JPH0798828B2 - アルコキシシランの精製方法 - Google Patents

アルコキシシランの精製方法

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JPH0798828B2
JPH0798828B2 JP2128577A JP12857790A JPH0798828B2 JP H0798828 B2 JPH0798828 B2 JP H0798828B2 JP 2128577 A JP2128577 A JP 2128577A JP 12857790 A JP12857790 A JP 12857790A JP H0798828 B2 JPH0798828 B2 JP H0798828B2
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alkoxysilane
zinc
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methyltrimethoxysilane
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則夫 佐藤
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/20Purification, separation

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明はアルコキシシランに含まれる不純物を低減化す
る方法に関する。
〔発明の技術的背景とその問題点〕
半導体工業用材料として利用されるアルコキシシランに
おいて、その中に不純物として含まれる微量のハロゲン
化有機化合物などのハロゲン化物が、半導体基板を侵し
材料トラブルを起こすことが明らかになってきた。
アルコキシシラン中の不純物の低減化方法としては、特
開昭63-238091号公報に不純物として含まれる塩素化合
物の化学当量より過剰の金属アルコラートを用いる方法
が記載されているが、この方法ではハロゲン化有機化合
物の除去は困難である。また、特開昭63-77887号公報に
は有機ケイ素化合物を有機マグネシウム化合物と接触さ
せ精製する方法が記載されているが、有機マグネシウム
化合物の調製が工業的に難しく、また、アルコキシシラ
ンに使用した際には、アルコキシ基と有機マグネシウム
化合物の有機残基を反応するため、アルコキシシランの
収率が低下してしまうという問題もある。
〔発明の目的〕
本発明は簡便且つ効率的に不純物であるハロゲン化物を
アルコキシシランから分離し、精製する方法を提供する
ことを目的とするものである。
〔発明の構成〕
本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意検討の結果、ア
ルコキシシランの精製に金属亜鉛及び/又は特定の有機
亜鉛化合物が有効であること見出し、本発明を完成する
に到った。
即ち、本発明は、ハロゲン化物を含有するアルコキシシ
ランを金属亜鉛及び/又は特定の有機亜鉛化合物と接触
させた後、アルコキシシランの分離することからなるア
ルコキシシランの精製方法を提供するものである。
本発明において、精製の対象となるアルコキシシランと
しては、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキ
シシラン、トリエチルメトキシシラン、トリメチルイソ
プロポキシシラン、トリメチルブトキシシラン、トリフ
ェニルメトキシシラン、ジメチル−t−ブチルメトキシ
シラン、トリフェニルエトキシシラン、ジメチルフェニ
ルメトキシシランなどのモノアルコキシシラン類、ジメ
チルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジ
エチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラ
ン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメ
トキシシラン、メチルフェニルジエトキシシランなどの
ジアルコキシシラン類、メチルトリメトキシシラン、メ
チルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、
フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシ
ランなどのトリアルコキシシラン類、テトラメトキシシ
ラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシ
ランなどのテトラアルコキシシラン類などが挙げられ
る。
本発明の方法により除去されるハロゲン化物としてはメ
チルクロライド、メチルブロマイド、クロロベンゼン、
ブロモベンゼン、クロロビフェニル、ブロモビフェニル
のようなハロゲン化有機化合物あるいは塩化水素やクロ
ロシラン化合物が例示されるが、これらに限定されずこ
れら以外のアルコキシシラン中に含まれる不純物として
のハロゲン化物も全て含まれる。
本発明に使用される金属亜鉛としては、表面積が大きい
粉末状のものが好ましい。また、有機亜鉛化合物として
は、ジメトキシ亜鉛、ジエトキシ亜鉛、ジ−n−プロポ
キシ亜鉛などのアルコラート化合物、あるいはオクテン
酸亜鉛、カプリル酸亜鉛などのカルボネート化合物が挙
げられる。
これらは単独もしくは2種以上を混合して使用できる。
また、本発明に影響を与えない範囲内で活性炭やアルミ
ナなどの多孔質体及び金属アルコラートを併用しても差
支えない。
使用する金属亜鉛及び/又は有機亜鉛化合物の使用量を
不純物であるハロゲン化有機化合物等の含有量の1〜10
0倍が好ましく、5〜50倍が更に好ましい。接触処理時
間は、不純物として含まれるハロゲン化有機化合物等の
量と使用する金属亜鉛及び/又は有機亜鉛化合物の量に
関係して変えられるが、通常は3〜10時間程度が望まし
い。
接触における処理温度は、50〜250℃の範囲であれば良
いが、通常アルコキシシランの還流温度以下で行えば有
効である。
接触処理後、そのまま、あるいは濾過後に、常圧下ある
いは減圧下で、常法により蒸留することによりアルコキ
シシランを分離し、目的の精製アルコキシシランを得る
ことができる。
〔実施例〕
以下、本発明を実施例により具体的に説明する。
実施例中の不純物の定量方法は、ケイ光X線法、酸化分
解電量滴定法(三菱化成(株)製、塩素分析装置、TSX-
15型)により行った。また、電気伝導度も併せて測定し
た。尚、本発明はこれらの実施例により限定されるもの
ではない。
実施例1 酸化分解電量滴定法により塩素分が114ppmと定量され、
電気伝導度が15.8μS/cmである不純物含有メチルトリメ
トキシシラン100gをフラスコに入れ、これに金属亜鉛粉
末2gを添加し、常圧下メチルトリメトキシシランの還流
温度(約103℃)で4時間加熱処理した後、そのまま蒸
留しメチルトリメトキシシラン95gを得た。このものの
塩素分は酸化分解電量滴定法により1ppmであり、また電
気伝導度は0.3μS/cmであった。
比較例1 実施例1と同じ装置に実施例1と同じ不純物含有メチル
トリメトキシシラン100gを仕込み、何も添加することな
く常圧下還流温度(約103℃)で4時間加熱処理後再蒸
留してメチルトリメトキシシラン96gを得た。これの塩
素分は酸化分解電量滴定法により76ppmであり、また電
気伝導度は8.7μS/cmであった。
比較例2 実施例1と同じ装置に実施例1と同じ不純物含有メチル
トリメトキシシラン100gを仕込み、ナトリウムメチラー
ト2gを添加した以外は、全て実施例1と同じ操作を行っ
て、メチルトリメトキシシラン94gを得た。
これの塩素分は酸化分解電量滴定法により65ppmで、ま
た電気伝導度は8.5μS/cmであった。
比較例3 実施例1と同じ装置に実施例1と同じ不純物含有メチル
トリメトキシシラン100gを仕込み、金属マグネシウム粉
末を2gを添加した以外は、全て実施例1と同じ操作を行
って、メチルトリメトキシシラン95gを得た。
これの塩素分は酸化分解電量滴定法により70ppmであ
り、また電気伝導度は8.6μS/cmであった。
実施例2 酸化分解電量滴定法で13ppmの塩素分が測定されている
メチルトリエトキシシラン100gをフラスコに入れ、亜鉛
含有量8%のオクテン酸亜鉛10gを添加し、80℃で常圧
下5時間加熱処理した後、そのまま蒸留しメチルトリエ
トキシシラン90gを得た。このメチルトリエトキシシラ
ンの塩素分は、1ppmまで減少していることが酸化分解電
量滴定法で確認された。
実施例3 ケイ光X線分析で116ppmの臭素分が測定されているジメ
チルジエトキシシラン100gをフラスコに入れ、金属亜鉛
粉末2gと活性炭1gを添加し、常圧下ジメチルジエトキシ
シランの還流温度(約115℃)で5時間加熱処理した
後、濾紙を使って濾過し、常圧で蒸留したところジメチ
ルジエトキシシラン90gが得られた。このもののケイ光
X線分析による臭素分は検出されなかった。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ハロゲン化物を含有するアルコキシシラン
    を金属亜鉛及び/又はジメトキシ亜鉛、ジエトキシ亜
    鉛、ジ−n−プロポキシ亜鉛、オクテン酸亜鉛、カプリ
    ル酸亜鉛より選ばれる有機亜鉛化合物と接触させた後、
    アルコキシシランを分離することからなるアルコキシシ
    ランの精製方法。
JP2128577A 1990-05-18 1990-05-18 アルコキシシランの精製方法 Expired - Lifetime JPH0798828B2 (ja)

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Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2552950B2 (ja) * 1990-11-13 1996-11-13 信越化学工業株式会社 アルコキシシランの製造方法
DE4122206A1 (de) * 1991-07-04 1993-01-14 Wacker Chemie Gmbh Verfahren zur reinigung von organopolysiloxanen
DE4130643A1 (de) * 1991-09-14 1993-03-18 Degussa Verfahren zur reinigung von alkoxysilanen
US5210254A (en) * 1992-03-31 1993-05-11 Union Carbide Chemicals & Plastics Technology Corporation Acidic halide neutralization in alkoxysilanes
US5276173A (en) * 1992-10-05 1994-01-04 Dow Corning Corporation Method for removal for ionic chloride from hydroxyl-terminated siloxanes
US7317949B2 (en) * 1996-11-08 2008-01-08 Ams Research Corporation Energy induced bulking and buttressing of tissues for incontinence
US5902893A (en) * 1997-05-20 1999-05-11 Air Products And Chemicals, Inc. Purification of organosilanes of group 13 (IIIA) and 15 (VA) impurities
US5914421A (en) * 1998-07-01 1999-06-22 Dow Corning Corporation Method for preparation of alkoxysilanes having reduced halide content
DE19849196A1 (de) * 1998-10-26 2000-04-27 Degussa Verfahren zur Neutralisation und Minderung von Resthalogengehalten in Alkoxysilanen oder Alkoxysilan-basierenden Zusammensetzungen
ATE284406T1 (de) * 1998-11-06 2004-12-15 Degussa Verfahren zur herstellung von chloridarmen oder chloridfreien alkoxysilanen
WO2007149201A2 (en) * 2006-06-20 2007-12-27 Dow Corning Corporation Method for preparation of alkoxysilanes having reduced halide content
RU2463305C1 (ru) * 2011-07-05 2012-10-10 Российская Федерация, От Имени Которой Выступает Министерство Образования И Науки Российской Федерации Способ очистки тетраметоксисилана
CN102424691A (zh) * 2011-11-01 2012-04-25 上海爱默金山药业有限公司 一种电子级甲基苯基二乙氧基硅烷的提纯方法
CN111757864B (zh) 2018-03-21 2023-10-03 罗门哈斯公司 丙烯酸的制备方法
WO2021050659A1 (en) * 2019-09-13 2021-03-18 Versum Materials Us, Llc Monoalkoxysilanes and dense organosilica films made therefrom

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB115052A (en) * 1917-01-15 1918-05-02 William Phillips Thompson Improvements in and relating to Sewing Machines.
DE862895C (de) * 1950-08-23 1953-01-15 Goldschmidt Ag Th Verfahren zur Entfernung des Halogenwasserstoffs aus den Umsetzungsprodukten halogenhaltiger Siliciumverbindungen
GB880211A (en) * 1959-04-07 1961-10-18 Dynamit Nobel Ag Process for the removal of hydrogen halide from silicic acid esters
FR1253178A (fr) * 1960-04-06 1961-02-03 Dynamit Nobel Ag Procédé pour éliminer l'acide résiduel des esters siliciques
DE1150372B (de) * 1960-04-20 1963-06-20 Dynamit Nobel Ag Verfahren zur Reinigung von Kieselsaeure-estern von anhaftenden Saeurespuren
JPS62114992A (ja) * 1985-11-14 1987-05-26 Toray Silicone Co Ltd アルコキシシランの精製方法
US4732996A (en) * 1987-02-10 1988-03-22 Dow Corning Corporation Treatment of alkoxysilanes
US4774347A (en) * 1988-02-29 1988-09-27 Dow Corning Corporation Removal of chlorinated hydrocarbons from alkylsilanes
JPH0235887A (ja) * 1988-07-26 1990-02-06 Matsushita Electric Works Ltd テレビインターホンシステムに於ける伝送信号処理方法及びその装置
JPH02235887A (ja) * 1989-03-09 1990-09-18 Tonen Corp アルコキシシラン中の塩素含有物質の除去方法
US4956486A (en) * 1990-03-07 1990-09-11 Dow Corning Corporation Removal of organic chloride from phenylchlorosilanes
US4962221A (en) * 1990-03-12 1990-10-09 Dow Corning Corporation Chloride reduction in polysiloxanes

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Publication number Publication date
US5104999A (en) 1992-04-14
JPH0426694A (ja) 1992-01-29
DE69124638T2 (de) 1997-09-04
EP0457175A3 (en) 1992-04-29
EP0457175B1 (en) 1997-02-12
EP0457175A2 (en) 1991-11-21
DE69124638D1 (de) 1997-03-27

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