JP4996003B2 - アルコキシシランの製造法 - Google Patents
アルコキシシランの製造法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4996003B2 JP4996003B2 JP31394399A JP31394399A JP4996003B2 JP 4996003 B2 JP4996003 B2 JP 4996003B2 JP 31394399 A JP31394399 A JP 31394399A JP 31394399 A JP31394399 A JP 31394399A JP 4996003 B2 JP4996003 B2 JP 4996003B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ammonia
- crude product
- atoms
- alkoxysilane
- product
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract description 22
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 107
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 59
- 239000000047 product Substances 0.000 claims abstract description 53
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims abstract description 52
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 47
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims abstract description 44
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 37
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 28
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 23
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 22
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 22
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 claims abstract description 15
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 63
- 239000012043 crude product Substances 0.000 claims description 47
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 18
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 claims description 11
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N sodium ethoxide Chemical compound [Na+].CC[O-] QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 5
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 claims description 4
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 4
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical group OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 4
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000006260 foam Substances 0.000 claims description 3
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004965 chloroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 claims 1
- -1 alkoxy silanes Chemical class 0.000 abstract description 7
- 238000000926 separation method Methods 0.000 abstract description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 4
- 238000011084 recovery Methods 0.000 abstract 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 abstract 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 42
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 17
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 15
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 15
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 13
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 10
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 9
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 9
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 8
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 8
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 7
- RSKGMYDENCAJEN-UHFFFAOYSA-N hexadecyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC RSKGMYDENCAJEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 7
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 6
- 238000011085 pressure filtration Methods 0.000 description 6
- 238000010626 work up procedure Methods 0.000 description 6
- 241001550224 Apha Species 0.000 description 5
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 5
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 5
- OOXSLJBUMMHDKW-UHFFFAOYSA-N trichloro(3-chloropropyl)silane Chemical compound ClCCC[Si](Cl)(Cl)Cl OOXSLJBUMMHDKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C=C GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- JPMBLOQPQSYOMC-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(3-methoxypropyl)silane Chemical compound COCCC[Si](OC)(OC)OC JPMBLOQPQSYOMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000005050 vinyl trichlorosilane Substances 0.000 description 5
- ZNFCOHIGRQVUTM-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethyl tris(2-methoxyethyl) silicate Chemical compound COCCO[Si](OCCCl)(OCCOC)OCCOC ZNFCOHIGRQVUTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 4
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 4
- 239000002585 base Substances 0.000 description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 4
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 4
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 4
- 238000004508 fractional distillation Methods 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 4
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 3
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000020477 pH reduction Effects 0.000 description 3
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- RYPYGDUZKOPBEL-UHFFFAOYSA-N trichloro(hexadecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl RYPYGDUZKOPBEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005194 fractionation Methods 0.000 description 2
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000069 nitrogen hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWDQAHIRKOXFAV-UHFFFAOYSA-N trichloro(pentyl)silane Chemical compound CCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl KWDQAHIRKOXFAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- PZHIWRCQKBBTOW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxybutane Chemical compound CCCCOCC PZHIWRCQKBBTOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVJUHMXYKCUMQA-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropane Chemical compound CCCOCC NVJUHMXYKCUMQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 2-propoxyethanol Chemical compound CCCOCCO YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEZMLECYELSZDC-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl-diethoxy-methylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCCl KEZMLECYELSZDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNTKCYKJRSMRMZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCCl KNTKCYKJRSMRMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005047 Allyltrichlorosilane Substances 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005576 amination reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- GONOPSZTUGRENK-UHFFFAOYSA-N benzyl(trichloro)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CC1=CC=CC=C1 GONOPSZTUGRENK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZWWDFFNRDNYFO-UHFFFAOYSA-N benzyl-dichloro-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)CC1=CC=CC=C1 NZWWDFFNRDNYFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMRWNKZVCUKKSR-UHFFFAOYSA-N butane-1,2-diol Chemical compound CCC(O)CO BMRWNKZVCUKKSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQEKAFQSVPLXON-UHFFFAOYSA-N butyl(trichloro)silane Chemical compound CCCC[Si](Cl)(Cl)Cl FQEKAFQSVPLXON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- MEWFSXFFGFDHGV-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1CCCCC1 MEWFSXFFGFDHGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJJCABYOVIHNPZ-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C1CCCCC1 SJJCABYOVIHNPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- RGXVYRCOGUWFEB-UHFFFAOYSA-N dichloro(cyclopentylmethyl)silane Chemical compound Cl[SiH](Cl)CC1CCCC1 RGXVYRCOGUWFEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N dichloro(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCJHMXXKIKBHQP-UHFFFAOYSA-N dichloro-(3-chloropropyl)-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)CCCCl UCJHMXXKIKBHQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUYHCACQLHNZLS-UHFFFAOYSA-N dichloro-cyclohexyl-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)C1CCCCC1 YUYHCACQLHNZLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLJJAVFOBDSYAN-UHFFFAOYSA-N dichloro-ethenyl-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)C=C YLJJAVFOBDSYAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFGYAHCDCHCGHV-UHFFFAOYSA-N dichloro-hexadecyl-methylsilane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC[Si](C)(Cl)Cl BFGYAHCDCHCGHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHBMMABVNRSRHW-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-octylsilane Chemical compound CCCCCCCC[Si](C)(Cl)Cl QHBMMABVNRSRHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNVPGBIHGALKRR-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-propylsilane Chemical compound CCC[Si](C)(Cl)Cl GNVPGBIHGALKRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJTGYJODGVUOGO-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-propylsilane Chemical compound CCC[Si](C)(OCC)OCC UJTGYJODGVUOGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- 239000003651 drinking water Substances 0.000 description 1
- 235000020188 drinking water Nutrition 0.000 description 1
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBGQQKKTDDNCSG-UHFFFAOYSA-N ethenyl-diethoxy-methylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(C=C)OCC MBGQQKKTDDNCSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N ethenyl-tris(2-methoxyethoxy)silane Chemical compound COCCO[Si](OCCOC)(OCCOC)C=C WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N ethoxysilane Chemical compound CCO[SiH3] CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012065 filter cake Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M iron chloride Chemical compound [Cl-].[Fe] FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- DRRZZMBHJXLZRS-UHFFFAOYSA-N n-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]cyclohexanamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNC1CCCCC1 DRRZZMBHJXLZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012038 nucleophile Substances 0.000 description 1
- MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N octyltriethoxysilane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003493 octyltriethoxysilane Drugs 0.000 description 1
- 150000002905 orthoesters Chemical class 0.000 description 1
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 1
- 239000005054 phenyltrichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 150000003138 primary alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 239000005053 propyltrichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 239000011814 protection agent Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000001577 simple distillation Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N tetrapropyl silicate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)OCCC ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLPXNJHYVOVLSD-UHFFFAOYSA-N trichloro(2-chloroethyl)silane Chemical compound ClCC[Si](Cl)(Cl)Cl FLPXNJHYVOVLSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBXOGFTVYQSOID-UHFFFAOYSA-N trichloro(2-methylpropyl)silane Chemical compound CC(C)C[Si](Cl)(Cl)Cl GBXOGFTVYQSOID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FMYXZXAKZWIOHO-UHFFFAOYSA-N trichloro(2-phenylethyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CCC1=CC=CC=C1 FMYXZXAKZWIOHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIPHWXREAZVVNS-UHFFFAOYSA-N trichloro(cyclohexyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C1CCCCC1 SIPHWXREAZVVNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCMZRNUHEXJWGB-UHFFFAOYSA-N trichloro(cyclopentyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C1CCCC1 FCMZRNUHEXJWGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BNCXNUWGWUZTCN-UHFFFAOYSA-N trichloro(dodecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl BNCXNUWGWUZTCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOYFEXPFPVDYIS-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethyl)silane Chemical compound CC[Si](Cl)(Cl)Cl ZOYFEXPFPVDYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RCHUVCPBWWSUMC-UHFFFAOYSA-N trichloro(octyl)silane Chemical compound CCCCCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl RCHUVCPBWWSUMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N trichloro(phenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HKFSBKQQYCMCKO-UHFFFAOYSA-N trichloro(prop-2-enyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CC=C HKFSBKQQYCMCKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOEHJNBEOVLHGL-UHFFFAOYSA-N trichloro(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](Cl)(Cl)Cl DOEHJNBEOVLHGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALVYUZIFSCKIFP-UHFFFAOYSA-N triethoxy(2-methylpropyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC(C)C)(OCC)OCC ALVYUZIFSCKIFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYGYKEULCAINCL-UHFFFAOYSA-N triethoxy(hexadecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC OYGYKEULCAINCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N triethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OCC)(OCC)OCC NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYJRNCYWTVGEEG-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(2-methylpropyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC(C)C XYJRNCYWTVGEEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBMUZYGBAGFCDF-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(2-phenylethyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC1=CC=CC=C1 UBMUZYGBAGFCDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HILHCDFHSDUYNX-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(pentyl)silane Chemical compound CCCCC[Si](OC)(OC)OC HILHCDFHSDUYNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
- C07F7/188—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-O linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/04—Esters of silicic acids
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、わずかな酸クロリドを有するか、または本来酸クロリドを有しないアルコキシシランを製造するための方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
アルコキシシランが相応するクロルシランとアルコールとの反応によって製造されうることは、例えばドイツ連邦共和国特許第2800017号明細書C2または欧州特許第0107765号明細書B1により公知である。
【0003】
この場合、一般にできるだけ完全なエステル化および良好な生成物収量を達成することが試みられた。望ましくないことに、クロルシランの未反応含量、ならびにいわゆる加水分解性塩素化合物もしくは酸の塩素化合物−要するに“酸クロリド”と呼ばれる−は生成物中に残留する。オルガノアルコキシシランの群の中では、一般にアミノアルキルアルコキシシランだけが、酸クロリドとともに非加水分解性塩素化合物、例えばクロルアルキルアルコキシシランの残量をも含有する。それというのも、そのような化合物はアミノアルキルアルコキシラン製造の際の出発化合物であるからである(欧州特許第0741137A1号明細書参照)。本発明の場合、アミノアルキルアルコキシシランはアルコキシシランの群から除外されている。
【0004】
従って、アルコキシシランの現在の使用、例えばほんの数例を挙げるならば、付着助剤として、建造物保護剤中での疎水性化のため、プラスチックの架橋のため、例えばガラス繊維用サイズ中での表面変性のため、後反応工程のための使用物質としての場合を考慮すると、できるだけ少ない酸クロリド含量を有する生成物を提供することが必要とされる。
【0005】
次の本文中では、塩素を含有しないアルコキシシランとは、10重量ppm未満の酸クロリド含量を有する、すなわち本質的に酸クロリドを有しない生成物であると理解される。アルコキシシラン中の酸クロリドを測定するための検出限界は、現在では1重量ppm未満である(電位差計による最終点測定を用いた無水酸溶液中での銀滴定によって測定−AN−SAA−0411)。
【0006】
欧州特許第0223210号明細書A2には、非加水分解性塩素化合物および加水分解性塩素化合物を含有するアルコキシシランを清浄化するための方法が教示されており、この場合、酸性のクレーまたは重金属ハロゲン化物の存在下にアルコキシシランは加熱され、引続き、中和剤、例えば金属ナトリウム、金属カルシウム、アルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、酸化マグネシウム、アルカリ金属アルコラート、アンモニア、有機アミン、アルキレンオキシドまたはオルトエステルと接触し、かつアルコキシシランは常用の成分から、例えば濾過または蒸留によって分離される。またこの場合に存在するフィルター残滓も、廃棄処理前に特殊廃棄物として高価な費用で溶剤を用いてシランなしになるように洗浄されなければならないか、または同様に高価かつ費用のかかる方法で後処理され、かつ再循環されなければならない。さらに、酸性のクレーまたは重金属ハロゲン化物の存在下での前述のアルコキシシランの加熱は、高価であり、および望ましくない副反応が起こりうる。すなわち、クロルアルコキシシランは加熱の際に、金属ハロゲン化物、例えば、ほんの数例を挙げれば、塩化鉄、塩化アルミニウム、塩化銅、の存在下に、HClの遊離下およびアルケニルアルコキシシランの形成下に分解されなければならないことが公知である。その上、生成物の着色、混合エステル形成および縮合反応が観察されうる。またこのような方法により得られるアルコキシシランも、使用される重金属ハロゲン化物の痕跡に基づき、一般に食品工業の分野、例えばプラスチック包装材料または飲料用水道管のための高い要求は満たさない。
【0007】
ドイツ連邦共和国特許出願公開第2521399号明細書から、アミノアルコキシシランを製造するための方法が明らかであり、この場合、クロルアルキルアルコキシシランのアミン化によって得られる反応混合物に、反応混合物中に含有されるクロルアルキルシラン量もしくは塩化物量に等量の金属アルコラートが、後処理前に添加される。この製造法の場合には、溶剤もしくは希釈剤、例えばトルオール、ヘキサンまたはアルコールが使用される。
【0008】
欧州特許第0282846A2号明細書には、生じる塩化水素の除去下に、液体相中でアルコールを用いてクロルシランを段階的にエステル化することによって、少ない含量の塩素化合物を有するアルコキシシランを製造するための方法が開示されており、この場合、こうして得られた、なおわずかな量の塩素化合物を含有するアルコキシシランは、塩素化合物の含量に対して化学量論的に過剰量で添加される金属アルコラートと、80〜200℃の範囲内の温度で、場合によっては溶剤、例えばトルオールまたはキシロールの存在下に反応し、かつアルコキシシランは例示的には濾過によって、生じた塩が分離される。この方法の場合、比較的高い作業温度での長い反応時間は、ほとんど有利ではない。
【0009】
さらに欧州特許第0486279号明細書B1によれば、前述の方法と比較可能な、アルコキシシランから酸性の汚染物を除去するための方法は、公知であり、この場合、中和剤として立体障害アミンの金属塩または立体障害アルコールのアルカリ金属アルコラートは、80℃の温度で1ないし2時間にわたって使用され、かつ中和されたアルコキシシランは蒸留される。この種の中和剤は、工業的規模では十分な量での使用が不可能であり、および中和剤の特別な、付加的製造となれば、費用がかかり、コスト高であり、ひいては経済性の考慮に基づき、除外された方がよい。
【0010】
欧州特許第0532872号明細書B1には、同様に加水分解可能な塩素原子により汚染されているアルコキシシランを清浄化するための方法が教示されており、この場合、アルコキシシランは加圧反応器中で、場合によっては過剰量で添加される中和剤の存在下に、使用されるアルコールの沸点を上回り、かつこの場合に調節される圧力で、アルコールと反応し、この場合に、場合によっては存在する塩が分離され、かつ過剰のアルコールが留去によって生成物から除去される。この欧州特許明細書中、中和剤としては特にアンモニア、有機アミンならびにナトリウムアルコラートが開示されている。前記された条件下に、殊にクロルアルコキシシランと、アンモニアまたは有機アミンとを反応させてアミノアルキルアルコキシシランに変換するか、またはアルコールの存在下ならびにアルコラートと反応させてアルキルオキシアルキルアルコキシシランに変換することができることは公知である。
【0011】
欧州特許第0563883号明細書B1からは、アルコキシシラン中で酸性ハロゲン化物を中和するための方法が明らかであり、この方法には、処置としてまずアルコキシシランと、酸性ハロゲン化物の含量に対して化学量論的に過剰量で添加される塩基として、金属アルコラートとの接触、次には残りの過剰量の、アルコキシシラン中に含有されている塩基の含量に対して、化学量論的に過剰量で使用される酸性塩との接触が設けられている。この場合も、塩は濾過によって生成物から分離され、生成物は場合によってはアルコール残量のストリップによって、または蒸留によって後浄化されてよい。その上、欧州特許第0563883号明細書B1は、後処理の際、殊にアルコキシシランの中和およびそれに引き続く後処理の際に観察されうる、アルコキシシランの場合の染色品質に関連する問題を指摘している。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】
本発明には、わずかな酸クロリドを有するか、または本質的に酸クロリドを有しないアルコキシシランを製造することを可能にする、簡単かつ、大規模工業的な観点から見れば経済的な方法を提供するという課題が、基礎として課された。
【0013】
【課題を解決するための手段】
課された課題は、本発明により特許請求の範囲の記載に相応して解決される。
【0014】
驚くべきことに、わずかな酸クロリドを有するか、または本質的に酸クロリドを有しないはずであるアルコキシシランは、クロルシランもしくは有機官能性クロルシランとアルコールとが、一般に常圧、すなわち好ましくは常圧±0.5バール絶対、特に好ましくは常圧±0.3バール絶対で、無水相および無溶剤相中で反応し、その際に生じる塩化水素が生成混合物から除去され、引続き、アンモニアの使用量が、アルコキシシランに関した酸クロリドの含量に対して、化学量論的過剰量に相応する場合に、液状アンモニアまたはガス状アンモニアが添加され、アンモニア含有生成混合物は10〜50℃、有利に30〜40℃未満の温度で処理され、場合によっては生じた塩が粗製生成物から分離され、ならびに粗製生成物が場合によっては塩基を用いて後処理され、かつアルコキシシランが蒸留によって粗製生成物から取得される場合に、特に簡単かつ経済的な方法で入手しやすく、および殊にアンモニアは安価な中和剤として、アルコキシシラン製造の際に特に全く好適であることが見出された。
【0015】
本発明により製造された生成物は、卓越したことに、有利に5重量ppm未満であって、および酸クロリドのための分析の検出限界の範囲内に至るまでの酸クロリドの含量を示す。その上、本発明による方法の場合、極めて良好な染料品質および傑出した純度を示す生成物が得られる。しかしまた、殊に本発明による方法は、大規模工業的な工程として、および工程の特別な経済性に基づき強調することができる。
【0016】
【発明の実施の形態】
したがって本発明の対象は、
− クロルシランとアルコールとを、無水相および無溶剤相中で反応させ、およびその際に生じる塩化水素を生成混合物から除去し、
− 引続き、アンモニアの使用量が、酸クロリドの含量に対して、化学量論的過剰量に相応する場合に、液状アンモニアまたはガス状アンモニアを添加し、
− アンモニア含有生成混合物を10〜50℃の温度で処理し、場合によっては引続き、中和の際に生じた塩を粗製生成物から分離し、
− 粗製生成物の蒸留によってアルコキシシランを取得する、
ことによって、わずかな酸クロリドを有するか、または本質的に酸クロリドを有しないアルコキシシランを製造する方法である。
【0017】
本発明による方法は、有利に不連続的に運転される。しかしまた本発明による方法は連続的工程として運転されてもよい。また本工程に適当には液体相中で保護ガス下に運転され、有利には保護ガスとして窒素が使用される。
【0018】
本発明による方法の好ましいアルコキシシランは、一般式I:
【0019】
【化2】
【0020】
[式中、
RはC原子1〜4個を有する線状または分枝鎖状アルキル基を表わすか、または式:−[(CH2)y−O]z−R3
(式中、yは2、4、6または8であり、zは1、2、3または4であり、かつR3はC原子1〜8個を有する線状または分枝鎖状アルキル基を表わす)で示されるグリコールエーテル単位を表わし、
R1はC原子1〜20個を有する線状、分枝鎖状または環状アルキル基を表わすか、またはC原子1〜20個を有する線状、分枝鎖状または環状クロルアルキル基を表わすか、またはC原子2〜10個を有する線状、分枝鎖状または環状アルケニル基を表わし、
R2はC原子1〜4個を有する線状または分枝鎖状アルキル基を表わし、
nは0または1または2であり、mは0または1であり、および(n+m)は1または2または3である]、または一般式II:
Si(OR4)4 (II)
[式中、
R4はC原子1〜8個を有する線状または分枝鎖状アルキル基を表わすか、または式:−[(CH2)y−O]z−R5
(式中、yは2、4、6または8であり、zは1、2、3または4であり、かつR5はC原子1〜8個を有する線状または分枝鎖状アルキル基を表わす)で示されるグリコールエーテル単位を表わす]を満たす。
【0021】
本発明による方法の場合、アルコキシシランは、クロルシラン、例えば2−クロルエチルトリクロルシラン、ビニルメチルジクロルシラン、アリルトリクロルシラン、3−アリルオキシプロピルトリクロルシラン、ブチルトリクロルシラン、ペンチルトリクロルシラン、シクロペンチルトリクロルシラン、シクロペンチルメチルジクロルシラン、フェニルトリクロルシラン、シクロヘキシルトリクロルシラン、オクチルメチルジクロルシラン、ドデシルトリクロルシラン、ベンジルトリクロルシラン、ベンジルメチルジクロルシラン、2−フェニルエチルトリクロルシランまたはジフェニルジクロルシランまたは特に好ましくはテトラクロルシラン、メチルトリクロルシラン、ジメチルジクロルシラン、トリメチルクロルシラン、エチルトリクロルシラン、3−クロルプロピルトリクロルシラン、3−クロルプロピルメチルジクロルシラン、シクロヘキシルメチルジクロルシラン、ビニルトリクロルシラン、プロピルトリクロルシラン、プロピルメチルジクロルシラン、イソブチルトリクロルシラン、アミルトリクロルシラン、オクチルトリクロルシラン、ヘキサデシルトリクロルシランならびにヘキサデシルメチルジクロルシランを、例えばC原子1〜20個を有する1価の第一アルコール、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールと反応されるか、またはポリアルキレングリコールのモノエーテル、例えばメチルグリコール、エチルグリコール、プロピルグリコールまたはブチルグリコールと反応させるか、またはジ−、トリ−、テトラメチレングリコールモノエチルエーテル、−エチルエーテル、−プロピルエーテルまたは−ブチルエーテルと反応させるか、または2価の脂肪族アルコール、例えばエチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,2−ブチレングリコールと反応させるか、またはC原子3〜12個を有するジオールと反応させることによって、塩化水素の遊離下に製造されることができ、この場合、ほんの数例のアルコールを挙げるならば、炭素鎖は直鎖状または分枝鎖状であってよい。
【0022】
一般にクロルシランとアルコールとの反応は、還流条件下に行われる。若干の場合、例えばハロゲン化オルガノアルコキシシランの場合、エステル化が行われるのは比較的困難である。一般に、本発明による方法の場合のエステル化は、30〜200℃の範囲内の温度で、常圧±0.5バール絶対下に実施される。好適には、反応は低い温度、有利に40〜120℃、特に有利に50〜90℃、特に極めて有利に60〜80℃の範囲内の温度で実施される。
【0023】
クロルシランとアルコールとの反応の際に生じる塩化水素を除去するため、本発明による方法の場合、有利に液体の形のアルコールが絶えず添加され、同時に、使用されたアルコールの未使用含量がガス相として搭頂部を介して除去され、その結果、使用されるアルコールは付加的に“HCl−ストリッパー”として使用される。この場合、減じられた圧力を用いて作業されてもよい。この比較的簡単ではあるが、本発明による方法の場合に極めて効果的なHCl−ストリップの処理方法によって、本発明による方法の場合、ほとんど完全なエステル化を達成し、およびそれによって変換率は有利なことに99.9%までの数値に上昇されることができる。
【0024】
殊に、本発明による方法の場合、アルコールとして、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、メチルグリコール、エチルグリコール、または前記アルコールの少なくとも2つからなる混合物が使用される。
【0025】
本発明による方法によれば、次に記載されるアルコキシシランは特に有利に製造される:
テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、メチルグリコールオルトシリケート、エチルグリコールオルトシリケート、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、2−クロルエチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルトリス(2−メチルオキシエトキシ)シラン、フェニルトリメトキシシラン、2−フェニルエチルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、3−クロルプロピルトリメトキシシラン、3−クロルプロピルトリエトキシシラン、プロピルメチルジメトキシシラン、プロピルメチルジエトキシシラン、3−クロルプロピルメチルジメトキシシラン、3−クロルプロピルメチルジエトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、アミルトリメトキシシラン、アミルトリエトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、ヘキサデシルトリメトキシシラン、ヘキサデシルトリエトキシシラン。
【0026】
非連続的に行われる本発明による方法の場合、生成混合物はエステル化後、まず前中和されてよい。その上、生成混合物はエステル化後、有利に10〜50℃の温度に冷却され、十分に混和しながらアンモニアを添加され、この場合、アンモニアは好適にはアルコキシシランに関連して生成混合物中の酸クロリドの含量に対して、化学量論的過剰量で使用される。未使用のアンモニアは減圧下に生成混合物から除去されることができ、および生じたアンモニウム塩は、例えば圧濾過によって分離されることができる。前中和は好適には、エステル化後生成混合物中、アルコキシシランに対して酸クロリドが1重量%を上回って含有されている場合、実施される。中和剤としてのアンモニアの使用も、アンモニアが比較的穏和に作用する塩基もしくは求核試薬であるので、特に有利である。
【0027】
さらに、クロルシランのエステル化の際よりも高い温度またはすでに同一の温度で実施される、アルコキシシラン中の酸クロリドの中和によって、副反応が発生しうること、および生成物収率が明らかに縮小することが見出された。
【0028】
したがって、塩化物をわずかに含有するか、または本来塩化物を含有しないアルコキシシランを取得する前に、本発明による方法の場合、アンモニア添加が行われ、かつエステル化に由来している、一般には酸クロリド1重量%未満の含量を含有する生成混合物の処理が行われ、この場合、生成混合物へのアンモニアの添加は好適には10〜50℃の範囲内の温度で実施される。殊に、生成混合物とアンモニアとを一緒にすること、ならびに引き続く生成混合物の処理は、十分な混和下、例えば攪拌下に行われる。この場合、有利にアンモニアは、生成混合物中の酸クロリドの含量に対して、化学量論的な過剰量で、特に有利に5倍モル過剰量までで、使用される。好適には、アンモニアは浸漬管を通って導入され、この場合浸漬管の出口は、有利に反応室内の生成混合物の液面の下方にある。
【0029】
本発明による方法の場合、アンモニア含有生成混合物の処理は、常圧ないし1.5バール絶対の範囲内の圧力で実施される。好適には、本発明による方法の場合、アンモニア含有生成混合物は10分ないし8時間にわたって処理される。さらに、前記生成混合物の処理は、10〜40℃、特に有利に30〜40℃未満の温度で実施される。次にアンモニア含有生成混合物は、減圧下にガス分除去される。しかしガス分除去は、また蒸留工程中に行われてもよい。
【0030】
しかし、このように処理された生成混合物から、塩化物をわずかに含有するか、または本来塩化物を含有しないアルコキシシランを取得するため、塩化アンモニウム含有粗製生成物はまず濾過され、引続き濾液は蒸留されてもよい。好ましくは粗製生成物は濾過の際、5〜30℃、殊に10〜20℃の温度を有する。しかし、本発明による方法の場合、塩化物をわずかに含有するか、または本来塩化物を含有しないアルコキシシランを取得するため、またアンモニアもしくは塩化アンモニウム含有粗製生成物は蒸留により後処理されてよい。
【0031】
この場合、好適には減圧下に蒸留が実施され、この場合、塔底温度はその都度のアルコキシシランの要求に適合していてよく、この場合、純粋生成物は好適には塔ヘッド部を介して取り出される。場合によっては、純粋生成物は簡易蒸留または薄層蒸留を介して取得されることもできる。
【0032】
さらに、殊に本発明による方法の経済性に関する特別な利点は、有利に、塩化アンモニウムが本質的に蒸留の蒸留物残滓と一緒に搬出され、かつ付加的な濾過が節約されうることである。
【0033】
さらに、前記の方法で中和された複数の生成混合物中、すなわち粗製生成物中、およびさらにいくつかの蒸留された生成物中にも、なお酸クロリドの痕跡が確認されうることが見出された。
【0034】
さらに、殊にアルコキシシラン中の酸クロリドの検出限界に到るまで純粋生成物中の酸クロリドのできるだけわずかな残留含量を生じさせるように努める場合には、本発明による方法で生じる粗製生成物が蒸留による後処理前に、塩基を用いて後処理されることは、特に有利である。その上、前記粗製生成物は有利に蒸留塔の泡中へと運搬され、まず粗製生成物中になお存在する酸クロリドの残量が測定され、粗製生成物に、粗製生成物に対して当量のアルカリ金属アルコラートまたはアルカリ土類金属アルコラートが添加され、こうして得られた混合物は十分な混合下に、10〜40℃の範囲内の温度で後処理され、引続き、こうして後処理された粗製生成物は、アルコキシシラン取得のため蒸留により後処理される。特に有利には、粗製生成物の後処理は30〜40℃未満で、10分を上回り60分未満で、特に極めて有利には32〜38℃で、15分を上回って45分までで、実施される。好ましくは、本発明による方法の場合、粗製生成物を後処理するため、好適にはアルコラートに相応するアルコール溶液中に存在するナトリウムメタノラートまたはナトリウムエタノラートが使用される。またこうして後処理された粗製生成物の蒸留も、最終生成物の色数および鮮明度に関連して、粗製生成物の中和によって生じる中和生成物の存在下に、関わりなく実施されることができる。こうして製造されたアルコキシシランは、この場合、一般に、有利なことに10重量ppm未満、有利に5重量ppm未満、特に有利に検出限界値にいたるまでの酸クロリド含量を有する。
【0035】
次の例につき、本発明を詳説する。
【0036】
【実施例】
例1
比較例A:
欧州特許第02828846号明細書A2による3−クロルプロピルトリメトキシシラン(CPTMO)の製造
非連続的エステル化反応器内に、3−クロルプロピルトリクロルシラン(CPTCS)212kg(1キロモル)を50〜60℃で装入し、かつ合計でメタノール110kg(3.4キロモル)を5時間で添加する。浸漬管を用いてメタノールを液面の下方で添加する。メタノール添加終了後、粗製生成物を約80℃でさらに2時間還流下に保つ。反応の際に生じるHClを、乾燥N2流によって、反応混合物から駆出する。引続き、形成した粗製エステルをトルオール約200kgを用いて希釈し、80℃でナトリウムエチレート溶液(生成物中に加水分解性塩素1モルに対して、約20モル%過剰)を用いて中和し、かつ室温に冷却する。形成した塩化ナトリウムを濾別し、かつ濾液を蒸留(真空蒸留)により後処理する。
【0037】
低沸点物質(メタノール、トルオール)の分離後、CPTMO約94重量%のガスクロマトグラフィーによる純度を有するCPTMO約161kg(81%)、および3−メトキシプロピルトリメトキシシラン(MOPTMO)約6重量%、ならびに約25ppmの加水分解可能な塩化物の含量が得られる。形成された蒸留残滓(約40kg、シロキサンとオリゴマーとからなる)を廃棄する。
【0038】
比較例B:
欧州特許第0532872号明細書B1によるCPTMOの製造
例1、比較例Aにより製造され、しかし中和されてはいない、トルオールを用いて希釈したCPTMO−粗製生成物(加水分解可能な塩化物含量 約4.8重量%)を、欧州特許第0532872号明細書B1の記載により、加圧オートクレーブ中でメタノールおよびアンモニア(加水分解可能な塩化物の含量に対して、約10モル%過剰)を用いて約80℃で1時間処理する。冷却した粗製生成物から、圧濾過(ザイツ(Seitz)・フィルター)を用いて沈殿した塩化アンモニウムを除去し(加水分解可能な塩化物の残留含量 約85ppm)、かつ真空中で分留を用いて清浄化する。蒸留後、98重量%を上回るガスクロマトグラフィーによる純度を有するCPTMO約85重量%、MOPTMO含量 0.5重量%未満および46ppmの加水分解可能な塩化物の含量が得られる。
【0039】
例C:
CPTMOの製造
非連続的エステル化反応器内に、3−クロルプロピルトリクロルシラン(CPTCS)212kg(1キロモル)を50〜60℃で装入し、かつメタノール合計で110kg(3.4キロモル)を5時間で反応させる。浸漬管を用いてメタノールを液面の下方で添加する。メタノール添加中に、反応器内温度を不断の後加熱によって、粗製エステル添加物を絶えず還流に維持するが、内部温度は110〜115℃を上回らないように選択する。形成したHClを除去するため、軽く減圧し(約100ミリバール)および同時に反応されていないメタノール(HCl−ストリップアルコール)を除去することによって、全反応を実施する。しかしストリップ工程は、化学量論的メタノール量の約60%が消費されたときに初めて、開始する。ストリップのため、付加的にさらにメタノール40kgを沸騰する反応混合物中に添加し、この反応混合物は形成されたHClと一緒に、すぐに再び反応器から分留し、および次の反応添加物中で再び使用する。
【0040】
メタノール添加の終了後、酸性の添加物を室温に冷却し、0.1nのNaOHを用いた滴定によって加水分解可能な塩化物の含量を測定する(残留塩化物含量0.1nのNaOH約0.5〜1.0ml)。中和は、常法により直接合成反応器中で、ガス状アンモニアを液体表面(浸漬管)の下に導入することによって行われ、ならびに不断の攪拌および反応混合物の約30〜40℃への冷却下に行われる。
【0041】
中和の終了は、滴定中に0.1nのHCl約5mlを消費することによって示される。さらに粗製生成物を約10〜20℃に冷却後、圧濾過を用いて沈殿した塩化アンモニウムを分離し、濾過ケーキを場合によってはほんのわずかなメタノールを用いて洗浄し、かつガス状窒素を用いて乾燥する。
【0042】
共通の濾液を蒸留塔の泡中へと運搬し、次に加水分解可能な塩化物の残留含量を、銀滴定によって測定する。望まれる最終生成物の品質に応じて、最終生成物は直接蒸留されてよいか、またはまだ溶解されている加水分解可能な塩化物をナトリウムメチレート溶液の化学量論的な添加(30〜40℃、攪拌下に30分間中和)により塩化ナトリウムに変える。
【0043】
中和の終結後、真空中での分留により最終生成物から過剰量のアンモニアを除去し、清浄化し、かつ蒸留残滓を用いて(後濾過なしで)残留する塩を搬出する。
【0044】
99%を上回るGC純度を有するCPTMO約95重量%、MOPTMO含量0.1%未満および10ppm未満の加水分解可能な塩化物の含量が得られる(中和剤としてNH3使用)。
【0045】
アンモニアガスを使用し、引続きナトリウムメチレート溶液を用いて後処理する場合、99%のGC純度を有するCPTMO約95重量%、MOPTMO含量0.3%未満および5ppm未満の加水分解可能な塩化物の含量が得られる。
【0046】
例2
比較例A:
欧州特許第0282846号明細書A2によるビニルトリエトキシシラン(VTEO)の製造
例1、比較例A中に記載された処理法により、ビニルトリクロルシラン(VTC)161.5kg(1キロモル)と、エタノール合計で152kg(3.3キロモル)とを反応し、ナトリウムメチレート溶液(エタノール中21%)を用いて20モル%の過剰量(粗製生成物中加水分解可能な塩化物1モルに対して)中で中和し、濾過後蒸留により後処理する。
【0047】
97.5%のGC純度を有するVTEO約127kg(86%)、テトラエトキシシラン含量2500ppm、および17ppmの加水分解可能な塩化物の含量およびAPHA10の色数が得られる。
【0048】
比較例B:
欧州特許第0532872号明細書B1によるVTEOの製造
例1、比較例B中に記載された処理法により、例Aにより製造されたが、中和されていないVTEO粗製生成物(加水分解可能な塩化物の含量 約2.1重量%)を、加圧オートクレーブ中で、エタノールおよびアンモニア(加水分解可能な塩化物の含量に対して、NH3約10モル%過剰)を用いて100℃で1時間後処理する。濾過および蒸留後、97.8%のGC純度を有するVTEO約88.5重量%、テトラメトキシシラン含量800ppm未満、64ppmの加水分解可能な塩化物の含量および5APHAの色数が得られる。
【0049】
例C:
VTEOの製造
例1、例C中に記載された処理法により、VTC 161.5kg(1.0キロモル)と、合計でエタノール152kg(3.3キロモル)とをストリップ法の使用下に反応し、かつ室温に冷却した反応添加物を、ガス状のアンモニアを用いて不断の冷却下に中和する。中和終了は、滴定の際に0.1nのHCl約5mlの消費によって示される。
【0050】
圧濾過(例1、例Cと同様)を用いて沈殿した塩化アンモニウムを分離した後、粗製生成物から分留を用いて過剰量のアンモニアを除去し、清浄化し、かつ蒸留残滓を有する残留する塩を搬出する。蒸留による清浄化後、99%を上回る純度を有するVTEO約91重量%、テトラエトキシシラン含量500ppm未満、APHA5未満の色数および10ppm未満の加水分解可能な塩化物(アンモニア使用)が得られる。蒸留器内でのアンモニアの使用および引き続くナトリウムエチレート溶液を用いた後処理とを組合せた場合、同一の収量およびGC純度の場合、加水分解可能な塩化物の含量は1ppm未満に減少されることができる。
【0051】
例D:
VTEOの連続的製造
反応塔と前留出塔とからなる連続的エステル化装置内で、ビニルトリクロルシラン約100kg/hとエタノール80〜90kg/hを同時に、反応塔内へと約60℃および常圧で供給し、そこで反応させる。形成した塩化水素を、搭頂部を介して除去し、強酸シランエステル−粗製生成物(アシド化 約5000ppm)を塔底部分内で反応器塔から排出し、かつ搬送ポンプを用いて第2のエステル化塔(前留出塔)内へと供給する。前留出塔内では、まだ完全に変換されてはいないクロルシラン(約5000ppm)を、少量のエタノール(約10〜20kg)を付加的に添加することによって後エステル化し、粗製生成物中でなお溶解しているHClを粗製生成物の沸点温度(約80〜90℃)で、前留出塔の搭頂部を介して搬出し、かつ新たに反応器塔内へと供給する。脱着した粗製生成物を、塔底部分を介して前留出塔から排出し、および冷却後複数の熱交換器を介して粗製生成物容器内へとポンプで汲み出す。こうして製造された粗製エステルは、高いGC純度およびわずかな残留アシド化度(アシド化度 最大で200ppm、VTEO含量 98%を上回る、シロカン含量 1%未満、エタノール含量1%未満)を示す。
【0052】
VTEO粗製生成物を、例Cと同様にガス状のアンモニアを用いて中和し、濾過し、かつ場合によってはナトリウムエチレート溶液を用いて処理後、真空分留により清浄化する(連続的または不連続的蒸留)。アンモニア使用の場合、99%を上回るGC純度を有するVTEO約93重量%、テトラエトキシシラン含量500ppm未満、APHA5未満の色数および10ppm未満の加水分解可能な塩化物含量が得られる。
【0053】
アンモニアおよびナトリウムエチレート溶液を使用する場合、同一の収量およびGC純度の場合、加水分解可能な塩化物の含量は1ppm未満に減少されることができる。
【0054】
例3
比較例A:
欧州特許第0282846A2号明細書によるヘキサデシルトリメトキシシランの製造
例1、比較例A中に記載された処理法により、ヘキサデシルトリクロルシラン360kg(1キロモル)と、メタノール合計で110kg(3.4キロモル)とを反応し、かつ20モル%過剰の(もしくは粗製生成物中に加水分解可能な塩化物1モル)ナトリウムメチレート溶液(メタノール中に30%で)を用いて中和し、濾過後蒸留により後処理する。98.5%のGC純度を有するヘキサデシルトリメトキシシラン約280kg(81%)、色数 APHA10および12ppmの加水分解可能な塩化物が得られる。
【0055】
比較例B:
欧州特許第0532872号明細書B1によるヘキサデシルトリメトキシシランの製造
例1、比較例B中に記載された処理法により、例3、比較例Aにより製造され、しかし中和されてはいない粗製生成物(加水分解可能な塩化物含量 約1.8重量%)を、加圧オートクレーブ中でメタノールおよびアンモニア(加水分解可能な塩化物の含量に対して、NH3約10モル%過剰)を用いて約100℃で1時間処理する。濾過および蒸留後、98.4%のGC純度を有するヘキサデシルトリメトキシシラン(イソマー混合物)約86%、色数 APHA10未満および47ppmの加水分解可能な塩化物が得られる。
【0056】
例C:
ヘキサデシルトリメトキシシランの製造
例1、例C中に記載された処理法により、ヘキサデシルトリクロルシラン360kg(1キロモル)と、メタノール合計で100kg(3.1キロモル)とを、12時間の定量供給時間中に反応させ、かつガス状のアンモニアを用いて中和する。中和最終生成物は、0.1nのHCl 5〜7mlの場合に得られる(滴定)。形成された塩化アンモニウムの分離後、真空中での分留によって粗製エステルを清浄化する。
【0057】
アンモニアを単独で使用する場合、99%のGC純度を有するヘキサデシルトリメトキシシラン(異性体混合物)約94重量%、色数 APHA5未満、および9ppmの加水分解可能な塩化物が得られる。
【0058】
アンモニアおよびナトリウムメチレート溶液を同時に使用する場合、ほぼ同一の収量およびGC純度の場合、加水分解可能な塩化物の含量は1ppm未満に減少されることができる。
【0059】
例4
比較例A:
欧州特許第0282846号明細書A2の記載によるテトラ−(2−メトキシエトキシ)シラン(CM)の製造
例1、比較例A中に記載された処理法により、テトラクロルシラン170kg(1キロモル)と、メチルグリコール合計で335kg(4キロモル)とを反応し、かつ20モル%過剰(粗製生成物中に加水分解可能な塩化物1モルに対して)のナトリウムメチレート溶液(メタノール中に30%で)を用いて中和し、および濾過と引続く蒸留によって後処理する。
【0060】
97.3%のGC純度を有するテトラ−(2−メトキシエトキシ)シラン約284kg(86.5%)、2−クロルエトキシ−トリス−(2−メトキシエトキシ)シランの含量 1.9%、色数 APHA15および27ppmの加水分解可能な塩化物が得られる。
【0061】
比較例B:
欧州特許第0532872号明細書B1の記載によるテトラ−(2−メトキシエトキシ)シランの製造
例1、比較例B中に記載された処理法により、例4、比較例Aにより製造され、しかし中和されてはいない粗製生成物(加水分解可能な塩化物含量 約2.1重量%)を、加圧オートクレーブ中でメチルグリコールおよびアンモニア(加水分解可能な塩化物の含量に対して、NH3約10モル%過剰)を用いて、約80℃で1時間処理する。濾過および蒸留後、97.8%のGC純度を有するテトラ−(2−メトキシエトキシ)シラン約88重量%、2−クロルエトキシ−トリス−(2−メトキシエトキシ)シランの含量 0.85%、色数 APHA10および61ppmの加水分解可能な塩化物が得られる。
【0062】
例C:
テトラ−(2−メトキシエトキシ)シランの製造
例1、例C中に記載された処理法により、テトラクロルシラン170kg(1キロモル)と、メチルグリコール合計で335kg(4キロモル)とを、ストリップ法の使用下に反応させ、かつガス状のアンモニアを用いて室温で中和する(0.1nのHCl約4mlで中和が終点)。形成された塩化アンモニウムの分離(圧濾過)後、真空分留によって粗製エステルを清浄化する。蒸留による後処理後、99%を上回るGC純度を有するテトラ−(2−メトキシエトキシ)シラン約91重量%、色数 APHA5未満、2−クロルエトキシ−トリス−(2−メトキシエトキシ)シランの含量 0.4%未満および10ppmの加水分解可能な塩化物が得られる。蒸留開始前にナトリウムエチレート溶液を付加的に使用する場合、同一のGC純度および収量の場合、加水分解可能な塩化物の含量は1ppm未満に減少されることができる。
【0063】
例D:
テトラ−(2−メトキシエトキシ)シランの連続的製造
前留出塔と反応塔とからなる連続的エステル化装置内で、テトラクロルシラン約60kg/hとメチルグリコール120〜130kg/hを同時に、反応塔内へと約55℃および常圧で添加し、そこで反応させる。形成した塩化水素を、搭頂部を介して除去し、強酸シランエステル−粗製生成物を塔底部分内で反応塔から排出し、かつ適当な増強ポンプを用いて第2のエステル化塔(前留出塔)内へと添加する。前留出塔内では、まだ完全に変換されてはいないクロルシラン(約500ppm)を、さらにメチルグリコール(〜20kg/h)を付加的に添加することによって後エステル化し、かつ粗製生成物中でなお溶解しているHClを粗製生成物の沸点温度(約130〜145℃)で、搭頂部を介して除去する。過剰のメチルグリコールを、前留出塔の搭頂部を介して搬出し、かつ新たに反応塔内へと添加する。
【0064】
脱着した粗製生成物を、塔底部分を介して前留出塔から排出し、および冷却後複数の熱交換器を介して粗製生成物容器内へとポンプで汲み出す。こうして製造された粗製エステルは、高い純度およびわずかな残留アシド化度(アシド化度 最大で50ppm、シロキサン含量 3%未満、メチルグリコール含量 5%未満、CM含量 92%を上回る)を示す。
【0065】
シランエステル粗製生成物を、別々の攪拌反応器中で、ガス状のアンモニア(例1、例Cによる)を添加することによって、0.1nのHCl 5〜10mlの消費(滴定)に相応する、粗製生成物中でのアンモニアの過剰量が得られるまで、室温で中和する。形成された塩化アンモニウム除去のための圧濾過後、濾液を不連続的または連続的な真空蒸留によって清浄化する。
【0066】
92質量%の収率、色数 APHA5未満、クロルエトキシ−トリス−(2−メトキシエトキシ)シラン含量 0.1%未満、および9ppm未満の加水分解可能な塩化物が得られる。
【0067】
蒸留開始前に過剰量のナトリウムメチレート溶液(加水分解可能な塩化物の溶解された含量に対して)を付加的に添加する場合、同一の収量およびGC純度の場合、加水分解可能性塩化物の含量は1ppm未満に減少されることができる。
【0068】
【発明の効果】
本発明による方法によれば、得られた生成物は一般に、高い生成物純度(ガスクロマトグラフィー分析によれば:99%を上回る)、10質量ppm未満ないし検出限界の酸クロリド含量、傑出した貯蔵安定性、最適化され、かつ再生可能な加水分解挙動、ならびに特に経済的な製造費を示す。本発明により得られた生成物は、卓越しかつ有利なことに、5未満の色数APHAを有する無色透明な生成物であり、それにより、ひいては最小限だけの汚染物によって、幅広い装入スペクトルを有する。
Claims (9)
- 10重量ppm未満の酸クロリド含量であるアルコキシシランの製造法において、その際、当該アルコキシシランが、次の一般式I:
RはC原子1〜4個を有する線状または分枝鎖状アルキル基を表わすか、または式:−[(CH2)y−O]z−R3
(式中、yは2、4、6または8であり、zは1、2、3または4であり、かつR3はC原子1〜8個を有する線状または分枝鎖状アルキル基を表わす)で示されるグリコールエーテル単位を表わし、
R1はC原子1〜20個を有する線状、分枝鎖状または環状アルキル基を表わすか、またはC原子1〜20個を有する線状、分枝鎖状または環状クロルアルキル基を表わすか、またはC原子2〜10個を有する線状、分枝鎖状または環状アルケニル基を表わし、
R2はC原子1〜4個を有する線状または分枝鎖状アルキル基を表わし、
nは0または1または2であり、mは0または1であり、および(n+m)は1または2または3である]、または一般式II:
Si(OR4)4 (II)
[式中、
R4はC原子1〜8個を有する線状または分枝鎖状アルキル基を表わすか、または式:−[(CH2)y−O]z−R5
(式中、yは2、4、6または8であり、zは1、2、3または4であり、かつR5はC原子1〜8個を有する線状または分枝鎖状アルキル基を表わす)で示されるグリコールエーテル単位を表わす]を満たすものであって、
− 無水相および無溶剤相中でクロルシランとアルコールとを反応させ、およびその際に生じる塩化水素を、使用されたアルコールの未使用含量とともにガス相として生成混合物から除去し、
− 引続き、アンモニアの使用量が、酸クロリドの含量に対して、化学量論的な過剰量に相応するように、液状またはガス状アンモニアを添加し、
− アンモニア含有生成混合物を10〜50℃の温度に冷却し、場合によっては、中和の際に生じた塩を粗製生成物から分離し、
− 粗製生成物を蒸留することによってアルコキシシランを取得する、
ことを特徴とする、アルコキシシランの製造法。 - クロルシランとアルコールとの反応の際に生じる塩化水素を除去するため、前記アルコールを絶えず液体の形で添加し、かつ使用したアルコールの過剰の含量を、ヘッド部を介して除去する、請求項1記載の方法。
- 浸漬管を通してアンモニアを導入し、この場合、浸漬管の出口が反応室内の生成混合物液面の下方にある、請求項1または2記載の方法。
- アンモニアを攪拌下に生成混合物中に導入し、かつ生成混合物を、さらに10分ないし8時間十分に混合する、請求項1から3までのいずれか1項記載の方法。
- アンモニアを有する生成混合物の処理を、常圧ないし1.5バール絶対の範囲内の圧力で実施する、請求項4記載の方法。
- 粗製生成物を蒸留塔の泡中へと運搬し、粗製生成物中にある酸クロリドの残量を測定し、粗製生成物に対して当量のアルカリ金属アルコラートまたはアルカリ土類金属アルコラートを粗製生成物に、添加し、得られた混合物を十分に混和しながら、10〜40℃の範囲内の温度に調整し、引続き、こうして処理された粗製生成物を、アルコキシシラン取得のため蒸留により精製する、請求項1から5までのいずれか1項記載の方法。
- 粗製生成物をナトリウムメタノラートまたはナトリウムエタノラートを用いて後処理する、請求項6記載の方法。
- 方法を連続的に実施する、請求項1から7までのいずれか1項記載の方法。
- アルコールとして、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、メチルグリコール、エチルグリコールまたは前記アルコールの少なくとも2つからなる混合物を使用する、請求項1から8までのいずれか1項記載の方法。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19851147 | 1998-11-06 | ||
DE19851147.7 | 1999-08-31 | ||
DE19941283A DE19941283A1 (de) | 1998-11-06 | 1999-08-31 | Verfahren zur Herstellung von chloridarmen oder chloridfreien Alkoxysilanen |
DE19941283.9 | 1999-08-31 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000143680A JP2000143680A (ja) | 2000-05-26 |
JP4996003B2 true JP4996003B2 (ja) | 2012-08-08 |
Family
ID=26049990
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31394399A Expired - Fee Related JP4996003B2 (ja) | 1998-11-06 | 1999-11-04 | アルコキシシランの製造法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6150551A (ja) |
EP (1) | EP0999214B1 (ja) |
JP (1) | JP4996003B2 (ja) |
AT (1) | ATE284406T1 (ja) |
Families Citing this family (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6410770B2 (en) * | 2000-02-08 | 2002-06-25 | Gelest, Inc. | Chloride-free process for the production of alkylsilanes suitable for microelectronic applications |
US6458984B1 (en) * | 2000-03-31 | 2002-10-01 | Advanced Technology Materials, Inc. | Chemical method for removal and analysis of boron impurities in tetraethylorthosilicate (TEOS) |
DE10126669A1 (de) * | 2001-06-01 | 2002-12-05 | Degussa | Verfahren zur Spaltung von cyclischen Organosilanen bei der Herstellung von aminofunktionellen Organoalkoxysilanen |
KR100530921B1 (ko) * | 2002-09-17 | 2005-11-23 | 애경유화 주식회사 | 고순도 알콕시실란의 제조방법 |
KR100573784B1 (ko) * | 2002-11-06 | 2006-04-25 | 애경유화 주식회사 | 고순도 알킬알콕시실란의 제조방법 |
DE102004008442A1 (de) * | 2004-02-19 | 2005-09-15 | Degussa Ag | Siliciumverbindungen für die Erzeugung von SIO2-haltigen Isolierschichten auf Chips |
DE102004025766A1 (de) * | 2004-05-26 | 2005-12-22 | Degussa Ag | Herstellung von Organosilanestern |
DE102004037675A1 (de) * | 2004-08-04 | 2006-03-16 | Degussa Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von Wasserstoffverbindungen enthaltendem Siliciumtetrachlorid oder Germaniumtetrachlorid |
DE102004056977A1 (de) * | 2004-11-25 | 2006-06-01 | Wacker Chemie Ag | Glykolfunktionelles Siloxangemisch |
DE102005041137A1 (de) * | 2005-08-30 | 2007-03-01 | Degussa Ag | Reaktor, Anlage und großtechnisches Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von hochreinem Siliciumtetrachlorid oder hochreinem Germaniumtetrachlorid |
DE102006003464A1 (de) * | 2006-01-25 | 2007-07-26 | Degussa Gmbh | Verfahren zur Erzeugung einer Siliciumschicht auf einer Substratoberfläche durch Gasphasenabscheidung |
DE102007007874A1 (de) * | 2007-02-14 | 2008-08-21 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung höherer Silane |
DE102007014107A1 (de) * | 2007-03-21 | 2008-09-25 | Evonik Degussa Gmbh | Aufarbeitung borhaltiger Chlorsilanströme |
DE102007037193A1 (de) * | 2007-08-07 | 2009-02-12 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Herstellung von Aminoorganosilanen |
DE102007050199A1 (de) * | 2007-10-20 | 2009-04-23 | Evonik Degussa Gmbh | Entfernung von Fremdmetallen aus anorganischen Silanen |
DE102007050573A1 (de) * | 2007-10-23 | 2009-04-30 | Evonik Degussa Gmbh | Großgebinde zur Handhabung und für den Transport von hochreinen und ultra hochreinen Chemikalien |
DE102007059170A1 (de) * | 2007-12-06 | 2009-06-10 | Evonik Degussa Gmbh | Katalysator und Verfahren zur Dismutierung von Wasserstoff enthaltenden Halogensilanen |
DE102008004396A1 (de) * | 2008-01-14 | 2009-07-16 | Evonik Degussa Gmbh | Anlage und Verfahren zur Verminderung des Gehaltes von Elementen, wie Bor, in Halogensilanen |
DE102008002183A1 (de) * | 2008-06-03 | 2009-12-10 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Aufarbeitung salzhaltiger Rückstände aus der Herstellung von aminofunktionellen Organosilanen |
DE102008002181A1 (de) * | 2008-06-03 | 2009-12-10 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur wässrigen Aufarbeitung eines Ammoniumhalogenide und/oder organische Aminhydrohalogenide enthaltenden aminofunktionellen Organosilans |
DE102008002182A1 (de) * | 2008-06-03 | 2009-12-10 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Alkylaminoalkylalkoxysilanen |
DE102008002537A1 (de) * | 2008-06-19 | 2009-12-24 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Entfernung von Bor enthaltenden Verunreinigungen aus Halogensilanen sowie Anlage zur Durchführung des Verfahrens |
DE102008054537A1 (de) * | 2008-12-11 | 2010-06-17 | Evonik Degussa Gmbh | Entfernung von Fremdmetallen aus Siliciumverbindungen durch Adsorption und/oder Filtration |
DE102009026755A1 (de) * | 2009-06-04 | 2010-12-09 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Herstellung von Aminoorganosilanen |
DE102011006053A1 (de) | 2011-03-24 | 2012-09-27 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Dechlorierung von alkylfunktionellen Organosilanen und alkylfunktionellen Organosiloxanen |
DE102012221170A1 (de) | 2012-11-20 | 2014-05-22 | Evonik Industries Ag | Verfahren zur Tiefenimprägnierung von mineralischen Substraten und Verwendung von Organosilanen und/oder Organosilxanen zur Tiefenimprägnierung von mineralischen Substraten |
RU2537302C1 (ru) * | 2013-08-29 | 2014-12-27 | Федеральное Государственное Унитарное Предприятие "Государственный Ордена Трудового Красного Знамени Научно-Исследовательский Институт Химических Реактивов И Особо Чистых Химических Веществ", Министерство Образования И Науки Российской Федерации | Способ очистки тетраэтоксисилана |
CN105646564B (zh) * | 2016-03-14 | 2018-08-28 | 荆州市江汉精细化工有限公司 | 一种氯甲基三甲氧基硅烷的制备方法 |
SG11202008430RA (en) | 2018-03-21 | 2020-10-29 | Rohm & Haas | Method for preparing acrylic acid |
DE102018210886A1 (de) | 2018-07-03 | 2020-01-09 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Alkylalkoxysilanen |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62114992A (ja) * | 1985-11-14 | 1987-05-26 | Toray Silicone Co Ltd | アルコキシシランの精製方法 |
US4732996A (en) * | 1987-02-10 | 1988-03-22 | Dow Corning Corporation | Treatment of alkoxysilanes |
DE3708293A1 (de) * | 1987-03-14 | 1988-09-22 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von alkoxysilanen mit niedrigem gehalt an chlorverbindungen |
US4774347A (en) * | 1988-02-29 | 1988-09-27 | Dow Corning Corporation | Removal of chlorinated hydrocarbons from alkylsilanes |
JPH0798828B2 (ja) * | 1990-05-18 | 1995-10-25 | 東芝シリコーン株式会社 | アルコキシシランの精製方法 |
US5084588A (en) * | 1990-07-05 | 1992-01-28 | Union Carbide Chemicals & Plastics Technology Corporation | Reducing halide contamination in alkoxy silanes |
JP2552950B2 (ja) * | 1990-11-13 | 1996-11-13 | 信越化学工業株式会社 | アルコキシシランの製造方法 |
DE4130643A1 (de) * | 1991-09-14 | 1993-03-18 | Degussa | Verfahren zur reinigung von alkoxysilanen |
US5248803A (en) * | 1991-10-16 | 1993-09-28 | Tonen Corporation | Silane compound and processes for the preparation thereof |
US5210254A (en) * | 1992-03-31 | 1993-05-11 | Union Carbide Chemicals & Plastics Technology Corporation | Acidic halide neutralization in alkoxysilanes |
EP0702017B1 (de) * | 1994-09-14 | 2001-11-14 | Degussa AG | Verfahren zur Herstellung von chloridarmen bzw. chloridfreien aminofunktionellen Organosilanen |
DE19516386A1 (de) * | 1995-05-04 | 1996-11-07 | Huels Chemische Werke Ag | Verfahren zur Herstellung von an chlorfunktionellen Organosilanen armen bzw. freien aminofunktionellen Organosilanen |
US5914421A (en) * | 1998-07-01 | 1999-06-22 | Dow Corning Corporation | Method for preparation of alkoxysilanes having reduced halide content |
-
1999
- 1999-10-13 AT AT99120388T patent/ATE284406T1/de not_active IP Right Cessation
- 1999-10-13 EP EP99120388A patent/EP0999214B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-11-03 US US09/432,802 patent/US6150551A/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-11-04 JP JP31394399A patent/JP4996003B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ATE284406T1 (de) | 2004-12-15 |
JP2000143680A (ja) | 2000-05-26 |
EP0999214B1 (de) | 2004-12-08 |
EP0999214A2 (de) | 2000-05-10 |
EP0999214A3 (de) | 2002-03-20 |
US6150551A (en) | 2000-11-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4996003B2 (ja) | アルコキシシランの製造法 | |
JP4996002B2 (ja) | アルコキシシランの製法 | |
JP2963309B2 (ja) | シリル有機カルバメートの製造法 | |
EP0705838A2 (en) | Process for the preparation of silane polysulfides | |
US4380660A (en) | Producing alkoxysilanes and alkoxy-oximinosilanes | |
CN1152882C (zh) | 烷氧基硅烷的制备方法 | |
JP2007084497A (ja) | ケチミン構造含有アルコキシシランの製造方法 | |
JP4835882B2 (ja) | シリルエーテル化合物又はシリルエステル化合物の製造方法 | |
JP4589082B2 (ja) | (メルカプトオルガニル)アルコキシシランの製造方法 | |
US6084116A (en) | Process for preparing acetoxysilanes | |
EP0687679B1 (en) | Method for decomposing polysiloxane | |
KR100818835B1 (ko) | 2급 아미노이소부틸알콕시실란의 제조 방법 | |
EP1368359B1 (en) | Continuous transesterification process for alkoxyorganosilicon compounds | |
US4717773A (en) | Silicate esters and organosilicon compounds | |
US5817854A (en) | Process for the preparation of organocarbonoyloxysilanes | |
US7067688B2 (en) | Acetylene alcohol and method for preparing the same | |
DE19941283A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von chloridarmen oder chloridfreien Alkoxysilanen | |
JP3197295B2 (ja) | アルコキシシランの脱塩素処理方法 | |
JP6665437B2 (ja) | 第3級アルキルシラン及び第3級アルキルアルコキシシランの製造方法 | |
KR100573784B1 (ko) | 고순도 알킬알콕시실란의 제조방법 | |
KR20120093185A (ko) | 플루오로카보작용성 알콕시실란과 클로로실란의 합성 | |
CZ394199A3 (cs) | Způsob výroby alkoxysilanů | |
Gunji et al. | Syntheses and Properties of Sila-Functional Oligosiloxanes—Linear and Cyclic Tetrasiloxanes with Methyl and Vinyl Groups— | |
DE19941590A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Alkoxysilanen | |
KR20060070719A (ko) | 트리메틸클로로실란을 함유하는 사염화규소로부터트리메틸클로로실란을 분리하고 동시에 전자급테트라에톡시실란과 도료용 에틸실리케이트를 제조하는 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060829 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100415 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20100628 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20100701 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101015 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20101227 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20101228 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110727 |
|
RD13 | Notification of appointment of power of sub attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7433 Effective date: 20110801 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20110801 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20111014 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20111019 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120118 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120419 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120511 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150518 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4996003 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |