JP4591655B2 - コーティング組成物及び光学部材 - Google Patents
コーティング組成物及び光学部材 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4591655B2 JP4591655B2 JP2003393899A JP2003393899A JP4591655B2 JP 4591655 B2 JP4591655 B2 JP 4591655B2 JP 2003393899 A JP2003393899 A JP 2003393899A JP 2003393899 A JP2003393899 A JP 2003393899A JP 4591655 B2 JP4591655 B2 JP 4591655B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sol
- weight
- oxide
- stannic oxide
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 title claims description 68
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 27
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 306
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 274
- LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N antimony pentoxide Chemical compound O=[Sb](=O)O[Sb](=O)=O LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 154
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 147
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 134
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 134
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 123
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 89
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 87
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 83
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 75
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 72
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 claims description 59
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 claims description 50
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 40
- 230000032683 aging Effects 0.000 claims description 36
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 35
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 35
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 34
- -1 methacryloyl group Chemical group 0.000 claims description 33
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 30
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 27
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 26
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 23
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 21
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 21
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 20
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 18
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 17
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 16
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 12
- 239000011246 composite particle Substances 0.000 claims description 10
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 8
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 7
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 6
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 4
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 4
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 claims description 4
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims description 4
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000013522 chelant Substances 0.000 claims description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 2
- 238000013329 compounding Methods 0.000 claims description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 claims 1
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 237
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 72
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 65
- 239000010408 film Substances 0.000 description 54
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 39
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 39
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical compound CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 31
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 29
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 26
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 24
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 21
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 20
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 18
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 16
- 239000003957 anion exchange resin Substances 0.000 description 13
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 13
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 12
- 229940043279 diisopropylamine Drugs 0.000 description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 12
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical compound OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 11
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 11
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 10
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 10
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 10
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000010335 hydrothermal treatment Methods 0.000 description 9
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 9
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 9
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 description 9
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 8
- ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N antimony trioxide Chemical compound O=[Sb]O[Sb]=O ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 8
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 8
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 8
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 7
- JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N isopropylamine Chemical compound CC(C)N JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 6
- WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOCC1CO1 WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- CMOAHYOGLLEOGO-UHFFFAOYSA-N oxozirconium;dihydrochloride Chemical compound Cl.Cl.[Zr]=O CMOAHYOGLLEOGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 6
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 5
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002585 base Substances 0.000 description 5
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 5
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 5
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 5
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 5
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 4
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 4
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 4
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 4
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical compound CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 4
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 4
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 4
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 3
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BHMUGVZJGBXWIW-UHFFFAOYSA-N [O--].[O--].[Ti+4].CO Chemical compound [O--].[O--].[Ti+4].CO BHMUGVZJGBXWIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 3
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 3
- WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N benzylamine Chemical compound NCC1=CC=CC=C1 WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 239000003729 cation exchange resin Substances 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 3
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 3
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001935 peptisation Methods 0.000 description 3
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 3
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NJBCRXCAPCODGX-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-(2-methylpropyl)propan-1-amine Chemical compound CC(C)CNCC(C)C NJBCRXCAPCODGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GUXLAULAZDJOEK-UHFFFAOYSA-N 3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl-triphenoxysilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](OC=1C=CC=CC=1)(OC=1C=CC=CC=1)CCCOCC1CO1 GUXLAULAZDJOEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DAJFVZRDKCROQC-UHFFFAOYSA-N 3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl-tripropoxysilane Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)CCCOCC1CO1 DAJFVZRDKCROQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 3-[bis(2,4-dioxopentan-3-yl)alumanyl]pentane-2,4-dione Chemical compound CC(=O)C(C(C)=O)[Al](C(C(C)=O)C(C)=O)C(C(C)=O)C(C)=O XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N Allylamine Chemical compound NCC=C VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N D-gluconic acid Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021627 Tin(IV) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 2
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- SYFOAKAXGNMQAX-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) carbonate;2-(2-hydroxyethoxy)ethanol Chemical compound OCCOCCO.C=CCOC(=O)OCC=C SYFOAKAXGNMQAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005341 cation exchange Methods 0.000 description 2
- 239000003922 charged colloid Substances 0.000 description 2
- 229920001429 chelating resin Polymers 0.000 description 2
- 239000007771 core particle Substances 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 2
- JIOUJECYOVQAMA-UHFFFAOYSA-N dibutoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCCCO[Si](C)(OCCCC)CCCOCC1CO1 JIOUJECYOVQAMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ODADONMDNZJQMW-UHFFFAOYSA-N diethoxy-ethyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)CCCOCC1CO1 ODADONMDNZJQMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UMWZTDBPOBTQIB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-(oxiran-2-ylmethoxymethyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)COCC1CO1 UMWZTDBPOBTQIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FTUJVDGSKMWKAN-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)C(CC)OCC1CO1 FTUJVDGSKMWKAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CAEPKDWOZATEMI-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-(oxiran-2-ylmethoxymethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)COCC1CO1 CAEPKDWOZATEMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RLFWUGYBCZFNMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C(C)OCC1CO1 RLFWUGYBCZFNMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KQODNYDIZIFQGO-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C(CC)OCC1CO1 KQODNYDIZIFQGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PWPGWRIGYKWLEV-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCOCC1CO1 PWPGWRIGYKWLEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 2
- GNKVOKNYESNAGB-UHFFFAOYSA-N ethenyl-dimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C=C)(OC)CCCOCC1CO1 GNKVOKNYESNAGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSJWBNAOYWNTBI-UHFFFAOYSA-N ethyl-dimethoxy-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)CCOCC1CO1 CSJWBNAOYWNTBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NMIHMHFIISTVLV-UHFFFAOYSA-N ethyl-dimethoxy-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)CC(C)OCC1CO1 NMIHMHFIISTVLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YYDBOMXUCPLLSK-UHFFFAOYSA-N ethyl-dimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 YYDBOMXUCPLLSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- QOSATHPSBFQAML-UHFFFAOYSA-N hydrogen peroxide;hydrate Chemical compound O.OO QOSATHPSBFQAML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005374 membrane filtration Methods 0.000 description 2
- RJMRIDVWCWSWFR-UHFFFAOYSA-N methyl(tripropoxy)silane Chemical compound CCCO[Si](C)(OCCC)OCCC RJMRIDVWCWSWFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CUIXFHFVVWQXSW-UHFFFAOYSA-N methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]-diphenoxysilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](OC=1C=CC=CC=1)(C)CCCOCC1CO1 CUIXFHFVVWQXSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 2
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 2
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000447 polyanionic polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 2
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 2
- 229940071182 stannate Drugs 0.000 description 2
- 125000005402 stannate group Chemical group 0.000 description 2
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N tetrapropan-2-yl silicate Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N tetrapropyl silicate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)OCCC ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N thiocyanic acid Chemical compound SC#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- FQYWWLSIKWDAEC-UHFFFAOYSA-N tributoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)CCCOCC1CO1 FQYWWLSIKWDAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UNKMHLWJZHLPPM-UHFFFAOYSA-N triethoxy(oxiran-2-ylmethoxymethyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)COCC1CO1 UNKMHLWJZHLPPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OHKFEBYBHZXHMM-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)butyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C(CCC)OCC1CO1 OHKFEBYBHZXHMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SJQPASOTJGFOMU-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C(C)OCC1CO1 SJQPASOTJGFOMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NFRRMEMOPXUROM-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C(CC)OCC1CO1 NFRRMEMOPXUROM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FVMMYGUCXRZVPJ-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)butyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CC(CC)OCC1CO1 FVMMYGUCXRZVPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWJUTPORTOUFDY-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCOCC1CO1 RWJUTPORTOUFDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KPNCYSTUWLXFOE-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)butyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC(C)OCC1CO1 KPNCYSTUWLXFOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GSUGNQKJVLXBHC-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[4-(oxiran-2-ylmethoxy)butyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCOCC1CO1 GSUGNQKJVLXBHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFBULLRGNLZJAF-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(oxiran-2-ylmethoxymethyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)COCC1CO1 LFBULLRGNLZJAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FFJVMNHOSKMOSA-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)butyl]silane Chemical compound CCCC([Si](OC)(OC)OC)OCC1CO1 FFJVMNHOSKMOSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DAVVOFDYOGMLNQ-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C(C)OCC1CO1 DAVVOFDYOGMLNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FNBIAJGPJUOAPB-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C(CC)OCC1CO1 FNBIAJGPJUOAPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNXDCSVNCSSUNB-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCOCC1CO1 ZNXDCSVNCSSUNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HTVULPNMIHOVRU-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC(C)OCC1CO1 HTVULPNMIHOVRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZQPNGHDNBNMPON-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)butyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(C)OCC1CO1 ZQPNGHDNBNMPON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GUKYSRVOOIKHHB-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[4-(oxiran-2-ylmethoxy)butyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCOCC1CO1 GUKYSRVOOIKHHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- ROYZOPPLNMOKCU-UHFFFAOYSA-N 2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl-tripropoxysilane Chemical compound C1C(CC[Si](OCCC)(OCCC)OCCC)CCC2OC21 ROYZOPPLNMOKCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCN HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCN ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propane-1-thiol Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCS IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDDNTTHUKVNJRA-UHFFFAOYSA-N 3-bromo-3,3-difluoroprop-1-ene Chemical compound FC(F)(Br)C=C GDDNTTHUKVNJRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCl KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEZMLECYELSZDC-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl-diethoxy-methylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCCl KEZMLECYELSZDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNTKCYKJRSMRMZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCCl KNTKCYKJRSMRMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCS DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBQYMXVQHATSCC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropanenitrile Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC#N GBQYMXVQHATSCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 1
- RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N D-gluconic acid Natural products OCC(O)C(O)C(O)C(O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- 239000002879 Lewis base Substances 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N Nitrous acid Chemical compound ON=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000946381 Timon Species 0.000 description 1
- QBMOKCWBZBOOTK-UHFFFAOYSA-N [O--].[O--].[O--].[O--].[Zr+4].[Sn+4] Chemical compound [O--].[O--].[O--].[O--].[Zr+4].[Sn+4] QBMOKCWBZBOOTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQVFGTYFBUVGOP-UHFFFAOYSA-N [acetyloxy(dimethyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(C)OC(C)=O RQVFGTYFBUVGOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDVQLGHYJSJBKA-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(3-chloropropyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)CCCCl YDVQLGHYJSJBKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(ethenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C=C NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(methyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(OC(C)=O)OC(C)=O TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLFKGWCMFMCFRM-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(phenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C1=CC=CC=C1 VLFKGWCMFMCFRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004645 aluminates Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 1
- AQTIRDJOWSATJB-UHFFFAOYSA-K antimonic acid Chemical compound O[Sb](O)(O)=O AQTIRDJOWSATJB-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 150000003974 aralkylamines Chemical class 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-N bromic acid Chemical compound OBr(=O)=O SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXPLZNMUBFBFIA-UHFFFAOYSA-N butyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCC[Si](OC)(OC)OC SXPLZNMUBFBFIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- ZDOBWJOCPDIBRZ-UHFFFAOYSA-N chloromethyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](CCl)(OCC)OCC ZDOBWJOCPDIBRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPOSCXQHGOVVPD-UHFFFAOYSA-N chloromethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](CCl)(OC)OC FPOSCXQHGOVVPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000001246 colloidal dispersion Methods 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 150000003950 cyclic amides Chemical class 0.000 description 1
- 230000001687 destabilization Effects 0.000 description 1
- UJLNSDMLAOWPOF-UHFFFAOYSA-N diethoxy(diethyl)silane;prop-1-ene Chemical compound CC=C.CCO[Si](CC)(CC)OCC UJLNSDMLAOWPOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWHSEFXLFMRCOO-UHFFFAOYSA-N diethoxy-[5-(oxiran-2-ylmethoxy)pent-1-enyl]silane Chemical compound C(C1CO1)OCCCC=C[SiH](OCC)OCC OWHSEFXLFMRCOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRJXZRBBFSDWFR-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[1-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethoxy]silane Chemical compound C1C(C(C)O[Si](C)(OCC)OCC)CCC2OC21 MRJXZRBBFSDWFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDXQFCXRDHAHNE-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)C(C)OCC1CO1 NDXQFCXRDHAHNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INSDMMUWXHLFTQ-UHFFFAOYSA-N diethyl(dimethoxy)silane;ethene Chemical compound C=C.CC[Si](CC)(OC)OC INSDMMUWXHLFTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBDDFKGMGASJHE-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethoxy)silane Chemical compound C1C(CO[Si](C)(OC)OC)CCC2OC21 PBDDFKGMGASJHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-phenylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C1=CC=CC=C1 CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 1
- TVQLLNFANZSCGY-UHFFFAOYSA-N disodium;dioxido(oxo)tin Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Sn]([O-])=O TVQLLNFANZSCGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- GMHJMWCGKHBEHZ-UHFFFAOYSA-N ethenoxy-methoxy-dimethylsilane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC=C GMHJMWCGKHBEHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBEAJYZVNIOING-UHFFFAOYSA-N ethenyl-diethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C=C)(OCC)CCCOCC1CO1 VBEAJYZVNIOING-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBGQQKKTDDNCSG-UHFFFAOYSA-N ethenyl-diethoxy-methylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(C=C)OCC MBGQQKKTDDNCSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLNAFSPCNATQPQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C=C ZLNAFSPCNATQPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000174 gluconic acid Substances 0.000 description 1
- 235000012208 gluconic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000007602 hot air drying Methods 0.000 description 1
- GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N hydron Chemical group [H+] GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N hypochlorous acid Chemical compound ClO QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 229910052909 inorganic silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000007527 lewis bases Chemical class 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 1
- SCKKQLPQFJYORX-UHFFFAOYSA-N methanol;oxotin Chemical compound OC.[Sn]=O SCKKQLPQFJYORX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRGQSWVKLLRBRJ-UHFFFAOYSA-N methyl(2,2,2-triphenylethoxy)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C=1C=CC=CC=1)(CO[SiH2]C)C1=CC=CC=C1 MRGQSWVKLLRBRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRBAVICMCJULJS-UHFFFAOYSA-N methyl(tripentoxy)silane Chemical compound CCCCCO[Si](C)(OCCCCC)OCCCCC QRBAVICMCJULJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRXHEPWCWBIQFJ-UHFFFAOYSA-N methyl(triphenoxy)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](OC=1C=CC=CC=1)(C)OC1=CC=CC=C1 DRXHEPWCWBIQFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOARQMXRPHXHID-UHFFFAOYSA-N methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]-dipropoxysilane Chemical compound CCCO[Si](C)(OCCC)CCCOCC1CO1 VOARQMXRPHXHID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEIHDEVWPDTQIM-UHFFFAOYSA-N methyl-tris(phenylmethoxy)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CO[Si](OCC=1C=CC=CC=1)(C)OCC1=CC=CC=C1 GEIHDEVWPDTQIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 238000010137 moulding (plastic) Methods 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJVRJBAUJYZFIX-UHFFFAOYSA-N nitric acid;oxozirconium Chemical compound [Zr]=O.O[N+]([O-])=O.O[N+]([O-])=O UJVRJBAUJYZFIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYTNHSCLZRMKON-UHFFFAOYSA-L oxygen(2-);zirconium(4+);diacetate Chemical compound [O-2].[Zr+4].CC([O-])=O.CC([O-])=O LYTNHSCLZRMKON-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000008213 purified water Substances 0.000 description 1
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 229940082569 selenite Drugs 0.000 description 1
- MCAHWIHFGHIESP-UHFFFAOYSA-L selenite(2-) Chemical compound [O-][Se]([O-])=O MCAHWIHFGHIESP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- CAJZCUIGSMQBPW-UHFFFAOYSA-K silicic acid stiboric acid Chemical compound [Sb](O)(O)(O)=O.[Si](O)(O)(O)O CAJZCUIGSMQBPW-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940079864 sodium stannate Drugs 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000967 suction filtration Methods 0.000 description 1
- DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-N sulfurothioic S-acid Chemical compound OS(O)(=O)=S DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- OQTSOKXAWXRIAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutan-2-yl silicate Chemical compound CCC(C)O[Si](OC(C)CC)(OC(C)CC)OC(C)CC OQTSOKXAWXRIAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- RLQWHDODQVOVKU-UHFFFAOYSA-N tetrapotassium;silicate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[K+].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] RLQWHDODQVOVKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCLLLHFGVQKVKL-UHFFFAOYSA-N tetratert-butyl silicate Chemical compound CC(C)(C)O[Si](OC(C)(C)C)(OC(C)(C)C)OC(C)(C)C BCLLLHFGVQKVKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- ALHBQZRUBQFZQV-UHFFFAOYSA-N tin;tetrahydrate Chemical compound O.O.O.O.[Sn] ALHBQZRUBQFZQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- YZVRVDPMGYFCGL-UHFFFAOYSA-N triacetyloxysilyl acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)OC(C)=O YZVRVDPMGYFCGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYZQBXUDWTVJDF-UHFFFAOYSA-N tributoxy(methyl)silane Chemical compound CCCCO[Si](C)(OCCCC)OCCCC GYZQBXUDWTVJDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAVPBWLGJVKEGZ-UHFFFAOYSA-N tributoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC)CCC2OC21 OAVPBWLGJVKEGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDUKMRHNZZLJRB-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OCC)(OCC)OCC)CCC2OC21 UDUKMRHNZZLJRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFUDQABJYSJIQY-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CC(C)OCC1CO1 CFUDQABJYSJIQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLKPPXKQMJDBFO-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)propyl]silane Chemical compound C1C(CCC[Si](OCC)(OCC)OCC)CCC2OC21 NLKPPXKQMJDBFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSUKBUSXHYKMLU-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[4-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)butyl]silane Chemical compound C1C(CCCC[Si](OCC)(OCC)OCC)CCC2OC21 PSUKBUSXHYKMLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBUFXGVMAMMWSD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)propyl]silane Chemical compound C1C(CCC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DBUFXGVMAMMWSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CENHPXAQKISCGD-UHFFFAOYSA-N trioxathietane 4,4-dioxide Chemical compound O=S1(=O)OOO1 CENHPXAQKISCGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 239000011882 ultra-fine particle Substances 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 1
- DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J zirconium tetrachloride Chemical compound Cl[Zr](Cl)(Cl)Cl DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Description
(S)成分:一般式(I)、
(R1)a(R3)bSi(OR2)4−(a+b) (I)
(但し、R1及びR3は、それぞれアルキル基、アリール基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール基、アルケニル基、又はエポキシ基、アクリロイル基、メタクリロイル基、メルカプト基、アミノ基、もしくはシアノ基を有する有機基で且つSi−C結合によりケイ素原子と結合しているものであり、R2は炭素数1〜8のアルキル基、アルコキシアルキル基、又はアシル基であり、a及びbはそれぞれ0、1、又は2の整数であり、a+bは0、1、又は2の整数である。)及び、一般式(II)、
〔(R4)cSi(OX)3−c〕2Y (II)
(但し、R4は炭素数1〜5のアルキル基を示し、Xは炭素数1〜4のアルキル基又はア
シル基を示し、Yはメチレン基又は炭素数2〜20のアルキレン基を示し、cは0又は1
の整数である。)で表される有機ケイ素化合物、並びにその加水分解物からなる群より選ばれた少なくとも1種のケイ素含有物質、
(T1)成分:酸化第二スズ粒子または酸化第二スズ粒子と酸化ジルコニウム粒子との複合体粒子であり、これらの酸化物が重量に基づいてZrO2:SnO2として0:1〜0.50:1の割合と4〜50nmの粒子径を有するコロイド粒子(A)を核としてその表面が、0.02〜4.00のM/Sb2O5のモル比(ただしMはアミン分子を示す。)を有するアルキルアミン含有Sb2O5コロイド粒子、そのオリゴマー、又はそれらの混合物(B1)で被覆され、且つ(B1)/(A)の重量比がそれら金属酸化物の重量比に基づいて0.01〜0.50の割合であり、そして4.5〜60nmの粒子径を有する変性された金属酸化物粒子、を配合させるコーティング組成物の製造方法であって、
(T1)成分が、下記(a3)工程、(b3)工程及び(c3)工程:
(a3)工程:100〜300℃の温度で水熱処理され、且つ4〜50nmの粒子径と0.5〜50重量%のSnO 2 濃度を有する酸化第二スズ水性ゾルを調整する工程、
(b3)工程:上記(a3)工程で得られた酸化第二スズ水性ゾルと、0.02〜4.00のM/Sb 2 O 5 のモル比(ただしMはアミン分子を示す。)を有するアルキルアミン含有Sb 2 O 5 コロイド粒子、そのオリゴマー、又はそれらの混合物を含有する水性媒体とを、その金属酸化物に換算したSb 2 O 5 /SnO 2 の重量割合で0.01〜0.50に混合する工程、
(c3)工程:(b3)工程で得られた水性媒体を20〜300℃で0.1〜50時間熟成する工程、から得られる変性された酸化第二スズ粒子、又は
下記(a4)工程、(b4)工程(c4)工程及び(d4)工程:
(a4)工程:100〜300℃の温度で水熱処理され、且つ4〜50nmの粒子径と0.5〜50重量%のSnO 2 濃度を有する酸化第二スズ水性ゾルと、ZrO 2 に換算して0.5〜50重量%濃度のオキシジルコニウム塩の水溶液とを、ZrO 2 /SnO 2 として0.05〜0.50の重量比に混合し、得られた混合液を60〜100℃で、0.1〜50時間加熱することにより、4〜50nmの粒子径を有する酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾルを調整する工程、
(b4)工程:(a4)工程で得られた酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾルと、0.02〜4.00のM/Sb 2 O 5 のモル比(ただしMはアミン分子を示す。)を有するアルキルアミン含有Sb 2 O 5 コロイド粒子、そのオリゴマー、又はそれらの混合物を含有する水性媒体とを、その金属酸化物に換算したSb 2 O 5 /(SnO 2 +ZrO 2 )の重量割合で0.01〜0.50に混合する工程、
(c4)工程:(b4)工程で得られた水性媒体を20〜300℃で0.1〜50時間熟成する工程、及び
(d4)工程:(c4)工程で得られた変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾルを陰イオン交換体と接触させ、その後20〜300℃で0.1〜50時間熟成する工程、により得られる変成された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子である、コーティング組成物の製造方法。
第2観点として、下記(S)成分に対して、(T2)成分:
(S)成分:一般式(I)、
(R 1 ) a (R 3 ) b Si(OR 2 ) 4−(a+b) (I)
(但し、R 1 及びR 3 は、それぞれアルキル基、アリール基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール基、アルケニル基、又はエポキシ基、アクリロイル基、メタクリロイル基、メルカプト基、アミノ基、もしくはシアノ基を有する有機基で且つSi−C結合によりケイ素原子と結合しているものであり、R 2 は炭素数1〜8のアルキル基、アルコキシアルキル基、又はアシル基であり、a及びbはそれぞれ0、1、又は2の整数であり、a+bは0、1、又は2の整数である。)及び、一般式(II)、
〔(R 4 ) c Si(OX) 3−c 〕 2 Y (II)
(但し、R 4 は炭素数1〜5のアルキル基を示し、Xは炭素数1〜4のアルキル基又はア
シル基を示し、Yはメチレン基又は炭素数2〜20のアルキレン基を示し、cは0又は1
の整数である。)で表される有機ケイ素化合物、並びにその加水分解物からなる群より選ばれた少なくとも1種のケイ素含有物質、
(T2)成分:酸化第二スズ粒子または酸化第二スズ粒子と酸化ジルコニウム粒子との複合体粒子であり、これらの酸化物が重量に基づいてZrO 2 :SnO 2 として0:1〜0.50:1の割合と4〜50nmの粒子径を有するコロイド粒子(A)を核として、その表面が0.55〜55のSiO 2 /Sb 2 O 5 のモル比を有する五酸化アンチモンとシリカの複合コロイド粒子、そのオリゴマー、又はそれらの混合物(B2)で被覆され、且つ(B2)/(A)の重量比がそれら金属酸化物の重量比に基づいて0.01〜0.50の割合であり、そして4.5〜60nmの粒子径を有する変性された金属酸化物粒子、を配合させるコーティング組成物の製造方法であって、
(T2)成分が、下記(a7)工程、(b7)工程及び(c7)工程:
(a7)工程:100〜300℃の温度で水熱処理され、且つ4〜50nmの粒子径と0.5〜50重量%のSnO 2 濃度を有する酸化第二スズ水性ゾルを調整する工程、
(b7)工程:上記(a7)工程で得られた酸化第二スズ水性ゾルと、0.55〜55のSiO 2 /Sb 2 O 5 のモル比を有する五酸化アンチモンとシリカの複合コロイド粒子、そのオリゴマー、又はそれらの混合物を含有する水性媒体とを、その金属酸化物に換算した(Sb 2 O 5 +SiO 2 )/SnO 2 の重量割合で0.01〜0.50に混合する工程、
(c7)工程:(b7)工程で得られた水性媒体を20〜300℃で0.1〜50時間熟成する工程から得られる変性された酸化第二スズ粒子、又は
下記(a8)工程、(b8)工程(c8)工程及び(d8)工程:
(a8)工程:100〜300℃の温度で水熱処理され、且つ4〜50nmの粒子径と0.5〜50重量%のSnO 2 濃度を有する酸化第二スズ水性ゾルと、ZrO 2 に換算して0.5〜50重量%濃度のオキシジルコニウム塩の水溶液とを、ZrO 2 /SnO 2 として0.05〜0.50の重量比に混合し、得られた混合液を60〜100℃で、0.1〜50時間加熱することにより、4〜50nmの粒子径を有する酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾルを調整する工程、
(b8)工程:(a8)工程で得られた酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾルと、0.55〜55のSiO 2 /Sb 2 O 5 のモル比を有する五酸化アンチモンとシリカの複合コロイド粒子、そのオリゴマー、又はそれらの混合物を含有する水性媒体とを、その金属酸化物に換算した(Sb 2 O 5 +SiO 2 )/(SnO 2 +ZrO 2 )の重量割合で0.01〜0.50に混合する工程、
(c8)工程:(b8)工程で得られた水性媒体を20〜300℃で0.1〜50時間熟成する工程、及び
(d8)工程:(c8)工程で得られた変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾルを陰イオン交換体と接触させ、その後20〜300℃で0.1〜50時間熟成して変成する工程、
により得られる変成された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子である、コーティング組成物の製造方法。
第3観点として、金属塩、金属アルコキシド及び金属キレート化合物から成る群から選ばれる1種以上の硬化触媒を含有させる第1観点又は第2観点に記載のコーティング組成物の製造方法。
第4観点として、光学基材表面に第1観点乃至第3観点のいずれか1つに記載の製造方法により得られるコーティング組成物より形成される硬化膜を有する光学部材の製造方法。
第5観点として、第4観点に記載の製造方法により得られる光学部材の表面に、さらに反射防止膜を施すことを特徴とする光学部材の製造方法。
(R1)a(R3)bSi(OR2)4−(a+b) (I)
においては、R1とR3が同一の有機基又は異なる有機基である場合や、aとbが同一の整数又は異なる整数である場合の有機ケイ素化合物を含む。上記(A)成分中の一般式(I)で示される有機ケイ素化合物は、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラn−プロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラn−ブトキシシラン、テトラアセトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリアセチキシシラン、メチルトリブトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリアミロキシシラン、メチルトリフェノキシシラン、メチルトリベンジルオキシシラン、メチルトリフェネチルオキシシラン、グリシドキシメチルトリメトキシシラン、グリシドキシメチルトリエトキシシラン、αーグリシドキシエチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリブトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリフェノキシシラン、α−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、δ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、δ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチルトリメトキシシラン、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチルトリエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリプロポキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリブトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリフェノキシシラン、γ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロピルトリメトキシシラン、γ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロピルトリエトキシシラン、δ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)ブチルトリメトキシシラン、δ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)ブチルトリエトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジメトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジエトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジエトキシシラン、β−グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、β−グリシドキシエチルエチルジメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、β−グリシドキシプロピルエチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジブトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジフェノキシシラン、γ−グリシドキシプロピルエチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルエチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルビニルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルビニルジエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリアセトキシシラン、3、3、3−トリフロロプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、β−シアノエチルトリエトキシシラン、クロロメチルトリメトキシシラン、クロロメチルトリエトキシシラン、N−(β−アミノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(β−アミノエチル)γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(β−アミノエチル)γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−(β−アミノエチル)γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシラン等が挙げられ、これらを単独で又は2種以上組み合わせて使用することが出来る。
〔(R4)cSi(OX)3−c〕2Y (II)
で表される有機ケイ素化合物は、例えば、メチレンビスメチルジメトキシシラン、エチレンビスエチルジメトキシシラン、プロピレンビスエチルジエトキシシラン、ブチレンビスメチルジエトキシシラン等が挙げられ、これらを単独で又は2種以上組み合わせて使用することが出来る。
アミン成分としてジイソプロピルアミン等のアルキルアミン塩が好ましく、アミン/Sb2O5のモル比は0.02〜4.00である。
即ち、本願発明のコーティング組成物の(T1)成分では核にオートクレーブ処理された酸化第二スズゾルを用いる方法では、(a3)工程:100〜300℃の温度で水熱処理され、且つ4〜50nmの粒子径と0.5〜50重量%のSnO2濃度を有する酸化第二スズ水性ゾルを調整する工程、(b3)工程:上記(a3)工程で得られた酸化第二スズ水性ゾルと、0.02〜4.00のM/Sb2O5のモル比(ただしMはアミン分子を示す。)を有するアルキルアミン含有Sb2O5コロイド粒子、そのオリゴマー、又はそれらの混合物を含有する水性媒体とを、その金属酸化物に換算したSb2O5/SnO2の重量割合で0.01〜0.50に混合する工程、(c3)工程:(b3)工程で得られた水性媒体を20〜300℃で0.1〜50時間熟成する工程から変性された酸化第二スズ水性ゾルが得られる。この(c3)工程で得られたゾルは、(a3)工程の酸化第二スズゾルがアニオンを含有している場合には(d3)工程を追加することが出来る。即ち、(d3)工程:(c3)工程で得られた変性された酸化第二スズ水性ゾルを陰イオン交換体と接触させることにより、当該ゾル中に存在する陰イオンを除去し、その後20〜300℃で0.1〜50時間熟成する工程を追加して変性された酸化第二スズコロイド粒子の安定なゾルが得られる。100℃以上の熟成はオートクレーブを用いて行うことが出来る。このゾルは、4〜50nmの粒子径を有する酸化第二スズコロイド粒子(A)を核としてその表面が、0.02〜4.00のM/Sb2O5のモル比(ただしMはアミン分子を示す。)を有するアルキルアミン含有Sb2O5コロイド粒子、そのオリゴマー、又はそれらの混合物(B1)で被覆され、且つ(B1)/(A)の重量比がそれら金属酸化物の重量比に基づいて0.01〜0.50の割合であり、そして4.5〜60nmの粒子径を有する変性された酸化第二スズ粒子を含有するゾルである。
即ち、本願発明のコーティング組成物の(T2)成分では核にオートクレーブ処理された酸化第二スズゾルを用いる方法では、(a7)工程:100〜300℃の温度で水熱処理され、且つ4〜50nmの粒子径と0.5〜50重量%のSnO2濃度を有する酸化第二スズ水性ゾルを調整する工程、(b7)工程:上記(a7)工程で得られた酸化第二スズ水性ゾルと、0.55〜55のSiO2/Sb2O5のモル比を有する五酸化アンチモンとシリカの複合コロイド粒子、そのオリゴマー、又はそれらの混合物を含有する水性媒体とを、その金属酸化物に換算した(Sb2O5+SiO2)/SnO2の重量割合で0.01〜0.50に混合する工程、(c7)工程:(b7)工程で得られた水性媒体を20〜300℃で0.1〜50時間熟成する工程から変性された酸化第二スズ水性ゾルが得られる。この(c7)工程で得られたゾルは、(a7)工程の酸化第二スズゾルがアニオンを含有している場合には(d7)工程を追加することが出来る。即ち、(d7)工程:(c7)工程で得られた変性された酸化第二スズ水性ゾルを陰イオン交換体と接触させることにより、当該ゾル中に存在する陰イオンを除去し、その後20〜300℃で0.1〜50時間熟成する工程を追加して変性された酸化第二スズコロイド粒子の安定なゾルが得られる。このゾルは、4〜50nmの粒子径を有する酸化第二スズコロイド粒子(A)を核としてその表面が、0.55〜55のSiO2/Sb2O5のモル比を有する五酸化アンチモンとシリカの複合コロイド粒子、そのオリゴマー、又はそれらの混合物(B2)で被覆され、且つ(B2)/(A)の重量比がそれら金属酸化物の重量比に基づいて0.01〜0.50の割合であり、そして4.5〜60nmの粒子径を有する変性された酸化第二スズ粒子を含有するゾルである。
また、水熱処理(オートクレーブ処理)を施した酸化第二スズゾルを原料に用いる(a3〜d3)の製造方法、(a4〜d4)の製造方法、(a7〜d7)の製造方法及び(a8〜d8)の製造方法では、それらの(c)工程で20〜100℃の温度で0.1〜200時間の熟成を行う事もできるが、100〜300℃の水熱処理を0.1〜200時間施すことも可能である。
A−1−1 酸化第二スズゾルの製造
35%塩酸41kgと純水110kgを0.5m3のGL反応槽にとり、攪拌しながらこれを70℃まで加温した後、冷却しながら35%過酸化水素水185kgと金属スズ粉末(山石金属製、AT−SnNO200N、SnO2として99.7%を含有する。)90kgの添加を交互に18回分割して行った。過酸化水素水と金属スズの添加は始めに35%過酸化水素水10kgを、次いで金属スズを5kgを徐々に加え、反応が終了するのを待って(10〜15分)過酸化水素と金属スズの添加を繰り返す方法で行った。反応は反応熱のため金属スズの添加により90〜95℃になった。したがって反応温度は70〜95℃であった。過酸化水素と金属スズの比はH2O2/Snモル比は2.5であった。過酸化水素水と金属スズの添加に要した時間は4.5時間であった。添加終了後、液温を90〜95℃に保ちながら0.5時間熟成を行った。反応時のSn/Cl当量比は1.92であった。
しゅう酸((COOH)2・2H2O)37.5kgを純水220kgに溶解し、これを0.5m3のGLベッセルにとり、攪拌下しながら70℃まで加温した後、35%過酸化水素水150kgと金属スズ粉末(山石金属製、AT−SnNO200N、SnO2として99.7%を含有する。)75kgを添加した。過酸化水素水と金属スズの添加は交互に15回分割で行った。始めに35%過酸化水素水10kgを、次いで金属スズ5kgを添加した。反応が終了するのを待って(10〜15分)この操作を繰り返した。
A−1−3 オートクレーブ処理による酸化第二スズゾルの製造
A−1−1で得られたアルカリ性の酸化第二スズ水性ゾルを2300gをオートクレーブにて140℃で5時間加熱熟成を行った。
A−1−4 オートクレーブ処理による酸化第二スズゾルの製造
A−1−2で得られたアルカリ性酸化第二スズゾル800kgをオートクレーブにて140℃で5時間加熱熟成を行った。
A−1−5 オートクレーブ処理による酸化第二スズゾルの製造
A−1−2で得られたアルカリ性酸化第二スズゾル600kgをオートクレーブにて240℃で5時間加熱熟成を行った。
B.被覆物の調製
B−1−1 アルカリ成分含有五酸化アンチモンコロイドの調整
500ミリリットルの4つ口フラスコに三酸化アンチモン(広東三国製、Sb2O3として99.5%を含有する。)を52.6g、純水444gおよびジイソプロピルアミン40.2gを添加し、スターラー攪拌下で70℃に昇温後、35%過酸化水素水を53g徐々に添加した。反応終了後、ガラス濾紙(ADVANTEC製、GA−100)にて濾過した。得られたアルカリ成分含有五酸化アンチモンコロイド及びそのオリゴマーを含有する水性媒体は、濃度がSb2O5として9.8重量%、ジイソプロピルアミンとして6.8重量%、ジイソプロピルアミン/Sb2O5のモル比は2.2、透過型電子顕微鏡による観測で10nm以下の粒子が見られた。
B−1−2 アルカリ成分含有五酸化アンチモンコロイドの調整
100リットルのベッセルに三酸化アンチモン(広東三国製、Sb2O3として99.5%を含有する。)を12.5kg、純水66.0kgおよび水酸化カリウム(KOHとして95%を含有する。)12.5kgを添加し、攪拌下で、35%過酸化水素を8.4kg徐々に添加した。得られたアンチモン酸カリウム水溶液はSb2O5として15.25重量%、水酸化カリウムとして5.36重量%、K2O/Sb2O5のモル比は1.0であった。
B−2−1 五酸化アンチモン−シリカ複合コロイドの調整
ケイ酸カリウム水溶液(SiO2として15.4重量%含有)546gを純水542gにて希釈を行った後、攪拌下にアンチモン酸カリウム水溶液(Sb2O5として14.6重量%含有)を混合して1時間攪拌を続け、ケイ酸カリウムとアンチモン酸カリウムの混合水溶液を得た。
(a)工程:粒子径10nm以下、4.14重量%のSnO2濃度を有するアルカリ性の酸化第二スズ水性ゾル(A−1−1)を得た。
(b)工程:A−1−1で得た水性ゾル1207.7g(SnO2として50gを含有する。)にB−1−1で調整したアミン成分含有五酸化アンチモンコロイド及びそのオリゴマーを含有する水性媒体51.0gを攪拌下で添加し、その金属酸化物に換算した(B−1−1)/(A−1−1)の重量割合で0.1に混合した。
(c)工程:(b)工程で得られた水性媒体を90℃で3時間加熱熟成した。
金属酸化物に換算した(B)/(A)の重量割合が0.1に混合される様に、製造例1のB−1−1成分のアルカリ成分含有五酸化アンチモンコロイド及びそのオリゴマーを含有する水性媒体51gを、B−1−2成分のアルカリ成分含有五酸化アンチモンコロイド及びそのオリゴマーを含有する水性媒体277.8gに変更した以外は製造例1と同様に行った。
上記の高濃度の変性された酸化第二スズ水性ゾル245gをロータリーエバポレーターにて減圧下、液温30℃以下でメタノール10リットルを少しずつ加えながら水を留去することにより、水性ゾルの水をメタノールで置換した変性された酸化第二スズメタノールゾル162gを得た。このゾルは比重1.093、pH8.34(水との等重量混合物)、粘度1.8c.p.、金属酸化物に換算した濃度は30.5重量%、水分0.81重量%、電子顕微鏡観察による粒子径は5〜15nmであった。このゾルはコロイド色を呈し、透明性が高く、室温で3カ月放置後も沈降物の生成、白濁、増粘等の異常は認められず安定であった。またこのゾルの乾燥物の屈折率は1.76であった。
金属酸化物に換算した(B)/(A)の重量割合が0.1に混合される様に、製造例1のA−1−1成分の酸化第二スズコロイドをA−1−3成分の酸化第二スズコロイド1207.7gに、B−1−1成分のアルカリ成分含有五酸化アンチモンコロイド及びそのオリゴマーを含有する水性媒体を、B−1−2成分のアルカリ成分含有五酸化アンチモンコロイド及びそのオリゴマーを含有する水性媒体277.8gに変更した以外は製造例1と同様に行った。
金属酸化物に換算した(B)/(A)の重量割合が0.1に混合される様に、製造例1のA−1−1成分の酸化第二スズコロイドをA−1−3成分の酸化第二スズコロイド1237.7gに、B−1−1成分のアルカリ成分含有五酸化アンチモンコロイド及びそのオリゴマーを含有する水性媒体を、B−1−2成分のアルカリ成分含有五酸化アンチモンコロイド及びそのオリゴマーを含有する水性媒体277.8gに変更した以外は製造例1と同様に行った。
(a)工程:オキシ塩化ジルコニウム(ZrOCl2・8H2O)を純水で溶解したオキシ塩化ジルコニウム水溶液(ZrO2に換算して17.68重量%を含有する。)9.16kg(ZrO2に換算して1.62kgを含有する。)に純水を攪拌下に500kg添加、さらに35%塩酸0.40kg添加し、ついでA−1−2で作成したアルカリ性酸化第二スズ水性ゾルを270kg(SnO2として10.8kgを含有する。)添加し、攪拌を10分間続行した。混合液はZrO2/SnO2重量比0.15、でコロイド色を呈する透明性の良好なゾルであった。調製した混合液を攪拌下に、95℃で5時間加熱処理を行い、酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾルを779.2kgを得た。このゾルはSnO2として1.38重量%、ZrO2として0.21重量%、SnO2+ZrO2として1.59重量%であった。
(b)工程:B−1−2で得られたアミン含有五酸化アンチモンのコロイド及びそのオリゴマーを含有する水性媒体68.83kg(Sb2O5に換算して1.24kgを含有する。)に、攪拌下に(a)工程で得られた酸化第二スズ−酸化ジルコニウムの複合体ゾル779.2kgを、Sb2O5/(SnO2+ZrO2)=0.1の割合で徐々に添加混合した。
(c)工程:(b)工程で得られた水性媒体を20〜30℃で1時間の攪拌を行った。
(d)工程:(c)工程で得られた混合ゾル様スラリーを水酸基型陰イオン交換樹脂が充填されたカラムに通液することにより、ゾル中に含まれる陰イオン(Cl−)を除去した。ついで90〜95℃で2〜3時間加熱熟成することで変成された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾルを得たこのゾルは比重1.011、粘度2.9c.p.、pH10.58で透明性の良好なゾルであった。
(a)工程:オキシ塩化ジルコニウム(ZrOCl2・8H2O)を純水で溶解したオキシ塩化ジルコニウム水溶液(ZrO2に換算して17.68重量%を含有する。)13.6kg(ZrO2に換算して2.4kgを含有する。)に純水を攪拌下で500kg添加し、更に35%塩酸0.59kg添加し、ついでA−1−4で作成したアルカリ性酸化第二スズ水性ゾルを396kg(SnO2として16.0kgを含有する。)添加し、攪拌を10分間続行した。混合液はZrO2/SnO2重量比は0.15、pH1.72でコロイド色を呈する透明性の良好なゾルであった。調製した混合液を攪拌下に、95℃で5時間加熱処理を行い、酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾル910.2kgを得た。このゾルはSnO2として1.75重量%、ZrO2として0.26重量%、SnO2+ZrO2として2.01重量%であった。
(b)工程:B−1−2で得られたアミン含有五酸化アンチモンのコロイド及びそのオリゴマーを含有する水性媒体102kg(Sb2O5として1.84kg)を、攪拌下に(a)工程で得られた酸化第二スズ−酸化ジルコニウムの複合体ゾル910.2kgをSb2O5/(SnO2+ZrO2)の重量比として0.1の割合で徐々に添加混合した。
(c)工程:(b)工程で得られた水性媒体を20〜30℃で、1時間攪拌を行った。
(d)工程:(c)工程で得られた混合ゾル様スラリーを水酸基型陰イオン交換樹脂が充填されたカラムに通液することにより、ゾル中に含まれる陰イオン(Cl−)を除去した。ついで90〜95℃で2〜3時間加熱熟成することで得られる変成された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾルを得た。
(a)工程:A−1−2で得た酸性の水性ゾルを191.6g(SnO2として50g含有)を純水にて8wt%に希釈した。
上記高濃度の変性された酸化第二スズ水性ゾル472gをロータリーエバポレーターにて減圧下、液温30℃以下でメタノール9リットルを少しずつ加えながら水を留去することにより、水性ゾルの水をメタノールで置換した変性された酸化第二スズメタノールゾル190gを得た。このゾルは比重1.091、pH2.06(水との等重量混合物)、粘度1.6c.p.、金属酸化物に換算した濃度は30.3重量%、透過率68%、水分0.9重量%,電子顕微鏡観察による粒子径は10〜15nmであった。このゾルはコロイド色を呈し、透明性が高く、室温で3カ月放置後も沈降物の生成、白濁、増粘等の異常は認められず安定であった。またこのゾルの乾燥物の屈折率は1.8であった。
(変性された金属酸化物ゾルの製造例8)
(a)工程:オキシ塩化ジルコニウム(ZrOCl2・8H2O)を純水で溶解したオキシ塩化ジルコニウム水溶液(ZrO2として17.68%)9.16kg(ZrO2として1.62kg)に、純水を攪拌下に500kg添加し、さらに35%塩酸0.40kg添加し、ついでA−1−2で作成したアルカリ性酸化第二スズ水性ゾルを270kg(SnO2として10.8kg)添加し、攪拌を10分続行した。混合液はZrO2/SnO2重量比0.15、でコロイド色を呈する透明性の良好なゾルであった。
調製した混合液を攪拌下に、95℃で5時間加熱処理を行い、酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾルを779.2kgを得た。このゾルはSnO2として1.38重量%、ZrO2として0.21重量%、SnO2+ZrO2として1.59重量%であった。
(b)工程:B−2−1で得られた五酸化アンチモン−シリカ複合体のコロイド及びそのオリゴマーを含有する水性媒体1050g(Sb2O5+SiO2として10g含有)に、攪拌下に(b)工程で得られた酸化第二スズ−酸化ジルコニウムの複合体ゾルを1111g(SnO2+ZrO2として50g含有)を(Sb2O5+SiO2)/(SnO2+ZrO2)重量比で0.2の割合になる様に徐々に添加混合した。
(c)工程:(b)工程で得られた水性媒体を20〜30℃で1時間攪拌を行った。
(d)工程:(c)工程で得られた混合ゾル様スラリーを水酸基型陰イオン交換樹脂が充填されたカラムに通液することにより、ゾル中に含まれる陰イオン(Cl−)を除去した。ついで90〜95℃で2〜3時間加熱熟成することで変成された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾルを得たこのゾルは、pH8.00で透明性の良好なゾルであった。
陽イオン交換交換樹脂が充填されたカラムおよび陰イオン交換樹脂が充填されたカラムに連続で通液した後、分画分子量5万の限外ろ過膜のろ過装置により濃縮し、高濃度の変成された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾルを517gを得た。このゾルは、pH3.15、全金属酸化物濃度11.6重量%で安定であった。
上記高濃度の変成された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾル517gをロータリーエバポレーターにて減圧下、液温30℃以下でメタノール8Lを徐々に加えながら水を留去することにより水性ゾルをメタノールで置換した変成された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体メタノールゾル190gを得た。このゾルをろ過濃度調整することで得られた変成された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体メタノールゾルは電子顕微鏡観察による粒子径は10〜15nmであり、比重1.024、粘度2.5c.p.、pH2.77(水との等重量混合物)、透過率79%、金属酸化物に換算した濃度は25.0重量%、水分0.76重量%であった。このゾルはコロイド色を呈し、透明性が高く、室温で3ヶ月放置後も沈降物の生成、白濁、増粘等の異常は認められず安定であった。また、このゾルの屈折率は1.8であった。
(変性された金属酸化物ゾルの製造例9)
製造例5で得られた変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体のメタノールゾル1.2kgにグリコール酸を18.1g添加、溶解し、一晩静定した。得られたゾルは比重1.090、粘度2.9c.p.、pH5.7、全金属酸化物濃度30.1重量%で安定であった。
(変性された金属酸化物ゾルの製造例10)
製造例6で得られた変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体のメタノールゾル2.18kgにグリコール酸を31.5g添加、溶解し、一晩静定した。得られたゾルは比重1.086、粘度2.8c.p.、pH5.8、全金属酸化物濃度30.1重量%で安定であった。
(変性された金属酸化物ゾルの製造例11)
製造例5の(d)工程で得られた高濃度に変成された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体33.0kgに酒石酸237gとジイソプロピルアミン88gを強攪拌下で徐々に順次加え、1時間攪拌を続行した。得られたゾルをロータリーエバポレーターにて微減圧下、液温80℃以下でメタノールを約400Lを徐々に加えながら水を留去することにより水性ゾルをメタノールで置換した変成された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体メタノールゾルを22kgを得た。得られたゾルは比重1.102、粘度3.1c.p.、pH8.2、全金属酸化物濃度30.7重量%で安定であった。
(変性された金属酸化物ゾルの製造例12)
製造例6の(d)工程で得られた高濃度に変成された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体28.5kgに酒石酸148gとジイソプロピルアミン35gを強攪拌下で徐々に順次加え、1時間攪拌を続行した。得られたゾルをロータリーエバポレーターにて微減圧下、液温80℃以下でメタノールを約400Lを徐々に加えながら水を留去することにより水性ゾルをメタノールで置換した変成された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体メタノールゾルを22kgを得た。得られたゾルは比重1.100、粘度2.0c.p.、pH7.5、全金属酸化物濃度30.6重量%で安定であった。
(変性された金属酸化物ゾルの製造例13)
製造例11で得られた変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体のメタノールゾル1.3kgにグリコール酸を5.9g添加、溶解し、一晩静定した。得られたゾルは比重1.094、粘度1.6c.p.、pH5.2、全金属酸化物濃度30.3重量%で安定であった。
(変性された金属酸化物ゾルの製造例14)
製造例12で得られた変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体のメタノールゾル0.76kgにグリコール酸を3.9g添加、溶解し、一晩静定した。得られたゾルは比重1.094、粘度1.4c.p.、pH4.8、全金属酸化物濃度30.4重量%で安定であった。
(変性された金属酸化物ゾルの製造例15)
金属酸化物に換算した(B)/(A)の重量割合が0.1に混合される様に、製造例1のA−1−1成分の酸化第二スズコロイドをA−1−5成分の酸化第二スズコロイド1401gに、B−1−1成分のアルカリ成分含有五酸化アンチモンコロイド及びそのオリゴマーを含有する水性媒体を、B−1−2成分のアルカリ成分含有五酸化アンチモンコロイド及びそのオリゴマーを含有する水性媒体277.8gに変更した以外は製造例1と同様に行った。
(変性された金属酸化物ゾルの製造例16)
金属酸化物に換算した(B)/(A)の重量割合が0.2に混合される様に、製造例1のA−1−1成分の酸化第二スズコロイドをA−1−5成分の酸化第二スズコロイド5373gに、B−1−1成分のアルカリ成分含有五酸化アンチモンコロイド及びそのオリゴマーを含有する水性媒体を、B−2−1成分のアルカリ成分含有五酸化アンチモン−シリカ複合コロイド及びそのオリゴマーを含有する水性媒体503gに変更した以外は製造例1と同様に行った。
この例では本発明の比較例に用いられる酸化チタンメタノールゾルを調製した。
参考例1
マグネチックスターラーを備えたガラス製の容器に、前述したA成分に該当するγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン105.3重量部を加え、撹拌しながら0.01規定の塩酸36.8重量部を3時間で滴下した。滴下終了後、0.5時間撹拌を行い、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの部分加水分解物を得た。つぎに前述の製造例1で得たアルキルアミン含有五酸化アンチモンで被覆された変性酸化第二スズ複合メタノールゾル(全金属酸化物に換算して30.5重量%を含有する)397.8重量部、ブチルセロソルブ65重量部、更に硬化剤としてアルミニウムアセチルアセトネート4.2重量部を前述したγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの部分加水分解物142.1重量部に加え、十分に撹拌した後、ろ過を行ってコーティング液を作製した。
(硬化膜の形成)
市販の屈折率nD=1.59のポリカーボネートの板を用意し、これにスピンコート法で上記のコーティング組成物を塗布し、120℃で2時間加熱処理をして、塗膜を硬化させた。評価結果を表1に示した。
参考例1に用いた製造例1のアルキルアミン含有五酸化アンチモンで被覆された変性酸化第二スズ複合メタノールゾルの代わりに、製造例2のアルキルアミン含有五酸化アンチモンで被覆された変性酸化第二スズ複合メタノールゾル(全金属酸化物に換算して30.5重量%を含有する)397.8重量部を用いた以外は参考例1と同様に行った。評価結果を表1に示した。
参考例1に用いた製造例1のアルキルアミン含有五酸化アンチモンで被覆された変性酸化第二スズ複合メタノールゾルの代わりに、製造例3のアルキルアミン含有五酸化アンチモンで被覆された変性酸化第二スズ複合メタノールゾル(全金属酸化物に換算して30.5重量%を含有する)397.8重量部を用いた以外は参考例1と同様に行った。評価結果は表1に示した。
参考例1に用いたA成分に該当するγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの代わりに、同じA成分に該当するテトラエトキシシラン22.3重量部およびγ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン77.9重量部、硬化剤としてアルミニウムアセチルアセトネート2.6重量部、過塩素酸アンモニウム0.5重量部を用いた以外は参考例1と同様に行った。評価結果を表1に示した。
A成分に該当するγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの代わりに、A成分に該当するγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン74.2重量部およびγ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン31.1重量部を用いた以外は参考例2と同様に行った。評価結果を表1に示した。
A成分に該当するγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの代わりに、A成分に該当するγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン74.2重量部およびγ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン31.1重量部を用いた以外は実施例3と同様に行った。評価結果を表1に示した。
参考例1に用いた製造例1のアルキルアミン含有五酸化アンチモンで被覆された変成酸化第二スズメタノールゾルの代わりに、製造例4のアルキルアミン含有五酸化アンチモンで被覆された変成酸化第二スズメタノールゾル(全金属酸化物に換算して30.5重量%を含有する)397.8重量部を用いた以外は参考例1と同様に行った。
参考例1に用いた製造例1のアルキルアミン含有五酸化アンチモンで被覆された変成酸化第二スズメタノールゾルの代わりに、製造例5のアルキルアミン含有五酸化アンチモンで被覆された変成酸化第二スズ−酸化ジルコニウムの複合体メタノールゾル(全金属酸化物に換算して30.5重量%を含有する)397.8重量部を用いた以外は参考例1と同様に行った。
実施例1に用いた製造例1のアルキルアミン含有五酸化アンチモンで被覆された変成酸化第二スズメタノールゾルの代わりに、製造例6のアルキルアミン含有五酸化アンチモンで被覆された変成酸化第二スズ−酸化ジルコニウムの複合体メタノールゾル(全金属酸化物に換算して30.4重量%を含有する)399.0重量部を用いた以外は参考例1と同様に行った。
参考例1に用いた製造例1のアルキルアミン含有五酸化アンチモンで被覆された変成酸化第二スズメタノールゾルの代わりに、製造例7の五酸化アンチモン−シリカの複合体コロイドで被覆された変成酸化第二スズメタノールゾル(全金属酸化物に換算して30.3重量%を含有する)400.3重量部を用いた以外は参考例1と同様に行った。
参考例1に用いた製造例1のアルキルアミン含有五酸化アンチモンで被覆された変成酸化第二スズメタノールゾルの代わりに、製造例8の五酸化アンチモン−シリカの複合体コロイドで被覆された変成酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合メタノールゾル(全金属酸化物に換算して25.0重量%を含有する)485.2重量部を用いた以外は参考例1と同様に行った。
参考例1に用いた製造例1のアルキルアミン含有五酸化アンチモンで被覆された変成酸化第二スズメタノールゾルの代わりに、製造例9のアルキルアミン含有五酸化アンチモンで被覆された変成酸化第二スズ−酸化ジルコニウムの複合体メタノールゾル(全金属酸化物に換算して30.1重量%を含有する)403.1重量部を用いた以外は参考例1と同様に行った。
参考例1に用いた製造例1のアルキルアミン含有五酸化アンチモンで被覆された変成酸化第二スズメタノールゾルの代わりに、製造例10のアルキルアミン含有五酸化アンチモンで被覆された変成酸化第二スズ−酸化ジルコニウムの複合体メタノールゾル(全金属酸化物に換算して30.5重量%を含有する)397.8重量部を用いた以外は参考例1と同様に行った。
参考例1に用いた製造例1のアルキルアミン含有五酸化アンチモンで被覆された変成酸化第二スズメタノールゾルの代わりに、製造例11のアルキルアミン含有五酸化アンチモンで被覆された変成酸化第二スズ−酸化ジルコニウムの複合体メタノールゾル(全金属酸化物に換算して30.7重量%を含有する)395.1重量部を用いた以外は参考例1と同様に行った。
参考例1に用いた製造例1のアルキルアミン含有五酸化アンチモンで被覆された変成酸化第二スズメタノールゾルの代わりに、製造例12のアルキルアミン含有五酸化アンチモンで被覆された変成酸化第二スズ−酸化ジルコニウムの複合体メタノールゾル(全金属酸化物に換算して30.6重量%を含有する)396.4重量部を用いた以外は参考例1と同様に行った。
参考例1に用いた製造例1のアルキルアミン含有五酸化アンチモンで被覆された変成酸化第二スズメタノールゾルの代わりに、製造例13のアルキルアミン含有五酸化アンチモンで被覆された変成酸化第二スズ−酸化ジルコニウムの複合体メタノールゾル(全金属酸化物に換算して30.3重量%を含有する)400.3重量部を用いた以外は参考例1と同様に行った。
参考例1に用いた製造例1のアルキルアミン含有五酸化アンチモンで被覆された変成酸化第二スズメタノールゾルの代わりに、製造例14のアルキルアミン含有五酸化アンチモンで被覆された変成酸化第二スズ−酸化ジルコニウムの複合体メタノールゾル(全金属酸化物に換算して30.4重量%を含有する)399.0重量部を用いた以外は参考例1と同様に行った。
参考例1に用いた製造例1のアルキルアミン含有五酸化アンチモンで被覆された変成酸化第二スズメタノールゾルの代わりに、製造例15のアルキルアミン含有五酸化アンチモンで被覆された変成酸化第二スズメタノールゾル(全金属酸化物に換算して30.1重量%を含有する)403.1重量部を用いた以外は参考例1と同様に行った。
参考例1に用いた製造例1のアルキルアミン含有五酸化アンチモンで被覆された変成酸化第二スズメタノールゾルの代わりに、製造例16のアルキルアミン含有五酸化アンチモン−シリカ複合コロイドで被覆された変成酸化第二スズメタノールゾル(全金属酸化物に換算して30.1重量%を含有する)403.1重量部を用いた以外は参考例1と同様に行った。
参考例1で用いたゾルの代わりに、比較製造例1で作製した酸化チタンメタノールゾル(TiO2として20.2重量%を含有する。)を643.6重量部用いた以外はすべて参考例1と同様に行った。評価結果を表1に示した。
参考例1で用いたゾルの代わりに、特開平3−217230号公報に開示されている酸化タングステン−酸化第二スズ複合体微粒子で被覆された酸化スズメタノールゾル(SnO2+WO3として30.0重量%を含有する。)を433.3重量部用いた以外はすべて参考例1と同様に行った。評価結果は表1に示した。
参考例1で用いたゾルの代わりに、特開平10−310429号公報に開示されている酸化チタン−酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合酸化物コロイドメタノールゾル(TiO2+SnO2+ZrO2として30.0重量%を含有する。)を433.3重量部用いた以外はすべて参考例1と同様に行った。評価結果を表1に示した。
参考例1で用いたゾルの代わりに、コロイダルシリカ(メタノールゾル、固形分20%、平均粒子径15nm)を650.0重量部用いた以外はすべて参考例1と同様に行った。評価結果は表1に示した。
スチールウール#0000で硬化膜表面を擦って傷の付きにくさを目視で判断した。判断基準は傷の付き難い順に、A>B>Cのように評価した。
蛍光灯下で硬化膜を有する光学部材を目視で判断した。判断基準は次の通りである。干渉縞の発生がほとんど無いものがAであり、以下B、Cの順に発生し易くなった。
硬化膜に1mm間隔で、100目クロスカットし、このクロスカットした所に粘着テープ(セロハンテープ、ニチバン(株)製品)と強く貼り付けた後、粘着テープを急速に剥がし、粘着テープを剥がした後の硬化膜の剥離の有無を調べた。
80℃の温水に光学部材を2時間浸漬し、前述した同様の密着性試験を行った。
暗室内、蛍光灯下で硬化膜にくもりがあるかどうか目視で調べた。判断基準は次の通りである。くもりの発生がほとんど無いものがAであり、以下B、Cの順に発生し易くなった。
得られた光学部材を1ヶ月間屋外暴露を行い,暴露後の光学部材の外観の変化を目視で判断した。
〔表1〕
表1
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
耐擦傷性 干渉縞 密着性 耐温水性 透明性 耐候性
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
参考例1 A A 良好 良好 A 異常なし
参考例2 A A 良好 良好 A 異常なし
実施例3 A A 良好 良好 A 異常なし
参考例4 A A 良好 良好 A 異常なし
参考例5 A A 良好 良好 A 異常なし
実施例6 A A 良好 良好 A 異常なし
実施例7 A A 良好 良好 A 異常なし
参考例8 A A 良好 良好 A 異常なし
実施例9 A A 良好 良好 A 異常なし
参考例10 A A 良好 良好 A 異常なし
参考例11 A A 良好 良好 A 異常なし
参考例12 A A 良好 良好 A 異常なし
実施例13 A A 良好 良好 A 異常なし
参考例14 A A 良好 良好 A 異常なし
実施例15 A A 良好 良好 A 異常なし
参考例16 A A 良好 良好 A 異常なし
実施例17 A A 良好 良好 A 異常なし
実施例18 A A 良好 良好 A 異常なし
実施例19 A A 良好 良好 A 異常なし
比較例1 B A 良好 剥離 B 青変
比較例2 B A 良好 一部剥離 A 僅か黄変
比較例3 A〜B A 良好 良好 A〜B 異常なし
比較例4 A C 良好 良好 A 異常なし
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
本願発明の実施例3、6、7、8、13、15、17〜19は、耐擦傷性、干渉縞、密着性、耐温水性、透明性、及び耐候性に優れるものであった。しかし、比較例1、2は耐擦傷性、耐温水性、透明性、及び耐候性において十分なものとは言えず、比較例4では干渉縞の発生が見られ好ましくなかった。また、比較例3は実用上、特に遜色ない結果であったが、実施例3、6、7、8、13、15、17に比べ僅かに及ばなかった。
Claims (5)
- 下記(S)成分に対して、(T1)成分:
(S)成分:一般式(I)、
(R1)a(R3)bSi(OR2)4−(a+b) (I)
(但し、R1及びR3は、それぞれアルキル基、アリール基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール基、アルケニル基、又はエポキシ基、アクリロイル基、メタクリロイル基、メルカプト基、アミノ基、もしくはシアノ基を有する有機基で且つSi−C結合によりケイ素原子と結合しているものであり、R2は炭素数1〜8のアルキル基、アルコキシアルキル基、又はアシル基であり、a及びbはそれぞれ0、1、又は2の整数であり、a+bは0、1、又は2の整数である。)及び、一般式(II)、
〔(R4)cSi(OX)3−c〕2Y (II)
(但し、R4は炭素数1〜5のアルキル基を示し、Xは炭素数1〜4のアルキル基又はア
シル基を示し、Yはメチレン基又は炭素数2〜20のアルキレン基を示し、cは0又は1の整数である。)で表される有機ケイ素化合物、並びにその加水分解物からなる群より選ばれた少なくとも1種のケイ素含有物質、
(T1)成分:酸化第二スズ粒子または酸化第二スズ粒子と酸化ジルコニウム粒子との複合体粒子であり、これらの酸化物が重量に基づいてZrO2:SnO2として0:1〜0.50:1の割合と4〜50nmの粒子径を有するコロイド粒子(A)を核としてその表面が、0.02〜4.00のM/Sb2O5のモル比(ただしMはアミン分子を示す。)を有するアルキルアミン含有Sb2O5コロイド粒子、そのオリゴマー、又はそれらの混合物(B1)で被覆され、且つ(B1)/(A)の重量比がそれら金属酸化物の重量比に基づいて0.01〜0.50の割合であり、そして4.5〜60nmの粒子径を有する変性された金属酸化物粒子、を配合させるコーティング組成物の製造方法であって、
(T1)成分が、下記(a3)工程、(b3)工程及び(c3)工程:
(a3)工程:100〜300℃の温度で水熱処理され、且つ4〜50nmの粒子径と0.5〜50重量%のSnO 2 濃度を有する酸化第二スズ水性ゾルを調整する工程、
(b3)工程:上記(a3)工程で得られた酸化第二スズ水性ゾルと、0.02〜4.00のM/Sb 2 O 5 のモル比(ただしMはアミン分子を示す。)を有するアルキルアミン含有Sb 2 O 5 コロイド粒子、そのオリゴマー、又はそれらの混合物を含有する水性媒体とを、その金属酸化物に換算したSb 2 O 5 /SnO 2 の重量割合で0.01〜0.50に混合する工程、
(c3)工程:(b3)工程で得られた水性媒体を20〜300℃で0.1〜50時間熟
成する工程、から得られる変性された酸化第二スズ粒子、又は
下記(a4)工程、(b4)工程(c4)工程及び(d4)工程:
(a4)工程:100〜300℃の温度で水熱処理され、且つ4〜50nmの粒子径と0.5〜50重量%のSnO 2 濃度を有する酸化第二スズ水性ゾルと、ZrO 2 に換算して0.5〜50重量%濃度のオキシジルコニウム塩の水溶液とを、ZrO 2 /SnO 2 として0.05〜0.50の重量比に混合し、得られた混合液を60〜100℃で、0.1〜50時間加熱することにより、4〜50nmの粒子径を有する酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾルを調整する工程、
(b4)工程:(a4)工程で得られた酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾルと、0.02〜4.00のM/Sb 2 O 5 のモル比(ただしMはアミン分子を示す。)を有するアルキルアミン含有Sb 2 O 5 コロイド粒子、そのオリゴマー、又はそれらの混合物を含有する水性媒体とを、その金属酸化物に換算したSb 2 O 5 /(SnO 2 +ZrO 2 )の重量割合で0.01〜0.50に混合する工程、
(c4)工程:(b4)工程で得られた水性媒体を20〜300℃で0.1〜50時間熟成する工程、及び
(d4)工程:(c4)工程で得られた変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾルを陰イオン交換体と接触させ、その後20〜300℃で0.1〜50時間熟成する工程、により得られる変成された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子である、コーティング組成物の製造方法。 - 下記(S)成分に対して、(T2)成分:
(S)成分:一般式(I)、
(R1)a(R3)bSi(OR2)4−(a+b) (I)
(但し、R1及びR3は、それぞれアルキル基、アリール基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール基、アルケニル基、又はエポキシ基、アクリロイル基、メタクリロイル基、メルカプト基、アミノ基、もしくはシアノ基を有する有機基で且つSi−C結合によりケイ素原子と結合しているものであり、R2は炭素数1〜8のアルキル基、アルコキシアルキル基、又はアシル基であり、a及びbはそれぞれ0、1、又は2の整数であり、a+bは0、1、又は2の整数である。)及び、一般式(II)、
〔(R4)cSi(OX)3−c〕2Y (II)
(但し、R4は炭素数1〜5のアルキル基を示し、Xは炭素数1〜4のアルキル基又はア
シル基を示し、Yはメチレン基又は炭素数2〜20のアルキレン基を示し、cは0又は1の整数である。)で表される有機ケイ素化合物、並びにその加水分解物からなる群より選ばれた少なくとも1種のケイ素含有物質、
(T2)成分:酸化第二スズ粒子または酸化第二スズ粒子と酸化ジルコニウム粒子との複合体粒子であり、これらの酸化物が重量に基づいてZrO2:SnO2として0:1〜0.50:1の割合と4〜50nmの粒子径を有するコロイド粒子(A)を核として、その表面が0.55〜55のSiO2/Sb2O5のモル比を有する五酸化アンチモンとシリカの複合コロイド粒子、そのオリゴマー、又はそれらの混合物(B2)で被覆され、且つ(B2)/(A)の重量比がそれら金属酸化物の重量比に基づいて0.01〜0.50の割合であり、そして4.5〜60nmの粒子径を有する変性された金属酸化物粒子、を配合させるコーティング組成物の製造方法であって、
(T2)成分が、下記(a7)工程、(b7)工程及び(c7)工程:
(a7)工程:100〜300℃の温度で水熱処理され、且つ4〜50nmの粒子径と0.5〜50重量%のSnO2濃度を有する酸化第二スズ水性ゾルを調整する工程、
(b7)工程:上記(a7)工程で得られた酸化第二スズ水性ゾルと、0.55〜55のSiO2/Sb2O5のモル比を有する五酸化アンチモンとシリカの複合コロイド粒子、そのオリゴマー、又はそれらの混合物を含有する水性媒体とを、その金属酸化物に換算した(Sb2O5+SiO2)/SnO2の重量割合で0.01〜0.50に混合する工程、
(c7)工程:(b7)工程で得られた水性媒体を20〜300℃で0.1〜50時間熟成する工程から得られる変性された酸化第二スズ粒子、又は
下記(a8)工程、(b8)工程(c8)工程及び(d8)工程:
(a8)工程:100〜300℃の温度で水熱処理され、且つ4〜50nmの粒子径と0.5〜50重量%のSnO2濃度を有する酸化第二スズ水性ゾルと、ZrO2に換算して0.5〜50重量%濃度のオキシジルコニウム塩の水溶液とを、ZrO2/SnO2として0.05〜0.50の重量比に混合し、得られた混合液を60〜100℃で、0.1〜50時間加熱することにより、4〜50nmの粒子径を有する酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾルを調整する工程、
(b8)工程:(a8)工程で得られた酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾルと、0.55〜55のSiO2/Sb2O5のモル比を有する五酸化アンチモンとシリカの複合コロイド粒子、そのオリゴマー、又はそれらの混合物を含有する水性媒体とを、その金属酸化物に換算した(Sb2O5+SiO2)/(SnO2+ZrO2)の重量割合で0.01〜0.50に混合する工程、
(c8)工程:(b8)工程で得られた水性媒体を20〜300℃で0.1〜50時間熟成する工程、及び
(d8)工程:(c8)工程で得られた変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾルを陰イオン交換体と接触させ、その後20〜300℃で0.1〜50時間熟成して変成する工程、
により得られる変成された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子である、コーティング組成物の製造方法。 - 金属塩、金属アルコキシド及び金属キレート化合物から成る群から選ばれる1種以上の硬化触媒を含有させる請求項1又は2に記載のコーティング組成物の製造方法。
- 光学基材表面に請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の製造方法により得られるコーティング組成物より形成される硬化膜を有する光学部材の製造方法。
- 請求項4に記載の製造方法により得られる光学部材の表面に、さらに反射防止膜を施すことを特徴とする光学部材の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003393899A JP4591655B2 (ja) | 2002-12-03 | 2003-11-25 | コーティング組成物及び光学部材 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002350762 | 2002-12-03 | ||
JP2003097789 | 2003-04-01 | ||
JP2003161087 | 2003-06-05 | ||
JP2003393899A JP4591655B2 (ja) | 2002-12-03 | 2003-11-25 | コーティング組成物及び光学部材 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005015756A JP2005015756A (ja) | 2005-01-20 |
JP4591655B2 true JP4591655B2 (ja) | 2010-12-01 |
Family
ID=34199133
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003393899A Expired - Lifetime JP4591655B2 (ja) | 2002-12-03 | 2003-11-25 | コーティング組成物及び光学部材 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4591655B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5168469B2 (ja) * | 2005-08-09 | 2013-03-21 | 日産化学工業株式会社 | 酸化ジルコニウム−酸化スズ複合体ゾル、コーティング組成物及び光学部材 |
TW200722489A (en) | 2005-10-26 | 2007-06-16 | Asahi Lite Optical Co Ltd | Coating composition and light-transmitting resin product |
JP5509675B2 (ja) * | 2008-05-30 | 2014-06-04 | 東レ株式会社 | シロキサン系樹脂組成物およびこれを用いた光学デバイス |
JP2021080396A (ja) * | 2019-11-21 | 2021-05-27 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 高い透明性を有する無機酸化物分散体 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001123115A (ja) * | 1999-08-16 | 2001-05-08 | Nissan Chem Ind Ltd | コーティング組成物及び光学部材 |
JP2001122621A (ja) * | 1999-08-16 | 2001-05-08 | Nissan Chem Ind Ltd | 変性金属酸化物ゾル及びその製造方法 |
JP2005015324A (ja) * | 2002-12-03 | 2005-01-20 | Nissan Chem Ind Ltd | 変性された酸化第二スズゾル、酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾル及びその製造方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5040119B1 (ja) * | 1970-03-23 | 1975-12-22 |
-
2003
- 2003-11-25 JP JP2003393899A patent/JP4591655B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001123115A (ja) * | 1999-08-16 | 2001-05-08 | Nissan Chem Ind Ltd | コーティング組成物及び光学部材 |
JP2001122621A (ja) * | 1999-08-16 | 2001-05-08 | Nissan Chem Ind Ltd | 変性金属酸化物ゾル及びその製造方法 |
JP2005015324A (ja) * | 2002-12-03 | 2005-01-20 | Nissan Chem Ind Ltd | 変性された酸化第二スズゾル、酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾル及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005015756A (ja) | 2005-01-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5168469B2 (ja) | 酸化ジルコニウム−酸化スズ複合体ゾル、コーティング組成物及び光学部材 | |
US6296943B1 (en) | Method for producing composite sol, coating composition, and optical element | |
JP5182533B2 (ja) | 金属酸化物複合ゾル、コーティング組成物及び光学部材 | |
JP4654492B2 (ja) | コーティング組成物及び光学部材 | |
EP1077236B1 (en) | Modified metal oxide sol, coating composition and optical element | |
JP5182532B2 (ja) | 変性金属酸化物複合ゾル、コーティング組成物及び光学部材 | |
EP3101075B1 (en) | Coating composition and optical member | |
JPH10306258A (ja) | コーティング組成物及び光学部材 | |
US7563827B2 (en) | Modified stannic oxide sol, stannic oxide-zirconium oxide composite sol, coating composition and optical element | |
JP4288432B2 (ja) | コーティング組成物及び光学部材 | |
JP2012031353A (ja) | コーティング組成物及び光学部材 | |
JPH09125003A (ja) | コーティング組成物及び光学部材 | |
JP4129600B2 (ja) | コーティング組成物及び光学部材 | |
JP4591655B2 (ja) | コーティング組成物及び光学部材 | |
JP4088720B2 (ja) | コーティング組成物及び光学部材 | |
WO2023100947A1 (ja) | 変性金属酸化物コロイド粒子、およびその製造方法 | |
JPH09118870A (ja) | コーティング組成物及び光学部材 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061012 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100324 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100524 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100609 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100730 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100818 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100831 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130924 Year of fee payment: 3 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4591655 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130924 Year of fee payment: 3 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |