JP4510489B2

JP4510489B2 - コーティング組成物の製造方法

Info

Publication number: JP4510489B2
Application number: JP2004074650A
Authority: JP
Inventors: 博小島; 欣也小山; 根子浅田
Original assignee: Hoya Corp; Nissan Chemical Corp
Current assignee: Hoya Corp; Nissan Chemical Corp
Priority date: 2004-03-16
Filing date: 2004-03-16
Publication date: 2010-07-21
Anticipated expiration: 2024-03-16
Also published as: JP2005263854A

Description

本発明は、コーティング組成物の製造方法に関する。さらに詳しくは、本発明は、有機酸水溶液、好ましくはシュウ酸水溶液中で過酸化水素水と金属スズをＨ₂Ｏ₂／Ｓｎモル比が２〜１０、好ましくは２〜４の範囲を保ち、酸化スズ濃度が４０重量％以下になるように反応させることにより生成した粒子径が４〜５０ｎｍの酸化第二スズのコロイド粒子を用い作製した酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイドの表面を、２〜７ｎｍの酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体のコロイド粒子で被覆することによって形成された、粒子径４．５〜６０ｎｍの変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウムのコロイド粒子と、有機珪素化合物を含有したコーティング組成物の製造方法に関する。
本発明の方法で得られたコーティング組成物は、プラスチックレンズの表面に施されるハードコート剤の成分として、さらに、その他種々の用途に用いられる。

既に種々のコーティング組成物が知られている。
その一例として、プラスチックレンズの表面を改良するために、この表面に適用されるハードコート剤の成分として、高い屈折率を有する金属酸化物のゾルが用いられている。
例えば、特許文献１には、酸化第二スズのコロイド粒子と酸化ジルコニウムのコロイド粒子とがこれらの酸化物の重量に基づいてＺｒＯ₂／ＳｎＯ₂として０．０２〜１．０の比率に結合した構造と４〜５０ｎｍの粒子径を有する酸化第二スズ−酸化ジルコニウムの複合体コロイド粒子を核としてその表面が、０．１〜１００のＷＯ₃／ＳｎＯ₂重量比と、０．１〜１００のＳｉＯ₂／ＳｎＯ₂重量比と、２〜７ｎｍの粒子径を有する酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体のコロイド粒子で被覆されることによって形成された粒子径４．５〜６０ｎｍの変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子と、有機珪素化合物からなるコ−ティング組成物が開示されている。かかるコーティング組成物は、光学基材を被覆した場合に、優れた審美性、耐候性、耐擦傷性及び耐湿性などを有すると共に、さらにその上に蒸着膜を施しても、前記物性の変化がほとんどないことが特許文献1には記載されている（特許文献1、特許請求の範囲を参照）。

特開２０００−２８１３４４号公報

従来、膜の耐擦傷性を評価する方法として、スチールウールテストが用いられてきた。しかし、スチールウールテストは、数値で評価するものでないため、評価方法として、近年Bayerテストで耐擦傷性を評価する動きが広がっている。
前記特開２０００−２８１３４４号公報に記載の変性酸化第二スズ−酸化ジルコニウムゾルを含有するハードコート剤を用いてなる硬化膜は、前記Bayerテストで評価した場合において、さらなる耐擦傷性を向上させることが望まれる。
本発明は、かかる課題を解決するためになされたもので、その目的は、紫外線照射による黄変の防止性や、密着性などの諸物性を損なわずに、耐擦傷性を高めた、高い屈折率を有するハードコート膜を提供できるコーティング組成物の製造方法を提供することにある。

本発明者らは前記目的を達成するため鋭意検討した結果、特定の性状を有する酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子を核として、その表面が特定の性状を有する酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体のコロイド粒子で被覆されてなる、特定の粒子径を有する変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子と、有機珪素化合物とを混合することにより、前記課題を解決し得ることを見出した。本発明はかかる知見に基づいて完成したものである。
すなわち、本発明は
（１）金属スズと有機酸と過酸化水素との反応により得られた酸化第二スズのコロイド粒子と、酸化ジルコニウムのコロイド粒子とが、これらの酸化物の重量に基づいてＺｒＯ₂／ＳｎＯ₂として０．０２〜１．０の比率に結合した構造と４〜５０ｎｍの粒子径を有する酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子を核として、その表面が０．１〜１００のＷＯ₃／ＳｎＯ₂重量比と、０．１〜１００のＳｉＯ₂／ＳｎＯ₂重量比と２〜７ｎｍの粒子径を有する酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体のコロイド粒子で被覆されることによって形成された粒子径４．５〜６０ｎｍの変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子と、有機珪素化合物とを混合するコーティング組成物の製造方法、
（２）有機酸が、シュウ酸又はシュウ酸を主成分として含む有機酸である上記（１）に記載のコーティング組成物の製造方法、
（３）前記変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子が、下記（ａ）工程、（ｂ）工程、（ｃ）工程、（ｄ）工程、（ｅ）工程及び（ｆ）工程を含む工程によって製造される上記（１）に記載のコーティング組成物の製造方法、
（ａ）工程：有機酸水溶液中において、過酸化水素水と金属スズをＨ₂Ｏ₂／Ｓｎモル比が２〜４の範囲を保ち、酸化スズ濃度が４０重量％以下になるように反応させ、粒子径が４〜５０ｎｍの酸化第二スズのコロイドを生成させる工程
（ｂ）工程：（ａ）工程で得た４〜５０ｎｍの粒子径を有する酸化第二スズのコロイド粒子をその酸化物ＳｎＯ₂として０．５〜５０重量％の濃度に含有する酸化第二スズ水性ゾルと、ＺｒＯ₂として０．５〜５０重量％濃度のオキシジルコニウム塩の水溶液とを、これらに基づくＺｒＯ₂／ＳｎＯ₂として０．０２〜１．０の重量比に混合する工程、
（ｃ）工程：（ｂ）工程によって得られた混合液を６０〜２００℃で、０．１〜５０時間加熱処理することにより、４〜５０ｎｍの粒子径を有する酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾルを生成させる工程、
（ｄ）工程：タングステン酸塩、スズ酸塩及び珪酸塩をＷＯ₃／ＳｎＯ₂重量比として０．１〜１００、ＳｉＯ₂／ＳｎＯ₂重量比として０．１〜１００の比率に含有する水溶液を調製し、その水溶液中に存在する陽イオンを除去して得られる酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体ゾルを生成させる工程、
（ｅ）工程：（ｃ）工程で得られた酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾルを、それに含まれるＺｒＯ₂とＳｎＯ₂の合計として１００重量部と、（ｄ）工程で得られた２〜７ｎｍの粒子径と０．１〜１００のＷＯ₃／ＳｎＯ₂重量比と０．１〜１００のＳｉＯ₂／ＳｎＯ₂重量比を有する酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体ゾルを、これに含まれるＷＯ₃とＳｎＯ₂とＳｉＯ₂の合計として２〜１００重量部の比率に０〜１００℃で混合することにより、変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾルを生成させる工程、及び
（ｆ）工程：（ｅ）工程で得られた変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾルを陰イオン交換体と接触させることにより、当該ゾル中に存在する陰イオンを除去する工程、
（４）有機酸水溶液が、シュウ酸水溶液又はシュウ酸を主成分として含む有機酸水溶液である上記（３）に記載のコーティング組成物の製造方法である。

本発明のコーティング組成物の一成分である、酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体のコロイド粒子によって表面変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子のゾルはコロイド色を呈し、その乾燥塗膜は約１．８以上の高い屈折率を示す。そしてかかるコロイドと、有機珪素化合物を含有するコーティング組成物から得られる硬化膜は、密着性、透明性、耐摩耗性等も良好である。
従来の方法で得られた変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウムの複合コロイド粒子のゾルは、ゾル中の粒子の形状が紡錘状であり、高濃度で安定に存在することが困難であったのに対して、本発明の変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子のゾルは球状の粒子形状を有し、高濃度でも安定に存在することが可能である。
例えば、従来の方法で得られた変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子のゾルは、粒子濃度が４７．０重量％において、１００ｃｍ³のメスシリンダー中でＢ型粘度計のＮｏ．１のローターにて６０ｒｐｍの回転速度で粘度を測定した場合に、１５ｃ．ｐ．（１５ｍＰａ・ｓ）である。
一方、本発明のコーティング組成物で使用される、変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子のゾルは、粒子濃度が４７．４重量％において、１００ｃｍ³のメスシリンダー中でＢ型粘度計のＮｏ．１のローターにて６０ｒｐｍの回転速度で粘度を測定した場合に、５．５ｃ．ｐ．（５．５ｍＰａ・ｓ）である。
この様に従来品に比べ高濃度で好適なコーティング組成物として使用できるため、塗膜中に粒子が多く存在し、最終品となるプラスチックレンズにおける密着性、耐摩耗性等も良好である。
また、本発明の変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子のゾルは特に塗膜とした場合の膜硬度が従来のものに比べ格段に向上している。これは従来の紡錘状の粒子形状とは異なり、球状の粒子形状を有しているため、塗膜中での粒子のパッキング性が向上したためと推測される。
このゾルは、ｐＨほぼ１〜１０において安定であり、工業製品として供給されるに充分な安定性も与えることができる。
このゾルは、そのコロイド粒子が負に帯電しているから、他の負帯電のコロイド粒子からなるゾルなどとの混和性が良好であり、例えばシリカゾル、五酸化アンチモンゾル、アニオン性又はノニオン性の界面活性剤、ポリビニルアルコール等の水溶液、アニオン性又はノニオン性の樹脂エマルジョン、水ガラス、りん酸アルミニウム等の水溶液、エチルシリケイトの加水分解液、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤の加水分解液などの如き分散体と安定に混合し得る。
このような性質を有するゾルと有機珪素化合物を用いて得られるコーティング組成物は、メガネ用プラスチックレンズ上に硬化膜を形成させ、メガネ用プラスチックレンズの屈折率、耐摩耗性等の向上成分として特に有効である。

本発明は、（A）金属スズと有機酸と過酸化水素との反応により得られた酸化第二スズのコロイド粒子と、酸化ジルコニウムのコロイド粒子とが、これらの酸化物の重量に基づいてＺｒＯ₂／ＳｎＯ₂として０．０２〜１．０の比率に結合した構造と４〜５０ｎｍの粒子径を有する酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子を核として、その表面が０．１〜１００のＷＯ₃／ＳｎＯ₂重量比と、０．１〜１００のＳｉＯ₂／ＳｎＯ₂重量比と、２〜７ｎｍの粒子径を有する酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体のコロイド粒子で被覆されることによって形成された粒子径４．５〜６０ｎｍの変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子と、（B）有機珪素化合物とを混合するコーティング組成物の製造方法である。

本発明のコーティング組成物の一成分である、（Ａ）成分のゾルの製造に用いられる核粒子としての酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子のゾルは、上記（ａ）工程と（ｂ）工程及び（ｃ）工程からなる方法で製造する事ができる。
（ａ）工程に用いられる酸化第二スズのコロイド粒子は、有機酸水溶液中で過酸化水素水と金属スズをＨ₂Ｏ₂／Ｓｎモル比が２〜４の範囲を保ち、酸化スズ濃度が４０重量％以下になるように反応させ生成させることにより、粒子径が４〜５０ｎｍの酸化第二スズのコロイド粒子として得ることができる。
この際、有機酸水溶液中に、過酸化水素水と金属スズをＨ₂Ｏ₂／Ｓｎモル比が２〜４の範囲に保ちながら添加するものである。過酸化水素水と金属スズはそれらの全量を一度に有機酸水溶液中に添加することもできるが、数回に分け、交互に添加する方法が好ましい。過酸化水素水と金属スズの添加順序に定めはないが、Ｈ₂Ｏ₂／Ｓｎモル比が２〜４の範囲に保たれていることが肝要である。通常は、過酸化水素水と金属スズを添加して、その反応が終了するのを待って次の過酸化水素水と金属スズの添加に移る。１回の反応時間は添加量にもよるが、通常５〜１０分程度であり、次の過酸化水素水と金属スズの添加を行う。

（ａ）工程に用いられる有機酸と過酸化水素と金属スズの重量割合は、通常有機酸：過酸化水素：金属スズ＝０．２１〜０．５３：０．５７〜１．１５：１．０である。
有機酸水溶液としては、シュウ酸水溶液又はシュウ酸を主成分として含む有機酸水溶液が好ましいが、シュウ酸水溶液のみを用いることで特に好ましく製造することができる。シュウ酸を主成分として含む有機酸水溶液とは、全有機酸中で８０重量％以上のシュウ酸を含む有機酸の水溶液であり、残部はギ酸、酢酸等の有機酸を含有することができる。これらの有機酸水溶液は好ましくは濃度１〜３０重量％、さらに好ましくは４〜１０重量％の範囲で使用することができる。

酸化第二スズゾルの媒体は、水、親水性有機溶媒及びこれらの混合物のいずれでもよいが、媒体が水である水性ゾルが好ましい。また、ゾルのｐＨとしては、ゾルを安定ならしめる値がよく、通常、０．２〜１１程度がよい。本発明の目的が達成される限り、酸化第二スズゾルには、任意の成分、例えば、ゾルの安定化のためのアルカリ性物質、酸性物質、オキシカルボン酸等が含まれていてもよい。用いられる酸化第二スズゾルの濃度としては、酸化第二スズとして０．５〜５０重量％程度であるが、この濃度は低い方がよく、好ましくは１〜３０重量％である。

酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾルは、上記酸化第二スズゾルにオキシジルコニウム塩をＺｒＯ₂／ＳｎＯ₂重量比が０．０２〜１．０になるように、通常０〜１００℃で０．５〜３時間程度混合する（ｂ）工程、次いでこれを６０〜２００℃、０．１〜５０時間加熱処理する（ｃ）工程により得ることができる。
用いるオキシジルコニウム塩としては、オキシ塩化ジルコニウム、オキシ硝酸ジルコニウム、オキシ硫酸ジルコニウム、オキシ酢酸ジルコニウムなどのオキシ有機酸ジルコニウム、オキシ炭酸ジルコニウム等がある。これらのオキシジルコニウム塩は固体又は水溶液として用いることができるが、ＺｒＯ₂として０．５〜５０重量％程度の水溶液として用いるのが好ましい。オキシ炭酸ジルコニルのように、水に不溶の塩も混合する酸化第二スズが酸性ゾルの場合は使用することが可能である。
酸化第二スズゾルは特にアミンなどの有機塩基で安定化されたアルカリ性のゾルを用いるのが好ましく、オキシジルコニウム塩との混合は、通常０〜１００℃、好ましくは室温〜６０℃程度がよい。そしてこの混合は撹拌下で酸化第二スズゾルにオキシジルコニウム塩を加えても、オキシジルコニウム塩水溶液に酸化第二スズゾルを加えてもよいが、後者の方が好ましい。この混合は充分行われる必要があり、０．５〜３時間程度が好ましい。

本発明において、被覆ゾルとして用いられ、（ｄ）工程で得られる酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体体ゾルに含まれるＷＯ₃、ＳｎＯ₂及びＳｉＯ₂複合体コロイド粒子は、電子顕微鏡によって粒子径を観測することができ、その粒子径は２〜７ｎｍ、好ましくは２〜５ｎｍである。このゾルのコロイド粒子の分散媒としては、水、親水性有機溶媒及びこれらの混合物のいずれも可能である。このゾルは、ＷＯ₃、ＳｎＯ₂及びＳｉＯ₂をＷＯ₃／ＳｎＯ₂重量比として０．１〜１００、ＳｉＯ₂／ＳｎＯ₂重量比として０．１〜１００の比率に含有する。このゾルに含まれるＷＯ₃、ＳｎＯ₂及びＳｉＯ₂の合計の濃度は、通常４０重量％以下、実用上好ましくは２重量％以上、好ましくは５〜３０重量％である。このゾルは、１〜９程度のｐＨを示し、無色透明乃至僅かにコロイド色を有する液である。そして、室温では３ケ月以上、６０℃でも１ケ月以上安定であり、このゾル中に沈降物が生成することがなく、また、このゾルが増粘したり、ゲル化を起すようなことはない。

（ｄ）工程で得られる酸化タングステン（ＷＯ₃）、酸化第二スズ（ＳｎＯ₂）及び二酸化珪素（ＳｉＯ₂）の複合体コロイド粒子を含有する安定な酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体ゾルは、例えば
（ｄ−１）工程：タングステン酸塩、スズ酸塩及び珪酸塩をＷＯ₃／ＳｎＯ₂重量比として０．１〜１００、ＳｉＯ₂／ＳｎＯ₂重量比として０．１〜１００の比率に含有した水溶液を調製する工程、及び
（ｄ−２）工程：（ｄ−１）工程で得られた水溶液中に存在する陽イオンを除去する工程、を施すことにより製造することができる。

（ｄ−１）工程で用いられるタングステン酸塩、スズ酸塩および珪酸塩の例としては、アルカリ金属、アンモニウム、アミン等のタングステン酸塩、スズ酸塩および珪酸塩等が挙げられる。これらアルカリ金属、アンモニウム及びアミンの好ましい例としては、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、ＮＨ₄ ⁺、あるいはエチルアミン、トリエチルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−プロピルアミン、イソブチルアミン、ジイソブチルアミン、ジ（２−エチルヘキシル）アミン等のアルキルアミン；ベンジルアミン等のアラルキルアミン；ピペリジン等の脂環式アミン；モノエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミンなどが挙げられる。特に、タングステン酸ナトリウム（Ｎａ₂ＷＯ₄・２Ｈ₂Ｏ）、スズ酸ナトリウム（Ｎａ₂ＳｎＯ₃・３Ｈ₂Ｏ）及び珪酸ナトリウム（水ガラス）が好ましい。また、酸化タングステン、タングステン酸、スズ酸、珪酸等をアルカリ金属水酸化物の水溶液に溶解したものも使用することが出来る。また珪酸塩として活性珪酸にエチルアミン、トリエチルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−プロピルアミン、イソブチルアミン、ジイソブチルアミン、ジ（２−エチルヘキシル）アミン等のアルキルアミンを添加して得られるアミンシリケートや第４級アンモニウムシリケートも使用する事ができる。

（ｄ−１）工程の水溶液の調製方法としては、タングステン酸塩、スズ酸塩、珪酸塩の各粉末を水に溶解させ水溶液を調製する方法や、タングステン酸塩水溶液、スズ酸塩水溶液、及び珪酸塩水溶液を混合して水溶液を調製する方法や、タングステン酸塩とスズ酸塩の粉末及び珪酸塩の水溶液を水に添加して水溶液を調製する方法等が挙げられる。
（ｄ）工程のゾルの製造に用いられるタングステン酸塩の水溶液は、ＷＯ₃として０．１〜１５重量％濃度のものが好ましいが、これ以上の濃度でも使用可能である。
（ｄ）工程のゾルの製造に用いられるスズ酸塩の水溶液としては、ＳｎＯ₂濃度０．１〜３０重量％程度が好ましいが、これ以上の濃度でも使用可能である。
また、（ｄ）工程のゾルの製造に用いられる珪酸塩の水溶液としては、ＳｉＯ₂濃度０．１〜３０重量％程度が好ましいが、これ以上の濃度でも使用可能である。
（ｄ−１）工程での水溶液の調製は攪拌下に、室温〜１００℃程度、好ましくは、室温〜６０℃位で行うのがよい。混合すべき水溶液は、ＷＯ₃／ＳｎＯ₂重量比として０．１〜１００、ＳｉＯ₂／ＳｎＯ₂重量比として０．１〜１００になるように用いられる。

（ｄ−２）工程は（ｄ−１）工程で得られた水溶液中に存在する陽イオンを除去する工程である。脱陽イオン処理の方法としては水素型イオン交換体と接触させる方法や塩析により行うことができる。ここで用いられる水素型陽イオン交換体としては、通常用いられるものであり、例えば市販品の水素型陽イオン交換樹脂を用いることが出来る。

（ｄ−１）工程及び（ｄ−２）工程を経て得られた水性ゾルは、濃度が低いときには所望に応じ、この水性ゾルを通常の濃縮方法、例えば、蒸発法、限外濾過法等により、ゾルの濃度を高めることができる。特に、限外濾過法は好ましい。この濃縮においても、ゾルの温度は約１００℃以下、特に６０℃以下に保つことが好ましい。
（ｄ）工程の水性ゾルの水を親水性有機溶媒で置換することによりオルガノゾルと呼ばれる親水性有機溶媒ゾルが得られる。

（ｄ）工程で得られた酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体ゾルは、酸化第二スズと酸化タングステンと二酸化珪素が原子レベルで均一に複合（固溶）して得られた酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素からなる複合体粒子を含有する。従って、酸化タングステンゾル、酸化第二スズゾル及び二酸化珪素ゾルの３種のゾルを単に混合して得られるものではない。
酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体ゾルは、酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体粒子が固溶体を形成している為に、溶媒置換によっても酸化タングステン粒子、酸化第二スズ粒子及び二酸化珪素粒子に分解する事はない。
酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体ゾルは、酸化タングステン−酸化第二スズ複合体ゾルに比べ、基材に被覆して被膜を形成した際に、耐水性、耐湿性、及び耐候性が向上する。

（ｄ）工程で得られたゾル中のＷＯ₃／ＳｎＯ₂重量比は、上述のように０．１〜１００である。該重量比が０．１未満では、ゾルが不安定であり、また、この重量比が１００を越えると、やはりゾルは安定性を示さない。高いｐＨの水性ゾルから上記オルガノゾルをつくる際に加えられるオキシカルボン酸も、ゾルの安定化に貢献するが、その添加量はゾル中のＷＯ₃、ＳｎＯ₂及びＳｉＯ₂の合計に対し３０重量％未満であることが好ましい。該添加量が３０重量%以上と多いと、このようなゾルを用いて得られる乾燥塗膜の耐水性が低下する原因となる。用いられるオキシカルボン酸の例としては、乳酸、酒石酸、クエン酸、グルコン酸、リンゴ酸、グリコール等が挙げられる。また、アルカリ成分としては、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ等のアルカリ金属水酸化物、ＮＨ₄ ⁺、あるいはエチルアミン、トリエチルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−プロピルアミン等のアルキルアミン；ベンジルアミン等のアラルキルアミン；ピペリジン等の脂環式アミン；モノエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミン等が挙げられる。これらは２種以上を混合して含有することができる。また、上記の酸性成分と併用することもできる。ゾル中のアルカリ金属、アンモニウム、アミン、オキシカルボン酸等の量に対応して、そのゾルのｐＨが変わる。ゾルのｐＨが１未満ではゾルは不安定であり、ｐＨが９を越えると、酸化タングステン、酸化第二スズおよび二酸化珪素の複合体のコロイド粒子が液中で溶解し易い。ゾル中のＷＯ₃、ＳｎＯ₂及びＳｉＯ₂の合計濃度が４０重量％を超えると、ゾルはやはり安定性に乏しい。この濃度が薄すぎると非実用的であり、工業製品として好ましい濃度は５〜３０重量％である。
濃縮法として限外濾過法を用いると、ゾル中に共存しているポリアニオン、極微小粒子等が水と一緒に限外濾過膜を通過するので、ゾルの不安定化の原因であるこれらポリアニオン、極微小粒子等をゾルから除去することができる。

（ｅ）工程は、（ｃ）工程で得られた酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾルを、それに含まれるＺｒＯ₂とＳｎＯ₂の合計として１００重量部と、（ｄ）工程で得られた２〜７ｎｍの粒子径と０．１〜１００のＷＯ₃／ＳｎＯ₂重量比と０．１〜１００のＳｉＯ₂／ＳｎＯ₂重量比を有する酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体ゾルを、これに含まれるＷＯ₃とＳｎＯ₂とＳｉＯ₂の合計として２〜１００重量部の比率に０〜１００℃で混合する工程である。
（ｅ）工程により、酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体ゾルのコロイド粒子を酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾルのコロイド粒子表面に結合させて、当該表面を上記酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体のコロイド粒子で被覆することにより、そのコロイド粒子を核としてその表面が酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体の性質を有するように変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子を生成させることができ、そしてこの変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子が液媒体に安定に分散したゾルとして得ることができる。

酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体のコロイド粒子によって変性されたこれらの酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子のゾルは、この酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾルをその金属酸化物（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂）として１００重量部と、上記酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体ゾルをこのゾルのＷＯ₃、ＳｎＯ₂及びＳｉＯ₂の合計として２〜１００重量部の比率に、好ましくは強撹拌下に混合する（ｅ）工程、次いでこの混合ゾルからゾル中の陰イオンを除去する（ｆ）工程により得られる。

上記（ｅ）工程の混合によって得られたゾル中の変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子は、電子顕微鏡によって観察することができ、ほぼ４．５〜６０ｎｍの粒子径を有する。上記混合によって得られたゾルはｐＨがほぼ１〜９を有しているが、改質のために用いたオキシジルコニウム塩に由来するＣｌ^-、ＮＯ₂ ^-、ＣＨ₃ＣＯＯ^-などのアニオンを多く含有しているために、コロイド粒子はミクロ凝集を起こしており、ゾルの透明性が低くなっている。
上記混合によって得られたゾル中のアニオンを（ｆ）工程にて陰イオンを除去することにより、透明性の良い、安定な変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子のゾルを得ることができる。

（ｆ）工程の陰イオン除去は上記混合によって得られたゾルを水酸基型陰イオン交換樹脂で、通常１００℃以下、好ましくは室温〜６０℃位の温度で処理することにより得られる。水酸基型陰イオン交換樹脂は市販品を用いることができるが、アンバーライトＩＲＡ−４１０のような強塩基型のものが好ましい。
（ｆ）工程の水酸基型陰イオン交換樹脂による処理は（ｅ）工程での混合によって得られたゾルの金属酸化物濃度が１〜１０重量％で行うのが特に好ましい。

（ａ）〜（ｆ）工程により得られた変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾルの濃度を更に高めたいときには、最大約５０重量％まで常法、例えば蒸発法、限外濾過法等により濃縮することができる。またこのゾルのｐＨを調整したい時には、濃縮後に、前記アルカリ金属、アンモニウム等の水酸化物、前記アミン、オキシカルボン酸等をゾルに加えることによって行うことができる。特に、上記金属酸化物（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂）と（ＷＯ₃＋ＳｎＯ₂＋ＳｉＯ₂）の合計濃度が１０〜５０重量％であるゾルは実用的に好ましい。
（ｆ）工程より得られた変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾル中のコロイド粒子は、エチルシリケート、メチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン等のシラン化合物又はその加水分解物で、部分的に又は全面的に表面を被覆する事ができる。

上記混合によって得られた変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾルが水性ゾルであるときは、この水性ゾルの水媒体を親水性有機溶媒で置換することによりオルガノゾルが得られる。この置換は、蒸留法、限外濾過法等通常の方法により行うことができる。この親水性有機溶媒の例としてはメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール等の低級アルコール；ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド等の直鎖アミド類；Ｎ−メチル−２−ピロリドン等の環状アミド類；エチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコール等のグリコール類等が挙げられる。
上記水と親水性有機溶媒との置換は、通常の方法、例えば、蒸留置換法、限外濾過法等によって容易に行うことができる。

本発明で用いる酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体のコロイド粒子によって表面が被覆され、変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子はゾル中で負に帯電している。上記酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子は陽に帯電しており、酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体のコロイド粒子は負に帯電している。従って、（ｅ）工程での混合によりこの陽に帯電している酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子の周りに負に帯電している酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体のコロイド粒子が電気的に引き寄せられ、そして陽帯電のコロイド粒子表面上に化学結合によって酸化タングステン−酸化第二スズ複合体のコロイド粒子が結合し、この陽帯電の粒子を核としてその表面を酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体のコロイド粒子が覆ってしまうことによって、変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子が生成したものと考えられる。

但し、核ゾルとしての粒子径４〜５０ｎｍの酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子と、被覆ゾルとしての酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体コロイド粒子とを混合するときに、核ゾルの金属酸化物（ＺｒＯ₂とＳｎＯ₂）１００重量部に対し、被覆ゾルの金属酸化物（ＷＯ₃＋ＳｎＯ₂＋ＳｉＯ₂）の合計量が２重量部より少ないと、安定なゾルが得られにくい。このことは、酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体のコロイド粒子の量が不足するときには、この複合体のコロイド粒子による酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子を核とするその表面の被覆が不充分となり、生成コロイド粒子の凝集が起こり易く、生成ゾルを不安定ならしめるものと考えられる。従って、混合すべき酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体コロイド粒子の量は、酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子の全表面を覆う量より少なくてもよいが、安定な変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子のゾルを生成せしめるに必要な最小量以上の量である。この表面被覆に用いられる量を越える量の酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体コロイド粒子が上記混合に用いられたときには、得られたゾルは、酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体コロイド粒子のゾルと、生じた変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子のゾルの安定な混合ゾルに過ぎない。
好ましくは、酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子をその表面被覆によって変性するには、用いられる酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体のコロイド粒子の量は、核ゾルの金属酸化物（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂）１００重量部に対し、被覆ゾル中の金属酸化物（ＷＯ₃＋ＳｎＯ₂＋ＳｉＯ₂）の合計として１００重量部以下がよい。

本発明で用いられる変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体の好ましい水性ゾルは、ｐＨ３〜１１程度を有し、ｐＨが３より低いとそのようなゾルは不安定となり易い。また、このｐＨが１１を越えると、変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子を覆っている酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体が液中に溶解し易い。更に変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子のゾル中の上記金属酸化物（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂）と（ＷＯ₃＋ＳｎＯ₂＋ＳｉＯ₂）の合計濃度が６０重量％を越えるときにも、このようなゾルは不安定となり易い。工業製品として好ましい濃度は１０〜５０重量％程度である。
酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体コロイド粒子は高温で加水分解を受け易いことから、（ｅ）工程の混合、（ｆ）工程の陰イオン交換および（ｆ）工程後の濃縮、ｐＨ調整、溶媒置換等の際には１００℃以下が好ましい。

本発明のコーティング組成物においては、（Ｂ）成分として有機珪素化合物が用いられる。この有機珪素化合物としては、例えば一般式（Ｉ）
Ｒ¹ｎＳｉ（ＯＲ²）_4-n …（Ｉ）
（式中、Ｒ¹は官能基を有する若しくは有しない一価の炭素数１〜２０の炭化水素基、Ｒ²は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数７〜１０のアラルキル基または炭素数２〜１０のアシル基、ｎは０、１または２を示し、Ｒ¹が複数ある場合、複数のＲ¹はたがいに同一でも異なっていてもよいし、複数のＲ²Ｏはたがいに同一でも異なっていてもよい。）で表される化合物、一般式（II）

（式中、Ｒ³およびＲ⁴は、それぞれ同一または異なる炭素数１〜４のアルキル基または炭素数２〜４のアシル基、Ｒ⁵およびＲ⁶は、それぞれ同一または異なる一価の炭素数１〜５の官能基を有する若しくは有しない炭化水素基、Ｙは炭素数２〜２０の二価の炭化水素基、ａおよびｂは、それぞれ０または１を示し、複数のＯＲ³は、たがいに同一でも異なっていてもよいし、複数のＯＲ⁴はたがいに同一でも異なっていてもよい。）で表される化合物およびそれらの加水分解物の中から選ばれる少なくとも１種が挙げられる。

前記一般式（Ｉ）において、Ｒ¹で示される炭素数１〜２０の一価の炭化水素基としては、炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状、環状のアルキル基、炭素数２〜２０の直鎖状、分岐状、環状のアルケニル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基を挙げることができる。ここで、炭素数１〜２０のアルキル基としては、炭素数１〜１０のものが好ましく、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。また、炭素数２〜２０のアルケニル基としては、炭素数２〜１０のアルケニル基が好ましく、例えばビニル基、アリル基、ブテニル基、ヘキセニル基、オクテニル基などが挙げられる。炭素数６〜２０のアリール基としては、炭素数６〜１０のものが好ましく、例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基などが挙げられる。炭素数７〜２０のアラルキル基としては、炭素数７〜１０のものが好ましく、例えばベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、ナフチルメチル基などが挙げられる。

これらの炭化水素基には官能基が導入されていてもよく、該官能基としては、例えばハロゲン原子、グリシドキシ基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基、シアノ基、（メタ）アクリロイルオキシ基などが挙げられる。これらの官能基を有する炭化水素基としては、該官能基を有する炭素数１〜１０のアルキル基が好ましく、例えばγ−クロロプロピル基、３，３，３−トリクロロプロピル基、クロロメチル基、グリシドキシメチル基、α−グリシドキシエチル基、β−グリシドキシエチル基、α−グリシドキシプロピル基、β−グリシドキシプロピル基、γ−グリシドキシプロピル基、α−グリシドキシブチル基、β−グリシドキシブチル基、γ−グリシドキシブチル基、δ−グリシドキシブチル基、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル基、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル基、γ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピル基、δ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）ブチル基、Ｎ−（β−アミノエチル）−γ−アミノプロピル基、γ−アミノプロピル基、γ−メルカプトプロピル基、β−シアノエチル基、γ−メタクリロイルオキシプロピル基、γ−アクリロイルオキシプロピル基などが挙げられる。

一方、Ｒ²のうちの炭素数１〜８のアルキル基は直鎖状、分岐状、環状のいずれであってもよく、その例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられ、アリール基としては、例えばフェニル基、トリル基などが挙げられ、アラルキル基としては、例えばベンジル基、フェネチル基などが挙げられる。また、アシル基としては、例えばアセチル基などが挙げられる。
ｎは０、１または２であり、Ｒ¹が複数ある場合、複数のＲ¹はたがいに同一であってもよいし、異なっていてもよく、また、複数のＲ²Ｏはたがいに同一であってもよいし、異なっていてもよい。

前記一般式（Ｉ）で表される化合物の例としては、メチルシリケート、エチルシリケート、ｎ−プロピルシリケート、イソプロピルシリケート、ｎ−ブチルシリケート、ｓｅｃ−ブチルシリケート、ｔｅｒｔ−ブチルシリケート、テトラアセトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリアミロキシシラン、メチルトリフノキシシラン、メチルトリベンジルオキシシラン、メチルトリフェネチルオキシシラン、グリシドキシメチルトリメトキシシラン、グリシドキシメチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリフェノキシシラン、α−グリシドキシブチルトリメトシシラン、α−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、β−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、δ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、δ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリメトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリプロポキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリブトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリフェノキシシラン、γ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリメトキシシラン、γ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリエトキシシラン、δ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）ブチルトリメトキシシラン、δ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）ブチルトリエトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジメトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジエトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジエトキシシラン、β−グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、β−グリシドキシエチルメチルジエトキシシラン、α−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジフェノキシシラン、γ−グリシドキシプロピルエチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルエチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルビニルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルビニルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルフェニルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルフェニルジエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリアセトキシシン、３，３，３−トリフロロプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、β−シアノエチルトリエトキシシラン、クロロメチルトリメトキシシラン、クロロメチルトリエトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシランなどが挙げられる。

一方、前記一般式（II）において、Ｒ³およびＲ⁴のうちの炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基が挙げられ、炭素数２〜４のアシル基としては、アセチル基が好ましく挙げられる。このＲ³およびＲ⁴はたがいに同一であってもよいし、異なっていてもよい。また、Ｒ⁵およびＲ⁶で示される一価の炭素数１〜５の炭化水素基としては、炭素数１〜５のアルキル基および炭素数２〜５のアルケニル基が挙げられる。これらは直鎖状、分岐状のいずれであってもよく、アルキル基の例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基などが挙げられ、アルケニル基としては、例えばビニル基、アリル基、ブテニル基などが挙げられる。

これらの炭化水素基には官能基が導入されていてもよく、該官能基および官能基を有する炭化水素基としては、前記一般式（Ｉ）のＲ¹の説明で例示したものと同じものを挙げることができる。このＲ⁵およびＲ⁶はたがいに同一であってもよいし、異なっていてもよい。Ｙで示される炭素数２〜２０の二価の炭化水素基としては、炭素数２〜１０のアルキレン基およびアルキリデン基が好ましく、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、エチリデン基、プロピリデン基などが挙げられる。
ａおよびｂは、それぞれ０または１を示し、複数のＯＲ³は、たがいに同一でも異なっていてもよいし、複数のＯＲ⁴はたがいに同一でも異なっていてもよい。

前記一般式（II）で表される化合物の例としては、メチレンビス（メチルジメトキシシラン）、エチレンビス（エチルジメトキシシラン）、プロピレンビス（エチルジエトキシシラン）、ブチレンビス（メチルジエトキシシラン）などが挙げられる。

本発明のコーティング組成物においては、（Ｂ）成分の有機珪素化合物として、一般式（Ｉ）、（II）で表される化合物およびその加水分解物の中から適宜１種選択して用いてもよいし、２種以上を選択し、組み合わせて用いてもよい。また、加水分解物は、一般式（Ｉ）、（II）で表される有機珪素化合物に、水酸化ナトリウムやアンモニアの水溶液などの塩基性水溶液、酢酸水溶液やクエン酸水溶液などの酸性水溶液を添加し、攪拌することにより調製することができる。

本発明のコーティング組成物における前記（Ａ）成分の変性酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子と（Ｂ）成分の有機珪素化合物の含有割合については、屈折率及び良好な透明性を得る観点から（Ｂ）成分１００重量部当たり、（Ａ）成分を、固形分として１〜５００重量部の割合で含有するのが好ましい。そして、用途に応じて（Ａ）成分の含有量を上記範囲で適宜選定する。

本発明のコーティング組成物は、光学基材に適用するのが好ましく、この光学基材としては、例えばメチルメタクリレート単独重合体、メチルメタクリレートと１種以上の他のモノマーとをモノマー成分とする共重合体、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート単独重合体、ジエチレングリコールビスアリルカーボネートと１種以上の他のモノマーとをモノマー成分とする共重合体、イオウ含有共重合体、ハロゲン含有共重合体、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、不飽和ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリウレタン、ポリチオウレタンなどのプラスチック基材を挙げることができる。審美性（すなわち、コーティング膜とレンズ基材との屈折率差による干渉縞の発生がない）ことを考慮すると特に、屈折率が１．５５〜１．６２であるプラスチックレンズが適している。

本発明のコーティング組成物には、所望により、反応を促進するために硬化剤を、種々の基材となるレンズとの屈折率をあわせるために微粒子金属酸化物を、また塗布時における濡れ性を向上させ、硬化膜の平滑性を向上させる目的で各種の有機溶剤や界面活性剤を含有させることもできる。さらに、紫外線吸収剤、酸化防止剤、光安定剤等も硬化膜の物性に影響を与えない限り添加することも可能である。

前記硬化剤の例としては、アリルアミン、エチルアミンなどのアミン類、またルイス酸やルイス塩基を含む各種酸や塩基、例えば有機カルボン酸、クロム酸、次亜塩素酸、ホウ酸、過塩素酸、臭素酸、亜セレン酸、チオ硫酸、オルトケイ酸、チオシアン酸、亜硝酸、アルミン酸、炭酸などを有する塩または金属塩、さらにアルミニウム、ジルコニウム、チタニウムを有する金属アルコキシドまたはこれらの金属キレート化合物などが挙げられる。特に好ましい硬化剤は耐擦傷性の観点から、アセチルアセトネート金属塩である。（C）成分として用いられるアセチルアセトネート金属塩としては、Ｍ¹(ＣＨ₃ ＣＯＣＨＣＯＣＨ₃)n1（ＯＲ⁶）n2（式中、Ｍ¹ はＺｎ(II)、Ｔｉ(IV)、Ｃｏ(II)、Ｆｅ(II)、Ｃｒ(III) 、Ｍｎ(II)、Ｖ(III) 、Ｖ(IV)、Ｃａ(II)、Ｃｏ(III) 、Ｃｕ(II)、Ｍｇ(II)、Ｎｉ(II)、Ｒ⁶ は炭素数１〜８の炭化水素基、ｎ1 ＋ｎ2 はＭ¹の価数に相当する数字で２，３または４であり、ｎ2 は０，１または２である。）で表わされる金属錯体化合物が挙げられる。Ｒ⁶ としては、前記一般式（Ｉ）において例示した炭素数１〜１０の炭化水素基のうち炭素数１〜８のものを挙げることができる。

また、前記微粒子状金属酸化物としては、従来公知のもの、例えば酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化アンチモン、酸化ジルコニウム、酸化ケイ素、酸化セリウム、酸化鉄などの微粒子が挙げられる。

コーティング組成物の硬化は、通常熱風乾燥または活性エネルギー線照射によって行われ、硬化条件としては、７０〜２００℃の熱風中にて行うのがよく、特に好ましくは９０〜１５０℃が望ましい。なお活性エネルギー線としては遠赤外線などがあり、熱による損傷を低く抑えることができる。

本発明のコーティング組成物を用い、その硬化被膜を基材上に形成する方法としては、上述したコーティング組成物を基材に塗布する方法が挙げられる。塗布手段としてはディッピング法、スピンコーティング法、スプレー法など通常行われる方法が適用できるが、面精度の面からディッピング法、スピンコーティング法が特に望ましい。
さらに上述したコーティング組成物を基材に塗布する前に、基材に酸、アルカリ、各種有機溶剤による化学的処理、プラズマ、紫外線などによる物理的処理、各種洗剤を用いる洗剤処理、サンドブラスト処理、更には各種樹脂を用いたプライマー処理を施すことによって、基材と硬化膜との密着性などを向上させることができる。
また、コーティング組成物を基材に塗布して、硬化膜を形成した後、硬化膜の上に真空蒸着法やスパッタリングなどの物理気相蒸着法等にて、無機酸化物、有機化合物を原料とした反射防止膜を施すことができる。

本発明のコーティング組成物は、眼鏡レンズの基材の他、カメラ用レンズ基材、自動車の窓ガラス、ワードプロッセサーのディスプレイに付設する光学フィルタなどに塗布することができる。

次に、本発明を実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定されるものではない。なお、各例で得られた硬化膜を有する光学部材は、以下に示す方法により、諸物性を測定した。
得られた硬化膜付き光学部材を、室温で１日間放置した後、以下の（イ）〜（ニ）の評価を行った。
（イ）干渉縞の評価
蛍光灯下で硬化膜を有する光学部材を目視で判断した。判断基準は以下のとおりである。
◎………干渉縞が見えない
○………干渉縞がほとんど見えない
△………少し見える
×………かなり見える
（ロ）密着性評価
硬化膜に１．５ｍｍ間隔で１００目クロスカットし、このクロスカットした所に粘着テープ（商品名：セロファンテープニチバン(株)製品）を強く貼り付けた後、粘着テープを急速に剥がした後の硬化膜の剥離の有無を調べた。判断基準は以下のとおりである。
◎………剥離なし
○………剥離数１〜１０目
△………剥離数１１〜５０目
×………剥離数５１〜１００目

（ハ）透明性評価
暗室内、蛍光灯下で硬化膜に曇りがあるかどうかを目視で調べた。判断基準は以下のとおりである。
◎………曇りがみえない
○………曇りがほとんどみえない
△………少し見える
×………かなり見える
（ニ）Ｂａｙｅｒ値測定
摩耗試験機 BTE^TM Abrasion Tester（米COLTS社製）及び、ヘイズ値測定装置（村上色彩技術研究所）を使用し、基準レンズとのヘイズ値変化の差によりＢａｙｅｒ値を測定した。
（サンプル数、測定方法）
（１）基準レンズ（ＣＲ３９基材）３枚、サンプルレンズ３枚を用意。
（２）摩耗テスト前ヘイズ(haze)値の測定。
（３）BTE^TM Abrasion Testerにて、摩耗性テスト。
（砂による表面摩耗６００往復）
（４）摩耗テスト後ヘイズ値の測定。
（５）Bayer値算出（３枚分の平均値とする）
（Bayer値＝基準レンズの透過率変化／サンプルレンズの透過率変化）

［変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子の製造］
製造例１
（ａ）工程
しゅう酸（（ＣＯＯＨ）₂・２Ｈ₂Ｏ）３７．５ｋｇを純水２２０ｋｇに溶解し、これを５００Ｌの容器にとり、攪拌下７０℃まで加温し、３５％過酸化水素水１５０ｋｇと金属スズ（山石金属社製、商品名：ＡＴ−ＳＮ、Ｎo２００Ｎ）７５ｋｇを添加した。
過酸化水素水と金属スズの添加は交代に行った。初めに３５％過酸化水素水１０ｋｇを次いで金属スズ５ｋｇを添加した。反応が終了するのを待って（５〜１０分）この操作を繰り返した。添加に要した時間は２．５時間で、添加終了後、更に９０℃で１時間加熱し、反応を終了させた。過酸化水素水と金属スズのモル比はＨ₂Ｏ₂／Ｓｎとして２．４８であった。
得られた酸化スズゾルは非常に透明性が良好であった。この酸化スズゾルの収量は、３５２ｋｇで比重１．３１２、ｐＨ１．４９、粘度４４ｍＰａ・ｓ、ＳｎＯ₂として２６．１重量％であった。
得られたゾルを電子顕微鏡で観察したところ、１０〜１５ｎｍの球状の分散性の良い粒子であった。このゾルは放置によりやや増粘傾向を示したが、室温６ヶ月放置ではゲル化は認められず安定であった。
得られたゾル２３０ｋｇを純水にてＳｎＯ₂として５重量％に希釈し、イソプロピルアミンを３ｋｇ添加し、陰イオン交換樹脂（Rohm&Haas社製、商品名：アンバーライトＩＲＡ−４１０）を充填したカラムに通液、ついで９０℃で１ｈｒ加熱熟成、さらに陰イオン交換樹脂（前出：アンバーライトＩＲＡ−４１０）を充填したカラムに通液し、アルカリ性の酸化スズゾル１４３１ｋｇを得た。
得られたゾル４００ｋｇを１４０℃で５ｈｒ加熱処理した。

（ｂ）工程
オキシ塩化ジルコニウム水溶液（ＺｒＯ₂濃度は１８．４重量％）８７０ｇ（ＺｒＯ₂として１６０ｇ含有する。）に純水１ｋｇを添加し、ついで撹拌下に、室温で、（ａ）工程で得られたアルカリ性の酸化第二スズ水性ゾル２５．７ｋｇ（ＳｎＯ₂として１０６８ｇ）を添加した。混合液はＺｒＯ₂／ＳｎＯ₂重量比０．１５でコロイド色を有する透明性の良好なゾルであった。

（ｃ）工程
（ｂ）工程で調製した混合液を撹拌下に、９０℃で５時間加熱処理を行い、酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾル２７．６ｋｇを得た。このゾルはＳｎＯ₂として３．３７重量％、ＺｒＯ₂として０．５０重量％、ＳｎＯ₂＋ＺｒＯ₂として３．８７重量％でコロイド色を有するが、透明性は良好であった。

（ｄ）工程
３号珪そう（ＳｉＯ₂として２９．０重量％含有する。）２０７ｇを水２６５０ｇに溶解し、ついでタングステン酸ナトリウムＮａ₂ＷＯ₄・２Ｈ₂Ｏ（ＷＯ₃として７４重量％含有する）６０．８ｇおよびスズ酸ナトリウムＮａＳｎＯ₃・Ｈ₂Ｏ（ＳｎＯ₂として５５重量％含有する）８１．８ｇを溶解した。次いでこれを水素型陽イオン交換樹脂（Rohm&Haas社製、商品名：アンバーライトＩＲ−１２０Ｂ）のカラムに通すことにより酸性の酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体ゾル（ｐＨ２．１、ＷＯ₃として１．３重量％、ＳｎＯ₂として１．３重量％、ＳｉＯ₂として１．７重量％を含有し、ＷＯ₃／ＳｎＯ₂重量比１．０、ＳｉＯ₂／ＳｎＯ₂重量比１．３３、粒子径２．５ｎｍであった。）３４５０ｇを得た。

（ｅ）工程
（ｄ）工程で調製した酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体ゾル３４５０ｇ（ＷＯ₃＋ＳｎＯ₂＋ＳｉＯ₂として１５０ｇを含有する。）に撹拌下に、室温で（ｃ）工程で調製した酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾル１２２００ｇ（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂として５００ｇ含有する。）を２０分で添加し、３０分間撹拌を続行した。得られた混合液は酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂）と酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体コロイド粒子（ＷＯ₃＋ＳｎＯ₂＋ＳｉＯ₂）の比は（ＷＯ₃＋ＳｎＯ₂＋ＳｉＯ₂）／（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂）重量比０．３０、全金属酸化物４．２重量％であり、コロイド粒子のミクロ凝集による白濁傾向を示した。

（ｆ）工程
（ｅ）工程で得た混合液１５６５０ｇにジイソブチルアミンを１１．０ｇ添加し、水酸基型陰イオン交換樹脂（前出：アンバーライトＩＲＡ−４１０）を充填したカラムに室温で通液、次いで８０〜９０℃で１ｈｒ加熱熟成することにより変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合水性ゾル（希薄液）１９６８０ｇを得た。このゾルは全金属酸化物３．３重量％、ｐＨ１０．６４で、コロイド色は呈するが透明性は良好であった。

（ｆ）工程で得られた変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾル（希薄液）を、分画分子量１０万の限外濾過膜の濾過装置により室温で濃縮し、高濃度の変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾル２６４１ｇを得た。このゾルは全金属酸化物（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂＋ＷＯ₃＋ＳｉＯ₂）濃度２４．６重量％で、安定であった。
上記高濃度の変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾル２６４１ｇに撹拌下に、室温で酒石酸６．５ｇ、ジイソブチルアミン９．８ｇ、消泡剤（サンノプコ社製、商品名：ＳＮディフォーマー４８３）１滴を加え、１時間撹拌した。このゾルを攪拌機付き反応フラスコで常圧下、メタノール２４リットルを少しずつ加えながら水を留去することにより、水性ゾルの水をメタノールで置換した変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体メタノールゾル１６２０ｇを得た。このゾルは比重１．２４４、ｐＨ６．７８（水との等重量混合物）、粘度１．３ｍＰａ・ｓ、全金属酸化物（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂＋ＷＯ₃＋ＳｉＯ₂）濃度は４０．５重量％、水分０．５９重量％、電子顕微鏡観察による粒子径は１０〜１５ｎｍであった。
このゾルを全金属酸化物（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂＋ＷＯ₃＋ＳｉＯ₂）濃度として、４７重量％まで濃縮したものを、１００ｃｍ³のメスシリンダーに入れ、Ｂ型粘度計のＮｏ．１ローターを用い６０ｒｐｍの回転数で測定した粘度は、６．５ｍＰａ・ｓであった。
このゾルはコロイド色を呈し、透明性が高く、室温で３ケ月放置後も沈降物の生成、白濁、増粘などの異常は認められず安定であった。またこのゾルの乾燥物の屈折率は１．８５であった。

製造例２
製造例２は、製造例１の（ａ）工程、（ｂ）工程、（ｃ）工程と同様の工程を行い、その後に、以下の工程を行った。
（ｄ）工程
３号珪そう（ＳｉＯ₂として２９．０重量％含有する。）１３８ｇを水１７６６ｇに溶解し、ついでタングステン酸ナトリウムＮａ₂ＷＯ₄・２Ｈ₂Ｏ（ＷＯ₃として７４重量％含有する）４０．５ｇおよびスズ酸ナトリウムＮａＳｎＯ₃・Ｈ₂Ｏ（ＳｎＯ₂として５５重量％含有する）５５．６ｇを溶解した。次いでこれを水素型陽イオン交換樹脂（前出：アンバーライトＩＲ−１２０Ｂ）のカラムに通すことにより酸性の酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体ゾル（ｐＨ２．０、ＷＯ₃として１．２重量％、ＳｎＯ₂として１．２重量％、ＳｉＯ₂として１．６重量％を含有し、ＷＯ₃／ＳｎＯ₂重量比１．０、ＳｉＯ₂／ＳｎＯ₂重量比１．３３、粒子径２．５ｎｍであった。）２５２０ｇを得た。

（ｅ）工程
（ｄ）工程で調製した酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体ゾル２５２０ｇ（ＷＯ₃＋ＳｎＯ₂＋ＳｉＯ₂として１５０ｇを含有する。）に撹拌下に、室温で実施例１の（ｃ）工程で調製した酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾル１２２００ｇ（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂として５００ｇ含有する。）を２０分で添加し、３０分間撹拌を続行した。得られた混合液は酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂）と酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体コロイド粒子（ＷＯ₃＋ＳｎＯ₂＋ＳｉＯ₂）の比は（ＷＯ₃＋ＳｎＯ₂＋ＳｉＯ₂）／（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂）重量比０．２０、全金属酸化物４．１重量％であり、コロイド粒子のミクロ凝集による白濁傾向を示した。

（ｆ）工程
（ｅ）工程で得た混合液１４７２０ｇにジイソブチルアミンを１１．０ｇ添加し、水酸基型陰イオン交換樹脂（前出：アンバーライトＩＲＡ−４１０）を充填したカラムに室温で通液、次いで８０〜９０℃で１ｈｒ加熱熟成することにより変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾル（希薄液）１８４８０ｇを得た。このゾルは全金属酸化物３．２重量％、ｐＨ１０．２３で、コロイド色は呈するが透明性は良好であった。

（ｆ）工程で得られた変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾル（希薄液）を、分画分子量１０万の限外濾過膜の濾過装置により室温で濃縮し、高濃度の変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾル３４５８ｇを得た。このゾルは全金属酸化物（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂＋ＷＯ₃＋ＳｉＯ₂）１４．８重量％で、安定であった。
上記高濃度の変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾル３２４３ｇに撹拌下に、室温で酒石酸４．８ｇ、ジイソブチルアミン７．２ｇ、消泡剤（前出：ＳＮディフォーマー４８３）１滴を加え、１時間撹拌した。このゾルを攪拌機付き反応フラスコで常圧下、メタノール２６リットルを少しずつ加えながら水を留去することにより、水性ゾルの水をメタノールで置換した変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体メタノールゾル１２４０ｇを得た。このゾルは比重１．２３５、ｐＨ６．９５（水との等重量混合物）、粘度１．５ｍＰａ・ｓ、全金属酸化物（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂＋ＷＯ₃＋ＳｉＯ₂）濃度は４０．２重量％、水分０．９０重量％、電子顕微鏡観察による粒子径は１０〜１５ｎｍであった。
このゾルはコロイド色を呈し、透明性が高く、室温で３ケ月放置後も沈降物の生成、白濁、増粘などの異常は認められず安定であった。またこのゾルの乾燥物の屈折率は１．８５であった。

製造例３
製造例３は、製造例１の（ａ）工程、（ｂ）工程、（ｃ）工程と同様の工程を行い。その後に、以下の工程を行った。
（ｄ）工程
３号珪そう（ＳｉＯ₂として２９．０重量％含有する。）１０１．６ｇを水１８２５ｇに溶解し、ついでタングステン酸ナトリウムＮａ₂ＷＯ₄・２Ｈ₂Ｏ（ＷＯ₃として７４重量％含有する）３２．３ｇおよびスズ酸ナトリウムＮａＳｎＯ₃・Ｈ₂Ｏ（ＳｎＯ₂として５５重量％含有する）４０．８ｇを溶解した。次いでこれを水素型陽イオン交換樹脂（前出：アンバーライトＩＲ−１２０Ｂ）のカラムに通すことにより酸性の酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体ゾル（ｐＨ２．１、ＷＯ₃として０．９重量％、ＳｎＯ₂として０．９重量％、ＳｉＯ₂として１．１重量％を含有し、ＷＯ₃／ＳｎＯ₂重量比１．０、ＳｉＯ₂／ＳｎＯ₂重量比１．３３、粒子径２．５ｎｍであった。）２６４０ｇを得た。

（ｅ）工程
（ｄ）工程で調製した酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体ゾル２６４０ｇ（ＷＯ₃＋ＳｎＯ₂＋ＳｉＯ₂として７５ｇを含有する。）に撹拌下に、室温で（ｃ）工程で調製した酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾル１２２００ｇ（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂として５００ｇ含有する。）を２０分で添加し、３０分間撹拌を続行した。
得られた混合液は酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂）と酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体コロイド粒子（ＷＯ₃＋ＳｎＯ₂＋ＳｉＯ₂）の比は（ＷＯ₃＋ＳｎＯ₂＋ＳｉＯ₂）／（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂）重量比０．１４、全金属酸化物３．９重量％であり、コロイド粒子のミクロ凝集による白濁傾向を示した。

（ｆ）工程
（ｅ）工程で得た混合液１４８４０ｇにジイソブチルアミンを１１．０ｇ添加し、水酸基型陰イオン交換樹脂（前出：アンバーライトＩＲＡ−４１０）を充填したカラムに室温で通液、次いで８０〜９０℃で１ｈｒ加熱熟成することにより変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾル（希薄液）１９３６０ｇを得た。このゾルは全金属酸化物３．０重量％、ｐＨ１０．５０で、コロイド色は呈するが透明性は良好であった。

（ｆ）工程で得られた変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾル（希薄液）を、分画分子量１０万の限外濾過膜の濾過装置により室温で濃縮し、高濃度の変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾル２３５２ｇを得た。このゾルの全金属酸化物（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂＋ＷＯ₃＋ＳｉＯ₂）濃度は２２．０重量％で、安定であった。
上記高濃度の変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾル２２７２ｇに撹拌下に、室温で酒石酸５．０ｇ、ジイソブチルアミン７．５ｇ、消泡剤（前出：ＳＮディフォーマー４８３）１滴を加え、１時間撹拌した。このゾルを攪拌機付き反応フラスコで常圧下、メタノール２２リットルを少しずつ加えながら水を留去することにより、水性ゾルの水をメタノールで置換した変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体メタノールゾル１１９０ｇを得た。このゾルは比重１．２３２、ｐＨ６．９２（水との等重量混合物）、粘度１．３ｍＰａ・ｓ、全金属酸化物（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂＋ＷＯ₃＋ＳｉＯ₂）は４０．３重量％、水分０．４３重量％、電子顕微鏡観察による粒子径は１０〜１５ｎｍであった。
このゾルはコロイド色を呈し、透明性が高く、室温で３ケ月放置後も沈降物の生成、白濁、増粘などの異常は認められず安定であった。またこのゾルの乾燥物の屈折率は１．８５であった

製造例４
（ａ）工程
しゅう酸（（ＣＯＯＨ）₂・２Ｈ₂Ｏ）３７．５ｋｇを純水３６３ｋｇに溶解し、これを５００Ｌの容器にとり、攪拌下７０℃まで加温し、３５％過酸化水素水１５０ｋｇと金属スズ（前出：ＡＴ−ＳＮ、Ｎｏ２００Ｎ）７５ｋｇを添加した。
過酸化水素水と金属スズの添加は交代に行った。初めに３５％過酸化水素水１０ｋｇを次いで金属スズ５ｋｇを添加した。反応が終了するのを待って（５〜１０分）この操作を繰り返した。添加に要した時間は２．５時間で、添加終了後、３５％過酸化水素水１０ｋｇを更に添加し、９０℃で１時間加熱、反応を終了させた。過酸化水素水と金属スズのモル比はＨ₂Ｏ₂／Ｓｎ２．６０であった。
得られた酸化スズゾルは非常に透明性が良好であった。この酸化スズゾルの収量は、６２２ｋｇで比重１．１５６、ｐＨ１．５６、ＳｎＯ₂として１５．０重量％であった。
得られたゾルを電子顕微鏡で観察したところ、１０〜１５ｎｍの球状の分散性の良い粒子であった。このゾルは放置によりやや増粘傾向を示したが、ゲル化は認められず安定であった。
得られたゾル６２２ｋｇを純水にてＳｎＯ₂として５重量％に希釈し、イソプロピルアミンを４．７ｋｇ添加し、陰イオン交換樹脂（前出：アンバーライトＩＲＡ−４１０）を充填したカラムに通液、ついで９５℃で１ｈｒ加熱熟成、さらに陰イオン交換樹脂（前出：アンバーライトＩＲＡ−４１０）を充填したカラムに通液し、アルカリ性の酸化スズゾル２１９４ｋｇを得た。ついで、得られたゾルを１４０℃で５ｈｒ加熱処理した。

（ｂ）工程
オキシ塩化ジルコニウム水溶液（ＺｒＯ₂濃度は１７．６８重量％）７６．１ｋｇ（ＺｒＯ₂として１３．５ｋｇ含有する。）に純水３３０ｋｇおよび３５％塩酸３．２ｋｇを添加し、ついで撹拌下に、室温で、（ａ）工程で得られたアルカリ性の酸化第二スズ水性ゾル２５９７ｋｇ（ＳｎＯ₂として８９．７ｋｇ）を添加した。混合液はＺｒＯ₂／ＳｎＯ₂重量比０．１５でコロイド色を有する透明性の良好なゾルであった。

（ｃ）工程
（ｂ）工程で調製した混合液を撹拌下に、９５℃で５時間加熱処理を行い、酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾル２９５８ｋｇを得た。このゾルはＳｎＯ₂として３．０３重量％、ＺｒＯ₂として０．４６重量％、ＳｎＯ₂＋ＺｒＯ₂として３．４９重量％でコロイド色を有するが、透明性は良好であった。

（ｄ）工程
３号珪そう（ＳｉＯ₂として２９．３重量％含有する。）３８．９ｋｇを純水８３０ｋｇに溶解し、ついでタングステン酸ナトリウムＮａ₂ＷＯ₄・２Ｈ₂Ｏ（ＷＯ₃として６９．８重量％含有する）１２．２ｋｇおよびスズ酸ナトリウムＮａＳｎＯ₃・Ｈ₂Ｏ（ＳｎＯ₂として５５．７重量％含有する）１５．３ｋｇを溶解した。次いでこれを水素型陽イオン交換樹脂（前出：ＩＲ−１２０Ｂ）のカラムに通すことにより酸性の酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体ゾル（ｐＨ２．２、ＷＯ₃として０．７重量％、ＳｎＯ₂として０．７重量％、ＳｉＯ₂として０．９重量％を含有し、ＷＯ₃／ＳｎＯ₂重量比１．０、ＳｉＯ₂／ＳｎＯ₂重量比１．３３であった。）１２０１ｋｇを得た。

（ｅ）工程
（ｄ）工程で調製した酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体ゾル１１７９ｋｇ（ＷＯ₃＋ＳｎＯ₂＋ＳｉＯ₂として２８．４ｋｇを含有する。）に撹拌下に、室温で（ｃ）工程で調製した酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾル２９５８ｋｇ（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂として１０３．２ｋｇ含有する。）を６０分で添加し、１０分間撹拌を続行した。得られた混合液は酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂）と酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体コロイド粒子（ＷＯ₃＋ＳｎＯ₂＋ＳｉＯ₂）の比は（ＷＯ₃＋ＳｎＯ₂＋ＳｉＯ₂）／（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂）重量比０．２５、全金属酸化物は３．４６重量％であり、コロイド粒子のミクロ凝集による白濁傾向を示した。

（ｆ）工程
（ｅ）工程で得た混合液３７９８ｋｇにジイソブチルアミンを２．３ｋｇ添加し、水酸基型陰イオン交換樹脂（前出：アンバーライトＩＲＡ−４１０）を充填したカラムに室温で通液、次いで９０℃で１ｈｒ加熱熟成することにより変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾル（希薄液）を得た。このゾルは、ｐＨ９．５９で、コロイド色は呈するが透明性は良好であった。

（ｆ）工程で得られた変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾル（希薄液）を、分画分子量１０万の限外濾過膜の濾過装置により４０〜５０℃で濃縮し、高濃度の変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾル３６５ｋｇを得た。このゾルの全金属酸化物（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂＋ＷＯ₃＋ＳｉＯ₂）濃度は３３．５重量％で、安定であった。
上記高濃度の変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾル３５０ｋｇに撹拌下に、室温で酒石酸１．１ｋｇ、ジイソブチルアミン１．７ｋｇ、消泡剤（前出：ＳＮディフォーマー４８３）１滴を加え、１時間撹拌した。このゾルを攪拌機付き反応容器で常圧下、メタノール４２０３ｋｇを添加しながら水を留去することにより、水性ゾルの水をメタノールで置換した変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体メタノールゾル２１８ｇを得た。このゾルは比重１．２８５、ｐＨ６．４０（水との等重量混合物）、粘度１．３ｍＰａ・ｓ、全金属酸化物（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂＋ＷＯ₃＋ＳｉＯ₂）は４２．８重量％、水分０．３４重量％、電子顕微鏡観察による粒子径は１０〜１５ｎｍであった。
このメタノールゾルを全金属酸化物（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂＋ＷＯ₃＋ＳｉＯ₂）濃度として、４７．８重量％まで濃縮したものを、１００ｃｍ³のメスシリンダーに入れ、Ｂ型粘度計のＮｏ．１ローターを用い６０ｒｐｍの回転数で測定した粘度は、５．５ｍＰａ・ｓであった。
このゾルはコロイド色を呈し、透明性が高く、室温で沈降物の生成、白濁、増粘などの異常は認められず安定であった。またこのゾルの乾燥物の屈折率は１．８５であった。

製造例５
（ａ）工程
しゅう酸（（ＣＯＯＨ）₂・２Ｈ₂Ｏ）３７．５ｋｇを純水３６３ｋｇに溶解し、これを５００Ｌの容器にとり、攪拌下７０℃まで加温し、３５％過酸化水素水１５０ｋｇと金属スズ（前出：ＡＴ−ＳＮ、Ｎｏ２００Ｎ）７５ｋｇを添加した。
過酸化水素水と金属スズの添加は交代に行った。初めに３５％過酸化水素水１０ｋｇを次いで金属スズ５ｋｇを添加した。反応が終了するのを待って（５〜１０分）この操作を繰り返した。添加に要した時間は２．５時間で、添加終了後、３５％過酸化水素水１０ｋｇを更に添加し、９０℃で１時間加熱、反応を終了させた。過酸化水素水と金属スズのモル比Ｈ₂Ｏ₂／Ｓｎは２．６０であった。
得られた酸化スズゾルは非常に透明性が良好であった。この酸化スズゾルの収量は、６２６ｋｇで比重１．１５４、ｐＨ１．５６、ＳｎＯ₂濃度は１４．９重量％であった。
得られたゾルを電子顕微鏡で観察したところ、１０〜１５ｎｍの球状の分散性の良い粒子であった。このゾルは放置によりやや増粘傾向を示したが、ゲル化は認められず安定であった。
得られたゾル６２６ｋｇを純水にてＳｎＯ₂として５重量％に希釈し、イソプロピルアミンを４．６６ｋｇ添加し、陰イオン交換樹脂（前出：アンバーライトＩＲＡ−４１０）を充填したカラムに通液、ついで９５℃で１ｈｒ加熱熟成、さらに陰イオン交換樹脂（前出：アンバーライトＩＲＡ−４１０）を充填したカラムに通液し、アルカリ性の酸化スズゾル２５３５ｋｇを得た。ついで、得られたゾルを１４０℃で５ｈｒ加熱処理した。

（ｂ）工程
オキシ塩化ジルコニウム水溶液（ＺｒＯ₂濃度は１７．６８重量％）７８．２ｋｇ（ＺｒＯ₂として１３．８ｋｇ含有する。）に純水３００ｋｇおよび３５％塩酸３．３ｋｇを添加し、ついで撹拌下に、室温で、（ａ）工程で得られたアルカリ性の酸化第二スズ水性ゾル２５２９ｋｇ（ＳｎＯ₂として９１．０ｋｇ）を添加した。混合液はＺｒＯ₂／ＳｎＯ₂重量比０．１５でコロイド色を有する透明性の良好なゾルであった。

（ｃ）工程
（ｂ）工程で調製した混合液を撹拌下に、９５℃で５時間加熱処理を行い、酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾル３４７１ｋｇを得た。このゾルはＳｎＯ₂として２．６２重量％、ＺｒＯ₂として０．４０重量％、ＳｎＯ₂＋ＺｒＯ₂として３．０１重量％でコロイド色を有するが、透明性は良好であった。

（ｄ）工程
３号珪そう（ＳｉＯ₂として２９．３重量％含有する。）４９．８ｋｇを純水８９８ｋｇに溶解し、ついでタングステン酸ナトリウムＮａ₂ＷＯ₄・２Ｈ₂Ｏ（ＷＯ₃として６９．８重量％含有する）１０．５ｋｇおよびスズ酸ナトリウムＮａＳｎＯ₃・Ｈ₂Ｏ（ＳｎＯ₂として５５．７重量％含有する）１３．１ｋｇを溶解した。次いでこれを水素型陽イオン交換樹脂（前出：ＩＲ−１２０Ｂ）のカラムに通すことにより酸性の酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体ゾル（ｐＨ２．０、ＷＯ₃として０．６重量％、ＳｎＯ₂として０．６重量％、ＳｉＯ₂として１．２重量％を含有し、ＷＯ₃／ＳｎＯ₂重量比１．０、ＳｉＯ₂／ＳｎＯ₂重量比２．０であった。）１１７９ｋｇを得た。

（ｅ）工程
（ｄ）工程で調製した酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体ゾル１１７９ｋｇ（ＷＯ₃＋ＳｎＯ₂＋ＳｉＯ₂として２９．２ｋｇを含有する。）に撹拌下に、室温で（ｃ）工程で調製した酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾル３４７１ｋｇ（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂として１０４．８ｋｇ含有する。）を６０分で添加し、１０分間撹拌を続行した。得られた混合液は酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂）と酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体コロイド粒子（ＷＯ₃＋ＳｎＯ₂＋ＳｉＯ₂）の比は（ＷＯ₃＋ＳｎＯ₂＋ＳｉＯ₂）／（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂）重量比０．２５、全金属酸化物は２．９重量％であり、コロイド粒子のミクロ凝集による白濁傾向を示した。

（ｆ）工程
（ｅ）工程で得た混合液４６５０ｋｇにジイソブチルアミンを２．３ｋｇ添加し、水酸基型陰イオン交換樹脂（前出：アンバーライトＩＲＡ−４１０）を充填したカラムに室温で通液、次いで９０℃で１ｈｒ加熱熟成することにより変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾル（希薄液）を得た。このゾルは、ｐＨ９．１０で、コロイド色は呈するが透明性は良好であった。

（ｆ）工程で得られた変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾル（希薄液）を、分画分子量１０万の限外濾過膜の濾過装置により４０〜５０℃で濃縮し、高濃度の変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾル３５８ｋｇを得た。このゾルは全金属酸化物（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂＋ＷＯ₃＋ＳｉＯ₂）３１．９重量％で、安定であった。
上記高濃度の変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾル３５８ｋｇに撹拌下に、室温で酒石酸１．１ｋｇ、ジイソブチルアミン１．７ｋｇ、消泡剤（前出：ＳＮディフォーマー４８３）１滴を加え、１時間撹拌した。このゾルを攪拌機付き反応容器で常圧下、メタノール５０１０リットルを添加しながら水を留去することにより、水性ゾルの水をメタノールで置換した変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体メタノールゾル２２０ｇを得た。このゾルは比重１．２８０、ｐＨ６．５９（水との等重量混合物）、粘度２．１ｍＰａ・ｓ、全金属酸化物（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂＋ＷＯ₃＋ＳｉＯ₂）は４２．８重量％、水分０．４３重量％、電子顕微鏡観察による粒子径は１０〜１５ｎｍであった。
このメタノールゾルを全金属酸化物（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂＋ＷＯ₃＋ＳｉＯ₂）濃度として、４６．８重量％まで濃縮したものを、１００ｃｍ³のメスシリンダーに入れ、Ｂ型粘度計のＮｏ．１ローターを用い６０ｒｐｍの回転数で測定した粘度は、６．３ｍＰａ・ｓであった。
このゾルはコロイド色を呈し、透明性が高く、室温で沈降物の生成、白濁、増粘などの異常は認められず安定であった。またこのゾルの乾燥物の屈折率は１．８５であった。

比較製造例１
変性酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾルの製造
＜酸化第二スズゾルの調製＞金属スズ粉末と塩酸水溶液と過酸化水素水溶液との反応により得られた比重１．４２０、ｐＨ０．４０、撹拌直後の粘度３２ｍＰａ・ｓ、ＳｎＯ₂含量３３．０重量％、ＨＣｌ含量２．５６重量％、電子顕微鏡による紡錘状コロイド粒子径１０ｎｍ以下、ＢＥＴ法による粒子の比表面積１２０ｍ²／ｇ、この比表面積からの換算粒子径７．２ｎｍ、米国コールター社製Ｎ4装置による動的光散乱法粒子径１０７ｎｍ、淡黄色透明の酸化第二スズ水性ゾル１２００ｇを水１０８００ｇに分散させた後、これにイソプロピルアミン４．８ｇを加え、次いで、この液を水酸基型陰イオン交換樹脂充填のカラムに通すことにより、アルカリ性の酸化第二スズ水性ゾル１３４４０ｇを得た。このゾルは、安定であり、コロイド色を呈しているが、透明性が非常に高く、比重１．０２９、ｐＨ９．８０、粘度１．４ｍＰａ・ｓ、ＳｎＯ₂含量２．９５重量％、イソプロピルアミン含量０．０３６重量％であった。

（ａ）工程
試薬のオキシ塩化ジルコニウム（ＺｒＯＣｌ₂・８Ｈ₂Ｏ）を水に溶解して調製したオキシ塩化ジルコニウム水溶液（ＺｒＯ₂として２．０重量％）３０４３ｇ（ＺｒＯ₂として６０．８７ｇ含有する。）に撹拌下に、室温で、上記調製したアルカリ性の酸化第二スズ水性ゾル１０７９１ｇ（ＳｎＯ₂として４０９．５ｇ）を添加し、二時間撹拌を続行した。混合液はＺｒＯ₂／ＳｎＯ₂重量比０．１５、ｐＨ１．５０でコロイド色を有する透明性の良好なゾルであった。

（ｂ）工程(酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾルの作製)
（ａ）工程で調製した混合液を撹拌下に、９０℃で５時間加熱処理を行い、酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾル１３８３４ｇを得た。このゾルはＳｎＯ₂として２．９６重量％、ＺｒＯ₂として０．４４重量％、ＳｎＯ₂＋ＺｒＯ₂として３．４０重量％、ｐＨ１．４５で、粒子径９．０ｎｍ、コロイド色を有するが、透明性は良好であった。

（ｃ）工程(酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体ゾルの作製)
３号珪そう（ＳｉＯ2として２９．０重量％含有する。）１１３ｇを水２３５３．７ｇに溶解し、次いでタングステン酸ナトリウムＮａ₂ＷＯ₄・２Ｈ₂Ｏ（ＷＯ₃として７１重量％含有する。）３３．３ｇおよびスズ酸ナトリウムＮａＳｎＯ₃・Ｈ₂Ｏ（ＳｎＯ₂として５５重量％含有する。）４２．４５ｇを溶解する。次いでこれを水素型陽イオン交換樹脂のカラムに通すことにより酸性の酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体ゾル（ｐＨ２．１、ＷＯ₃として０．７５重量％、ＳｎＯ₂として０．７５重量％、ＳｉＯ₂として１．００重量％を含有し、ＷＯ₃／ＳｎＯ₂重量比１．０、ＳｉＯ₂／ＳｎＯ₂重量比１．３３であり、粒子径２．５ｎｍであった。）３１５０ｇを得た。

（ｄ）工程
（ｃ）工程で調製した酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体ゾル３１５０ｇ（ＷＯ₃＋ＳｎＯ₂＋ＳｉＯ₂として７８．８３ｇを含有する。）に撹拌下に、室温で（ｂ）工程で調製した酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾル１１５９２．６ｇ（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂として３９４．１ｇ含有する。）を２０分で添加し、３０分間撹拌を続行した。得られた混合液は酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂）と酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体コロイド（ＷＯ₃＋ＳｎＯ₂＋ＳｉＯ₂）の比は（ＷＯ₃＋ＳｎＯ₂＋ＳｉＯ₂）／（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂）重量比０．２０、ｐＨ２．２６、全金属酸化物３．２重量％であり、コロイド粒子のミクロ凝集による白濁傾向を示した。

（ｅ）工程(変性酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾルの作製)
（ｄ）工程で得た混合液１４７４２．６ｇにジイソブチルアミンを９．５ｇ添加し、次いで水酸基型陰イオン交換樹脂（前出：アンバーライトＩＲＡ−４１０）を充填したカラムに室温で通液、次いで８０℃で１時間加熱熟成することにより変性酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾル（希薄液）１６２８８ｇを得た。このゾルは全金属酸化物２．９０重量％、ｐＨ１０．４３で、コロイド色は呈するが透明性は良好であった。

（ｅ）工程で得られた変性酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾル（希薄液）を、分画分子量５万の限外濾過膜の濾過装置により室温で濃縮し、高濃度の変性酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾル２１８２ｇを得た。このゾルはｐＨ８．７１、全金属酸化物（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂＋ＷＯ₃＋ＳｉＯ₂）１８．３重量％で、安定であった。
上記高濃度の変性酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾル２１８２ｇに撹拌下に、室温で酒石酸４．０ｇ、ジイソブチルアミン６．０ｇ、消泡剤（前出：ＳＮディフォーマー４８３）１滴を加え、１時間撹拌した。このゾルを攪拌機付き反応フラスコで常圧下、メタノール２０リットルを少しずつ加えながら水を留去することにより、水性ゾルの水をメタノールで置換した変性酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体メタノールゾル１１７１ｇを得た。このゾルは比重１．１２４、ｐＨ７．４５（水との等重量混合物）、粘度２．３ｍＰａ・ｓ、全金属酸化物（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂＋ＷＯ₃＋ＳｉＯ₂）３２．７重量％、水分０．４７重量％、電子顕微鏡観察による粒子径は１０〜１５ｎｍであった。このゾルはコロイド色を呈し、透明性が高く、室温で３ケ月放置後も沈降物の生成、白濁、増粘などの異常は認められず安定であった。またこのゾルの乾燥物の屈折率は１．７６であった。

実施例1
［コーティング組成物の製造］
５℃雰囲気下、製造例5で作製した（Ａ）成分である変性酸化第二スズ−酸化ジルコニウム−酸化タングステン−酸化ケイ素複合体メタノールゾル４５重量部と（B）成分であるγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン１５重量部及びテトラエトキシシラン３重量部とを混合し、１時間攪拌した。その後、０.００１モル／Ｌ濃度の塩酸４．５重量部を添加し、５０時間攪拌した。その後、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭ）２５重量部、ダイアセトンアルコール（DAA）９重量部及び（Ｃ）成分であるアルミニウムトリスアセチルアセトネート（ＡＬ−ＡＡ）１．８重量部、過塩素酸アルミニウム０．０５重量部を順次添加し、１５０時間攪拌した。得られた溶液を０.５μｍのフィルターでろ過したものをコーティング組成物とした。

［硬化膜の形成］
レンズ基材〔ＨＯＹＡ株式会社製，商品名：アイアス（屈折率1.６０）〕を６０℃、１０重量％水酸化ナトリウム水溶液中に３００秒間浸漬し、その後、超音波２８ｋＨｚ印加の下イオン交換水を用いて３００秒間洗浄した。最後に、７０℃雰囲気下、乾燥させる一連の工程を基材前処理とした。
前処理を施したレンズ基材アイアスを、ディッピング法にてコーティング組成物に３０秒間浸漬し、３０ｃｍ／分にて引き上げた基材を、１２０℃、６０分間の条件にて硬化膜を形成した。評価結果を表１に示す。

［反射防止膜の形成］
硬化膜を施したプラスチックレンズ基材を蒸着装置に入れ、排気しながら８５℃に加熱し、２．７ｍＰａ（２×１０^-5torr）まで排気した後、電子ビーム加熱法にて蒸着原料を蒸着させて、SiO₂からなる膜厚０．６λの下地層、この下地層の上にTa₂O₅、ZrO₂、Y₂O₃からなる混合層（ｎｄ＝２．０５、ｎλ＝０．０７５λ）とSiO₂層（ｎｄ＝１．４６、ｎλ＝０．０５６λ）からなる第一屈折層、Ta₂O₅、ZrO₂、Y₂O₃からからなる混合層（ｎｄ＝２．０５、ｎλ＝０．０７５λ）とSiO₂層からなる第２低屈折率層（ｎｄ＝１．４６、ｎλ＝０．２５λ）を形成して反射防止膜を施した。評価結果を表1に示す。

実施例２
実施例１において、製造例５で作製した（Ａ）成分である変性酸化第二スズ−酸化ジルコニウム−酸化タングステン−酸化珪素複合体メタノールゾルの代わりに製造例１で作製した（Ａ）成分である変性酸化第二スズ−酸化ジルコニウム−酸化タングステン−酸化珪素複合体メタノールゾルを用いた以外は、実施例１と同様にしてコーティング組成物を調製し、同様にしてレンズ基材アイアスに硬化膜及び反射防止膜を形成した。評価結果を表１に示す。

実施例３
実施例１において、製造例５で作製した（Ａ）成分である変性酸化第二スズ−酸化ジルコニウム−酸化タングステン−酸化珪素複合体メタノールゾルの代わりに製造例２で作製した（Ａ）成分である変性酸化第二スズ−酸化ジルコニウム−酸化タングステン−酸化珪素複合体メタノールゾルを用いた以外は、実施例１と同様にしてコーティング組成物を調製し、同様にしてレンズ基材アイアスに硬化膜及び反射防止膜を形成した。評価結果を表１に示す。

実施例４
実施例１において、製造例５で作製した（Ａ）成分である変性酸化第二スズ−酸化ジルコニウム−酸化タングステン−酸化珪素複合体メタノールゾルの代わりに製造例３で作製した（Ａ）成分である変性酸化第二スズ−酸化ジルコニウム−酸化タングステン−酸化珪素複合体メタノールゾルを用いた以外は、実施例１と同様にしてコーティング組成物を調製し、同様にしてレンズ基材アイアスに硬化膜及び反射防止膜を形成した。評価結果を表１に示す。

実施例５
実施例１において、製造例５で作製した（Ａ）成分である変性酸化第二スズ−酸化ジルコニウム−酸化タングステン−酸化珪素複合体メタノールゾルの代わりに製造例４で作製した（Ａ）成分である変性酸化第二スズ−酸化ジルコニウム−酸化タングステン−酸化珪素複合体メタノールゾルを用いた以外は、実施例１と同様にしてコーティング組成物を調製し、同様にしてレンズ基材アイアスに硬化膜及び反射防止膜を形成した。評価結果を表１に示す。

実施例６
実施例１においてγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの代わりにγ−グリシドキシプロピルトリエトキシシランを用いた以外は、実施例１と同様にしてコーティング組成物を調製し、同様にしてレンズ基材アイアスに硬化膜及び反射防止膜を形成した。評価結果を表１に示す。

実施例７
実施例１においてγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの代わりにγ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランを用い、実施例１と同様にしてコーティング組成物を調製し、同様にしてレンズ基材アイアスに硬化膜及び反射防止膜を形成した。評価結果を表１に示す。

実施例８
実施例１においてテトラエトキシシランの代わりにテトラメトキシシランを用い、実施例１と同様にしてコーティング組成物を調製し、同様にしてレンズ基材アイアスに硬化膜及び反射防止膜を形成した。評価結果を表１に示す。

実施例９
実施例１においてプロピレングリコールモノメチルエーテル（PGM）の代わりにイソプロパノール（IPA）を用い、実施例１と同様にしてコーティング組成物を調製し、同様にしてレンズ基材アイアスに硬化膜及び反射防止膜を形成した。評価結果を表１に示す。

実施例１０
実施例１においてプロピレングリコールモノメチルエーテル（PGM）の代わりに１−ブタノールを用い、実施例１と同様にしてコーティング組成物を調製し、同様にしてレンズ基材アイアスに硬化膜及び反射防止膜を形成した。評価結果を表１に示す。

比較例１
コーティング剤の調製回転子を備えた反応器に、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン１５重量部と、比較製造例１で得られた変性酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体メタノールゾル４９重量部を仕込み、４℃で３時間攪拌したのち、０．００１規定の塩酸３．５重量部を徐々に反応器中に滴下し、４℃で４８時間攪拌した。次に、これにプロピレングリコールモノメチルエーテル３０重量部およびシリコーン系界面活性剤０．０４重量部を添加混合し、４℃で３時間攪拌したのちアルミニウムアセチルアセトネート０．６０重量部および過塩素酸アルミニウム（アルドリッチ社製）０．０５重量部を添加混合した。４℃で３日間攪拌したのち、４℃で２日間静置することにより、コーティング剤を調製した。該コーティング剤を用いて、実施例１と同様にしてレンズ基材アイアスに硬化膜を形成した。さらに、実施例1と同様の反射防止膜を形成し、評価を行った。評価結果を表１に示す。

比較例2
比較例１において、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン１５重量部の代わりに、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン１５重量部を用いた以外は、比較例１と同様に実施した。評価結果を表１に示す。

本発明の製造方法で得られたコーティング組成物は、従来品に比べて高濃度で安定性よく使用することができ、メガネ用プラスチックレンズ上に硬化膜を形成させ、メガネ用レンズの屈折率、耐摩耗性等の向上成分として特に有効である。

Claims

（A）金属スズと有機酸と過酸化水素との反応により得られた酸化第二スズのコロイド粒子と、酸化ジルコニウムのコロイド粒子とが、これらの酸化物の重量に基づいてＺｒＯ₂／ＳｎＯ₂として０．０２〜１．０の比率に結合した構造と４〜５０ｎｍの粒子径を有する酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子を核として、その表面が０．１〜１００のＷＯ₃／ＳｎＯ₂重量比と、０．１〜１００のＳｉＯ₂／ＳｎＯ₂重量比と、２〜７ｎｍの粒子径を有する酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体のコロイド粒子で被覆されることによって形成された粒子径４．５〜６０ｎｍの変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子と、（B）有機珪素化合物とを混合するコーティング組成物の製造方法。
有機酸が、シュウ酸又はシュウ酸を主成分として含む有機酸である請求項１に記載のコーティング組成物の製造方法。
前記変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子が、下記（ａ）工程、（ｂ）工程、（ｃ）工程、（ｄ）工程、（ｅ）工程及び（ｆ）工程を含む工程によって製造される請求項1記載のコーティング組成物の製造方法。
（ａ）工程：有機酸水溶液中において、過酸化水素水と金属スズをＨ₂Ｏ₂／Ｓｎモル比が２〜４の範囲を保ち、酸化スズ濃度が４０重量％以下になるように反応させ、粒子径が４〜５０ｎｍの酸化第二スズのコロイド粒子を生成させる工程、
（ｂ）工程：（ａ）工程で得た４〜５０ｎｍの粒子径を有する酸化第二スズのコロイド粒子をその酸化物ＳｎＯ₂として０．５〜５０重量％の濃度に含有する酸化第二スズ水性ゾルと、ＺｒＯ₂として０．５〜５０重量％濃度のオキシジルコニウム塩の水溶液とを、これらに基づくＺｒＯ₂／ＳｎＯ₂として０．０２〜１．０の重量比に混合する工程、
（ｃ）工程：（ｂ）工程によって得られた混合液を６０〜２００℃で、０．１〜５０時間加熱処理することにより、４〜５０ｎｍの粒子径を有する酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾルを生成させる工程、
（ｄ）工程：タングステン酸塩、スズ酸塩及び珪酸塩をＷＯ₃／ＳｎＯ₂重量比として０．１〜１００、ＳｉＯ₂／ＳｎＯ₂重量比として０．１〜１００の比率に含有する水溶液を調製し、その水溶液中に存在する陽イオンを除去して得られる酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体ゾルを生成させる工程、
（ｅ）工程：（ｃ）工程で得られた酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾルを、それに含まれるＺｒＯ₂とＳｎＯ₂の合計として１００重量部と、（ｄ）工程で得られた２〜７ｎｍの粒子径と０．１〜１００のＷＯ₃／ＳｎＯ₂重量比と０．１〜１００のＳｉＯ₂／ＳｎＯ₂重量比を有する酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体ゾルを、これに含まれるＷＯ₃とＳｎＯ₂とＳｉＯ₂の合計として２〜１００重量部の比率に０〜１００℃で混合することにより変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水生ゾルを精製させる工程、及び
（ｆ）工程：（ｅ）工程で得られた変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾルを陰イオン交換体と接触させることにより、当該ゾル中に存在する陰イオンを除去する工程
前記有機酸水溶液が、シュウ酸水溶液又はシュウ酸を主成分として含む有機酸水溶液である請求項３に記載のコーティング組成物の製造方法。
（B）成分の有機珪素化合物が、一般式（Ｉ）
Ｒ¹ｎＳｉ（ＯＲ²）_4-n …（Ｉ）
（式中、Ｒ¹は官能基を有する若しくは有しない一価の炭素数１〜２０の炭化水素基、Ｒ²は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数７〜１０のアラルキル基または炭素数２〜１０のアシル基、ｎは０、１または２を示し、Ｒ¹が複数ある場合、複数のＲ¹はたがいに同一でも異なっていてもよいし、複数のＲ²Ｏはたがいに同一でも異なっていてもよい。）で表される化合物、一般式（II）

（式中、Ｒ³およびＲ⁴は、それぞれ同一または異なる炭素数１〜４のアルキル基または炭素数２〜４のアシル基、Ｒ⁵およびＲ⁶は、それぞれ同一または異なる一価の炭素数１〜５の官能基を有する若しくは有しない炭化水素基、Ｙは炭素数２〜２０の二価の炭化水素基、ａおよびｂは、それぞれ０または１を示し、複数のＯＲ³は、たがいに同一でも異なっていてもよいし、複数のＯＲ⁴はたがいに同一でも異なっていてもよい。）で表される化合物およびそれらの加水分解物の中から選ばれる少なくとも１種である請求項１〜4のいずれか1項に記載のコーティング組成物の製造方法。
コーティング組成物が、（Ｂ）成分の有機珪素化合物１００重量部当たり、（Ａ）成分のコロイド粒子を固形分として１〜５００重量部の割合で含有する請求項１〜5のいずれか１項に記載のコーティング組成物の製造方法。
コーティング組成物が、（Ｃ）アセチルアセトネート金属塩を含有する請求項１〜6のいずれか１項に記載のコーティング組成物の製造方法。