持体は、磁気記録媒体のベース材として使用される。特に、厚さ５μｍ以下の磁気記録媒体用支持体として、トラック幅を現行のトラック幅より狭めたＤＶＣ−スーパーロングプレイモード（ＤＶＣ−ＳＬＰモード）で使用する用途に、また大容量のデータテープ用途に使用すると優れた結果を得ることができ好適である。
【００３９】
本発明の磁気テープは、本発明の支持体の片側表面ＡにＣｏ等の強磁性金属薄膜を真空蒸着により膜厚み２０〜３００ｎｍと形成し、この金属薄膜上に１０ｎｍ程度の厚みのダイヤモンド状カーボン膜をコーティングし、更にその上に潤滑剤処理することにより、さらに、薄膜表面Ｂに固体微粒子および結合剤からなり、必要に応じて各種添加剤を加えた溶液を塗布してバックコート層を設けることにより作成される。
【００４０】
【実施例】
本実施例で用いた測定法を下記に示す。
（１）微細粒子の粒径
電子顕微鏡（電顕）試験台上に微細粒子粉体を、この粒子ができるだけ重ならないように散在せしめ、電顕（好ましくは透過型電子顕微鏡）により倍率１００万倍程度で観測し、少なくとも１００個の粒子について面積円相当径を求め、この数平均値をもって粒径とした。
なお、この粒径を支持体から求める場合には下記のａ）手法等により求められる。
ａ）支持体の被膜表面Ａ上に金スパッター装置により金薄膜蒸着層を２０〜３０ｎｍ（χｎｍ）で設け、電子顕微鏡（好ましくは走査型電子顕微鏡）により倍率１０万倍程度で観測し、少なくとも１００個の粒子について面積円相当径を求め、この数平均値より２χｎｍを減じた値をもって粒径とする。
（２）支持体の表面Ａ上の微細表面突起の個数
支持体の表面Ａに形成された微細突起の個数は、走査型電子顕微鏡により３万倍程度の拡大倍率で表面Ａを１０視野以上観察し、突起状に見える突起が１ｍｍ2あたり何個あるかを求めることにより測定した。
【００４１】
（３）高さ５０〜１２０ｎｍの表面突起個数
支持体の表面に対し５°の角度で銀を蒸着（シャドーイング）し、その後スパッタリングにより白金をコートする。シャドーイングした支持体表面を真上から走査型電子顕微鏡により５千倍程度の拡大倍率で１０視野程度観察し、表面上に影をもつ表面突起（ポリエステルポリマーの中に存在する微粒子により形成されたもの）を探し、表面突起の高さをｈ、影の長さＨとし、tan５°＝ｈ／Ｈの関係を用いて、影の長さより高さを推定し、高さ５０〜１２０ｎｍの表面突起の個数を求めた。１ｍｍ2あたり何個あるかを換算し、高さ５０〜１２０ｎｍの表面突起個数とした。
（４）高さ１２０ｎｍ以上の表面突起個数
光学顕微鏡（観測倍率：１００倍）を用いて支持体の表面Ａを観察し、突起状に見えるものをマーキングする。マーキングされたそれら突起の高さをキーエンス社製のレーザー顕微鏡（表面形状測定顕微鏡 ＶＦ−７５００）を用いて１２０ｎｍ以上であるか否かを確認する。観測した面積より１００ｃｍ2あたりの面積に換算し、高さ１２０ｎｍ以上の表面突起個数とした。
【００４２】
（５）Ｒａ値
磁気記録媒体用支持体の表面の表面粗さＲａ値は、原子間力顕微鏡（走査型プローブ顕微鏡）を用いて測定した。セイコーインスツルメント社製の走査型プローブ顕微鏡（ＳＰＩ３８００シリーズ）を用い、ダイナミックフォースモードでフィルムの表面を３０μｍ角の範囲で原子間力顕微鏡計測走査を行い、得られる表面のプロファイル曲線よりＪＩＳ・Ｂ０６０１・Ｒａに相当する算術平均粗さより求めた。面内方向の拡大倍率は１万〜５万倍、高さ方向の拡大倍率は１００万倍程度とした。
（６）ガラス転移温度（Ｔｇ）
ガラス転移温度は、示差走査熱分析における昇温時の熱流束ギャップからＪＩＳ Ｋ７１２１に従って求める。示差走査熱分析による方法のみで判定しにくい場合には、動的粘弾性測定あるいは顕微鏡観察などの形態学的方法を併用しても良い。また、示差走査熱分析によってガラス転移温度を判定する場合は、温度変調法や高感度法を使用することも有効である。なお、ガラス転移温度は下記式により算出した。
ガラス転移温度＝（補外ガラス転移開始温度＋補外ガラス転移終了温度）／２
【００４３】
（７）磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ）の特性評価（ＤＯ個数）
市販のカメラ一体型デジタルビデオテープレコーダー（ＤＶＣビデオカメラ）の走行速度を１／２．５に落として、通常モード（ＳＰモード）の２．５倍の録画時間を持つモード（スーパーＬＰ、ＳＬＰモード）とし、ＤＶＣテープ上に記録されるトラックピッチを２．５分の１（１／２．５）化した。
ＳＬＰモードのＤＶＣビデオカメラを用いて静かな室内で録画し、１分間の再生をして画面にあらわれたブロック状のモザイク個数（ドロップアウト（ＤＯ）個数）を数えることによって、作成した磁気テープの特性を評価した。
ＤＯ個数は常温（２５℃）でテープ製造後の初期特性を最初に調べた。次にテープの走行を１００回くり返した後のＤＯ個数を測定し磁気テープの走行耐久性を評価した。またそのテープを高温（６０℃）で３０日間放置した後のＤＯ個数を測定し、磁気テープの画像保存性能を評価した。
【００４４】
次に実施例に基づき、本発明を説明する。
【００４５】
実施例１
実質的に不活性粒子を含有しないポリエチレンテレフタレートに、２，２−ビス［４−（２，３−ジカルボキシフェノキシ）フェニル］プロパン二無水物とｍ−フェニレンジアミンとの縮合物からなるポリエーテルイミドを２５重量％含有させた原料Ａと、実質的に不活性粒子を含有しないポリエチレンテレフタレートに前記ポリエーテルイミドを２５重量％含有させ、さらに、平均粒径３００ｎｍの架橋性ポリスチレン球を０．３０重量％含有させた原料Ｂとを厚み比５：１の割合で共押出しし、ロール延伸法で１２８℃で３．４倍に縦延伸した。
【００４６】
縦延伸の後の工程で、原料Ａの層の表面上に下記水溶液を、固形分濃度２８ｍｇ／ｍ2 となるように塗布した。
Ａ面外側：メチルセルロース ０．１０重量％
水溶性ポリエステル（テレフタル酸７０モル％、５−ナトリウムスルホイソフタル酸３０モル％の酸成分とエチレングリコールとの１：１の共重合体） ０．３５重量％
アミノエチルシランカップリング剤 ０．０２重量％
平均粒径８ｎｍの極微細シリカ ０．０６重量％
その後、ステンターにて横方向に１２９℃で３．７倍に延伸し、２１５℃で熱処理し、中間スプールに巻き、スリッターで小幅にスリットし、円筒コアー上にロール状に巻取り、厚さ４．４μｍのポリエステルフィルムを得た。得られたポリエステルフィルムのＢ面側（原料Ｂの層側）の表面Ｂ上にアルミニウムの真空蒸着を行い、蒸着膜厚１５０ｎｍのアルミニウム薄膜を形成し、厚さ４．５５μｍの支持体を作成した。
【００４７】
次に、この支持体の表面Ａ（被膜表面）上に真空蒸着により厚さ１８０ｎｍのコバルト−酸素薄膜を形成した。次にコバルト−酸素薄膜層上に、スパッタリング法によりダイヤモンド状カーボン膜を５ｎｍの厚さで形成させ、フッ素含有脂肪酸エステル系潤滑剤を３ｎｍの厚さで塗布した。続いて、反対側の表面に、カーボンブラック、ポリウレタン、シリコーンからなるバックコート層を５００ｎｍの厚さで設け、スリッターにより幅６．３５ｍｍにスリットしリールに巻き取りミニＤＶＣ用カセットに組み込み磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間２００分）を作成した。
【００４８】
得られた支持体、磁気テープの特性を表１に示す。なお支持体のＢ面のＲａ値は１８ｎｍであった。
【００４９】
実施例２
実施例１の支持体製造において、アルミニウムの真空蒸着を、微量の酸素を注入しながら行い、酸化アルミニウム薄膜を１５０ｎｍの膜厚で形成し、厚さ４．５５μｍの支持体を作成した。得られた支持体を用いて、その他は実施例１と同様にして磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間２００分）を作成した。得られた支持体、磁気テープの特性を表１に示す。なお支持体のＢ面のＲａ値は１９ｎｍであった。
【００５０】
実施例３
実施例１の支持体製造において、アルミニウムの真空蒸着を、酸化ケイ素の真空蒸着に変え、酸化ケイ素薄膜を１００ｎｍの膜厚で形成し、厚さ４．５０μｍの支持体を作成した。得られた支持体を用いて、その他は実施例１と同様にして磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間２００分）を作成した。得られた支持体、磁気テープの特性を表１に示す。なお支持体のＢ面のＲａ値は１９ｎｍであった。
【００５１】
実施例４
実施例１のポリエステルフィルム製造において、原料Ａ、Ｂ内のポリエーテルイミド重量分率をどちらも１５重量％としたこと以外は実施例１と同様にして厚さ４．４μｍのポリエステルフィルム、厚さ４．５５μｍの支持体、磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間２００分）を作成した。得られた支持体及び磁気テープの特性を表１に示す。なお支持体のＢ面のＲａ値は１８ｎｍであった。
【００５２】
実施例５
実施例１のポリエステルフィルム製造において、原料Ａ内に粒径６０ｎｍのシリカを０．０６重量％添加した事以外は実施例１と同様にして、厚さ４．５５μｍの支持体を作成した。得られた支持体を用いて、その他は実施例１と同様にして磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間２００分）を作成した。得られた支持体、磁気テープの特性を表１に示す。なお支持体のＢ面のＲａ値は１９ｎｍであった。
【００５３】
実施例６
実施例１の支持体製造において、アルミニウムの真空蒸着薄膜厚さを１０ｎｍと変更し、厚さ４．４１μｍの支持体を作成した。得られた支持体を用いて、その他は実施例１と同様にして磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間２００分）を作成した。得られた支持体、磁気テープの特性を表１に示す。なお支持体のＢ面のＲａ値は１９ｎｍであった。
【００５４】
実施例７
実施例１のポリエステルフィルム製造において、ポリエチレンテレフタレートをポリエチレン−２，６−ナフタレートと変更し、ポリエーテルイミド２５重量％含有を、ポリイミド１０重量％含有と変更し、原料Ｂ内の架橋性ポリエチレン球の含有量を１．１重量％と変更し、縦延伸温度、倍率を１３５℃で５．５倍と変更し、塗布時の固形分濃度を５６ｍｇ／ｍ2と変更し、横延伸温度、倍率を１３５℃、７．０倍と変更し、２００℃で熱処理と変更し、その他は実施例１と同様にして、厚さ３．８μｍのポリエステルフィルムを得た。得られたポリエステルフィルムを用いて実施例３と同様にして酸化ケイ素薄膜を形成し、厚さ３．９μｍの支持体を作成した。得られた支持体を用いて、その他は実施例１と同様にして磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間２５０分）を作成した。
【００５５】
得られた支持体、磁気テープの特性を表１に示す。なお支持体のＢ面のＲａ値は１９ｎｍであった。
【００５６】
比較例１
実施例１のポリエステルフィルム製造において、塗布水溶液中の極微細シリカの粒径を４ｎｍに変え、添加量を０．０５重量％と変更した。その他は実施例１と同様にして、厚さ４．４μｍのポリエステルフィルムを作成した。得られたポリエステルフィルムを用いて、実施例１と同様にして厚さ４．５５μｍの支持体を作成した。得られた支持体を用いて、その他は実施例１と同様にして磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間２００分）を作成した。得られた支持体、磁気テープの特性を表１に示す。なお支持体のＢ面のＲａ値は２０ｎｍであった。
【００５７】
比較例２
実施例１のポリエステルフィルム製造において、塗布水溶液中の極微細シリカの粒径を４０ｎｍと変更した。その他は実施例１と同様にして、厚さ４．４μｍのポリエステルフィルムを作成した。得られたポリエステルフィルムを用いて、実施例１と同様にして厚さ４．５５μｍの支持体を作成した。得られた支持体を用いて、その他は実施例１と同様にして磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間２００分）を作成した。得られた支持体、磁気テープの特性を表１に示す。なお支持体のＢ面のＲａ値は２０ｎｍであった。
【００５８】
比較例３
実施例１のポリエステルフィルム製造において、塗布水溶液中の極微細シリカの濃度を０．０１重量％と変更した。その他は実施例１と同様にして、厚さ４．４μｍのポリエステルフィルムを作成した。得られたポリエステルフィルムを用いて、実施例１と同様にして厚さ４．５５μｍの支持体を作成した。得られた支持体を用いて、その他は実施例１と同様にして磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間２００分）を作成した。得られた支持体、磁気テープの特性を表１に示す。なお支持体のＢ面のＲａ値は１９ｎｍであった。
【００５９】
比較例４
実施例１のポリエステルフィルム製造において、塗布水溶液中の極微細シリカの濃度を０．２４重量％と変更した。その他は実施例１と同様にして、厚さ４．４μｍのポリエステルフィルムを作成した。得られたポリエステルフィルムを用いて、実施例１と同様にして厚さ４．５５μｍの支持体を作成した。得られた支持体を用いて、その他は実施例１と同様にして磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間２００分）を作成した。得られた支持体、磁気テープの特性を表１に示す。なお支持体のＢ面のＲａ値は２０ｎｍであった。
【００６０】
比較例５
実施例１のポリエステルフィルム製造において、ポリエーテルイミドをポリエーテルエーテルケトンに変えた。その他は実施例１と同様にして、厚さ４．４μｍのポリエステルフィルムを作成した。得られたポリエステルフィルムを用いて、実施例１と同様にして厚さ４．５５μｍの支持体を作成した。得られた支持体を用いて、その他は実施例１と同様にして磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間２００分）を作成した。得られた支持体、磁気テープの特性を表１に示す。なおポリエステルフィルムのＢ面のＲａ値は１９ｎｍであった。
【００６１】
比較例６
実施例１のポリエステルフィルム製造において、ポリエーテルイミドをポリエーテルスルホンに変えた。その他は実施例１と同様にして、厚さ４．４μｍのポリエステルフィルムを作成した。得られたポリエステルフィルムを用いて、実施例１と同様にして厚さ４．５５μｍの支持体を作成した。得られた支持体を用いて、その他は実施例１と同様にして磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間２００分）を作成した。得られた支持体、磁気テープの特性を表１に示す。なおポリエステルフィルムのＢ面のＲａ値は１８ｎｍであった。
【００６２】
比較例７
実施例１のポリエステルフィルム製造において、水溶液中の極微細シリカの粒径を５ｎｍに変え、濃度を０．０５重量％と変更した。さらに、水溶液中のメチルセルロースの濃度を０．０６重量％と変更した。その他は実施例１と同様にして、厚さ４．４μｍのポリエステルフィルムを作成した。得られたポリエステルフィルムを用いて、実施例１と同様にして厚さ４．５５μｍの支持体を作成した。得られた支持体を用いて、その他は実施例１と同様にして磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間２００分）を作成した。得られた支持体、磁気テープの特性を表１に示す。なおポリエステルフィルムのＢ面のＲａ値は１９ｎｍであった。
【００６３】
比較例８
実施例１のポリエステルフィルム製造において、水溶液中の極微細シリカの粒径を２２ｎｍと変更した。さらに、水溶液中のメチルセルロースの濃度を０．２５重量％と変更した。その他は実施例１と同様にして、厚さ４．４μｍのポリエステルフィルムを作成した。得られたポリエステルフィルムを用いて、実施例１と同様にして厚さ４．５５μｍの支持体を作成した。得られた支持体を用いて、その他は実施例１と同様にして磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間２００分）を作成した。得られた支持体、磁気テープの特性を表１に示す。なおポリエステルフィルムのＢ面のＲａ値は１９ｎｍであった。
比較例９
実施例１のポリエステルフィルム製造において、ポリエーテルイミドの含有量を８重量％と変更した以外は実施例１と同様にして、厚さ４．４μｍのポリエステルフィルムを作成した。得られたポリエステルフィルムを用いて、実施例１と同様にして厚さ４．５５μｍの支持体を作成した。得られた支持体を用いて、その他は実施例１と同様にして磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間２００分）を作成した。得られた支持体、磁気テープの特性を表１に示す。なおポリエステルフィルムのＢ面のＲａ値は１９ｎｍであった。
【００６４】
比較例１０
実施例７のポリエステルフィルム製造において、ポリイミドの含有量を２重量％と変更した以外は実施例１と同様にして、厚さ４．４μｍのポリエステルフィルムを作成した。得られたポリエステルフィルムを用いて、実施例１と同様にして厚さ４．５５μｍの支持体を作成した。得られた支持体を用いて、その他は実施例１と同様にして磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間２５０分）を作成した。得られた支持体、磁気テープの特性を表１に示す。なおポリエステルフィルムのＢ面のＲａ値は２０ｎｍであった。
比較例１１
実施例１のポリエステルフィルム製造において、ポリエーテルイミドを含有させなかった以外は実施例１と同様にして、厚さ４．４μｍのポリエステルフィルムを作成した。得られたポリエステルフィルムを用いて、実施例１と同様にして厚さ４．５５μｍの支持体を作成した。得られた支持体を用いて、その他は実施例１と同様にして磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間２００分）を作成した。得られた支持体、磁気テープの特性を表１に示す。なおポリエステルフィルムのＢ面のＲａ値は１９ｎｍであった。
【００６５】
比較例１２
実施例７のポリエステルフィルム製造において、ポリイミドを含有させなかった以外は実施例１と同様にして、厚さ４．４μｍのポリエステルフィルムを作成した。得られたポリエステルフィルムを用いて、実施例１と同様にして厚さ４．５５μｍの支持体を作成した。得られた支持体を用いて、その他は実施例１と同様にして磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間２５０分）を作成した。得られた支持体、磁気テープの特性を表１に示す。なおポリエステルフィルムのＢ面のＲａ値は１９ｎｍであった。
比較例１３
実施例１の支持体製造において、アルミニウムの真空蒸着を行わなかった。即ち、実施例１と同様にして製造した厚さ４．４μｍのポリエステルフィルムをそのまま支持体として用い、磁気テープを作成した。得られた支持体及び磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間２００分）の特性を表１に示す。なおポリエステルフィルムのＢ面のＲａ値は１８ｎｍであった。
【００６６】
比較例１４
実施例７の支持体製造において、酸化ケイ素の真空蒸着を行わなかった。即ち、実施例７と同様にして製造した厚さ３．８μｍのポリエステルフィルムをそのまま支持体として用い、磁気テープを作成した。得られたポリエステルフィルム及び磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間２５０分）の特性を表１に示す。なおポリエステルフィルムのＢ面のＲａ値は１９ｎｍであった。
【００６７】
【表１】
【００６８】
表１に示す結果から明らかな様に、本発明の磁気記録媒体用支持体の片側表面Ａに強磁性金属薄膜層を設けて製造したＤＶＣテープは、薄く、トラックピッチを大幅に狭めることができ、ＤＯが少なく優れた記録・再生性能を発揮し、録画時間２００分、２５０分と極めて長時間録画可能なＤＶＣテープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ）であった。これに対し、本発明外の支持体を用いた場合は、再生時にドロップアウトが発生し、記録・再生性能が劣っていた。
【００６９】
【発明の効果】
本発明の磁気記録媒体用支持体をベースフィルムに用い、表面Ａに強磁性金属薄膜層を設けて製造される磁気テープは、厚みを薄くでき、トラックピッチを大幅に狭めることが可能であって、更なる大幅な長時間の録画時間をＤＶＣテープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ）で実現化させることができる。従って、本発明によると、ＤＶＣ磁気記録方式用に好適で、録画時間の更なる大幅な長時間化が可能な磁気テープ、及び、それが可能となる磁気記録媒体用支持体を得ることができる。
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気記録媒体用支持体、特にＤＶＣシステムのＶＴＲ等の画像データが大量にデジタル記録される磁気記録媒体に好適な磁気記録媒体用支持体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
１９９５年に実用化された民生用デジタルビデオテープは、厚さ６〜７μｍのベースフィルム上にＣｏの金属磁性薄膜を真空蒸着により設け、その表面にダイヤモンド状カーボン膜をコーティングしてなり、ＤＶミニカセットを使用したカメラ一体型ビデオの場合には基本仕様（ＳＤ仕様）で１時間の録画時間をもつ。
【０００３】
このデジタルビデオカセット（ＤＶＣ）は、家庭用で世界で初のデジタルビデオカセットであり、ａ．小型ボディながら、膨大な情報が記録できる、ｂ．信号が劣化しないから、何年たっても画質・音質が劣化しない、ｃ．雑音の妨害を受けないから高画質・高音質が楽しめる、ｄ．ダビングを繰り返しても映像が劣化しない、等のメリットを持ち、市場の評価は高い。
【０００４】
また１９９８年にはＳＤ仕様で１時間２０分の録画時間をもつＤＶミニカセットテープ（ＤＶＣ−ＬＰテープ）が実用化され、そのベースフィルムには、厚さ４〜５μｍのポリエチレン−２，６−ナフタレートフィルム（例えば特開平５−１８５５０７号公報）、あるいはデジタルデータストレージ（ＤＤＳ−２，３，４）テープ用ベースとして知られている芳香族ポリアミドフィルム（例えば特開平１０−１６２３４９、特開平１０−１１４０３８号公報等）が用いられていて、このテープも長時間の録画時間を持ち、市場の評価は高い。
【０００５】
録画時間を長時間化するためには、テープ走行速度を２／３に落とすことにより、基本仕様のトラックピッチを１０μｍから６．７μｍと狭くし、長時間モード（ＬＰモード）とすることが実施されており、現在、前記ＤＶミニカセットで９０分、１２０分の録画時間が実現されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、更なる大幅な長時間の録画時間が望まれている。その実現のためには、磁気テープの更なる薄手化、すなわち磁気テープのベースフィルムをさらに薄手化する手法がある。しかし、さらに薄手化すると磁気テープのスティフネスが低下し、磁気テープと磁気ヘッドとの接触（ヘッドタッチ）が不良となり磁気テープの電磁変換特性が大幅に不良となる。
【０００７】
さらに、作成される磁気テープの面積記録密度を向上させること、すなわち磁気テープのトラックピッチを現在の１０μｍから５μｍや４μｍへと狭くし、長時間記録を可能とすることも望まれている。
【０００８】
そこで、本発明では、フィルムの薄手化に伴うスティフネスの低下を補うため、ベースフィルムの補強を図り、かつ、ベースフィルムの寸法安定性の向上を図ることにより、更なる大幅な長時間の録画時間をＤＶミニカセットテープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間１５０分以上）を実現化させ得る磁気記録媒体用支持体を提供し、さらにＤＶＣ磁気記録方式に好適な磁気テープを提供する事を目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
かかる目的を達成するために、本発明は以下の構成からなる。
【００１０】
すなわち、本発明の磁気記録媒体用支持体は、ポリエステルと耐熱性高分子とを構成材料としてなるポリエステルフィルムの片側の表面上に、金属、半金属及び合金並びにこれらの酸化物及び複合物から選ばれた材料からなる薄膜が形成され、他方の片側表面上に、粒径が５〜３０ｎｍの微細粒子と有機化合物とを含有する被膜が形成されてなる磁気記録媒体用支持体であって、該被膜の表面に前記微細粒子による微細表面突起が存在し、該微細表面突起の個数が１００万〜１億個／ｍｍ2であり、高さ５０〜１２０ｎｍの表面突起の個数が１５００個／ｍｍ2以下、高さ１２０ｎｍ以上の表面突起個数が９０個／１００ｃｍ2以下であり、該被膜の表面のＲａ値が1〜５ｎｍであり、かつ、ポリエステルフィルムのガラス転移温度が３９５Ｋ以上であり、ポリエステルフィルムのガラス転移温度が、構成材料のポリエステルの単独体フィルムのガラス転移温度より１０Ｋ以上高いことを特徴とする。
【００１１】
そのポリエステルがポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレン−２、６−ナフタレートであることが好ましい。また、耐熱性高分子が、４５０Ｋ以上のガラス転移温度を有する高分子であることが好ましく、特に、ポリイミドまたはポリエーテルイミドであることが好ましい。耐熱性高分子のポリエステルフィルム中における含有量が５〜４０重量％であることが好ましい。
【００１２】
また、トラックピッチが７μｍ以下のデジタル記録方式の磁気テープ用に用いられる磁気記録媒体用支持体であることが好ましい。本発明の磁気記録テープは、それら磁気記録媒体用支持体の被膜側の表面上に強磁性金属薄膜層が設けられてなることを特徴とする。
【００１３】
【発明の実施の形態】
本発明におけるポリエステルフィルムはポリエステルと耐熱性高分子を構成材料としてなるフィルムである。
【００１４】
ポリエステルとしては分子配向により高強度フィルムとなり得るポリエステルであればよいが、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレートが好ましい。即ち、その構成成分の８０％以上がエチレンテレフタレート又はエチレンナフタレートであるポリエチレンテレフタレート又はポリエチレン−２，６−ナフタレートが好ましい。エチレンテレフタレート、エチレンナフタレート以外のポリエステル共重合体成分としては、例えばジエチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、ポリエチレングリコール、ｐ−キシリレングリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノールなどのジオール成分、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、イソフタル酸、５−ナトリウムスルホイソフタル酸などのジカルボン酸成分、トリメリット酸、ピロメリット酸などの多官能ジカルボン酸成分、ｐ−オキシエトキシ安息香酸などが挙げられる。さらに、上記のポリエステルは、他にポリエステルと非反応性のスルホン酸のアルカリ金属塩誘導体、該ポリエステルに実質的に不溶なポリアルキレングリコールなどの少なくとも一つを５重量％を越えない程度に混合してもよい。
【００１５】
耐熱性高分子としては、ポリエチレンテレフタレートと相溶し得る耐熱性ポリマーであれば特に限定されないが、ガラス転移温度（Ｔｇ）が４５０Ｋ以上のものが好ましい。ポリスルホン（Ｔｇ ４６３Ｋ付近）、ポリイミド（Ｔｇ ６８３Ｋ付近）、ポリエーテルイミド（Ｔｇ ４９０Ｋ付近）等が使用できる。ポリイミド、ポリエーテルイミド、特に２，２−ビス［４−（２，３−ジカルボキシフェノキシ）フェニル］プロパン二無水物とｍ−フェニレンジアミンとの縮合物がポリエステルとの相溶性が良好で好ましい。耐熱性高分子を添加することによりポリエステルの熱収縮率が低下し，寸法安定性が向上する。この効果はベースフィルムを高強力化した場合にも発現し、薄物化した場合のベースフィルムの高強度化に伴う熱収縮率の悪化、寸法安定性の悪化を防止することができる。
【００１６】
このポリエステルフィルムの片側の表面には、金属、半金属及び合金並びにこれらの酸化物及び複合物から選ばれた材料からなる薄膜が形成されている。薄膜の材料としては、具体的にはＡｌ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ａｇ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｍｎなどの金属、Ｓｉ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｓｃ、Ｓｂなどの半金属があげられる。これらの金属及び半金属の合金、それら複合物としては、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ａｕ、Ｃｏ−Ｙ、Ｃｏ−Ｌａ、Ｃｏ−Ｐｒ、Ｃｏ−Ｇｄ、Ｃｏ−Ｓｍ、Ｃｏ−Ｐｔ、Ｎｉ−Ｃｕ、Ｍｎ−Ｂｉ、Ｍｎ−Ｓｂ、Ｍｎ−Ａｌ、Ｆｅ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｎｉ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ、Ｎｉ−Ｃｏ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｏ、Ｓｉ−Ｃ、Ｓｉ−Ｎ、Ｃｕ−Ａｌ−Ｏ、Ｓｉ−Ｎ−Ｏ、Ｓｉ−Ｃ−Ｏなどが挙げられる。酸化物としては酸化アルミニウム、アルミナ、酸化ケイ素、二酸化ケイ素等が挙げられる。
【００１７】
このようにポリエステルフィルムの片側の表面に薄膜が形成されていることにより、支持体のヤング率が向上する。薄膜の厚さは一般的には、２０〜５００ｎｍの厚さが好ましく、５０〜３００ｎｍの範囲がより有効である。２０ｎｍを下回ると強化の目的を達成しがたく、５００ｎｍを越えると薄膜がポリエステルフィルムより剥離しがちとなるので好ましくない。薄膜を形成していない厚さ２〜５μｍのポリエステルフィルムの支持体から作成されたＤＶＣテープは、繰返し再生することによって伸びてしまい再生時のＤＯが増加するし、さらにＤＶＣテープのエッジも磁気ヘッドにより変形し、わかめ状になり、再生時のＤＯが増加する。
【００１８】
本発明においては、ポリエステルフィルムの、薄膜形成側とは反対側の片側表面に、微細粒子と有機化合物とを含有する被膜が形成されている。この被膜の表面（以下、表面Ａという）には前記微細粒子による微細表面突起が存在し、該微細表面突起の個数が１００万〜１億個／ｍｍ2、該微細粒子の粒径が５〜３０ｎｍである。この微細表面突起により、表面Ａ上に真空蒸着により形成される強磁性金属薄膜層の記録・再生時のビデオヘッドによる磨耗が少なくなる。微細粒子の粒径が５ｎｍより小さいと、あるいは微細表面突起の個数が１００万個／ｍｍ2より少ないと、磁気テープの磁性層表面に存在する微細表面突起個数が１００万個／ｍｍ2を下回り、強磁性金属薄膜層が記録・再生時に、ビデオヘッドにより磨耗してしまい適していない。微細表面突起の粒径が３０ｎｍより大きいと、磁気テープの磁性層表面上に発現される微細表面突起の高さが高くなり磁気テープの出力特性が低下するので適していない。微細表面突起個数が１億個／ｍｍ2より多いと、磁気テープの磁性層表面に存在する微細表面突起個数が１億個／ｍｍ2を上回り強磁性金属薄膜層が粗面すぎて、磁気テープの出力特性が低下するので適していない。
【００１９】
微細表面突起は、微細粒子を有機化合物に含有させてなる被膜層をポリエステルフィルム表面に形成させることにより設けられる。微細粒子の平均粒径は５〜３０ｎｍ、より好ましくは８〜２５ｎｍであり、その粒子種としては、シリカ、炭酸カルシウム、アルミナのような無機化合物、ポリアクリル酸球、ポリスチレン球等の有機化合物、シリカ、アルミナ、炭酸カルシウム等の無機粒子を核として、有機高分子で被覆した粒子等が使用できるが、これらに限定されない。被膜層に使用される有機化合物としてはポリビニルアルコール、トラガントゴム、カゼイン、ゼラチン、セルロース誘導体、水溶性ポリエステル、ポリウレタン、アクリル樹脂、アクリル−ポリエステル樹脂等の有極性高分子これらのブレンド体が使用できるが、これらに限定されない。
【００２０】
本発明のポリエステルフィルムの片側表面Ａに存在する高さ５０〜１２０ｎｍの表面突起の個数は１５００個／ｍｍ2以下である。上記高さ範囲の表面突起が上記個数より多く存在すると、磁気テープの磁性層表面に存在する高さ５０〜１２０ｎｍの表面突起個数が１５００個／ｍｍ2を超え、エラーレートが増大するので適していない。
【００２１】
本発明のポリエステルフィルムの片側表面Ａに存在する、高さ１２０ｎｍ以上の表面突起個数は９０個／１００ｃｍ2以下である。上記高さの表面突起が、上記個数より多く存在すると、磁気テープの磁性層表面に存在する高さ１２０ｎｍ以上の表面突起個数が９０個／１００ｃｍ2を超え、ドロップアウトが増大するので適していない。
【００２２】
本発明のポリエステルフィルムの片側表面ＡのＲａ値は表面Ａ上に真空蒸着により形成される強磁性金属薄膜膜の記録・再生時の磁気ヘッドによる磨耗を極力少なくし、および磁気テープの出力特性を良好に保つために１〜５ｎｍ、好ましくは２〜４ｎｍである。Ｒａ値が１ｎｍ未満であると、表面Ａ上に真空蒸着により形成される強磁性金属薄膜層のＲａが１ｎｍ未満となり平滑すぎて、ＤＶＣビデオカメラ内での録画、再生時に磁気ヘッドにより磁気テープの強磁性金属薄膜が磨耗してしまい好ましくない。Ｒａ値が５ｎｍを超えると、該強磁性金属薄膜層のＲａが５ｎｍを超え、粗面すぎて、磁気テープの出力特性が低下し好ましくない。
【００２３】
本発明のポリエステルフィルムのガラス転移温度は、構成材料のポリエステルの単独からなるポリエステルフィルムのガラス転移温度より１０Ｋ以上高いのが好ましく、特に、１５〜４０Ｋ高いのが好ましい。このガラス転移温度の高い水準が１０Ｋ未満であると、ポリエステルフィルムの寸法安定性、熱収縮率は構成材料のポリエステル単独体からなるフィルムと大差ないので、磁気テープのトラックピッチを現状の１０μｍから５、４μｍへと減少させたとき、磁気テープの保存時の寸法変化、収縮により記録時のトラックと再生時のトラックの位置が一致せず再生出力が低下し、ＤＯが増加してしまう。
【００２４】
フィルム中の耐熱性高分子の含有量は、５〜４０重量％であることが好ましく、より好ましくは７〜３５重量％、さらに好ましくは１０〜３０重量％である。耐熱性高分子の含有量が５重量％未満であると、ポリエステルフィルムのガラス転移温度を十分に上昇させることができないので好ましくない。耐熱性高分子の含有量が４０重量を超えるとポリエステルフィルムの機械的強度の低下が目立つようになるので、ＤＶＣビデオカメラ内でのＤＶＣテープ走行性の不良、エッジ変形が起きやすくなり好ましくない。
【００２５】
本発明の磁気記録媒体用支持体において、被覆層形成側とは反対側のポリエステルフィルム表面（Ｂ面側という）には、前記したとおり薄膜が形成される。このポリエステルフィルムＢ面側は、シリコーン等の潤滑剤が含まれたより粗い被覆層により、あるいは、より大きな微細粒子を含有するポリエステルフィルム層（積層されたフィルム層）により構成されることが好ましいが、特にこれらに限定されるものではない。なおここで用いられる微細粒子としては炭酸カルシウム、シリカ、アルミナ、ポリスチレン等が例示される。この微細粒子としては、平均粒子径が好ましくは１００〜１０００ｎｍ、より好ましくは１５０〜９００ｎｍのものが用いられ、添加量としては好ましくは０．０５〜１．０重量％、より好ましくは０．０８〜０．８重量％である。
【００２６】
ポリエステルフィルムＢ面側に薄膜が形成されてなる支持体において、薄膜の表面のＲａ値は、ポリエステルフィルムの片側表面Ａ上に強磁性薄膜を設けた後にロール状の巻取りにより薄膜表面の粗さが転写し強磁性薄膜層にうねり状の変形が起きるのを最小限にするために、５〜３５ｎｍ、より好ましくは８〜２５ｎｍが望ましい。
【００２７】
本発明の磁気記録テープは、本発明の支持体の表面Ａ上に真空蒸着により形成される強磁性金属薄膜層を設けてなるものであり、使用する金属薄膜は公知のものを使用でき、特に限定されないが、鉄、コバルト、ニッケル、またはそれらの合金の強磁性体からなるものが好ましい。金属薄膜層の厚さは２０〜３００ｎｍであればよい。この金属薄膜層上に１０ｎｍ程度の厚みのダイヤモンド状カーボン膜をコーティングし、更にその上に潤滑剤処理することが好ましい。
【００２８】
本発明の磁気記録テープでは、薄膜表面上に、固体微粒子および結合剤からなり、必要に応じて各種添加剤を加えた溶液を塗布することにより形成されるバックコート層が設けられていることが好ましく、固体微粒子、結合剤、添加剤は公知のものを使用でき、特に限定されない。バックコート層の厚さは０．３〜１．５μｍ程度であればよい。
【００２９】
次に本発明の磁気記録媒体用支持体及び磁気記録テープの製法を説明する。
【００３０】
本発明におけるポリエステルフィルムは、例えば、ポリエステルを溶融、成形、二軸延伸、熱固定、熱固定後の巻取りからなる通常のプラスチックフィルム製造工程において、溶融に供するポリエステルとして、耐熱性高分子をブレンド率５〜４０重量％でブレンドさせたポリエステル原料を用い、縦、横方向に、１１０〜１８０℃で２．９〜５．７倍、３．７〜７．２倍で延伸し、１９０〜２２０℃の温度で熱固定を行うことにより製造することができる。
【００３１】
具体的には、共押出し技術の使用により含有粒子を可能な限り除いた層Ａ用の原料と積極的に微粒子を含有させた層Ｂ用の原料とを積層させてＡ／Ｂ積層フィルムにして押出し、一方向に延伸した後、平滑なポリエステルフィルムのＡ面側に、平均粒径が５〜３０ｎｍ、好ましくは８〜２０ｎｍの微細粒子を０．５〜１２．０重量％、好ましくは０．６〜１０．０重量％含む有機化合物からなる塗液Ａを塗布して表面Ａ側に被覆層を形成させる。
【００３２】
Ａ層は、磁気テープの磁気ヘッドによる耐久性を更に増すために、その内部に微細粒子を含ませた層でもよい。例えば、Ａ層を形成するポリエステル層内に平均粒径が３０〜１５０ｎｍ、好ましくは４０〜１００ｎｍの微細粒子を０．０１〜１．０重量％、好ましくは０．０２〜０．８重量％含ませ、その表面上に表面突起をもたせてもよい。
【００３３】
Ｂ層を積層させない単層フィルムの場合は、一方向に延伸した後の平滑なポリエステルフィルムのＢ面側に、即ち、塗液Ａの塗布面とは反対側の面に、滑剤を含む塗液を塗布する易滑処理をしてもよい。
【００３４】
一方向に延伸後に、塗液Ａを塗布した後、他方向に延伸し、さらに、熱固定して巻取ることによって、被膜が形成されたポリエステルフィルムが得られる。得られたポリエステルフィルムにおいて、被膜の表面（表面Ａ）のＲａ値は、形成させた被覆層内の微粒子、成分、Ａ層内部の微細粒子の調整により、所望水準に調整することができる。
【００３５】
本発明の支持体において、ポリエステルフィルムのガラス転移温度を、構成材料のポリエステル単独体からなるポリエステルフィルムのガラス転移温度より１０Ｋ以上高くするためには、ガラス転移温度が４５０Ｋ以上の耐熱性高分子を選び、この耐熱性高分子をポリエステルフィルム中に５〜４０重量％の含有割合となるよう、構成材料のポリエステルとブレンドすればよい。耐熱性高分子のガラス転移温度が低い場合は含有量を増し、高い場合は含有量を減少させて調整し、前記二軸延伸、熱処理を実施することにより達成できる。
【００３６】
ガラス転移温度が４５０Ｋ以上の耐熱性高分子としては、ポリスルホン（Ｔｇ４６３Ｋ付近）、ポリイミド（Ｔｇ ６８３Ｋ付近）、ポリエーテルイミド（Ｔｇ ４９０Ｋ付近）等が使用でき、なかでも、ポリイミド、ポリエーテルイミドが好ましく、特に２，２−ビス［４−（２，３−ジカルボキシフェノキシ）フェニル］プロパン二無水物とｍ−フェニレンジアミンとの縮合物が好ましい。
【００３７】
被膜が形成されたポリエステルフィルムには、そのＢ面上に、Ａｌ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ａｇ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｍｎなどの金属、Ｓｉ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｓｃ、Ｓｂなどの半金属、これらの金属及び半金属の合金、それら複合物であるＦｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ａｕ、Ｃｏ−Ｙ、Ｃｏ−Ｌａ、Ｃｏ−Ｐｒ、Ｃｏ−Ｇｄ、Ｃｏ−Ｓｍ、Ｃｏ−Ｐｔ、Ｎｉ−Ｃｕ、Ｍｎ−Ｂｉ、Ｍｎ−Ｓｂ、Ｍｎ−Ａｌ、Ｆｅ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｎｉ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ、Ｎｉ−Ｃｏ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｏ、Ｓｉ−Ｃ、Ｓｉ−Ｎ、Ｃｕ−Ａｌ−Ｏ、Ｓｉ−Ｎ−Ｏ、Ｓｉ−Ｃ−Ｏ等、またこれらの金属、半金属および合金の酸化物、複合物などを用いて、薄膜が形成され、本発明の支持体が作成される。その酸化物としては酸化アルミニウム、アルミナ、酸化ケイ素、二酸化ケイ素等が挙げられる。薄膜の形成法は特に限定しないが真空蒸着法が一般的である。薄膜の厚さは、一般的には２０〜５００ｎｍの厚さが好ましく、５０〜３００ｎｍの範囲がより有効である。
【００３８】
本発明の磁気記録媒体用支持体は、磁気記録媒体のベース材として使用される。特に、厚さ５μｍ以下の磁気記録媒体用支持体として、トラック幅を現行のトラック幅より狭めたＤＶＣ−スーパーロングプレイモード（ＤＶＣ−ＳＬＰモード）で使用する用途に、また大容量のデータテープ用途に使用すると優れた結果を得ることができ好適である。
【００３９】
本発明の磁気テープは、本発明の支持体の片側表面ＡにＣｏ等の強磁性金属薄膜を真空蒸着により膜厚み２０〜３００ｎｍと形成し、この金属薄膜上に１０ｎｍ程度の厚みのダイヤモンド状カーボン膜をコーティングし、更にその上に潤滑剤処理することにより、さらに、薄膜表面Ｂに固体微粒子および結合剤からなり、必要に応じて各種添加剤を加えた溶液を塗布してバックコート層を設けることにより作成される。
【００４０】
【実施例】
本実施例で用いた測定法を下記に示す。
（１）微細粒子の粒径
電子顕微鏡（電顕）試験台上に微細粒子粉体を、この粒子ができるだけ重ならないように散在せしめ、電顕（好ましくは透過型電子顕微鏡）により倍率１００万倍程度で観測し、少なくとも１００個の粒子について面積円相当径を求め、この数平均値をもって粒径とした。
なお、この粒径を支持体から求める場合には下記のａ）手法等により求められる。
ａ）支持体の被膜表面Ａ上に金スパッター装置により金薄膜蒸着層を２０〜３０ｎｍ（χｎｍ）で設け、電子顕微鏡（好ましくは走査型電子顕微鏡）により倍率１０万倍程度で観測し、少なくとも１００個の粒子について面積円相当径を求め、この数平均値より２χｎｍを減じた値をもって粒径とする。
（２）支持体の表面Ａ上の微細表面突起の個数
支持体の表面Ａに形成された微細突起の個数は、走査型電子顕微鏡により３万倍程度の拡大倍率で表面Ａを１０視野以上観察し、突起状に見える突起が１ｍｍ2あたり何個あるかを求めることにより測定した。
【００４１】
（３）高さ５０〜１２０ｎｍの表面突起個数
支持体の表面に対し５°の角度で銀を蒸着（シャドーイング）し、その後スパッタリングにより白金をコートする。シャドーイングした支持体表面を真上から走査型電子顕微鏡により５千倍程度の拡大倍率で１０視野程度観察し、表面上に影をもつ表面突起（ポリエステルポリマーの中に存在する微粒子により形成されたもの）を探し、表面突起の高さをｈ、影の長さＨとし、tan５°＝ｈ／Ｈの関係を用いて、影の長さより高さを推定し、高さ５０〜１２０ｎｍの表面突起の個数を求めた。１ｍｍ2あたり何個あるかを換算し、高さ５０〜１２０ｎｍの表面突起個数とした。
（４）高さ１２０ｎｍ以上の表面突起個数
光学顕微鏡（観測倍率：１００倍）を用いて支持体の表面Ａを観察し、突起状に見えるものをマーキングする。マーキングされたそれら突起の高さをキーエンス社製のレーザー顕微鏡（表面形状測定顕微鏡 ＶＦ−７５００）を用いて１２０ｎｍ以上であるか否かを確認する。観測した面積より１００ｃｍ2あたりの面積に換算し、高さ１２０ｎｍ以上の表面突起個数とした。
【００４２】
（５）Ｒａ値
磁気記録媒体用支持体の表面の表面粗さＲａ値は、原子間力顕微鏡（走査型プローブ顕微鏡）を用いて測定した。セイコーインスツルメント社製の走査型プローブ顕微鏡（ＳＰＩ３８００シリーズ）を用い、ダイナミックフォースモードでフィルムの表面を３０μｍ角の範囲で原子間力顕微鏡計測走査を行い、得られる表面のプロファイル曲線よりＪＩＳ・Ｂ０６０１・Ｒａに相当する算術平均粗さより求めた。面内方向の拡大倍率は１万〜５万倍、高さ方向の拡大倍率は１００万倍程度とした。
（６）ガラス転移温度（Ｔｇ）
ガラス転移温度は、示差走査熱分析における昇温時の熱流束ギャップからＪＩＳ Ｋ７１２１に従って求める。示差走査熱分析による方法のみで判定しにくい場合には、動的粘弾性測定あるいは顕微鏡観察などの形態学的方法を併用しても良い。また、示差走査熱分析によってガラス転移温度を判定する場合は、温度変調法や高感度法を使用することも有効である。なお、ガラス転移温度は下記式により算出した。
ガラス転移温度＝（補外ガラス転移開始温度＋補外ガラス転移終了温度）／２
【００４３】
（７）磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ）の特性評価（ＤＯ個数）
市販のカメラ一体型デジタルビデオテープレコーダー（ＤＶＣビデオカメラ）の走行速度を１／２．５に落として、通常モード（ＳＰモード）の２．５倍の録画時間を持つモード（スーパーＬＰ、ＳＬＰモード）とし、ＤＶＣテープ上に記録されるトラックピッチを２．５分の１（１／２．５）化した。
ＳＬＰモードのＤＶＣビデオカメラを用いて静かな室内で録画し、１分間の再生をして画面にあらわれたブロック状のモザイク個数（ドロップアウト（ＤＯ）個数）を数えることによって、作成した磁気テープの特性を評価した。
ＤＯ個数は常温（２５℃）でテープ製造後の初期特性を最初に調べた。次にテープの走行を１００回くり返した後のＤＯ個数を測定し磁気テープの走行耐久性を評価した。またそのテープを高温（６０℃）で３０日間放置した後のＤＯ個数を測定し、磁気テープの画像保存性能を評価した。
【００４４】
次に実施例に基づき、本発明を説明する。
【００４５】
実施例１
実質的に不活性粒子を含有しないポリエチレンテレフタレートに、２，２−ビス［４−（２，３−ジカルボキシフェノキシ）フェニル］プロパン二無水物とｍ−フェニレンジアミンとの縮合物からなるポリエーテルイミドを２５重量％含有させた原料Ａと、実質的に不活性粒子を含有しないポリエチレンテレフタレートに前記ポリエーテルイミドを２５重量％含有させ、さらに、平均粒径３００ｎｍの架橋性ポリスチレン球を０．３０重量％含有させた原料Ｂとを厚み比５：１の割合で共押出しし、ロール延伸法で１２８℃で３．４倍に縦延伸した。
【００４６】
縦延伸の後の工程で、原料Ａの層の表面上に下記水溶液を、固形分濃度２８ｍｇ／ｍ2 となるように塗布した。
Ａ面外側：メチルセルロース ０．１０重量％
水溶性ポリエステル（テレフタル酸７０モル％、５−ナトリウムスルホイソフタル酸３０モル％の酸成分とエチレングリコールとの１：１の共重合体） ０．３５重量％
アミノエチルシランカップリング剤 ０．０２重量％
平均粒径８ｎｍの極微細シリカ ０．０６重量％
その後、ステンターにて横方向に１２９℃で３．７倍に延伸し、２１５℃で熱処理し、中間スプールに巻き、スリッターで小幅にスリットし、円筒コアー上にロール状に巻取り、厚さ４．４μｍのポリエステルフィルムを得た。得られたポリエステルフィルムのＢ面側（原料Ｂの層側）の表面Ｂ上にアルミニウムの真空蒸着を行い、蒸着膜厚１５０ｎｍのアルミニウム薄膜を形成し、厚さ４．５５μｍの支持体を作成した。
【００４７】
次に、この支持体の表面Ａ（被膜表面）上に真空蒸着により厚さ１８０ｎｍのコバルト−酸素薄膜を形成した。次にコバルト−酸素薄膜層上に、スパッタリング法によりダイヤモンド状カーボン膜を５ｎｍの厚さで形成させ、フッ素含有脂肪酸エステル系潤滑剤を３ｎｍの厚さで塗布した。続いて、反対側の表面に、カーボンブラック、ポリウレタン、シリコーンからなるバックコート層を５００ｎｍの厚さで設け、スリッターにより幅６．３５ｍｍにスリットしリールに巻き取りミニＤＶＣ用カセットに組み込み磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間２００分）を作成した。
【００４８】
得られた支持体、磁気テープの特性を表１に示す。なお支持体のＢ面のＲａ値は１８ｎｍであった。
【００４９】
実施例２
実施例１の支持体製造において、アルミニウムの真空蒸着を、微量の酸素を注入しながら行い、酸化アルミニウム薄膜を１５０ｎｍの膜厚で形成し、厚さ４．５５μｍの支持体を作成した。得られた支持体を用いて、その他は実施例１と同様にして磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間２００分）を作成した。得られた支持体、磁気テープの特性を表１に示す。なお支持体のＢ面のＲａ値は１９ｎｍであった。
【００５０】
実施例３
実施例１の支持体製造において、アルミニウムの真空蒸着を、酸化ケイ素の真空蒸着に変え、酸化ケイ素薄膜を１００ｎｍの膜厚で形成し、厚さ４．５０μｍの支持体を作成した。得られた支持体を用いて、その他は実施例１と同様にして磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間２００分）を作成した。得られた支持体、磁気テープの特性を表１に示す。なお支持体のＢ面のＲａ値は１９ｎｍであった。
【００５１】
実施例４
実施例１のポリエステルフィルム製造において、原料Ａ、Ｂ内のポリエーテルイミド重量分率をどちらも１５重量％としたこと以外は実施例１と同様にして厚さ４．４μｍのポリエステルフィルム、厚さ４．５５μｍの支持体、磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間２００分）を作成した。得られた支持体及び磁気テープの特性を表１に示す。なお支持体のＢ面のＲａ値は１８ｎｍであった。
【００５２】
実施例５
実施例１のポリエステルフィルム製造において、原料Ａ内に粒径６０ｎｍのシリカを０．０６重量％添加した事以外は実施例１と同様にして、厚さ４．５５μｍの支持体を作成した。得られた支持体を用いて、その他は実施例１と同様にして磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間２００分）を作成した。得られた支持体、磁気テープの特性を表１に示す。なお支持体のＢ面のＲａ値は１９ｎｍであった。
【００５３】
実施例６
実施例１の支持体製造において、アルミニウムの真空蒸着薄膜厚さを１０ｎｍと変更し、厚さ４．４１μｍの支持体を作成した。得られた支持体を用いて、その他は実施例１と同様にして磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間２００分）を作成した。得られた支持体、磁気テープの特性を表１に示す。なお支持体のＢ面のＲａ値は１９ｎｍであった。
【００５４】
実施例７
実施例１のポリエステルフィルム製造において、ポリエチレンテレフタレートをポリエチレン−２，６−ナフタレートと変更し、ポリエーテルイミド２５重量％含有を、ポリイミド１０重量％含有と変更し、原料Ｂ内の架橋性ポリエチレン球の含有量を１．１重量％と変更し、縦延伸温度、倍率を１３５℃で５．５倍と変更し、塗布時の固形分濃度を５６ｍｇ／ｍ2と変更し、横延伸温度、倍率を１３５℃、７．０倍と変更し、２００℃で熱処理と変更し、その他は実施例１と同様にして、厚さ３．８μｍのポリエステルフィルムを得た。得られたポリエステルフィルムを用いて実施例３と同様にして酸化ケイ素薄膜を形成し、厚さ３．９μｍの支持体を作成した。得られた支持体を用いて、その他は実施例１と同様にして磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間２５０分）を作成した。
【００５５】
得られた支持体、磁気テープの特性を表１に示す。なお支持体のＢ面のＲａ値は１９ｎｍであった。
【００５６】
比較例１
実施例１のポリエステルフィルム製造において、塗布水溶液中の極微細シリカの粒径を４ｎｍに変え、添加量を０．０５重量％と変更した。その他は実施例１と同様にして、厚さ４．４μｍのポリエステルフィルムを作成した。得られたポリエステルフィルムを用いて、実施例１と同様にして厚さ４．５５μｍの支持体を作成した。得られた支持体を用いて、その他は実施例１と同様にして磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間２００分）を作成した。得られた支持体、磁気テープの特性を表１に示す。なお支持体のＢ面のＲａ値は２０ｎｍであった。
【００５７】
比較例２
実施例１のポリエステルフィルム製造において、塗布水溶液中の極微細シリカの粒径を４０ｎｍと変更した。その他は実施例１と同様にして、厚さ４．４μｍのポリエステルフィルムを作成した。得られたポリエステルフィルムを用いて、実施例１と同様にして厚さ４．５５μｍの支持体を作成した。得られた支持体を用いて、その他は実施例１と同様にして磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間２００分）を作成した。得られた支持体、磁気テープの特性を表１に示す。なお支持体のＢ面のＲａ値は２０ｎｍであった。
【００５８】
比較例３
実施例１のポリエステルフィルム製造において、塗布水溶液中の極微細シリカの濃度を０．０１重量％と変更した。その他は実施例１と同様にして、厚さ４．４μｍのポリエステルフィルムを作成した。得られたポリエステルフィルムを用いて、実施例１と同様にして厚さ４．５５μｍの支持体を作成した。得られた支持体を用いて、その他は実施例１と同様にして磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間２００分）を作成した。得られた支持体、磁気テープの特性を表１に示す。なお支持体のＢ面のＲａ値は１９ｎｍであった。
【００５９】
比較例４
実施例１のポリエステルフィルム製造において、塗布水溶液中の極微細シリカの濃度を０．２４重量％と変更した。その他は実施例１と同様にして、厚さ４．４μｍのポリエステルフィルムを作成した。得られたポリエステルフィルムを用いて、実施例１と同様にして厚さ４．５５μｍの支持体を作成した。得られた支持体を用いて、その他は実施例１と同様にして磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間２００分）を作成した。得られた支持体、磁気テープの特性を表１に示す。なお支持体のＢ面のＲａ値は２０ｎｍであった。
【００６０】
比較例５
実施例１のポリエステルフィルム製造において、ポリエーテルイミドをポリエーテルエーテルケトンに変えた。その他は実施例１と同様にして、厚さ４．４μｍのポリエステルフィルムを作成した。得られたポリエステルフィルムを用いて、実施例１と同様にして厚さ４．５５μｍの支持体を作成した。得られた支持体を用いて、その他は実施例１と同様にして磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間２００分）を作成した。得られた支持体、磁気テープの特性を表１に示す。なおポリエステルフィルムのＢ面のＲａ値は１９ｎｍであった。
【００６１】
比較例６
実施例１のポリエステルフィルム製造において、ポリエーテルイミドをポリエーテルスルホンに変えた。その他は実施例１と同様にして、厚さ４．４μｍのポリエステルフィルムを作成した。得られたポリエステルフィルムを用いて、実施例１と同様にして厚さ４．５５μｍの支持体を作成した。得られた支持体を用いて、その他は実施例１と同様にして磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間２００分）を作成した。得られた支持体、磁気テープの特性を表１に示す。なおポリエステルフィルムのＢ面のＲａ値は１８ｎｍであった。
【００６２】
比較例７
実施例１のポリエステルフィルム製造において、水溶液中の極微細シリカの粒径を５ｎｍに変え、濃度を０．０５重量％と変更した。さらに、水溶液中のメチルセルロースの濃度を０．０６重量％と変更した。その他は実施例１と同様にして、厚さ４．４μｍのポリエステルフィルムを作成した。得られたポリエステルフィルムを用いて、実施例１と同様にして厚さ４．５５μｍの支持体を作成した。得られた支持体を用いて、その他は実施例１と同様にして磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間２００分）を作成した。得られた支持体、磁気テープの特性を表１に示す。なおポリエステルフィルムのＢ面のＲａ値は１９ｎｍであった。
【００６３】
比較例８
実施例１のポリエステルフィルム製造において、水溶液中の極微細シリカの粒径を２２ｎｍと変更した。さらに、水溶液中のメチルセルロースの濃度を０．２５重量％と変更した。その他は実施例１と同様にして、厚さ４．４μｍのポリエステルフィルムを作成した。得られたポリエステルフィルムを用いて、実施例１と同様にして厚さ４．５５μｍの支持体を作成した。得られた支持体を用いて、その他は実施例１と同様にして磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間２００分）を作成した。得られた支持体、磁気テープの特性を表１に示す。なおポリエステルフィルムのＢ面のＲａ値は１９ｎｍであった。
比較例９
実施例１のポリエステルフィルム製造において、ポリエーテルイミドの含有量を８重量％と変更した以外は実施例１と同様にして、厚さ４．４μｍのポリエステルフィルムを作成した。得られたポリエステルフィルムを用いて、実施例１と同様にして厚さ４．５５μｍの支持体を作成した。得られた支持体を用いて、その他は実施例１と同様にして磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間２００分）を作成した。得られた支持体、磁気テープの特性を表１に示す。なおポリエステルフィルムのＢ面のＲａ値は１９ｎｍであった。
【００６４】
比較例１０
実施例７のポリエステルフィルム製造において、ポリイミドの含有量を２重量％と変更した以外は実施例１と同様にして、厚さ４．４μｍのポリエステルフィルムを作成した。得られたポリエステルフィルムを用いて、実施例１と同様にして厚さ４．５５μｍの支持体を作成した。得られた支持体を用いて、その他は実施例１と同様にして磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間２５０分）を作成した。得られた支持体、磁気テープの特性を表１に示す。なおポリエステルフィルムのＢ面のＲａ値は２０ｎｍであった。
比較例１１
実施例１のポリエステルフィルム製造において、ポリエーテルイミドを含有させなかった以外は実施例１と同様にして、厚さ４．４μｍのポリエステルフィルムを作成した。得られたポリエステルフィルムを用いて、実施例１と同様にして厚さ４．５５μｍの支持体を作成した。得られた支持体を用いて、その他は実施例１と同様にして磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間２００分）を作成した。得られた支持体、磁気テープの特性を表１に示す。なおポリエステルフィルムのＢ面のＲａ値は１９ｎｍであった。
【００６５】
比較例１２
実施例７のポリエステルフィルム製造において、ポリイミドを含有させなかった以外は実施例１と同様にして、厚さ４．４μｍのポリエステルフィルムを作成した。得られたポリエステルフィルムを用いて、実施例１と同様にして厚さ４．５５μｍの支持体を作成した。得られた支持体を用いて、その他は実施例１と同様にして磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間２５０分）を作成した。得られた支持体、磁気テープの特性を表１に示す。なおポリエステルフィルムのＢ面のＲａ値は１９ｎｍであった。
比較例１３
実施例１の支持体製造において、アルミニウムの真空蒸着を行わなかった。即ち、実施例１と同様にして製造した厚さ４．４μｍのポリエステルフィルムをそのまま支持体として用い、磁気テープを作成した。得られた支持体及び磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間２００分）の特性を表１に示す。なおポリエステルフィルムのＢ面のＲａ値は１８ｎｍであった。
【００６６】
比較例１４
実施例７の支持体製造において、酸化ケイ素の真空蒸着を行わなかった。即ち、実施例７と同様にして製造した厚さ３．８μｍのポリエステルフィルムをそのまま支持体として用い、磁気テープを作成した。得られたポリエステルフィルム及び磁気テープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ、録画時間２５０分）の特性を表１に示す。なおポリエステルフィルムのＢ面のＲａ値は１９ｎｍであった。
【００６７】
【表１】
表１に示す結果から明らかな様に、本発明の磁気記録媒体用支持体の片側表面Ａに強磁性金属薄膜層を設けて製造したＤＶＣテープは、薄く、トラックピッチを大幅に狭めることができ、ＤＯが少なく優れた記録・再生性能を発揮し、録画時間２００分、２５０分と極めて長時間録画可能なＤＶＣテープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ）であった。これに対し、本発明外の支持体を用いた場合は、再生時にドロップアウトが発生し、記録・再生性能が劣っていた。
【００６９】
【発明の効果】
本発明の磁気記録媒体用支持体をベースフィルムに用い、表面Ａに強磁性金属薄膜層を設けて製造される磁気テープは、厚みを薄くでき、トラックピッチを大幅に狭めることが可能であって、更なる大幅な長時間の録画時間をＤＶＣテープ（ＤＶＣ−ＳＬＰテープ）で実現化させることができる。従って、本発明によると、ＤＶＣ磁気記録方式用に好適で、録画時間の更なる大幅な長時間化が可能な磁気テープ、及び、それが可能となる磁気記録媒体用支持体を得ることができる。
Claims (7)
- ポリエステルと耐熱性高分子とを構成材料としてなるポリエステルフィルムの片側の表面上に、金属、半金属及び合金並びにこれらの酸化物及び複合物から選ばれた材料からなる薄膜が形成され、他方の片側表面上に、粒径が５〜３０ｎｍの微細粒子と有機化合物とを含有する被膜が形成されてなる磁気記録媒体用支持体であって、該被膜の表面に前記微細粒子による微細表面突起が存在し、該微細表面突起の個数が１００万〜１億個／ｍｍ2であり、高さ５０〜１２０ｎｍの表面突起の個数が１５００個／ｍｍ2以下、高さ１２０ｎｍ以上の表面突起個数が９０個／１００ｃｍ2以下であり、該被膜の表面のＲａ値が1〜５ｎｍであり、かつ、ポリエステルフィルムのガラス転移温度が３９５Ｋ以上であり、ポリエステルフィルムのガラス転移温度が、構成材料のポリエステルの単独体フィルムのガラス転移温度より１０Ｋ以上高いことを特徴とする磁気記録媒体用支持体。
- ポリエステルが、ポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレン−２，６−ナフタレートであることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体用支持体。
- 耐熱性高分子が、４５０Ｋ以上のガラス転移温度を有する高分子であることを特徴とする請求項１又は２に記載の磁気記録媒体用支持体。
- 耐熱性高分子がポリイミドまたはポリエーテルイミドであることを特徴とする請求項３記載の磁気記録媒体用支持体。
- 耐熱性高分子のポリエステルフィルム中における含有量が５〜４０重量％であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の磁気記録媒体用支持体。
- トラックピッチが７μｍ以下のデジタル記録方式の磁気テープ用に用いられることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の磁気記録媒体用支持体。
- 請求項１〜６のいずれかに記載の磁気記録媒体用支持体の被膜側の表面上に強磁性金属薄膜層が設けられてなることを特徴とする磁気記録テープ。
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