JP4520567B2 - 配線基板の製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、配線基板が複数個並んだ連結配線基板を個分けしてなる配線基板の製造方法に関し、特に、例えばスルーホール導体やビア導体等が形成される貫通孔や有底孔等の孔を有する配線基板の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来より、配線基板が複数個並んだ連結配線基板を製作し、これを個分けして配線基板とする方法が知られている。このような方法で配線基板を製造すると、複数個の配線基板を一挙に製造することができるので、配線基板の生産性を高くすることができる。
ところで、配線基板を製造する中で、連結配線基板の中間生産物である連結基板に、スルーホール導体やビア導体等を形成するため、貫通孔や有底孔等の孔を、レーザを用いて形成する場合がある。このような場合には、例えば、図10に示すレーザ孔形成装置501を用いて孔を穿孔している。
【0003】
このレーザ孔形成装置501は、レーザ源であるレーザ発振器503と、レーザ光Rを所定形状の照射可能領域内に照射する光スキャナ505と、図11に平面図を示す連結基板511を載置するテーブル507と、連結基板511の位置合わせマーク513を計測するCCDカメラ509とを備える。そして、これらは、図示しないコンピュータによって制御されている。
なお、連結基板511は、図11に示すように、完成時に配線基板となる複数の製品部515(第1製品部515−1〜第16製品部515−16)が並んだ製品集合部517と、その周縁を構成する枠部519とからなる。各製品部には、表面に略円板状の位置合わせマーク513がそれぞれ形成されている。
【0004】
このレーザ孔形成装置501では、まず、テーブル507上に載置された連結基板511のうち、図11中で左上に位置する第1製品部515−1の位置合わせマーク513を、CCDカメラ509で計測する。
次に、その計測結果をもとに、テーブル507を移動させ、光スキャナ505の照射可能領域を、連結基板511のうち予め決められた開始領域、即ち、この従来例では、図11中で第1製品部515−1のうち左上に位置する第1照射領域E1に移動させる。
【0005】
ここで、光スキャナ505の照射可能領域の大きさは、30mm×30mm、各製品部515の大きさは、平面視49.5mm×49.5mmであり、照射可能領域は製品部515よりも小さいので、第1照射領域E1は、第1製品部515−1の一部分となる。
その後、上記計測結果をもとに、光スキャナ505を制御して、第1製品部515−1のうち、第1照射領域E1内の所定の穿孔位置にレーザ光Rを照射して、多数の孔を形成する。
【0006】
次に、再び、テーブル507を移動させ、光スキャナ505の照射可能領域を、連結基板511のうち予め決められた次の領域、即ち、この従来例では、図11中で第1照射領域E1から照射可能領域を右に1つ分だけ動かした第2照射領域E2に移動させる。
その後、光スキャナ505を制御して、第1製品部515−1のうち、第2照射領域E2内の所定の穿孔位置にレーザ光Rを照射して、多数の孔を形成する。
【0007】
次に、再び、テーブル507を移動させ、光スキャナ505の照射可能領域を、連結基板511のうち予め決められた次の領域、即ち、図11中で第2照射領域E2から照射可能領域を下に1つ分だけ動かした第3照射領域E3に移動させる。
その後、光スキャナ505を制御して、第1製品部515−1のうち、第3照射領域E3内の所定の穿孔位置にレーザ光Rを照射して、多数の孔を形成する。
【0008】
次に、再び、テーブル507を移動させ、光スキャナ505の照射可能領域を、連結基板511のうち予め決められた次の領域、即ち、図11中で第3照射領域E3から照射可能領域を左に1つ分だけ動かした第4照射領域E4に移動させる。
その後、光スキャナ505を制御して、第1製品部515−1のうち、第4照射領域E4内の所定の穿孔位置にレーザ光Rを照射して、多数の孔を形成する。
このように、テーブル507の移動とレーザ光Rの照射を4回ずつ繰り返すことにより、第1製品部515−1全体について、所定位置に多数の孔が形成される。
【0009】
第1製品部515−1の孔の形成が終わったら、再び、マークの計測まで戻り、今度は、第2製品部515−2(図11中で第1製品部515−1の右側に位置する製品部)の位置合わせマーク513を、CCDカメラ509で計測する。
そして、その後は、第1製品部515−1に孔を形成したのと同様にして、即ち、テーブル507の移動とレーザ光Rの照射を4回ずつ繰り返して、第2製品部515−2の所定位置に多数の孔を形成する。
さらに、その後は、残りの製品部、即ち、第3製品部515−3から第16製品部515−16まで、これを繰り返して、製品集合部517全体について所定位置に多数の孔を形成する。
【0010】
以上で説明したように、連結基板511にレーザで孔を形成する場合には、製品部515毎に形成された位置合わせマーク513の計測をもとに、照射可能領域の移動(テーブル507の移動)とレーザ光Rの照射とを繰り返して、1つの製品部515全体に孔を形成する。そして、1つの製品部515全体に孔を形成し終えたら、他の製品部515について、同様に、製品部515全体に孔を形成していく、という方法で製造している。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このような製造方法では、照射可能領域を移動させる工程とレーザ光Rを照射する工程とを、多くの回数、上述した例では、連結基板511(製品集合部517全体)に孔をあけるのに、4×16=64回ずつ、繰り返さなければならない。従って、作業効率があまり良くない。
【0012】
本発明はかかる現状に鑑みてなされたものであって、レーザで孔を形成する作業の効率を向上させることができる配線基板の製造方法を提供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段、作用及び効果】
その解決手段は、配線基板が複数個並んだ連結配線基板を個分けしてなる配線基板の製造方法であって、完成時に上記配線基板となる製品部が複数個並んだ製品集合部と、この製品集合部の周縁を構成する枠部とからなり、上記枠部に位置合わせマークを有する連結基板のうち、上記位置合わせマークの位置を計測し、孔加工データを算出する計測・算出工程と、上記連結基板の製品集合部に多数の孔を形成する孔形成工程であって、上記孔加工データに基づいて、上記連結基板と所定形状の照射可能領域内にレーザ光を照射可能な光スキャナとの相対位置を、上記照射可能領域内に上記製品集合部の一部を含む位置に移動させる移動工程、及び、上記孔加工データに基づいて、上記光スキャナを制御して、上記製品集合部の所定の穿孔位置にレーザ光を照射して、上記孔を形成する穿孔工程、を含み、上記移動工程及び穿孔工程を繰り返して、複数の上記照射可能領域で敷き詰めた連結照射領域で上記製品集合部を覆うようにして、上記製品集合部に上記多数の孔を形成する孔形成工程と、を備え、前記穿孔工程において、前記穿孔位置が複数あるときは、前記レーザ光を、1パルス分ずつ、直前に照射した上記穿孔位置とは異なる上記穿孔位置に照射して、いずれの上記穿孔位置にも、複数パルス分のレーザ光照射により、上記孔を形成する配線基板の製造方法である。
【0014】
本発明によれば、計測・算出工程において、連結基板の枠部に形成された位置合わせマークを計測し、その計測結果をもとに孔加工データを算出する。
次に、孔形成工程のうち移動工程において、連結基板と光スキャナの相対位置を、孔加工データで決められた最初の相対位置に移動させる。そして、穿孔工程において、孔加工データをもとに、製品集合部のうち光スキャナの照射可能領域内に含まれた所定の穿孔位置にレーザ光を照射して、孔を形成する。
【0015】
このとき、光スキャナの照射可能領域の大きさは、各製品部の大きさとは無関係で良く、つまり、各製品部の大きさを特に考慮する必要はない。
また、光スキャナの照射可能領域内に複数の製品部が含まれる場合には、従来の場合と異なり、照射可能領域内に含まれるすべての製品部がレーザ光照射の対象となる。つまり、照射可能領域内のすべての製品部について、各穿孔位置にレーザ光を照射して孔を形成する。
【0016】
その後、再び移動工程に戻り、連結基板と光スキャナの相対位置を、孔加工データで決められた次の相対位置に移動させる。そして、穿孔工程で、製品集合部のうち新たな穿孔位置にレーザ光を照射して、新たな孔を形成する。
このときも、上記と同様に、光スキャナの照射可能領域内に複数の製品部が含まれる場合には、照射可能領域内に含まれるすべての製品部がレーザ光照射の対象となる。
その後さらに、移動工程及び穿孔工程を繰り返して行い、照射可能領域で敷き詰めた連結照射領域で製品集合部全体を覆うようにして、製品集合部の所定位置に孔を形成する。
【0017】
さらに、その後は、例えば、連結配線基板形成工程において、連結基板に形成された孔に、ビア導体やスルーホール導体等の導体を形成したり、連結基板上に配線層や絶縁層を形成するなどして、配線基板が複数個並んだ連結配線基板を形成する。そして、個分け工程で、この連結配線基板を切断し、個分けすれば、配線基板を形成することができる。
【0018】
このように、本発明では、まず、計測・算出工程おいて、連結基板全体の位置合わせを目的として枠部に形成された位置合わせマークを計測し、孔加工データを算出する。そして、各製品毎に孔を形成する従来の方法とは異なり、光スキャナの照射可能領域を敷き詰めるようにして、照射可能領域内に複数の製品部が含まれる場合には、すべての製品部を穿孔しながら、製品集合部に孔を形成していく。
従って、製品部毎に孔を形成するのに比して、移動工程と穿孔工程とを繰り返す回数を削減することができるので、作業効率良く、孔を形成することができる。
なお、1つの穿孔位置に複数パルス分連続してレーザ光を照射して穿孔すると、穿孔時に発生する熱により、孔の内周面に炭化物等の樹脂残渣が付着するという不具合を生じることがある。
これに対し、本発明では、1パルス分ずつ、直前に照射した穿孔位置とは異なる穿孔位置に照射しているので、即ち、同じ穿孔位置に連続して照射しないので、穿孔時の熱の発生が抑えられる。従って、孔の内周面に炭化物等の樹脂残渣が付着するという不具合を抑制することができる。
【0019】
ここで、光スキャナとしては、所定形状の照射可能領域内にレーザ光を照射可能なものであれば良く、例えば、モータの軸に回動可能に反射鏡を取り付けたガルバノミラーを用いたものや、ポリゴンミラーを用いたものなどが挙げられる。
また、孔としては、連結基板を貫通する貫通孔や、連結基板の一方の主面にのみ開口する有底孔が挙げられる。これらの孔は、例えば、スルーホール導体やビア導体などを形成するのに用いられる。
【0020】
また、位置合わせマークとしては、枠部に形成されていれば良く、枠部の表面に導体層などで形成されたものの他、位置合わせマークの表面が絶縁層などで覆われたものでも良い。マークが絶縁層等の下に隠れていても、X線等によりその位置を計測することが可能だからである。また、位置合わせマークは、枠部を貫通する貫通孔などであっても良い。
また、製品部が複数個並んだ製品集合部としては、隣り合う製品部が互いに接して繋がったものの他、隣り合う製品部が間隔を開けて繋がったものも含まれる。
【0021】
【0022】
【0023】
さらに、上記の配線基板の製造方法であって、前記穿孔工程において、前記レーザ光を、複数の前記穿孔位置に対して、所定の順序で1パルス分ずつ照射する手順を繰り返して、いずれの上記穿孔位置にも上記孔を形成する配線基板の製造方法とするのが好ましい。
【0024】
この製造方法によれば、所定の順序ですべての穿孔位置に、1回目のレーザ光を1パルス分ずつ照射した後、再び、所定の順序ですべての穿孔位置に、2回目のレーザ光を1パルス分ずつ照射するという手順を繰り返して穿孔する。このため、ある穿孔位置を照射してから、再びこの穿孔位置を照射するまでの時間を長く確保することができるので、穿孔時の熱の発生がさらに確実に抑えられる。従って、孔の内周面に炭化物等の樹脂残渣が付着するという不具合をさらに抑制することができる。
【0025】
【発明の実施の形態】
(実施形態)
以下、本発明の実施の形態を、図面を参照しつつ説明する。
本実施形態の配線基板1について、図1に部分拡大断面図を示す。この配線基板1は、平面視49.5mm×49.5mmの略板形状をなし、その中心にコア基板3を備える。コア基板3の主面3A上には、主面側第1樹脂絶縁層5が積層され、さらにその上には、主面側第2樹脂絶縁層7が積層されている。同様に、コア基板3の裏面3B上には、裏面側第1樹脂絶縁層9が積層され、さらにその上には、裏面側第2樹脂絶縁層11が積層されている。
【0026】
このうちコア基板3には、その主面3Aと裏面3Bとの間を貫通する略円筒状の外側貫通孔13(直径約300μm)が多数形成されている。この外側貫通孔13内には、その内周面に沿って、略円筒状の外側スルーホール導体15が形成され、さらに、その内部には、外側樹脂充填体17が充填されている。また、コア基板3の主面3A上には、外側スルーホール導体15と接続する配線層等からなる主面側第1導体層19が形成され、裏面3B上にも、外側スルーホール導体15と接続する配線層等からなる裏面側第1導体層21が形成されている。
【0027】
また、コア基板3、主面側第1樹脂絶縁層5及び裏面側第1樹脂絶縁層9からなる基板には、外側貫通孔13と略同軸で、外側貫通孔13よりも内側に位置する略円筒状の内側貫通孔(孔)23(直径約100μm)が形成されている。この内側貫通孔23内には、その内周面に沿って、略円筒状の内側スルーホール導体25が形成され、さらに、その内部には、内側樹脂充填体27が充填されている。
また、主面側第1樹脂絶縁層5内には、主面側第1導体層19と接続する主面側ビア導体29が多数形成され、裏面側第1樹脂絶縁層9内にも、裏面側第1導体層21と接続する裏面側ビア導体31が多数形成されている。
【0028】
また、主面側第1樹脂絶縁層5と主面側第2樹脂絶縁層7との間には、主面側ビア導体29や内側スルーホール導体25と接続する配線層や接続パッド等からなる主面側第2導体層33が形成されている。そして、主面側第2導体層33のうち接続パッド33Pは、ICチップ等をこの配線基板1に接続するために、主面側第2樹脂絶縁層7に形成された開口7K内に露出している。同様に、裏面側第1樹脂絶縁層9と裏面側第2樹脂絶縁層11との間にも、裏面側ビア導体31や内側スルーホール導体25と接続する配線層や接続パッド等からなる裏面側第2導体層35が形成されている。そして、裏面側第2導体層35のうち接続パッド35Pは、この配線基板1を他の基板に接続するために、裏面側第2樹脂絶縁層11に形成された開口11K内に露出している。
【0029】
この配線基板1は、図2に平面図を示すに連結配線基板51を個分けしたものである。なお、この連結配線基板51は、図中で上下方向に4個、左右方向に4個、計16個の配線基板1が、互いに接して繋がった配線基板集合部53と、その周縁を構成するミミ部55とから構成されている。
【0030】
次いで、上記配線基板1の製造方法について、図3〜図9を参照しつつ説明図する。
まず、図3に示すように、完成時に配線基板1となる製品部57が16個互いに接して繋がった製品集合部59(破線で示す境界Jよりも右側の部分)と、この周縁を構成し、連結配線基板51のミミ部55となる予定の枠部61(境界Jよりも左側の部分)と、からなる連結基板63を用意する。
【0031】
この連結基板63は、コア基板3に主面側第1樹脂絶縁層5及び裏面側第1樹脂絶縁層9が積層されたものであり、公知の手法により、以下のようにして製作される。
即ち、コア基板3を用意し、所定の位置をドリルで穿孔して、外側貫通孔13を形成する。次に、無電解メッキ及び電解メッキを施し、コア基板3の主面3A及び裏面3B上にメッキ層を、外側貫通孔13内に外側スルーホール導体15を形成する。その後、外側スルーホール導体15内に樹脂ペーストを印刷充填し、硬化等させて、樹脂充填体17を形成する。
【0032】
次に、上記メッキ層をエッチングし、所定パターンの主面側第1導体層19及び裏面側第1導体層21を形成するとともに、枠部61のうち連結基板63の四隅近傍の主面3A上に、略円板状の位置合わせマーク65をそれぞれ形成する。その後、コア基板3の主面3A上に、ビア導体を形成するための有底孔5Yを有する主面側第1樹脂絶縁層5を、裏面3B上にも、ビア導体を形成するための有底孔9Yを有する裏面側第1樹脂絶縁層9を形成すれば、図3に示す連結基板63ができる。
【0033】
次に、計測・算出工程において、連結基板63に形成された4つの位置合わせマーク65の位置を計測し、孔加工データを算出する。
その後、孔形成工程において、孔加工データに基づいて、図4に示すように、連結基板63のうち製品集合部59の所定位置に、レーザを用いて、その主面63Aと裏面63Bとの間を貫通する多数の内側貫通孔(孔)23を形成する。
【0034】
さらに詳細に説明すると、これら計測・算出工程及び孔形成工程は、図5に模式図を示すレーザ孔形成装置101で行う。このレーザ孔形成装置101は、レーザ源であるレーザ発振器103と、レーザ光Rを所定領域内に照射するガルバノ光スキャナ(光スキャナ)105と、連結基板63を載せるテーブル107と、位置合わせマーク65を計測するマーク計測器109と、これらを制御するコンピュータ(図示しない)とを備える。
【0035】
このうちレーザ発振器103は、CO2 レーザ発振器であり、発振されたレーザ光Rは、ガルバノ光スキャナ105に送られる。
ガルバノ光スキャナ105は、モータの軸に回動可能に反射鏡を取り付けたガルバノミラーを2個有し、レーザ光RをX方向とY方向とにそれぞれスキャンして、f−θレンズを通じて照射することができるものである。各モータは、コンピュータからの指示により制御され、また、内蔵しているエンコーダからの検出信号をコンピュータへ送出するように構成されている。なお、本実施形態では、このガルバノ光スキャナ105の照射可能領域(ガルバノエリア)は、30mm×30mmである。
【0036】
テーブル107は、コンピュータからの制御で平面方向に移動させることができるものである。従って、これに載置された連結基板63を移動させて、連結基板63とガルバノ光スキャナ105との相対位置を適宜変更することができる。
マーク計測器109は、X線を用いて、連結基板63の枠部61の内部に形成された4つの位置合わせマーク65の位置を計測することができ、この計測結果をコンピュータへ送出するものである。
【0037】
まず、計測・算出工程において、テーブル107上に、主面63A側を上に向けて載置された連結基板63のうち、4つの位置合わせマーク65の位置を、マーク計測器109で計測する。そして、計測結果は、コンピュータに送られ、コンピュータにおいて、計測結果とマーク設計データとを比較し、連結基板63の位置ズレや連結基板63の収縮量等の違いによる誤差が計算され、補正データが作成される。さらに、この補正データに基づき、孔加工設計データを修正し、実際に内側貫通孔23を穿孔するための孔加工データを算出する。次いで、この孔加工データを照射可能領域(ガルバノエリア)別に配置する。
【0038】
次に、孔形成工程のうち移動工程において、上記孔加工データに基づいて、テーブル107を平面方向に移動させ、ガルバノ光スキャナ105が、照射可能領域毎の孔加工データに基づき、連結基板63の製品集合部59のうち所定の領域に、レーザ光Rを照射できるようにする。
具体的には、テーブル107を移動させ、図6に示すように、ガルバノ光スキャナ105の照射可能領域を、連結基板63の製品集合部59のうち、図中で左上の部分に位置する第1照射領域S1に移動させる。
ここで、各製品部57(各配線基板1)の大きさは、平面視49.5mm×49.5mmであり、ガルバノ光スキャナ105の照射可能領域の大きさは、30mm×30mmである。従って、図中で左上の部分に位置する製品部57(これを第1製品部57−1とする。)の一部のみが、最初の照射領域(第1照射領域S1)となる。
【0039】
なお、本実施形態では、図6中、第1製品部57−1の右隣の製品部57を第2製品部57−2、さらに右隣を第3製品部57−3、さらに右隣を第4製品部57−4とする。そして、第4製品部57−4の真下に位置する製品部57を第5製品部57−5、この左隣の製品部57を第6製品部57−6、さらに左隣を第7製品部57−7、さらに左隣を第8製品部57−8とする。以下同様に考えて、残りの製品部57を、第9製品部57−9、第10製品部57−10、第11製品部57−11、第12製品部57−12、第13製品部57−13、第14製品部57−14、第15製品部57−15、及び第16製品部57−16とする。
【0040】
次に、孔形成工程のうち穿孔工程において、照射可能領域毎の孔加工データに基づき、ガルバノ光スキャナ105を制御して、製品集合部59の所定位置、即ち、第1製品部57−1のうち第1照射領域S1内の所定の穿孔位置に、レーザ光Rを照射して、多数の内側貫通孔23を形成する。その際、本実施形態では、レーザ光Rの照射条件を、パルス幅:300μsec、加工出力:20mJ/ショット、ショット数:10回としている。
【0041】
この穿孔工程をさらに詳述すると、本実施形態では、図7に第1照射領域S1に内側貫通孔23を開けた様子を示すように、まず、レーザ光Rを、図中で左上に位置する穿孔位置H1に1パルス分(1ショット)照射する。次に、その近傍の他の穿孔位置H2に1パルス分照射し、さらに、その近傍の他の穿孔位置H3に1パルス分照射する。このようにして、所定の順序に従い、全部で30ヶある各穿孔位置H1〜H30に、レーザ光Rを1パルス分ずつ照射する(1回目のレーザ光照射)。
その後、同様な手順を行い、各穿孔位置H1〜H30に、レーザ光Rを1パルス分ずつさらに照射する(2回目のレーザ光照射)。
このようにして、この手順を合計10回(10ショット分)繰り返して、第1照射領域S1内の各穿孔位置H1〜H30に、多数の内側貫通孔23を形成する。
【0042】
ところで、1つの穿孔位置を10パルス分連続して照射することにより、内側貫通孔23を形成することもできる。しかし、このようにすると、穿孔時に発生する熱により、内側貫通孔23の内周面に炭化物等の樹脂残渣が付着するなどの不具合を生じることがある。
一方、本実施形態では、一の穿孔位置を1パルス分照射したら、次は、他の穿孔位置を1パルス分照射している、つまり、同じ穿孔位置に連続して照射していない。さらには、所定の順序で各穿孔位置を1パルス分ずつ照射する、という手順を繰り返しながら照射している。このため、穿孔時の熱の発生が抑えられ、従って、内側貫通孔23の内周面に炭化物等の樹脂残渣が付着するという不具合も抑制される。
【0043】
次に、再び、移動工程に戻り、テーブル107を移動させることにより、ガルバノ光スキャナ105が、連結基板63の製品集合部59のうち、孔加工データで決められた次の領域を照射できるようにする。
具体的には、テーブル107を移動させ、ガルバノ光スキャナ105の照射可能領域を、第1照射領域S1から照射可能領域1つ分だけ右隣に動かした第2照射領域S2に移動させる(図8参照)。
その際、この2番目の照射領域(第2照射領域S2)には、第1製品部57−1の一部とともに、その右側に位置する第2製品部57−2の一部も含まれるようになる。
【0044】
次に、再び、穿孔工程に進み、ガルバノ光スキャナ105を制御して、製品集合部59のうち、第2照射領域S2内の所定位置をレーザ光Rを照射して、多数の内側貫通孔23を形成する(図8参照)。その際、レーザ光Rの条件や照射方法は、上記穿孔工程と同様にすれば良い。
このとき、従来の方法によれば、第2照射領域S2のうち、第1製品部57−1の所定位置のみを穿孔することになるが、本発明では、第2照射領域S2内に含まれるすべての製品部57を、つまり、第1製品部57−1だけでなく、第2製品部57−2の所定位置をも穿孔する。
【0045】
その後は、移動工程及び穿孔工程を繰り返し、第3照射領域S3、第4照射領域S4、第5照射領域S5という順に、第49照射領域S49まで、各照射領域内の所定の穿孔位置をレーザで穿孔して、内側貫通孔23を形成していく(図8参照)。
このように、本実施形態では、照射可能領域で敷き詰めた連結照射領域SRで製品集合部59全体を覆うようにして、製品集合部59の所定の穿孔位置に、多数の内側貫通孔23を形成している。
【0046】
従って、各製品部57毎に穿孔していた従来の製造方法に比して、作業効率よく、内側貫通孔23を形成することができる。具体的に比較すると、本実施形態で示した連結基板63を、従来の方法により穿孔すれば、4×16=64回、移動工程と穿孔工程とを繰り返さないと、製品集合部59全体に内側貫通孔23を形成することができない。これに対し、本実施形態では、上記のように、49回、移動工程と穿孔工程とを繰り返れば済むので、都合15回分の移動工程及び穿孔工程を削減することができる。
【0047】
次に、連結配線基板形成工程のうちメッキ工程において、無電解メッキ及び電解メッキを順に施し、連結基板63の主面63A及び裏面63B上にメッキ層を、各有底孔5Y,7Y内に主面側ビア導体29及び裏面側ビア導体31を、内側貫通孔23内に、内側スルーホール導体25を形成する(図9参照)。
次に、連結配線基板形成工程のうち内側充填体形成工程において、内側スルーホール導体25内に、樹脂ペーストを印刷充填した後、これを半硬化させ、余分な樹脂を研磨除去し、さらに硬化させて、内側樹脂充填体27を形成する(図9参照)。
次に、連結配線基板形成工程のうち導体層形成工程において、上記メッキ層等上に所定パターンのエッチングレジスト層を形成し、露出部分をエッチングして、所定パターンの主面側第2導体層33及び裏面側第2導体層35を形成する(図9参照)。
【0048】
次に、連結配線基板形成工程のうち絶縁層形成工程において、公知の手法により、図9に示すように、連結基板63の主面63A上に、開口7Kを有する主面側第2樹脂絶縁層7を、裏面63B上にも、開口11Kを有する裏面側第2樹脂絶縁層11を形成する。
このようにして、内側貫通孔23が形成された連結基板63から、図2及び図9に示す連結配線基板51が形成される。
その後、個分工程において、この連結配線基板51を切断して、配線基板1に個分けすれば、図1に示す配線基板1が完成する。なお、この配線基板1の接続パッド33P,35P上に、さらにハンダバンプ等を形成しても良い。
【0049】
以上において、本発明を実施形態に即して説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で、適宜変更して適用できることは言うまでもない。
例えば、上記実施形態では、導体層からなる位置合わせマーク65を用いているが、これに限らず、例えば、連結基板63を貫通する貫通孔を枠部61に形成して、これを位置合わせマークをして用いることもできる。
【0050】
また、上記実施形態では、連結基板63の内部に形成された位置合わせマーク65をX線を利用して計測しているが、位置合わせマーク65上の主面側第1樹脂絶縁層5を除去して、位置合わせマーク65を露出させ、これをCCDカメラ等で計測するようにしても良い。
また、上記実施形態では、内側貫通孔23の形成に本発明を適用しているが、例えば、主面側第1樹脂絶縁層5や裏面側第1樹脂絶縁層7に形成する有底孔5Y,7Yをレーザで穿孔して形成する場合に、本発明を適用しても良い。この場合も、従来に比して、作業効率良く、有底孔5Y,7Yを形成することができる。
【0051】
また、上記実施形態では、外側貫通孔13をドリルにより形成しているが、この貫通孔もレーザにより形成し、本発明を適用することもできる。この場合にも、作業効率良く、外側貫通孔13を形成することができる。
また、上記実施形態では、移動工程で、連結基板63を載せたテーブル107を移動させて、ガルバノ光スキャナ105と連結基板63の相対位置を移動させている。しかし、これに限らず、例えば、ガルバノ光スキャナ105を平面方向に移動させることにより、ガルバノ光スキャナ105と連結基板63の相対位置を移動させることもできる。
【0052】
また、上記実施形態では、ガルバノ光スキャナ105の照射可能領域が、各製品部57の大きさよりも小さい場合を示したが、照射可能領域が各製品部57よりも大きい場合にも本発明を適用することができる。この場合においても、照射可能領域で敷き詰めた連結照射領域で製品集合部を覆うようにして、製品集合部の所定の穿孔位置をレーザ光照射すれば、従来のように各製品部毎に穿孔していくよりも、作業効率良く、孔を形成することができるからである。
【図面の簡単な説明】
【図1】 実施形態に係る配線基板の部分拡大断面図である。
【図2】 実施形態に係る連結配線基板の平面図である。
【図3】 実施形態に係る配線基板の製造方法のうち、連結基板を形成した様子を示す説明図である。
【図4】 実施形態に係る配線基板の製造方法のうち、内側貫通孔を形成した様子を示す説明図である。
【図5】 実施形態に係るレーザ孔形成装置の模式図である。
【図6】 実施形態に係る配線基板の製造方法のうち、連結基板の製品集合部のうち第1照射領域内にレーザ光を照射する様子を示す説明図である。
【図7】 実施形態に係る配線基板の製造方法のうち、第1照射領域内の所定の穿孔位置にレーザ光を照射し、内側貫通孔を形成した様子を示す説明図である。
【図8】 実施形態に係る配線基板の製造方法のうち、連結照射領域で製品集合部を覆うようにして、製品集合部に内側貫通孔を形成する様子を示す説明図である。
【図9】 実施形態に係る配線基板の製造方法のうち、導体、内側樹脂充填体及び第2樹脂絶縁層を形成した様子を示す説明図である。
【図10】 従来技術に係るレーザ孔形成装置の模式図である。
【図11】 従来技術に係る配線基板の製造方法のうち、第1製品部をレーザで照射する様子を示す説明図である。
【符号の説明】
1 配線基板
23 内側貫通孔(孔)
51 連結配線基板
57 製品部
59 製品集合部
61 枠部
63 連結基板
65 位置合わせマーク
105 ガルバノ光スキャナ(光スキャナ)
R レーザ光
SR 連結照射領域
Claims (2)
- 配線基板が複数個並んだ連結配線基板を個分けしてなる配線基板の製造方法であって、
完成時に上記配線基板となる製品部が複数個並んだ製品集合部と、この製品集合部の周縁を構成する枠部とからなり、上記枠部に位置合わせマークを有する連結基板のうち、上記位置合わせマークの位置を計測し、孔加工データを算出する計測・算出工程と、
上記連結基板の製品集合部に多数の孔を形成する孔形成工程であって、
上記孔加工データに基づいて、上記連結基板と所定形状の照射可能領域内にレーザ光を照射可能な光スキャナとの相対位置を、上記照射可能領域内に上記製品集合部の一部を含む位置に移動させる移動工程、及び、
上記孔加工データに基づいて、上記光スキャナを制御して、上記製品集合部の所定の穿孔位置にレーザ光を照射して、上記孔を形成する穿孔工程、を含み、
上記移動工程及び穿孔工程を繰り返して、複数の上記照射可能領域で敷き詰めた連結照射領域で上記製品集合部を覆うようにして、上記製品集合部に上記多数の孔を形成する
孔形成工程と、
を備え、
前記穿孔工程において、前記穿孔位置が複数あるときは、前記レーザ光を、1パルス分ずつ、直前に照射した上記穿孔位置とは異なる上記穿孔位置に照射して、いずれの上記穿孔位置にも、複数パルス分のレーザ光照射により、上記孔を形成する
配線基板の製造方法。 - 請求項1に記載の配線基板の製造方法であって、
前記穿孔工程において、前記レーザ光を、複数の前記穿孔位置に対して、所定の順序で1パルス分ずつ照射する手順を繰り返して、いずれの上記穿孔位置にも上記孔を形成する配線基板の製造方法。
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