JP4426324B2 - 非エステル型エポキシ樹脂および樹脂組成物 - Google Patents

非エステル型エポキシ樹脂および樹脂組成物 Download PDF

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Description

本発明は、エステル結合を含まない非エステル型エポキシ樹脂およびそれを含む樹脂組成物、さらには、同樹脂組成物の用途に関する。
近年、エポキシ樹脂の低温における迅速な硬化が望まれており、例えば光酸発生剤を使用した光カチオン硬化が検討されている。一般的に、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂では反応速度が遅く、且つ、エポキシ基の反応率も低いため、十分な特性を有する硬化物が得られないという問題がある。これらの問題点を改善するために、例えば、特開平11−263827号公報においては、カチオン硬化性に優れ、かつ、塩素を含まない脂環式エポキシ樹脂の検討が行われている。しかしながら、同公報においては、エステル結合を有する脂環式エポキシ樹脂を使用しており、カチオン硬化速度は十分とは言えない。さらに、硬化時に発生するカチオン成分によりエステル基が開裂し、水酸基とカルボン酸が発生するため、硬化物の吸水率が増大したり硬化物のTgが低下するなど大きな問題点を有していた。
また、工業的に利用されるエポキシ樹脂は、フェノール化合物とエピクロロヒドリン(ECH)の反応によって得られるものが一般的である。製造の際に生じるグリシジル化合物は、処理条件に応じて化学結合した塩素を数%含有する。塩素を含まないエポキシ樹脂は、例えば環境問題や安全性の観点から望まれるべきものである。特に、電子材料用途においては、エポキシ樹脂中の加化水分解性塩素原子がイオン化し、配線等の腐蝕、絶縁特性低下など信頼性を低下させる原因として問題視されている。このため、エポキシ樹脂中の加水分解性塩素含有量を低下させるために種々検討され、塩素フリー化が進められているが、結果として全塩素含有量は数百ppm程度であり、塩素含有量をさらに低下させるために精製する必要があり非常に高価なものとなってしまう。
特開平11−263827号公報(特許請求の範囲、実施例)
本発明の課題は、加水分解性塩素含有量が低く、かつ、加水分解に弱いエステル結合を有さない非エステル型エポキシ樹脂を提供することであり、プロセスパラメータの調整及び出発化合物の選択によって簡単に変更可能な手段を講ずることにより達成することができる。すなわち、本発明の特徴は容易に、且つ、安価に加水分解性塩素を含まない非エステル型エポキシ樹脂を提供することができることにある。
すなわち、本発明の第1は、非エステル型脂環式エポキシ化合物と2以上のヒドロキシル基を有するフェノール化合物とをモル比(エポキシ化合物中のエポキシ基/フェノール化合物中の水酸基)1.1〜10の条件で反応させて製造される非エステル型エポキシ樹脂であって、前記非エステル型脂環式エポキシ化合物が一般式(I)
(式中でR 1 〜R 18 は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。これらは、水素原子、塩素以外のハロゲン原子、酸素原子もしくは塩素以外のハロゲン原子を含んでよい炭化水素基、又は置換基を有してよいアルコキシ基である。)
で表される化合物である非エステル型エポキシ樹脂を提供する
本発明の第2は、非エステル型脂環式エポキシ化合物と2以上のヒドロキシル基を有するフェノール化合物とをモル比(エポキシ化合物中のエポキシ基/フェノール化合物中の水酸基)1.1〜10の条件で反応させて製造される非エステル型エポキシ樹脂であって、前記非エステル型脂環式エポキシ化合物が一般式(III)
(式中でR1〜R12は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。これらは、水素原子、塩素以外のハロゲン原子、酸素原子もしくは塩素以外のハロゲン原子を含んでよい炭化水素基、又は置換基を有してよいアルコキシ基である。)
で表される化合物である非エステル型エポキシ樹脂を提供する。
本発明の第は、2以上のヒドロキシル基を有するフェノール化合物が脂肪族鎖を介して結合したヒドロキシル基を有する、上記発明1又は2記載の非エステル型エポキシ樹脂を提供する。本発明の第は、脂肪族結合したヒドロキシル基を有するフェノール成分がビフェノール及び/又はビスフェノールであり、非エステル型脂環式エポキシ化合物との1:2型付加物を含む、上記発明記載の非エステル型エポキシ樹脂を提供する。
本発明の第5は、上記発明1〜4のいずれかに記載の非エステル型エポキシ樹脂および光カチオン及び/又は熱カチオン重合開始剤からなることを特徴とする樹脂組成物を提供する。
本発明の第は、電子構造部材の被覆、封止として使用する上記発明に記載の樹脂組成物提供する。本発明の第は、成形材料及びプリント基板材料として使用する上記発明に記載の樹脂組成物提供する。本発明の第は、接着剤として使用する上記発明に記載の樹脂組成物提供する。
なお、本明細書では、上記の発明のほか、非エステル型脂環式エポキシ化合物とフェノール化合物の反応によって製造される非エステル型エポキシ樹脂であって、前記非エステル型脂環式エポキシ化合物が一般式(V)
(式中でR 1 〜R 12 は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。これらは、水素原子、塩素以外のハロゲン原子、酸素原子もしくは塩素以外のハロゲン原子を含んでよい炭化水素基、又は置換基を有してよいアルコキシ基である。)
で表される化合物である非エステル型エポキシ樹脂についても説明する。
本発明の非エステル型エポキシ樹脂を用いることにより、塩素濃度が低く、吸水率および酸価の低い樹脂組成物が得られ、この樹脂組成物は特に電子材料用の硬化性樹脂組成物として有用である。
上記課題は、特定の構造の非エステル型脂環式エポキシ化合物とフェノール化合物とを反応させることによって解決され、その際、得られる樹脂の分子量は、出発化合物のモル比及び付加反応の際に反応性を有する2つの出発化合物の官能基の数によって調整可能である。
本発明に使用する特定の構造の非エステル型脂環式エポキシ化合物とは、以下に例示されるものである。
一般式(I)の非エステル型脂環式エポキシ化合物はビシクロヘキシル−3,3’−ジエン骨格を持つ一般式(II)で表わされる不飽和化合物を過酢酸のような有機過カルボン酸または過酸化水素水によって酸化させることにより製造される(特願2002−260490号明細書参照)。
一般式(I)および一般式(II)において、R1〜R18は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。これらは、水素原子、塩素以外のハロゲン、酸素原子もしくは塩素以外のハロゲンを含んでよい炭化水素基、又は置換基を有してよいアルコキシ基である。
一般式(III)で表されるエポキシ化合物は、シクロオクタジエン骨格を持つ一般式(IV)で表わされる不飽和化合物を過酢酸のような有機過カルボン酸または過酸化水素水によって酸化させることにより製造される(特願2003−56386号明細書参照)。
一般式(III)および一般式(IV)において、R1〜R12は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。これらは、水素原子、塩素以外のハロゲン、酸素原子もしくは塩素以外のハロゲンを含んでよい炭化水素基、又は置換基を有してよいアルコキシ基である。
一般式(V)で表されるエポキシ化合物は、脂環式インデン骨格を持つ一般式(VI)で表わされる不飽和化合物を過酢酸のような有機過カルボン酸または過酸化水素水によって酸化させることにより製造される(特願2002−351437号明細書参照)。
一般式(V)および一般式(VI)において、R1〜R12は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。これらは、水素原子、塩素以外のハロゲン、酸素原子もしくは塩素以外のハロゲンを含んでよい炭化水素基、又は置換基を有してよいアルコキシ基である。
一般式(I)〜(VI)において、炭化水素基およびアルコキシ基の炭素数は1〜5であることが好ましい。
上記不飽和化合物(II)、(IV)、(VI)の酸化に際しては、高いオキシラン酸素濃度を有する上記(I)、(III)、(V)のエポキシ化合物を得るという観点から、特に、水分率の低い、具体的には、水分率2重量%以下(好ましくは0.8重量%以下)の有機過カルボン酸を用いることが好ましい(上記各明細書参照)。
本発明で使用するフェノール化合物としてはビフェノール類、ビスフェノール、例えばビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フッ素原子を有するビスフェノールA、フッ素原子を有するビスフェノールF又はナフタレンジオール、例えば下記式(1)から式(7)のような各種のフェノール化合物が挙げられる。
分子量の調整には置換モノフェノール、例えばノニルフェノール、
の1,5−ナフタレンジオール、p−ノニルフェノール等が好ましい。
また、脂肪族結合したヒドロキシル基、例えば式(2):
の4−ヒドロキシ−ベンジルアルコール、
式(3):
の2−ヒドロキシ−ベンジルアルコール、
式(4):
の4−ヒドロキシ−3−メトキシ−ベンジルアルコール、
式(5):
のエチレングリコール−モノサリシレートを有する置換基を有するフェノール化合物を用いることもできる。
他の例として非エステル型脂環式エポキシ化合物過剰の状態では、多核のフェノール化合物、例えば、エチリジントリスフェノール類[式(6)]、エタンジイリデンテトラキスフェノール類[式(7)]、ノボラックタイプフェノール類等が使用可能である。
使用可能な多核のフェノール化合物の別の例はノボラックフェノール類等である。
上記のフェノール化合物の場合には、アルキル鎖の延長、アルキル基によるプロトンの置換等によって得ることができるようなそれぞれ上記例の簡単な誘導体及び同族体を使用することもできる。さらに任意の他のフェノール化合物を混合して使用することもできる。
非エステル型脂環式エポキシ化合物とフェノール化合物との反応においては、触媒を使用することもできる。触媒としては、ジメチルベンジルアミン、トリエチルアミン、テトラメチルエチレンジアミン、トリ−n−オクチルアミンなどの3級アミン、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウムブロマイドなどの4級アンモニウム塩、テトラメチル尿素などのアルキル尿素、テトラメチルグアニジンなどのアルキルグアニジン、ナフテン酸コバルト等に代表される金属化合物、有機金属錯体、トリフェニルホスフィン等のホスフィン系及びこれらの塩などを挙げることができるが、好ましくはトリフェニルホスフィンに代表される3級のホスフィンが好ましい。上記のような触媒は単独で使用しても混合して使用してもよい。これらの触媒はエポキシ化合物に対して0.01〜10重量%、好ましくは0.5〜3.0重量%用いるのが好ましい。0.01重量%より少ない場合は触媒効果が低く、10重量%を越える量を加える必要はない。
非エステル型脂環式エポキシ化合物とフェノール化合物との反応はモル比(エポキシ化合物中のエポキシ基:フェノール化合物中の水酸基)=(n+1)/n=1〜20、好ましくは、1.1〜10で行われる。他の多官能フェノール化合物の場合、上記の比を変化させることができる。しかしながら、常に過剰量のエポキシ化合物を用いることにより、フェノール性ヒドロキシル基は、反応終了後に完全に消費されていることが好ましい。
(エポキシ化合物中のエポキシ基:フェノール化合物中の水酸基)のモル比が1未満では、エポキシ基がほとんど消失して樹脂はカチオン硬化性を示さず、モル比が20を超えるとフェノール化合物による変性の度合いが低く、本発明の非エステル型脂環式エポキシ樹脂の特徴が出ないので、いずれも好ましくない。
反応温度は100〜250℃、好ましくは、100〜180℃である。反応温度が100℃未満では、反応が遅く、180℃を超えると副反応が起こり、所望のエポキシ樹脂が得られないので、いずれも好ましくない。反応中は安全上窒素ガスを気相部に吹き込みながら行うのが好ましい。
非エステル型脂環式エポキシ化合物とフェノール化合物との反応においては、溶媒を使用することもできる。溶媒としては使用する原料を溶解するものであれば特に制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、メタノール、エタノール、2−プロパノールなどのアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル類、酢酸エチル、酢酸イソブチル、エチレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノアセテート、ジプロピレングリコールモノアセテートなどのエステル類、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類,ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル類、ブチレングリコールモノアルキルエーテル類、エチレングリコールジアルキルエーテル類、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテルなどのジエチレングリコールジアルキルエーテル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジメチルフォルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類、四塩化炭素、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素などが用いられる。これらの溶媒は単独で、または混合して使用してもよい。
さらには、反応性の化合物、例えば、アクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステル化合物、スチレンなどのビニル芳香族化合物、アミド系不飽和化合物などで代表されるラジカル重合性二重結合を有する化合物も溶媒として使用することができる。これらのラジカル重合性二重結合を有する化合物は樹脂組成物中で硬化性成分として寄与するので、組成物を塗布した後、溶媒を揮発させる必要がなく好ましい。溶媒の使用量は出発原料である非エステル型脂環式エポキシ化合物とフェノール化合物の合計量100重量部に対して0〜1000重量部、好ましくは、0〜500重量部程度である。
本発明の樹脂組成物は、上記本発明の非エステル型エポキシ樹脂および光及び/又は熱カチオン重合開始剤からなり、さらに、必要に応じて他のエポキシ樹脂等を配合することにより調製することができる。
光及び/又は熱カチオン重合開始剤としては、以下のようなものが挙げられる。
光カチオン重合開始剤としてはスルホニウム塩系、ヨードニウム塩系、ジアゾニウム塩系、アレン−イオン錯体系等の化合物が使用できる。例えばスルホニウム塩系のUVACURE1590、UVACURE1591(以上、ダイセルUCB社製)、DAICAT11(ダイセル化学社製)、CD−1011(サートマー社製)、SI−60L、SI−80L、SI−100L(以上、三新化学社製)等;ヨードニウム塩系のDAICAT12(ダイセル化学社製)、CD−1012(サートマー社製);ジアゾニウム塩系のSP−150,SP−170(旭電化工業社製)などが挙げられる。光カチオン重合開始剤の中でも、上記SI−60L、SI−80L、SI−100Lは加熱によりカチオンを発生させることもできる。
さらに、熱カチオン重合開始剤としてはトリフェニルシラノールなどのシラノール系のカチオン触媒やアルミニウムトリス(アセチルアセトン)などのアルミキレート系触媒も使用することができる。
本発明において、上記カチオン重合開始剤は非エステル型エポキシ樹脂と下記の必要に応じて加えられる他のエポキシ樹脂との合計量100重量部に対し、0.01〜20重量部、好ましくは0.1〜5重量部、より好ましくは0.1から3重量部程度配合することができる。0.01重量部以下では熱硬化性が著しく低下し、20重量部を超えて配合した場合には、増量効果が認められず不経済であるとともに、硬化物の物性低下を来すので好ましくない。
また、硬化に際しては、硬化促進剤として1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン(DBU)のようなアミジン化合物やトリフェニルフォスフィン、テトラフェニルホスフォニウム、テトラフェニルボレートのような有機リン化合物、2−メチルイミダゾール等のイミダゾール化合物などを用いることができるが、これらに限定されるものではない。これらの硬化促進剤は単独でも混合して用いても差し支えない。配合量としては、脂環式エポキシ樹脂と下記の必要に応じて加えられる他のエポキシ樹脂および重合開始剤の合計量100重量部あたり、0.4〜20重量部の範囲とするのが好ましい。配合量が0.4重量部未満では、加熱成形時に十分な硬化性が得られない恐れがあり、一方、20重量部を越えると硬化が速すぎて、成形時に流動性の低下による充填不良を生じる恐れがあるので好ましくない。
本発明の樹脂組成物において、非エステル型エポキシ樹脂に必要に応じて加えられる他のエポキシ樹脂は特に制限されない。例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビスフェノールAD型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂から選ばれる2官能エポキシ樹脂が挙げられ、塩素含有率が低く、エステル結合を有していないものが特に好ましい。
上記以外にもフェノールノボラック型エポキシ樹脂、臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールADノボラック型エポキシ樹脂等のノボラックエポキシ樹脂、トリシクロデセンオキサイド基を有するエポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂のエポキシ化物等の環式脂肪族エポキシ樹脂、ナフタレン型フェノール樹脂のエポキシ化物等の芳香族エポキシ樹脂、ダイマー酸グリシジルエステル、トリグリシジルエステル等のグリシジルエステル型エポキシ樹脂、テトラグリシジルアミノジフェニルメタン、トリグリシジルp−アミノフェノール、トリグリシジル−p−アミノフェノール、テトラグリシジルメタキシリレンジアミン、テトラグリシジルビスアミノメチルシクロヘキサン等のグリシジルアミン型エポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレート等の複素環式エポキシ樹脂、フロログリシノールトリグリシジルエーテル、トリヒドロキシビフェニルトリグリシジルエーテル、トリヒドロキシフェニルメタントリグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、2−[4−(2,3−エポキシプロポキシ)フェニル]−2−[4−[1,1−ビス[4−(2,3−エポキシプロポキシ)フェニル]エチル]フェニル]プロパン、1,3−ビス[4−[1−[4−(2,3−エポキシプロポキシ)フェニル]−1−[4−[1−[4−(2,3−エポキシプロポキシ)フェニル]−1−メチルエチル]フェニル]エチル]フェノキシ]−2−プロパノール等の3官能型エポキシ樹脂、テトラヒドロキシフェニルエタンテトラグリシジルエーテル、テトラグリシジルベンゾフェノン、ビスレゾルシノールテトラグリシジルエーテル、テトラグリシドキシビフェニル等の4官能型エポキシ樹脂、3,4−エポキシシクロヘキセニルメチル−3‘,4’−エポキシシクロヘキセニルカルボキシレート(ダイセル化学工業製セロキサイド2021P)、リモネンジエポキシド(ダイセル化学工業製セロキサイド3000)、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート(例えば、ユニオンカーバイド製ERL4227等)、エポキシ化3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸ビス3−シクロヘキセニルメチルエステルおよびそのε−カプロラクトン付加物(ダイセル化学工業製「エポリードGT301」等GT300シリーズ)、およびエポキシ化ブタンテトラカルボン酸テトラキス−3−シクロヘキセニルメチルエステルおよびそのε−カプロラクトン付加物(ダイセル化学工業製エポリード「GT401」等GT400シリーズ)などの脂環式エポキシ樹脂が挙げられる。必要に応じて加えられる他のエポキシ樹脂の添加量は本発明の非エステル型エポキシ樹脂100重量部に対して1〜1000重量部、好ましくは、20〜500重量部、さらに好ましくは、50〜300重量部である。1重量部より少ない場合は、必要に応じて加えられる他のエポキシ樹脂を添加する意味がなく、逆に1000重量部より多い場合は硬化物において、本発明の非エステル型エポキシ樹脂による優れた特性が出ない。上記他のエポキシ樹脂の中でも特に脂環式エポキシ樹脂が好ましい。
本発明の樹脂組成物は紫外線または電子線等の活性エネルギー線のような光を照射するか加熱することにより硬化させることができる。光照射により硬化させた後、さらに加熱硬化させてもよい。
紫外線照射を行う時の光源としては、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、キセノン灯、メタルハライド灯などが用いられる。照射時間は、光源の種類、光源と塗布面との距離、その他の条件により異なるが、長くとも数十秒であり、通常は数秒である。紫外線照射後は、必要に応じて加熱を行って硬化の完全を図ることもできる。電子線照射の場合は、50〜1,000KeVの範囲のエネルギーを持つ電子線を用い、2〜5Mradの照射量とすることが好ましい。通常、ランプ出力80〜300W/cm程度の照射源が用いられる。
本発明の樹脂組成物を加熱硬化させる場合は温度30〜240℃、好ましくは、35〜200℃、さらに好ましくは、35〜180℃で、硬化時間0.1〜300分、好ましくは、0.1〜240分、さらに好ましくは、0.5〜120分で硬化させる。
硬化温度と硬化時間が上記範囲下限値より低い場合は、硬化が不十分となり、逆に上記範囲上限値より高い場合、樹脂成分の分解が起きる場合があるので、何れも好ましくない。硬化条件は種々の条件に依存するが、硬化温度が高い場合は硬化時間は短く、硬化温度が低い場合は硬化時間は長く、適宜調整することができる。通常は、一次硬化(硬化温度5〜240℃、好ましくは15〜100℃、さらに好ましくは15〜70℃、硬化時間1〜300分、好ましくは15〜240分、さらに好ましくは60〜120分)させた後、引き続き二次硬化(硬化温度60〜240℃、好ましくは90〜200℃、さらに好ましくは120〜200℃、硬化時間0.1〜180分、好ましくは45〜150分、さらに好ましくは60〜120分)を行って硬化不足が起きないようにするのが好ましい。
本発明の樹脂組成物は、塗料、コーティング剤、接着剤、封止剤、プラスチックパネル等として有用でありレジストインキ等にも使用できる。本発明の樹脂組成物には、その他添加剤として必要に応じて、光酸発生剤、酸無水物、熱重合禁止剤、界面活性剤、光吸収剤、チキソ性付与剤、染料および顔料などを含有し得る。さらには熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂なども配合することができる。
上記各成分を混合するためには、通常使用される装置、例えば、ブレンダーのようなミキサー等によって十分混合した後、さらに熱ロール、ニーダー等を用いて溶融混練し、冷却した後、粉砕して成形材料とする。また、半導体素子等の電子部品を封止し、半導体装置を製造するには、トランスファーモールド、コンプレッションモールド、インジェクシションモールド等の成形法により、封止を行なう。
本発明の樹脂組成物は、基材上に薄膜として被着させることにより硬化させることができる。薄膜を形成する方法としては、スプレー、ブラシ掛け、ロール塗装、カーテン塗装、電着塗装、静電塗装などが用いられる。硬化は不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましいが、空気雰囲気下においても硬化させることができる。本発明の非エステル型脂エポキシ樹脂および樹脂組成物はインキ、プラスチック塗料、紙印刷、フィルムコーティング、家具塗装などの種々のコーティング分野、FRP、ライニング、さらにはエレクトロニクス分野における絶縁ワニス、絶縁シート、積層版、プリント基盤、レジストインキ、カラーフィルター用顔料レジストインキ、半導体封止剤、透明封止剤、プラスチックパネル等多くの産業分野への応用が可能である。
(実施例)
以下に本発明を実施例によってさらに具体的に説明する。ただし本発明はこの実施例により限定されるものではない。なお、実施例3は参考例として記載する。
<非エステル型脂環式エポキシ化合物の合成>
[合成例1]
前記一般式(II)で表される脂環式オレフィン化合物であるビシクロヘキシル−3,3’−ジエン406g、酢酸エチル1217gを仕込み、窒素を気相部に吹き込みながら、かつ、反応系内の温度を37.5℃になるようにコントロールしながら約3時間かけて30重量%過酢酸の酢酸エチル溶液(水分率0.41%)457gを滴下した。過酢酸溶液滴下終了後、40℃で1時間熟成し反応を終了した。さらに30℃で反応終了時の粗液を水洗し、70℃/20mmHgで低沸点化合物の除去を行い、エポキシ化合物415gを得た。このときの収率は85%であった。
得られたエポキシ化合物のオキシラン酸素濃度は14.7重量%であった。
また1HNMRの測定では、δ5.6〜5.8ppm付近の内部二重結合に由来するピークが消失し、δ3.1〜3.3ppm付近にエポキシ基に由来するプロトンのピークの生成が確認され、前記一般式(I)で表される非エステル型脂環式エポキシ化合物であることが確認された。得られた脂環式エポキシ化合物を(A-1)と称する。
[合成例2]
前記一般式(IV)で表される脂環式オレフィン化合物であるシクロオクタジエン108g、酢酸エチル108gを仕込み、窒素を気相部に吹き込みながら、かつ、反応系内の温度を30℃になるようにコントロールしながら約3時間かけて30重量%過酢酸の酢酸エチル溶液(水分率0.41重量%)532gを滴下した。過酢酸溶液滴下終了後、30℃で5時間熟成し反応を終了した。
さらに20℃以下で攪拌状態の反応終了時の粗液に86.9gの炭酸ソーダを加え半中和した後、さらに、10%NaOH水溶液219gを加え、攪拌を止めて2層分離し、下層の水層を払い出した。これを3回繰り返した後に、上層の有機層に対して250gの脱イオン水を用いて、残存する中和塩の洗浄払い出しを二回行った。
洗浄済みの粗液を60℃/20mmHgで低沸点化合物の除去を行い、エポキシ化合物112.3gを得た。このときの収率は80.2%であった。また1HNMRの測定では、δ5.5〜5.7ppm付近の内部二重結合に由来するピークが消失し、δ2.9〜3.1ppm付近にエポキシ基に由来するプロトンのピークの生成が確認され、前記一般式(III)で表される非エステル型脂環式エポキシ化合物であることが確認された。得られたエポキシ化合物を(A-2)と称する。
[合成例3]
前記一般式(VI)で表される脂環式オレフィン化合物であるテトラヒドロインデン240g、酢酸エチル480gを仕込み、窒素を気相部に吹き込みながら、かつ、反応系内の温度を30℃になるようにコントロールしながら約3時間かけて30重量%過酢酸の酢酸エチル溶液(水分率0.41重量%)1220gを滴下した。過酢酸溶液滴下終了後、30℃で6時間熟成し反応を終了した。さらに20℃以下で攪拌状態の反応終了時の粗液に398gの炭酸ナトリウムを加え半中和した後、更に10%NaOH水溶液1500gを加え、攪拌を止めて2層分離し、下層の水層を払い出した。その後、上相の有機層に対して1000gの脱イオン水を用いて、残存する中和塩を洗浄払い出しを行った。
洗浄済みの粗液を40℃/10mmHgで低沸点化合物の除去を行い、エポキシ化合物243gを得た。このときの収率は80%であった。また1HNMRの測定では、δ5.5〜5.7及び5.8〜6.0ppm付近の内部二重結合に由来するピークが消失し、δ3.0〜3.5ppm付近にエポキシ基に由来するプロトンのピークの生成が確認され、前記一般式(V)で表される非エステル型脂環式エポキシ化合物であることが確認された。得られた非エステル型エポキシ化合物を(A-3)と称する。
<非エステル型エポキシ樹脂および比較のためのエポキシ樹脂の合成>
[実施例1〜5および比較例1、2]
窒素導入管、温度計、冷却管、攪拌装置を備えた5ツ口フラスコに合成例1〜3で得られたエポキシ化合物(A-1)〜(A-3)、ビスフェノールAを下記表−1に示す重量部仕込み、120℃まで昇温し、溶融させた後、トリフェニルホスフィンを0.05重量部導入した。その後、反応温度を150℃まで昇温させ、3時間反応を行い、非エステル型エポキシ樹脂および比較のためのエポキシ樹脂を合成した。
それぞれ下記表−1に示す分子量、エポキシ当量を有する固体のエポキシ樹脂が得られた。得られたエポキシ樹脂をそれぞれ(A-4)〜(A-10)と称する。
[応用例1〜5及び比較応用例1〜2]
上記実施例1〜5および比較例1、2で得られた各エポキシ樹脂50重量部、CEL2021P 50重量部を60℃で混合した後、消泡剤としてL-7604及び光酸発生剤であるUVACURE1591を所定量入れ、各紫外線硬化型樹脂組成物を調製した。各応用例および比較応用例における配合組成および評価結果を表−2に示す。
硬化フイルムの作成:上記応用例及び比較応用例で得た各樹脂組成物を、厚さ0.50mmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムに硬化後の厚さが30μmになるように塗布した後、紫外線照射を高圧水銀灯(120W/cm)を用い、塗装板との距離15cmから、エネルギー線量が50〜500mJ/cm2となるように行ない塗膜の硬化状況を確認した。
また、離型剤を塗った厚さ0.50mmのガラス基板上に各紫外線硬化型樹脂組成物を塗付した後、500mJ/cm2で硬化させ、さらに40℃で24時間加熱硬化させ、厚み30μの硬化フイルムを作成した。この硬化フィルムをプレッシャークッカーテスト(PCT)装置に入れ、硬化フィルムの吸水率及び硬化フィルムの酸価測定から加水分解速度の比較を行った。
(1)カチオン硬化速度
露光量を50〜500mJ/cm2の範囲で変更し、塗膜表面タックの無くなった露光量からカチオン硬化速度比較を行った。
(2)吸水率および酸価(加水分解速度比較)
(i)温度121℃、湿度95%の加圧容器(空気雰囲気)内に硬化フィルムを入れ、96時間後に硬化フィルムを取り出し重量変化から吸水率を測定した。
(ii)ガラス基板上からはがし取った硬化フィルムを細かく粉砕し、酸価の測定を行った。
(3)塩素分析
各エポキシ樹脂組成物中の塩素含有量を元素分析により測定した。

Claims (8)

  1. 非エステル型脂環式エポキシ化合物と2以上のヒドロキシル基を有するフェノール化合物とをモル比(エポキシ化合物中のエポキシ基/フェノール化合物中の水酸基)1.1〜10の条件で反応させて製造される非エステル型エポキシ樹脂であって、前記非エステル型脂環式エポキシ化合物が一般式(I)
    (式中でR 1 〜R 18 は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。これらは、水素原子、塩素以外のハロゲン原子、酸素原子もしくは塩素以外のハロゲン原子を含んでよい炭化水素基、又は置換基を有してよいアルコキシ基である。)
    で表される化合物である非エステル型エポキシ樹脂
  2. 非エステル型脂環式エポキシ化合物と2以上のヒドロキシル基を有するフェノール化合物とをモル比(エポキシ化合物中のエポキシ基/フェノール化合物中の水酸基)1.1〜10の条件で反応させて製造される非エステル型エポキシ樹脂であって、前記非エステル型脂環式エポキシ化合物が一般式(III)
    (式中でR1〜R12は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。これらは、水素原子、塩素以外のハロゲン原子、酸素原子もしくは塩素以外のハロゲン原子を含んでよい炭化水素基、又は置換基を有してよいアルコキシ基である。)
    で表される化合物である非エステル型エポキシ樹脂
  3. 2以上のヒドロキシル基を有するフェノール化合物が脂肪族鎖を介して結合したヒドロキシル基を有する、請求項1又は2記載の非エステル型エポキシ樹脂。
  4. 脂肪族結合したヒドロキシル基を有するフェノール成分がビフェノール及び/又はビスフェノールであり、非エステル型脂環式エポキシ化合物との1:2型付加物を含む、請求項記載の非エステル型エポキシ樹脂。
  5. 請求項1〜4のいずれか1項に記載の非エステル型エポキシ樹脂および光カチオン及び/又は熱カチオン重合開始剤からなることを特徴とする樹脂組成物。
  6. 電子構造部材の被覆、封止として使用する請求項に記載の樹脂組成物。
  7. 成形材料及びプリント基板材料として使用する請求項に記載の樹脂組成物。
  8. 接着剤として使用する請求項に記載の樹脂組成物。
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