JP4435333B2 - ハロゲン含有量の少ないアルコキシシランの製造方法 - Google Patents

ハロゲン含有量の少ないアルコキシシランの製造方法 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明はハロゲン化物含有量の少ないアルコキシシランの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
米国特許第2,698,861号明細書には、ハロシラン又はそれらの部分加水分解生成物から選ばれるハロケイ素化合物とオルトホルメートとを反応させることを含むアルコキシケイ素化合物の製造方法が記載されている。反応副生成物はハロゲン化アルキル、残留ハロゲン化物化学種及びギ酸エステルである。
【0003】
米国特許4,281,146号明細書には、ハロゲン化シリコーン化合物にオルトホルメート及びアルコールを加えて塩化アルキルとその後で蒸留により除去できるホルメートとを形成させることを含むハロゲン化シリコーン化合物の中和方法が開示されている。この特許発明では,ハロゲン化シリコーン化合物を中和するために、高価であり工業的操業にとって望ましくない過剰のトリメチルオルトホルメートが使用される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、アルコキシシランのハロゲン化物含有量を減少させる方法を提供する。驚くべきことに、本発明の方法は、アルコキシシランの残留ハロゲン化物含有量を減少させると同時にアルカリ金属塩の形成を抑制し、濾過時間を短縮する。さらに、本発明の方法は、特に、立体障害のあるアルコキシシランのハロゲン含有量を減少させる。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明の方法は、アルコキシシラン及び残留ハロゲン化物を含む第1の混合物を残留ハロゲン化物1モル当たり1.5〜15モルの1〜4個の炭素原子を含むアルキルアルコール及び残留ハロゲン化物1モル当たり0.1〜5モルのオルトホルメートを含む第2の混合物に接触させて新たに生成したアルコキシシラン及び低沸点化学種を含む最終混合物を形成させ、次に、この低沸点化学種とアルコキシシランとを分離することを含んでなる。次に、任意の残留ハロゲン化物を金属アルコキシドにさらに接触させて大幅なハロゲン化物含有量の削減を達成する。本発明の方法により製造されるアルコキシシランはポリプロピレンを生産するための触媒変性剤として有用である。
【0006】
【発明の実施の形態】
本発明は、ハロゲン化物含有量の少ないアルコキシシランの製造方法である。この方法は、
(a)式:Ra b Si(OR1 (4-a-b) により表されるアルコキシシラン及び残留ハロゲン化物を含む第1の混合物を残留ハロゲン化物1モル当たり1.5〜15モルの1〜4個の炭素原子を含むアルキルアルコール及び残留ハロゲン化物1モル当たり0.1〜5モルの式:HC(OR1 3 により表されるオルトホルメートを含む第2の混合物に接触させて新たに生成したアルコキシシラン及び低沸点化学種を含む最終混合物を形成させ(前記式中、各Rは1〜20個の炭素原子を含む置換又は非置換炭化水素基から独立に選ばれ、各R1 は1〜4個の炭素原子を含む炭化水素基から独立に選ばれ、aは0〜3、bは0〜3、a+bは0〜3である);そして次に
(b)低沸点化学種とアルコキシシランとを分離すること
を含む。
【0007】
アルコキシシラン及び残留ハロゲン化物を含む第1の混合物とアルキルアルコール及びオルトホルメートを含む第2の混合物とを接触させることは、アルコキシル化反応を行うのに標準的なタイプの反応器において実施できる。反応器は回分式、半回分式又は連続式のものであることができる。
【0008】
本発明の方法に係るアルコキシシランは、式:Rab Si(OR1(4-a-b) (式中、各Rは1〜20個の炭素原子を有する置換及び非置換炭化水素基から独立に選ばれ、aは0〜3、bは0〜3、a+bは0〜3である)により表される。Rは、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル及びヘキシルのようなアルキル基;ビニル、アリル及びヘキセニルのようなアルケニル基;シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、ジシクロペンチル及びシクロヘキシルのようなシクロアルキル基;シクロブテニル、シクロペンテニル及びシクロヘキセニルのようなシクロアルケニル基;フェニル、トリル及びナフチルのようなアリール基であることができる。アルコキシシランの具体例には、メトキシシラン、エトキシシラン、ブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、トリメトキシシラン、ジメトキシシラン、t−ブチルトリメトキシシラン、t−ブチルメチルジメトキシシランジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、オクタデシルビニルジメトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、トリエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、トリフェニルメトキシシラン、2−フェニルプロピルメチルジメトキシシラン、メチルヘキサジエニルジメトキシシラン、(クロロプロピル)トリメトキシシラン、(3,3,3−トリフルオロプロピル)トリメトキシシラン、ビス−(3,3,3−トリフルオロプロピル)ジメトキシシラン、ジシクロペンチルジメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、5−ヘキセニルジメチルメトキシシラン、及びトリス−(3,3,3−トリフルオロプロピル)メトキシシランが包含される。好ましいアルコキシシランはジシクロペンチルジメトキシシラン及びシクロヘキシルメチルジメトキシシランである。
【0009】
前記混合物中に存在する残留ハロゲン化物はハロシランとアルコールとの反応副生成物であり、残留ハロゲン化物はハロシラン及び塩化水素の形態をとる。塩酸は、蒸留により容易に分離することができる。しかしながら、ハロシランの形態にある残留ハロゲン化物は、それらの沸点がアルコキシシランの沸点に近いために、蒸留によっては容易に分離されない。残留ハロゲン化物には、ジメチルクロロエトキシシラン、フェニルメチルメトキシクロロシラン、ジシクロペンチルクロロメトキシシラン、フェニルフルオロジエトキシシラン、シクロヘキシルメチルクロロメトキシシラン及び残留ハロゲン化物の混合物が包含されるであろう。混合物中の残留ハロゲン化物は最終生成物を酸性にして、経時的に生成物の戻り(reverting )又は分解をもたらすために、混合物中の残留ハロゲン化物を減少させることが望ましい。
【0010】
代わりに、残留ハロゲン化物を金属アルコキシドに接触させてアルカリ金属塩を形成させることができる。しかしながら、この手法は、形成される多量のアルカリ金属塩が濾過時間を長くするために望ましくない。濾過前に蒸留により残留ハロゲン化物を減少させることが経済的にかなり望ましい。濾過前に蒸留を行わない場合には濾過時間が2倍以上になる場合がある。
【0011】
アルコキシシラン及び残留ハロゲン化物を含む前記第1の混合物を、残留ハロゲン化物1モル当たり1.5〜15モルの1〜4個の炭素原子を有するアルキルアルコール及び残留ハロゲン化物1モル当たり0.1〜5モルのオルトホルメートを含む第2の混合物に接触させて、新たに生成したアルコキシシラン及び低沸点化学種を含む最終混合物を形成させる。好ましくは、第2の混合物は残留ハロゲン化物1モル当たり2.5〜10モルの1〜4個の炭素原子を有するアルキルアルコールを含む。最も好ましくは、前記第2の混合物は、残留ハロゲン化物1モル当たり3.5〜7モルの1〜4個の炭素原子を有するアルキルアルコールを含む。本発明に係る方法において有用なアルキルアルコールの具体例には、メタノール、エタノール、プロパノール及びブタノールが包含される。好ましいアルキルアルコールはメタノール及びエタノールである。
【0012】
前記第2の混合物は、残留ハロゲン化物1モル当たり0.1〜5モルの式:HC(OR1 3 により表されるオルトホルメートをさらに含む。好ましくは、前記第2の混合物は、残留ハロゲン化物1モル当たり0.5〜2モルのオルトホルメートを含む。最も好ましくは、前記第2の混合物は、残留ハロゲン化物1モル当たり化学量論的量のオルトホルメートを含む。各R1 は1〜4個の炭素原子を有する炭化水素基から独立に選ばれる。好ましくは、R1 はメチル又はエチルである。オルトホルメートの具体例には、メチルオルトホルメート及びエチルオルトホルメートがあり、トリメチルオルトホルメート又はトリエチルオルトホルメートが好ましい。
【0013】
本発明に係る方法の好ましい態様において、オルトホルメートをアルキルアルコールに溶解させる。アルキルアルコール中のオルトホルメートの重量百分率が10〜60重量%である場合が好ましい。アルキルアルコール中のオルトホルメートの重量百分率が20〜50重量%である場合がより好ましい。アルキルアルコール中のオルトホルメートの重量百分率が25〜30重量%である場合が最も好ましい。アルキルアルコールに対するオルトホルメートの重量百分率に関するこの範囲では、使用されるオルトホルメートの量の顕著な経済的節約と同時に残留ハロゲン化物の著しい削減がもたらされることが発見された。
【0014】
アルコキシシランと残留ハロゲン化物とを含む混合物を、アルキルアルコールとオルトホルメートとを含む前記第2の混合物に接触させると、残留ハロゲン化物に結合しているハロゲン化物イオンはアルコキシル化されて前述の新たに生成するアルコキシシランと低沸点化学種を形成する。例えば、メタノールとトリメチルオルトホルメートとを含む混合物を残留ハロゲン化物に接触させると、ハロゲン化物イオンはメトキシ基で置換されてメトキシシランと低沸点化学種を形成する。
【0015】
前記方法により生成する低沸点化学種には、塩化水素;塩化メチル及び塩化エチルのようなハロゲン化アルキル;メタノール及びエタノールのような残留アルキルアルコール;ギ酸エステル;並びに残留ハロゲン化物が包含される。アルコキシシランは蒸留により低沸点化学種から分離することができる。
【0016】
前記方法によって、アルコキシシランの残留ハロゲン化物の含有率を70,000ppmから5ppmに減少させることができる。低沸点化学種を金属アルオキシに接触させて、ハロシランの形態にあるいかなる残留ハロゲン化物をもアルカリ金属塩に転化させることによって、アルコキシシランの残留ハロゲン化物含有率をさらに減少させることができる。残留ハロゲン化物のレベルが著しく減少するために、形成されるアルカリ金属塩及び残留アルカリ金属塩を濾過によりアルコキシシランから分離することができる。これらの条件下で、濾過時間は最短であり、全体的なプロセス時間及び生産コストにほとんど影響を及ぼさない。
【0017】
前記方法に有用な金属アルコキシドは、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、チタンアルコキシド及びジルコニウムアルコキシドである。
【0018】
本発明の方法の代替的態様において、アルコキシシランと残留ハロゲン化物を含む混合物を、その混合物をオルトホルメートに接触させる前に、金属アルコキシドに接触させることができる。アルコキシシランから低沸点化学種を分離する前にアルコキシシランを金属アルコキシドに接触させてもよい。しかしながら、両方の場合で、生成するアルカリ金属塩の量が多いほどより長い濾過時間が必要となる。
【0019】
本発明の方法は、50℃〜100℃の温度範囲で実施される。本発明の方法は、70℃〜85℃の温度範囲で実施するのが好ましい。
以下の実施例によって本発明の方法を例示する。
【0020】
【実施例】
例1
シクロヘキシルメチルジメトキシシラン中の残留塩化物を削減することについての評価
HClとして測定した場合に1.8%(0.0005モル)の残留塩化物とシクロヘキシルメチルジメトキシシランとを含む第1の混合物を、還流冷却器、加熱マントル及び窒素送入口を備えたガラスフラスコに入れた。指示薬としてブロモクレゾールパープル(BCP)を使用するKOH滴定により初期塩化物レベルは18,000ppmであると求められた。酸性度の結果に基づいて、第1の混合物を、化学量論的量である0.05部(0.00051モル)のトリメチルオルトホルメートと0.16部(0.0051モル)のメタノールとを含む第2の混合物により処理した。メタノールとトリメチルオルトホルメートとを含むこの第2の混合物を、シクロヘキシルメチルジメトキシシランと残留塩化物とを含む第1の混合物を80℃〜85℃に加熱しながら、第1の混合物に0.02部づつ漏斗を通じて加えた。1時間ごとに試料を採取し、指示薬としてBCPを使用するKOH滴定によりKOHレベルを求めた。残留塩化物レベルは2.8時間で18,000ppmから958ppmに減少し、さらに5.5時間後に残留塩化物レベルは528ppmに減少した。5.5時間後に、0.162部のメタノールと0.05部のトリメチルオルトホルメートとを含む混合物に追加のトリメチルオルトホルメートを加えた。7.5時間後に、残留塩化物レベルは126ppmに減少した。
【0021】
例2
シクロヘキシルメチルジメトキシシラン中の残留塩化物を削減することについての評価
HClとして測定した場合に1.9%(0.0005モル)の残留塩化物とシクロヘキシルメチルジメトキシシランとを含む第1の混合物を、還流冷却器、加熱マントル及び窒素送入口を備えたガラスフラスコに入れた。指示薬としてブロモクレゾールパープル(BCP)を使用するKOH滴定により初期塩化物レベルは19,339ppmであると求められた。酸性度の結果に基づいて、第1の混合物を、約0.17部(0.0055モル)のメタノールと0.06部(0.00055モル)のトリメチルオルトホルメートとを含む第2の混合物により処理した。メタノールとトリメチルオルトホルメートとを含むこの第2の混合物を、シクロヘキシルメチルジメトキシシランと残留塩化物とを含む第1の混合物に0.02部づつ漏斗を通じて加え、80℃〜85℃に加熱した。1時間ごとに試料を採取し、指示薬としてBCPを使用するKOH滴定により塩化物レベルを求めた。残留塩化物レベルは3時間で19,339ppmから528ppmに減少した。シクロヘキシルメチルジメトキシシランと低沸点化学種を含む混合物をナトリウムメトキシド0.0001部に接触させると、残留塩化物レベルは5ppm未満に減少した。
【0022】
例3
ジシクロペンチルジメトキシシラン中の残留塩化物を削減することについての評価
ジシクロペンチルジメトキシシランとモノ塩素化シラン((C5 9 2 SiCl(OMe)(0.0018モル))とを含む第1の混合物を、還流冷却器、加熱マントル及び窒素送入口を備えたガラスフラスコに入れた。指示薬としてブロモクレゾールパープル(BCP)を使用するKOH滴定により初期塩化物レベルは66,802ppmであると求められた。酸性度の結果に基づいて、第1の混合物を、0.6部(0.02モル)のメタノールと0.21部(0.002モル)のトリメチルオルトホルメートとを含む第2の混合物により処理した。メタノールとトリメチルオルトホルメートとを含むこの第2の混合物を、ジシクロペンチルジメトキシシランとモノ塩素化シランとを含む第1の混合物に0.02部づつ漏斗を通じて加え、80℃〜85℃に加熱した。1時間ごとに試料を採取し、指示薬としてBCPを使用するKOH滴定により塩化物レベルを求めた。残留塩化物レベルは6時間で66,802ppmから99ppmに減少した。ジシクロペンチルジメトキシシランと低沸点化学種を含む混合物をナトリウムメトキシド0.00016部に接触させると、残留塩化物レベルは5ppm未満に減少した。
【0023】
例4(比較例)
メタノール及び過剰のトリメチルオルトホルメートを使用せずにシクロヘキシルメチルジメトキシシラン中の残留塩化物を削減することについての評価
シクロヘキシルメチルジメトキシシランとモノ塩素化シラン(C611MeSiClOMe(0.0005モル))とを含む第1の混合物を、還流冷却器、加熱マントル及び窒素送入口を備えたガラスフラスコに入れた。指示薬としてブロモクレゾールパープル(BCP)を使用するKOH滴定により初期塩化物レベルは19,339ppmであると求められた。酸性度の結果に基づいて、第1の混合物を、0.25部(0.02モル)のトリメチルオルトホルメートにより処理した。シクロヘキシルメチルジメトキシシランとモノ塩素化シランとを含む第1の混合物を80℃〜85℃に加熱しながら、トリメチルオルトホルメートを第1の混合物に0.02部づつ漏斗を通じて加えた。1時間ごとに試料を採取し、指示薬としてBCPを使用するKOH滴定により塩化物レベルを求めた。残留塩化物レベルは5時間で19,339ppmから1,023ppmに減少した。0.06部(0.002モル)のメタノールを加えることにより混合物中の残留塩化物レベルは38ppmまでさらに減少した。
【0024】
例5(比較例)
化学量論的量のトリメチルオルトホルメートを使用した場合のシクロヘキシルメチルジメトキシシラン中の残留塩化物を削減することについての評価
シクロヘキシルメチルジメトキシシランとモノ塩素化シラン(C611MeSiClOMe1.8%(0.0005モル))とを含む第1の混合物を、還流冷却器、加熱マントル及び窒素送入口を備えたガラスフラスコに入れた。指示薬としてブロモクレゾールパープル(BCP)を使用するKOH滴定により初期塩化物レベルは19,339ppmであると求められた。酸性度の結果に基づいて、第1の混合物を、0.02部(0.0005モル)のメタノールと0.05部(0.0005モル)のトリメチルオルトホルメートを含む第2の混合物により処理した。存在するトリメチルオルトホルメートの量は、存在する全残留塩化物と完全に反応するのに必要な化学量論的量に等しかった。シクロヘキシルメチルジメトキシシランとモノ塩素化シランとを含む第1の混合物を80℃〜85℃に加熱しながら、メタノールとトリメチルオルトホルメートとを含む第2の混合物を第1の混合物に0.02部づつ漏斗を通じて加えた。1時間ごとに試料を採取し、指示薬としてBCPを使用するKOH滴定により塩化物レベルを求めた。残留塩化物レベルは5時間で19,339ppmから13,777ppmに減少した。

Claims (10)

  1. (a)式:Rab Si(OR1(4-a-b) により表されるアルコキシシラン及び残留ハロゲン化物を含む第1の混合物と、残留ハロゲン化物1モル当たり1.5〜15モルの1〜4個の炭素原子を含むアルキルアルコール及び残留ハロゲン化物1モル当たり0.1〜5モルの式:HC(OR13 により表されるオルトホルメートを含む第2の混合物とを接触させて新たに生成したアルコキシシラン及び低沸点化学種を含む最終混合物を形成させ(前記式中、各Rは1〜20個の炭素原子を含む置換又は非置換炭化水素基から独立に選ばれ、各R1 は1〜4個の炭素原子を含む炭化水素基から独立に選ばれ、aは0〜3、bは0〜3、a+bは0〜3である);そして次に(b)前記低沸点化学種とアルコキシシランとを分離することを含んでなるハロゲン含有量の少ないアルコキシシランの製造方法。
  2. 低沸点化学種及び残留ハロゲン化物を金属アルコキシドに接触させることをさらに含む請求項1記載の方法。
  3. 金属アルコキシドが、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、チタンアルコキシド及びジルコニウムアルコキシドから選ばれる請求項2記載の方法。
  4. 残留ハロゲン化物が塩化物である請求項1〜3のいずれか1項に記載の方法。
  5. アルコキシランが、メトキシシラン、エトキシシラン、ブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、トリメトキシシラン、ジメトキシシラン、t−ブチルトリメトキシシラン、t−ブチルメチルジメトキシシランジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、オクタデシルビニルジメトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、トリエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、トリフェニルメトキシシラン、2−フェニルプロピルメチルジメトキシシラン、メチルヘキサジエニルジメトキシシラン、(クロロプロピル)トリメトキシシラン、(3,3,3−トリフルオロプロピル)トリメトキシシラン、ビス−(3,3,3−トリフルオロプロピル)ジメトキシシラン、ジシクロペンチルジメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、5−ヘキセニルジメチルメトキシシラン、及びトリス−(3,3,3−トリフルオロプロピル)メトキシシランから選ばれる請求項1〜3のいずれか1項に記載の方法。
  6. アルキルアルコールがメタノールエタノール、プロパノール及びブタノールから選ばれる請求項1〜3のいずれか1項に記載の方法。
  7. 第2の混合物が、残留ハロゲン化物1モル当たり化学量論的量のオルトホルメートを含む請求項1〜3のいずれか1項に記載の方法。
  8. オルトホルメートがメチルオルトホルメート及びエチルオルトホルメートから選ばれる請求項1〜3のいずれか1項に記載の方法。
  9. アルキルアルコール中のオルトホルメートの重量百分率が10〜60重量%の範囲内である請求項1〜3のいずれか1項に記載の方法。
  10. 低沸点化学種とアルコキシシランが蒸留により分離される請求項1記載の方法。
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