JPH05271247A - 水素化ホウ素ナトリウムで触媒したシクロオルガノシランの不均化 - Google Patents
水素化ホウ素ナトリウムで触媒したシクロオルガノシランの不均化Info
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 シクロオルガノシランの不均化の新しい触媒
を用いる新しい方法を提供する。 【構成】 触媒として水素化ホウ素ナトリウムを用いる
シクロオルガノシランの不均化方法。この方法は、1つ
のケイ素原子に結合した水素及びシクロオルガノ置換基
を必要とし、ここにシクロオルガノ置換基は、アリー
ル、置換アリール、シクロアルキル及び置換シクロアル
キルからなる群れから選ばれる。本発明はフェニルジク
ロロシランを不均化してジフェニルジクロロシラン及び
ジクロロシランにする連続法として特に有用である。
を用いる新しい方法を提供する。 【構成】 触媒として水素化ホウ素ナトリウムを用いる
シクロオルガノシランの不均化方法。この方法は、1つ
のケイ素原子に結合した水素及びシクロオルガノ置換基
を必要とし、ここにシクロオルガノ置換基は、アリー
ル、置換アリール、シクロアルキル及び置換シクロアル
キルからなる群れから選ばれる。本発明はフェニルジク
ロロシランを不均化してジフェニルジクロロシラン及び
ジクロロシランにする連続法として特に有用である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、触媒として水素化ホウ
素ナトリウムを用いるシクロオルガノシランの不均化方
法に関する。この方法は、1つのケイ素原子に結合した
水素及びシクロオルガノ置換基を必要とし、ここにシク
ロオルガノ置換基は、アリール、置換アリール、シクロ
アルキル及び置換シクロアルキルからなる群れから選ば
れる。
素ナトリウムを用いるシクロオルガノシランの不均化方
法に関する。この方法は、1つのケイ素原子に結合した
水素及びシクロオルガノ置換基を必要とし、ここにシク
ロオルガノ置換基は、アリール、置換アリール、シクロ
アルキル及び置換シクロアルキルからなる群れから選ば
れる。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】アリー
ルシランの不均化を行うために触媒を使用するのは公知
である。例えば、Wagnerの米国特許No. 2746
981(1956年5月22日発行)は、塩化アルミニ
ウム又は塩化ホウ素から選んだフリーデルクラフト型触
媒の存在下にモノアリールジクロロシランを加熱するこ
とによりジアリールジクロロシランを調製することを教
えている。
ルシランの不均化を行うために触媒を使用するのは公知
である。例えば、Wagnerの米国特許No. 2746
981(1956年5月22日発行)は、塩化アルミニ
ウム又は塩化ホウ素から選んだフリーデルクラフト型触
媒の存在下にモノアリールジクロロシランを加熱するこ
とによりジアリールジクロロシランを調製することを教
えている。
【0003】日本特許公開No. 263189/1987
は、アリールボラン、例えばトリフェニルボランを触媒
として用いて減圧下にアリールジハロシランを不均化す
ることを教えている。プロセスを減圧下に運転すればジ
アリールハロシランの収率が上がることが報告されてい
る。
は、アリールボラン、例えばトリフェニルボランを触媒
として用いて減圧下にアリールジハロシランを不均化す
ることを教えている。プロセスを減圧下に運転すればジ
アリールハロシランの収率が上がることが報告されてい
る。
【0004】本発明方法は、シクロオルガノシランの不
均化用の触媒として水素化ホウ素ナトリウムを使用する
ことに関する。この水素化ホウ素ナトリウムは本質的に
このプロセスに不溶性であり、連続法において固定した
ベッドとして用いるのに特に有用である。本発明方法に
より調製されるシクロオルガノシランは、例えばシロキ
サンポリマーの調製及び紙の剥離皮膜の調製に有用であ
る。
均化用の触媒として水素化ホウ素ナトリウムを使用する
ことに関する。この水素化ホウ素ナトリウムは本質的に
このプロセスに不溶性であり、連続法において固定した
ベッドとして用いるのに特に有用である。本発明方法に
より調製されるシクロオルガノシランは、例えばシロキ
サンポリマーの調製及び紙の剥離皮膜の調製に有用であ
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、触媒として水
素化ホウ素ナトリウムを用いるシクロオルガノシランの
不均化方法である。この方法は、1つのケイ素原子に結
合した水素及びシクロオルガノ置換基を必要とし、ここ
にシクロオルガノ置換基は、アリール、置換アリール、
シクロアルキル及び置換シクロアルキルからなる群れか
ら選ばれる。本発明はフェニルジクロロシランを不均化
してジフェニルジクロロシラン及びジクロロシランにす
る連続法として特に有用である。
素化ホウ素ナトリウムを用いるシクロオルガノシランの
不均化方法である。この方法は、1つのケイ素原子に結
合した水素及びシクロオルガノ置換基を必要とし、ここ
にシクロオルガノ置換基は、アリール、置換アリール、
シクロアルキル及び置換シクロアルキルからなる群れか
ら選ばれる。本発明はフェニルジクロロシランを不均化
してジフェニルジクロロシラン及びジクロロシランにす
る連続法として特に有用である。
【0006】本発明はシクロオルガノシランの不均化方
法である。この方法は次のことを含む: (A)次式で示されるシクロオルガノシラン: Ra R1 b Hc SiX4-a-b-c (1) 及び水素化ホウ素ナトリウム触媒からなる混合物を形成
し、ここに水素化ホウ素ナトリウム触媒の濃度はシクロ
オルガノシランの不均化速度を上げるに充分な量であ
り; (B)この混合物を約100〜250℃の範囲の温度に
加熱し;そして (C)次式で示されるシランを回収すること、 Ra+1 R1 b Hc-1 SiX4-a-b-c (2)及び Ra-1 R1 b Hc+1 SiX4-a-b-c (3) 但し、ここに各Rはアリール、置換アリール、炭素原子
数4〜20のシクロアルキル及び炭素原子数4〜20の
置換シクロアルキルからなる群れから選ばれ、R 1 は炭
素原子数1〜20のアルキルからなる群れから選ばれ、
Xは臭素、塩素及びヨウ素からなる群れから選ばれるハ
ロゲンであり、a=1、2又は3であり、b=0、1又
は2であり、c=1、2又は3であり、a+b+c=
2、3又は4である。
法である。この方法は次のことを含む: (A)次式で示されるシクロオルガノシラン: Ra R1 b Hc SiX4-a-b-c (1) 及び水素化ホウ素ナトリウム触媒からなる混合物を形成
し、ここに水素化ホウ素ナトリウム触媒の濃度はシクロ
オルガノシランの不均化速度を上げるに充分な量であ
り; (B)この混合物を約100〜250℃の範囲の温度に
加熱し;そして (C)次式で示されるシランを回収すること、 Ra+1 R1 b Hc-1 SiX4-a-b-c (2)及び Ra-1 R1 b Hc+1 SiX4-a-b-c (3) 但し、ここに各Rはアリール、置換アリール、炭素原子
数4〜20のシクロアルキル及び炭素原子数4〜20の
置換シクロアルキルからなる群れから選ばれ、R 1 は炭
素原子数1〜20のアルキルからなる群れから選ばれ、
Xは臭素、塩素及びヨウ素からなる群れから選ばれるハ
ロゲンであり、a=1、2又は3であり、b=0、1又
は2であり、c=1、2又は3であり、a+b+c=
2、3又は4である。
【0007】本発明方法で不均化されうるシクロオルガ
ノシランは、式(1)で示される。このシクロオルガノ
シランは、1、2又は3個のR置換基を含むことがで
き、ここに各Rはアリール、置換アリール、炭素原子数
4〜20のシクロアルキル及び炭素原子数4〜20の置
換シクロアルキルからなる群れから選ばれ、R1 は炭素
原子数1〜20のアルキルからなる群れから独立に選ば
れる。
ノシランは、式(1)で示される。このシクロオルガノ
シランは、1、2又は3個のR置換基を含むことがで
き、ここに各Rはアリール、置換アリール、炭素原子数
4〜20のシクロアルキル及び炭素原子数4〜20の置
換シクロアルキルからなる群れから選ばれ、R1 は炭素
原子数1〜20のアルキルからなる群れから独立に選ば
れる。
【0008】ここに、「置換アリール」及び「置換シク
ロアルキル」とは、環構成炭素の1又はそれ以上が炭素
原子数1〜20のアルキル、炭素原子数1〜20のハロ
アルキル、及びハロゲンからなる群れから選ばれる置換
基で置換されていることを意味する。前記ハロゲンは臭
素、塩素、フッ素又はヨウ素でありうる。このハロゲン
が塩素又はフッ素であるときが好ましい。R基は、例え
ばフェニル、ビフェニル、ナフチル、トリル、キシリ
ル、イソプロピルフェニル、クロロフェニル、ジクロロ
フェニル、フルオロフェニル、シクロペンチル、シクロ
ヘキシル、シクロヘプチル又はメチルシクロヘキシルで
ありうる。好ましいのは、Rがフェニル、シクロペンチ
ル及びシクロヘキシルであるときである。
ロアルキル」とは、環構成炭素の1又はそれ以上が炭素
原子数1〜20のアルキル、炭素原子数1〜20のハロ
アルキル、及びハロゲンからなる群れから選ばれる置換
基で置換されていることを意味する。前記ハロゲンは臭
素、塩素、フッ素又はヨウ素でありうる。このハロゲン
が塩素又はフッ素であるときが好ましい。R基は、例え
ばフェニル、ビフェニル、ナフチル、トリル、キシリ
ル、イソプロピルフェニル、クロロフェニル、ジクロロ
フェニル、フルオロフェニル、シクロペンチル、シクロ
ヘキシル、シクロヘプチル又はメチルシクロヘキシルで
ありうる。好ましいのは、Rがフェニル、シクロペンチ
ル及びシクロヘキシルであるときである。
【0009】前記シクロオルガノシランは、0、1又は
2個の置換基R1 を含みうる。ここにR1 は炭素原子数
1〜20のアルキル基である。R1 基は、例えばメチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ter
t−ブチル又はデシルでありうる。好ましいのは、R1
がメチルであるときである。
2個の置換基R1 を含みうる。ここにR1 は炭素原子数
1〜20のアルキル基である。R1 基は、例えばメチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ter
t−ブチル又はデシルでありうる。好ましいのは、R1
がメチルであるときである。
【0010】前記シクロオルガノシランは、ケイ素原子
に結合した少なくとも1つの水素を含まねばならず、最
高3つの、ケイ素原子に結合した水素原子を含みうる。
前記シクロオルガノシランはケイ素原子に結合した1つ
の水素を含むことが好ましい。
に結合した少なくとも1つの水素を含まねばならず、最
高3つの、ケイ素原子に結合した水素原子を含みうる。
前記シクロオルガノシランはケイ素原子に結合した1つ
の水素を含むことが好ましい。
【0011】このシクロオルガノシランは0、1又は2
個のハロゲンXを含みうる。ここにXは臭素、塩素及び
ヨウ素からなる群れから選ばれる。好ましいハロゲンX
は塩素である。
個のハロゲンXを含みうる。ここにXは臭素、塩素及び
ヨウ素からなる群れから選ばれる。好ましいハロゲンX
は塩素である。
【0012】このシクロオルガノシランは、例えばフェ
ニルジクロロシラン、フェニルクロロシラン、フェニル
ジブロモシラン、フェニルジヨードシラン、トリルジク
ロロシラン、クロロフェニルジクロロシラン、メチルフ
ェニルクロロシラン、エチルフェニルクロロシラン、ト
リフェニルシラン、フェニルシラン、シクロペンチルジ
クロロシラン、シクロヘキシルジクロロシラン、シクロ
ヘキシルメチルクロロシラン及びシクロヘプチルジクロ
ロシランでありうる。
ニルジクロロシラン、フェニルクロロシラン、フェニル
ジブロモシラン、フェニルジヨードシラン、トリルジク
ロロシラン、クロロフェニルジクロロシラン、メチルフ
ェニルクロロシラン、エチルフェニルクロロシラン、ト
リフェニルシラン、フェニルシラン、シクロペンチルジ
クロロシラン、シクロヘキシルジクロロシラン、シクロ
ヘキシルメチルクロロシラン及びシクロヘプチルジクロ
ロシランでありうる。
【0013】水素化ホウ素ナトリウムは触媒としてプロ
セスに加えられる。プロセスに加えられる水素化ホウ素
ナトリウムの濃度はシクロオルガノシランの不均化速度
を上げるに充分などんな濃度でもよい。水素化ホウ素ナ
トリウムは、例えば粉末、チップ、フレーク、顆粒又は
ペレットの形をした固体としてプロセスに加えられる。
水素化ホウ素ナトリウムの粒度が約100μm より大き
いときが好ましい。水素化ホウ素ナトリウムの粒度が直
径1〜12mmの範囲内であるときがより好ましい。
セスに加えられる。プロセスに加えられる水素化ホウ素
ナトリウムの濃度はシクロオルガノシランの不均化速度
を上げるに充分などんな濃度でもよい。水素化ホウ素ナ
トリウムは、例えば粉末、チップ、フレーク、顆粒又は
ペレットの形をした固体としてプロセスに加えられる。
水素化ホウ素ナトリウムの粒度が約100μm より大き
いときが好ましい。水素化ホウ素ナトリウムの粒度が直
径1〜12mmの範囲内であるときがより好ましい。
【0014】本発明方法は連続プロセスとして又はバッ
チプロセスとして、そのようなプロセスを運転するため
の標準型の反応器中で運転しうる。水素化ホウ素ナトリ
ウムはプロセス中に固体として存在するから、例えば水
素化ホウ素ナトリウムの充填床、流動床又は攪拌床を形
成してシクロオルガノシランをこの床に通して不均化を
行うことが出来る。このプロセスをバッチプロセスとし
て運転するときは、水素化ホウ素ナトリウムの濃度はプ
ロセスに加えられるシクロオルガノシランの重量の約
0.05〜10wt%の範囲内であることが好ましい。
水素化ホウ素ナトリウムの濃度はプロセスに加えられる
シクロオルガノシランの重量の約0.5〜2.0wt%
の範囲内であることが更に好ましい。
チプロセスとして、そのようなプロセスを運転するため
の標準型の反応器中で運転しうる。水素化ホウ素ナトリ
ウムはプロセス中に固体として存在するから、例えば水
素化ホウ素ナトリウムの充填床、流動床又は攪拌床を形
成してシクロオルガノシランをこの床に通して不均化を
行うことが出来る。このプロセスをバッチプロセスとし
て運転するときは、水素化ホウ素ナトリウムの濃度はプ
ロセスに加えられるシクロオルガノシランの重量の約
0.05〜10wt%の範囲内であることが好ましい。
水素化ホウ素ナトリウムの濃度はプロセスに加えられる
シクロオルガノシランの重量の約0.5〜2.0wt%
の範囲内であることが更に好ましい。
【0015】シクロオルガノシラン及び水素化ホウ素ナ
トリウム触媒を含む混合物は約100〜250℃の範囲
内の温度に加熱する。好ましい温度は約150〜200
℃の範囲にある。最も好ましい温度は約170℃を越え
200℃以下の範囲内にある。
トリウム触媒を含む混合物は約100〜250℃の範囲
内の温度に加熱する。好ましい温度は約150〜200
℃の範囲にある。最も好ましい温度は約170℃を越え
200℃以下の範囲内にある。
【0016】シクロオルガノシランの不均化を行うため
の混合物の加熱に必要な時間の長さは、例えばプロセス
の温度及びプロセスに用いられる特定のシクロオルガノ
シランに依存する。一般に、加熱時間約0.5分〜18
時間が有用と考えられている。加熱時間約15分〜1時
間が好ましい。
の混合物の加熱に必要な時間の長さは、例えばプロセス
の温度及びプロセスに用いられる特定のシクロオルガノ
シランに依存する。一般に、加熱時間約0.5分〜18
時間が有用と考えられている。加熱時間約15分〜1時
間が好ましい。
【0017】本発明は標準の、低められた又は高められ
た圧力の下で運転しうる。プロセスが減圧下で運転され
るのが好ましい。「減圧」とは約760mmHgの標準圧力
より低い圧力を意味する。この方法では、2つのシクロ
オルガノシラン分子が不均化を起こし、1つのシクロオ
ルガノシランのR置換基が他のシクロオルガノシランの
ケイ素原子上の水素と交換する。この不均化反応の結
果、付加されたR置換基を含むシラン分子及び第2の付
加水素を含む低沸点シラン生成物を生ずる。本発明者ら
はシクロオルガノシラン及び生成シランは平衡混合物を
形成すると信じている。従って第2の低沸点シランが生
成するに従ってこれを除くことにより、付加されたR置
換基を含むシラン生成物の収率は改善される。
た圧力の下で運転しうる。プロセスが減圧下で運転され
るのが好ましい。「減圧」とは約760mmHgの標準圧力
より低い圧力を意味する。この方法では、2つのシクロ
オルガノシラン分子が不均化を起こし、1つのシクロオ
ルガノシランのR置換基が他のシクロオルガノシランの
ケイ素原子上の水素と交換する。この不均化反応の結
果、付加されたR置換基を含むシラン分子及び第2の付
加水素を含む低沸点シラン生成物を生ずる。本発明者ら
はシクロオルガノシラン及び生成シランは平衡混合物を
形成すると信じている。従って第2の低沸点シランが生
成するに従ってこれを除くことにより、付加されたR置
換基を含むシラン生成物の収率は改善される。
【0018】式(2)及び(3)で示される生成シラン
はプロセスから回収される。生成シランの回収方法は、
プロセスが連続法で運転されているかバッチ法で運転さ
れているかに依存する。プロセスが連続法で運転されて
いるときは、生成シランの回収は、例えば蒸留で行いう
る。プロセスがバッチ法で運転されているときは、生成
シランからの固体水素化ホウ素ナトリウムの分離は、液
体から固体を分離する標準的な方法、例えばろ過又は沈
降で行いうる。次いで分離した液体を蒸留して生成シラ
ンを回収しうる。
はプロセスから回収される。生成シランの回収方法は、
プロセスが連続法で運転されているかバッチ法で運転さ
れているかに依存する。プロセスが連続法で運転されて
いるときは、生成シランの回収は、例えば蒸留で行いう
る。プロセスがバッチ法で運転されているときは、生成
シランからの固体水素化ホウ素ナトリウムの分離は、液
体から固体を分離する標準的な方法、例えばろ過又は沈
降で行いうる。次いで分離した液体を蒸留して生成シラ
ンを回収しうる。
【0019】生成シランは、例えばジフェニルジクロロ
シラン、トリフェニルクロロシラン、ジフェニルジブロ
モシラン、ジフェニルジヨードシラン、ジトリルジクロ
ロシラン、ジ(クロロフェニル)ジクロロシラン、メチ
ルジフェニルクロロシラン、エチルジフェニルクロロシ
ラン、ジクロロシラン、ジフェニルクロロシラン、メチ
ルクロロシラン、エチルクロロシラン、ジフェニルシラ
ン、テトラフェニルシラン、ジシクロペンチルジクロロ
シラン、ジシクロヘキシルジクロロシラン、ジシクロヘ
キシルメチルクロロシラン及びジシクロヘプチルジクロ
ロシランである。
シラン、トリフェニルクロロシラン、ジフェニルジブロ
モシラン、ジフェニルジヨードシラン、ジトリルジクロ
ロシラン、ジ(クロロフェニル)ジクロロシラン、メチ
ルジフェニルクロロシラン、エチルジフェニルクロロシ
ラン、ジクロロシラン、ジフェニルクロロシラン、メチ
ルクロロシラン、エチルクロロシラン、ジフェニルシラ
ン、テトラフェニルシラン、ジシクロペンチルジクロロ
シラン、ジシクロヘキシルジクロロシラン、ジシクロヘ
キシルメチルクロロシラン及びジシクロヘプチルジクロ
ロシランである。
【0020】
【実施例】本発明を説明するために以下に例を示す。こ
れらの例は本件特許請求の範囲を限定しようとするもの
ではない。
れらの例は本件特許請求の範囲を限定しようとするもの
ではない。
【0021】(例1)フェニルジクロロシランの不均化
を触媒する能力について種々の物質を評価した。この評
価はシールした8mm×25mmのパイレックスブランドの
チューブ(Pyrex Brand tubes )中で行った。シールし
使用する前に、このパイレックスチューブを140℃の
炉内で16時間乾燥した。次いでこのチューブを炉から
取り出し、アルゴンでパージし、アルゴンでパージした
袋中に入れ、ここで各チューブに2.0mLのフェニル
ジクロロシランを加えた。触媒として試験した物質は、
水素化ホウ素ナトリウム(NaBH4 )(Morton Thiok
ol, Danvers, MA ) ;水素化カルシウム(CaH2 )
(Fisher Scientific Company, Fair Lawn, NJ);及び
デカボラン(B10H14)(Aldrich, Milwaukeae, WI )
であった。水素化ホウ素ナトリウムは8mmのペレットと
して受け取り、プロセスに加える前に圧潰して粗い粒状
混合物とした。
を触媒する能力について種々の物質を評価した。この評
価はシールした8mm×25mmのパイレックスブランドの
チューブ(Pyrex Brand tubes )中で行った。シールし
使用する前に、このパイレックスチューブを140℃の
炉内で16時間乾燥した。次いでこのチューブを炉から
取り出し、アルゴンでパージし、アルゴンでパージした
袋中に入れ、ここで各チューブに2.0mLのフェニル
ジクロロシランを加えた。触媒として試験した物質は、
水素化ホウ素ナトリウム(NaBH4 )(Morton Thiok
ol, Danvers, MA ) ;水素化カルシウム(CaH2 )
(Fisher Scientific Company, Fair Lawn, NJ);及び
デカボラン(B10H14)(Aldrich, Milwaukeae, WI )
であった。水素化ホウ素ナトリウムは8mmのペレットと
して受け取り、プロセスに加える前に圧潰して粗い粒状
混合物とした。
【0022】触媒として試験した物質を表1に示す。こ
の濃度は2.0mLのフェニルジクロロシランあたり加
えられた物質の重量として表している。これらチューブ
をシールしチューブ炉内に170℃で1時間置いた。1
時間の加熱の終点で、これらチューブを冷却し、内容物
を水素炎イオン化分析計を用いるガス液クロマトグラフ
ィー(GLC−FID)により分析した。この結果を、
列挙した各化合物についてGLC−FIDトレース(t
race)の下の面積%として表1に示す。
の濃度は2.0mLのフェニルジクロロシランあたり加
えられた物質の重量として表している。これらチューブ
をシールしチューブ炉内に170℃で1時間置いた。1
時間の加熱の終点で、これらチューブを冷却し、内容物
を水素炎イオン化分析計を用いるガス液クロマトグラフ
ィー(GLC−FID)により分析した。この結果を、
列挙した各化合物についてGLC−FIDトレース(t
race)の下の面積%として表1に示す。
【0023】
【0024】(例2)メチルフェニルクロロシランの熱
不均化を触媒する水素化ホウ素ナトリウムの能力を評価
した。この評価は例1に述べたようにしてアルゴンガス
シールの下で行った。ガラスチューブに2.0mLのメ
チルフェニルクロロシラン及び0.028gの水素化ホ
ウ素ナトリウムの圧潰したペレット(例1に述べたよう
な)を加えた。メチルフェニルクロロシランを含むが水
素化ホウ素ナトリウムを含まない対照チューブも実験し
た。このシールしたチューブをチューブ炉中にて170
℃で1時間加熱した。1時間の加熱の終点で、これらチ
ューブを冷却し、内容物をGLC−FIDにより分析し
た。この結果を、列挙した各化合物についてGLC−F
IDトレース(trace)の下の面積%として表2に
示す。
不均化を触媒する水素化ホウ素ナトリウムの能力を評価
した。この評価は例1に述べたようにしてアルゴンガス
シールの下で行った。ガラスチューブに2.0mLのメ
チルフェニルクロロシラン及び0.028gの水素化ホ
ウ素ナトリウムの圧潰したペレット(例1に述べたよう
な)を加えた。メチルフェニルクロロシランを含むが水
素化ホウ素ナトリウムを含まない対照チューブも実験し
た。このシールしたチューブをチューブ炉中にて170
℃で1時間加熱した。1時間の加熱の終点で、これらチ
ューブを冷却し、内容物をGLC−FIDにより分析し
た。この結果を、列挙した各化合物についてGLC−F
IDトレース(trace)の下の面積%として表2に
示す。
【0025】
【0026】(例3)水素化ホウ素ナトリウムがシクロ
ヘキシルジクロロシランを触媒する能力を評価した。こ
の評価は例1に述べたようにしてアルゴンガスシール下
にガラスチューブ中で行った。ガラスチューブに2.0
mLのシクロヘキシルジクロロシラン及び0.027g
の水素化ホウ素ナトリウムの圧潰したペレット(例1に
述べたような)を加えた。シクロヘキシルジクロロシラ
ンを含むが水素化ホウ素ナトリウムを含まない対照チュ
ーブも実験した。このシールしたチューブをチューブ炉
中にて170℃で1時間加熱した。1時間の加熱の終点
で、これらチューブを冷却し、内容物をGLC−FID
により分析した。この結果を、列挙した各化合物につい
てGLC−FIDトレース(trace)の下の面積%
として表3に示す。
ヘキシルジクロロシランを触媒する能力を評価した。こ
の評価は例1に述べたようにしてアルゴンガスシール下
にガラスチューブ中で行った。ガラスチューブに2.0
mLのシクロヘキシルジクロロシラン及び0.027g
の水素化ホウ素ナトリウムの圧潰したペレット(例1に
述べたような)を加えた。シクロヘキシルジクロロシラ
ンを含むが水素化ホウ素ナトリウムを含まない対照チュ
ーブも実験した。このシールしたチューブをチューブ炉
中にて170℃で1時間加熱した。1時間の加熱の終点
で、これらチューブを冷却し、内容物をGLC−FID
により分析した。この結果を、列挙した各化合物につい
てGLC−FIDトレース(trace)の下の面積%
として表3に示す。
【0027】
【0028】
【発明の効果】本発明によれは、シクロオルガノシロキ
サンの不均化用の新しい水素化ホウ素ナトリウム触媒が
提供される。この水素化ホウ素ナトリウムは本質的にこ
のプロセスに不溶性であり、連続法において固定したベ
ッドとして用いるのに特に有用である。本発明方法によ
り調製されるシクロオルガノシランは、例えばシロキサ
ンポリマーの調製及び紙の剥離皮膜の調製に有用であ
る。
サンの不均化用の新しい水素化ホウ素ナトリウム触媒が
提供される。この水素化ホウ素ナトリウムは本質的にこ
のプロセスに不溶性であり、連続法において固定したベ
ッドとして用いるのに特に有用である。本発明方法によ
り調製されるシクロオルガノシランは、例えばシロキサ
ンポリマーの調製及び紙の剥離皮膜の調製に有用であ
る。
Claims (2)
- 【請求項1】 次のことを含むシクロオルガノシランの
不均化方法: (A)次式で示されるシクロオルガノシラン: Ra R1 b Hc SiX4-a-b-c 及び水素化ホウ素ナトリウム触媒からなる混合物を形成
し、ここに水素化ホウ素ナトリウム触媒の濃度はシクロ
オルガノシランの不均化速度を上げるに充分な量であ
り; (B)この混合物を約100〜250℃の範囲の温度に
加熱し;そして (C)次式で示されるシランを回収すること、 Ra+1 R1 b Hc-1 SiX4-a-b-c 及び Ra-1 R1 b Hc+1 SiX4-a-b-c 但し、ここに各Rはアリール、置換アリール、炭素原子
数4〜20のシクロアルキル及び炭素原子数4〜20の
置換シクロアルキルからなる群れから選ばれ、R 1 は炭
素原子数1〜20のアルキルからなる群れから選ばれ、
Xは臭素、塩素及びヨウ素からなる群れから選ばれるハ
ロゲンであり、a=1、2又は3であり、b=0、1又
は2であり、c=1、2又は3であり、a+b+c=
2、3又は4である。 - 【請求項2】 前記プロセスを減圧下で運転し、式R
a-1 R1 b Hc+1 SiX4-a-b-c で示される生成シラン
を、それらが生成するに従って除く、請求項1の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US812297 | 1991-12-23 | ||
US07/812,297 US5136070A (en) | 1991-12-23 | 1991-12-23 | Sodium borohydride catalyzed disproportionation of cycloorganosilanes |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05271247A true JPH05271247A (ja) | 1993-10-19 |
Family
ID=25209143
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4337053A Pending JPH05271247A (ja) | 1991-12-23 | 1992-12-17 | 水素化ホウ素ナトリウムで触媒したシクロオルガノシランの不均化 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5136070A (ja) |
EP (1) | EP0549226B1 (ja) |
JP (1) | JPH05271247A (ja) |
KR (1) | KR100234448B1 (ja) |
CA (1) | CA2084245A1 (ja) |
DE (1) | DE69218745T2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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