JP4372606B2 - 塗布膜形成装置 - Google Patents
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Description
所定の塗布液を吐出する塗布液吐出口を備えた塗布液ノズルと、
前記塗布液ノズルを昇降させるノズル昇降機構と、
前記ノズル昇降機構の昇降制御を行う昇降制御装置と、
前記基板と前記塗布液ノズルとを相対的に移動させる移動機構と、
前記塗布液ノズルによって塗布液が塗布される方向の前記塗布液吐出口から所定距離前方における基板のうねりを測定する変位センサと、
前記変位センサによる測定値に所定時間の遅延操作を行い、その遅延信号を前記昇降制御装置に送るバッファー装置と、
前記バッファー装置における遅延時間を決定する遅延時間生成装置と、
を具備し、
前記塗布液ノズルから塗布液を吐出させながら前記基板と前記塗布液ノズルとを相対的に移動させることによって前記基板の表面に塗布膜を形成する際に、前記昇降制御装置は、前記塗布液ノズルの塗布液吐出口と前記基板との間の距離が一定となるように、前記塗布液ノズルを前記基板のうねりに適応させて昇降させ、
前記ノズル昇降機構は駆動部およびエンコーダ部を有し、
前記塗布液ノズルの高さを測定するリニアスケールと、前記ノズル昇降機構のエンコーダ部と前記リニアスケールとを切り替える切替器と、をさらに具備し、
前記昇降制御装置は、前記切替器によって選択された前記ノズル昇降機構のエンコーダ部または前記リニアスケールのいずれか一方の測定値を用いて、前記ノズル昇降機構の駆動部を駆動するための制御信号を発生させることを特徴とする塗布膜形成装置、が提供される。
また、本発明の第2の観点によれば、略水平姿勢に保持された基板に所定の塗布液を供給して塗布膜を形成する塗布膜形成装置であって、
所定の塗布液を吐出する塗布液吐出口を備えた長尺状の塗布液ノズルと、
実質的に前記塗布液ノズルの長手方向の一端を保持し、前記塗布液ノズルを昇降させる第1ノズル昇降機構と、
実質的に前記塗布液ノズルの長手方向の他端を保持し、前記塗布液ノズルを昇降させる第2ノズル昇降機構と、
前記第1ノズル昇降機構の昇降制御を行う第1昇降制御装置と、
前記第2ノズル昇降機構の昇降制御を行う第2昇降制御装置と、
前記基板と前記塗布液ノズルとを相対的に移動させる移動機構と、
前記塗布液ノズルによって塗布液が塗布される方向の前記塗布液吐出口から所定距離前方における基板のうねりを測定する変位センサと、
前記変位センサによる測定値に所定時間の遅延操作を行い、その遅延信号を前記第1、第2昇降制御装置に送るバッファー装置と、
前記バッファー装置における遅延時間を決定する遅延時間生成装置と、
を具備し、
前記塗布液ノズルから塗布液を吐出させながら前記基板と前記塗布液ノズルとを相対的に移動させることによって前記基板の表面に塗布膜を形成する際に、前記第1、第2昇降制御装置は、前記塗布液ノズルの塗布液吐出口と前記基板との間の距離が一定となるように、前記塗布液ノズルを前記基板のうねりに適応させて昇降させるとともに、前記塗布液ノズルの一端の高さと他端の高さとの差が予め定められた値以上となった際に、前記第1、第2ノズル昇降機構の動作を停止させることを特徴とする塗布膜形成装置、が提供される。
また、本発明の第3の観点によれば、略水平姿勢に保持された基板に所定の塗布液を供給して塗布膜を形成する塗布膜形成装置であって、
所定の塗布液を吐出する塗布液吐出口を備えた長尺状の塗布液ノズルと、
実質的に前記塗布液ノズルの長手方向の一端を保持し、前記塗布液ノズルを昇降させる第1ノズル昇降機構と、
実質的に前記塗布液ノズルの長手方向の他端を保持し、前記塗布液ノズルを昇降させる第2ノズル昇降機構と、
前記第1ノズル昇降機構の昇降制御を行う第1昇降制御装置と、
前記第2ノズル昇降機構の昇降制御を行う第2昇降制御装置と、
前記基板と前記塗布液ノズルとを相対的に移動させる移動機構と、
前記基板のうねりを、前記塗布液ノズルによって塗布液が塗布される方向の前記塗布液吐出口から所定距離前方、かつ、前記基板の端部において測定する第1変位センサおよび第2変位センサと、
前記第1変位センサによる測定値に所定時間の遅延操作を行い、その遅延信号を前記第1昇降制御装置に送る第1バッファー装置と、
前記第2変位センサによる測定値に所定時間の遅延操作を行い、その遅延信号を前記第2昇降制御装置に送る第2バッファー装置と、
前記第1バッファー装置および前記第2バッファー装置における遅延時間を決定する遅延時間生成装置と、
を具備し、
前記塗布液ノズルから塗布液を吐出させながら前記基板と前記塗布液ノズルとを相対的に移動させることによって前記基板の表面に塗布膜を形成する際に、前記第1昇降制御装置および前記第2昇降制御装置は、前記塗布液ノズルの塗布液吐出口と前記基板との間の距離が一定となるように、前記基板のうねりに適応させて前記塗布液ノズルの昇降および傾斜姿勢の制御を行い、
前記第1,第2ノズル昇降機構はそれぞれ駆動部およびエンコーダ部を有し、
前記塗布液ノズルの一端の高さを測定する第1リニアスケールと、前記塗布液ノズルの他端の高さを測定する第2リニアスケールと、前記第1ノズル昇降機構のエンコーダ部と前記第1リニアスケールとを切り替える第1切替器と、前記第2ノズル昇降機構のエンコーダ部と前記第2リニアスケールとを切り替える第2切替器をさらに具備し、
前記第1,第2昇降制御装置は、前記第1,第2切替器によって選択された前記第1,第2ノズル昇降機構のエンコーダ部または前記第1,第2リニアスケールのいずれか一方の測定値を用いて、前記第1,第2ノズル昇降機構の駆動部を駆動するための制御信号を発生させることを特徴とする塗布膜形成装置、が提供される。
また、本発明の第4の観点によれば、略水平姿勢に保持された基板に所定の塗布液を供給して塗布膜を形成する塗布膜形成装置であって、
所定の塗布液を吐出する塗布液吐出口を備えた長尺状の塗布液ノズルと、
実質的に前記塗布液ノズルの長手方向の一端を保持し、前記塗布液ノズルを昇降させる第1ノズル昇降機構と、
実質的に前記塗布液ノズルの長手方向の他端を保持し、前記塗布液ノズルを昇降させる第2ノズル昇降機構と、
前記第1ノズル昇降機構の昇降制御を行う第1昇降制御装置と、
前記第2ノズル昇降機構の昇降制御を行う第2昇降制御装置と、
前記基板と前記塗布液ノズルとを相対的に移動させる移動機構と、
前記基板のうねりを、前記塗布液ノズルによって塗布液が塗布される方向の前記塗布液吐出口から所定距離前方、かつ、前記基板の端部において測定する第1変位センサおよび第2変位センサと、
前記第1変位センサによる測定値に所定時間の遅延操作を行い、その遅延信号を前記第1昇降制御装置に送る第1バッファー装置と、
前記第2変位センサによる測定値に所定時間の遅延操作を行い、その遅延信号を前記第2昇降制御装置に送る第2バッファー装置と、
前記第1バッファー装置および前記第2バッファー装置における遅延時間を決定する遅延時間生成装置と、
を具備し、
前記塗布液ノズルから塗布液を吐出させながら前記基板と前記塗布液ノズルとを相対的に移動させることによって前記基板の表面に塗布膜を形成する際に、前記第1昇降制御装置および前記第2昇降制御装置は、前記塗布液ノズルの塗布液吐出口と前記基板との間の距離が一定となるように、前記基板のうねりに適応させて前記塗布液ノズルの昇降および傾斜姿勢の制御を行うとともに、前記塗布液ノズルの一端の高さと他端の高さとの差が予め定められた値以上となった際に、前記第1、第2ノズル昇降機構の動作を停止させることを特徴とする塗布膜形成装置、が提供される。
所定の塗布液を略帯状に吐出する塗布液吐出口を備えた長尺状の塗布液ノズルと、
実質的に前記塗布液ノズルの長手方向の一端を保持し、前記塗布液ノズルを昇降させる第1ノズル昇降機構と、
実質的に前記塗布液ノズルの長手方向の他端を保持し、前記塗布液ノズルを昇降させる第2ノズル昇降機構と、
前記第1ノズル昇降機構の昇降制御を行う第1昇降制御装置と、
前記第2ノズル昇降機構の昇降制御を行う第2昇降制御装置と、
前記基板と前記塗布液ノズルとを相対的に移動させるためのモータおよびリニアスケールを備えた移動機構と、
前記基板のうねりを、前記塗布液ノズルによって塗布液が塗布される方向の前記塗布液吐出口から所定距離前方、かつ、前記基板の端部において測定する第1変位センサおよび第2変位センサと、
前記第1変位センサによる測定値に所定時間の遅延操作を行い、その遅延信号を前記第1昇降制御装置に送る第1バッファー装置と、
前記第2変位センサによる測定値に所定時間の遅延操作を行い、その遅延信号を前記第2昇降制御装置に送る第2バッファー装置と、
前記第1バッファー装置および前記第2バッファー装置における遅延時間を決定する遅延時間生成装置と、
を具備し、
前記塗布液ノズルから塗布液を吐出させながら前記基板と前記塗布液ノズルとを相対的に移動させることによって前記基板の表面に塗布膜を形成する際に、前記第1昇降制御装置および前記第2昇降制御装置は、前記塗布液ノズルの塗布液吐出口と前記基板との間の距離が一定となるように、前記基板のうねりに適応させて前記塗布液ノズルの昇降および傾斜姿勢の制御を行うことを特徴とする塗布膜形成装置、が提供される。
最初に、レジストノズル52をノズル洗浄ユニット57のノズルバスに待機させておく。載置台51の上方に、例えば、Y方向からLCD基板Gを保持した搬送アームが進入してくると、昇降ピン61が上昇してLCD基板Gを支持する。そして、搬送アームを退出させた後に、昇降ピン61を降下させて、LCD基板Gを載置台51上に載置し、吸引孔からの吸気によりLCD基板Gを載置台51上に吸引固定する。
11;レジスト塗布装置(CT)
12;減圧乾燥装置(VD)
13;基板搬送装置
51;載置台
52;レジストノズル
53;レジスト液供給機構
54a;第1ノズル昇降機構
54b;第2ノズル昇降機構
55a;第1昇降制御装置
55b;第2昇降制御装置
56;ノズルスライド機構
57;ノズル洗浄ユニット
58a・58b;変位センサ
59;塗布処理制御装置
86a;第1バッファー装置
86b;第2バッファー装置
87;遅延時間生成装置
G;LCD基板
Claims (10)
- 略水平姿勢に保持された基板に所定の塗布液を供給して塗布膜を形成する塗布膜形成装置であって、
所定の塗布液を吐出する塗布液吐出口を備えた塗布液ノズルと、
前記塗布液ノズルを昇降させるノズル昇降機構と、
前記ノズル昇降機構の昇降制御を行う昇降制御装置と、
前記基板と前記塗布液ノズルとを相対的に移動させる移動機構と、
前記塗布液ノズルによって塗布液が塗布される方向の前記塗布液吐出口から所定距離前方における基板のうねりを測定する変位センサと、
前記変位センサによる測定値に所定時間の遅延操作を行い、その遅延信号を前記昇降制御装置に送るバッファー装置と、
前記バッファー装置における遅延時間を決定する遅延時間生成装置と、
を具備し、
前記塗布液ノズルから塗布液を吐出させながら前記基板と前記塗布液ノズルとを相対的に移動させることによって前記基板の表面に塗布膜を形成する際に、前記昇降制御装置は、前記塗布液ノズルの塗布液吐出口と前記基板との間の距離が一定となるように、前記塗布液ノズルを前記基板のうねりに適応させて昇降させ、
前記ノズル昇降機構は駆動部およびエンコーダ部を有し、
前記塗布液ノズルの高さを測定するリニアスケールと、前記ノズル昇降機構のエンコーダ部と前記リニアスケールとを切り替える切替器と、をさらに具備し、
前記昇降制御装置は、前記切替器によって選択された前記ノズル昇降機構のエンコーダ部または前記リニアスケールのいずれか一方の測定値を用いて、前記ノズル昇降機構の駆動部を駆動するための制御信号を発生させることを特徴とする塗布膜形成装置。 - 略水平姿勢に保持された基板に所定の塗布液を供給して塗布膜を形成する塗布膜形成装置であって、
所定の塗布液を吐出する塗布液吐出口を備えた長尺状の塗布液ノズルと、
実質的に前記塗布液ノズルの長手方向の一端を保持し、前記塗布液ノズルを昇降させる第1ノズル昇降機構と、
実質的に前記塗布液ノズルの長手方向の他端を保持し、前記塗布液ノズルを昇降させる第2ノズル昇降機構と、
前記第1ノズル昇降機構の昇降制御を行う第1昇降制御装置と、
前記第2ノズル昇降機構の昇降制御を行う第2昇降制御装置と、
前記基板と前記塗布液ノズルとを相対的に移動させる移動機構と、
前記塗布液ノズルによって塗布液が塗布される方向の前記塗布液吐出口から所定距離前方における基板のうねりを測定する変位センサと、
前記変位センサによる測定値に所定時間の遅延操作を行い、その遅延信号を前記第1、第2昇降制御装置に送るバッファー装置と、
前記バッファー装置における遅延時間を決定する遅延時間生成装置と、
を具備し、
前記塗布液ノズルから塗布液を吐出させながら前記基板と前記塗布液ノズルとを相対的に移動させることによって前記基板の表面に塗布膜を形成する際に、前記第1、第2昇降制御装置は、前記塗布液ノズルの塗布液吐出口と前記基板との間の距離が一定となるように、前記塗布液ノズルを前記基板のうねりに適応させて昇降させるとともに、前記塗布液ノズルの一端の高さと他端の高さとの差が予め定められた値以上となった際に、前記第1、第2ノズル昇降機構の動作を停止させることを特徴とする塗布膜形成装置。 - 前記ノズル昇降機構は駆動部およびエンコーダ部を有し、
前記塗布液ノズルの高さを測定するリニアスケールと、前記ノズル昇降機構のエンコーダ部と前記リニアスケールとを切り替える切替器と、をさらに具備し、
前記昇降制御装置は、前記切替器によって選択された前記ノズル昇降機構のエンコーダ部または前記リニアスケールのいずれか一方の測定値を用いて、前記ノズル昇降機構の駆動部を駆動するための制御信号を発生させることを特徴とする請求項2に記載の塗布膜形成装置。 - 前記遅延時間生成装置は、前記移動機構による前記基板と前記塗布液ノズルとの相対的な移動速度と、前記塗布液ノズルの塗布液吐出口と前記変位センサとの間の水平方向距離と、に基づいて、前記バッファー装置における遅延時間を決定することを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の塗布膜形成装置。
- 前記変位センサは前記塗布液ノズルに取り付けられていることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の塗布膜形成装置。
- 略水平姿勢に保持された基板に所定の塗布液を供給して塗布膜を形成する塗布膜形成装置であって、
所定の塗布液を吐出する塗布液吐出口を備えた長尺状の塗布液ノズルと、
実質的に前記塗布液ノズルの長手方向の一端を保持し、前記塗布液ノズルを昇降させる第1ノズル昇降機構と、
実質的に前記塗布液ノズルの長手方向の他端を保持し、前記塗布液ノズルを昇降させる第2ノズル昇降機構と、
前記第1ノズル昇降機構の昇降制御を行う第1昇降制御装置と、
前記第2ノズル昇降機構の昇降制御を行う第2昇降制御装置と、
前記基板と前記塗布液ノズルとを相対的に移動させる移動機構と、
前記基板のうねりを、前記塗布液ノズルによって塗布液が塗布される方向の前記塗布液吐出口から所定距離前方、かつ、前記基板の端部において測定する第1変位センサおよび第2変位センサと、
前記第1変位センサによる測定値に所定時間の遅延操作を行い、その遅延信号を前記第1昇降制御装置に送る第1バッファー装置と、
前記第2変位センサによる測定値に所定時間の遅延操作を行い、その遅延信号を前記第2昇降制御装置に送る第2バッファー装置と、
前記第1バッファー装置および前記第2バッファー装置における遅延時間を決定する遅延時間生成装置と、
を具備し、
前記塗布液ノズルから塗布液を吐出させながら前記基板と前記塗布液ノズルとを相対的に移動させることによって前記基板の表面に塗布膜を形成する際に、前記第1昇降制御装置および前記第2昇降制御装置は、前記塗布液ノズルの塗布液吐出口と前記基板との間の距離が一定となるように、前記基板のうねりに適応させて前記塗布液ノズルの昇降および傾斜姿勢の制御を行い、
前記第1,第2ノズル昇降機構はそれぞれ駆動部およびエンコーダ部を有し、
前記塗布液ノズルの一端の高さを測定する第1リニアスケールと、前記塗布液ノズルの他端の高さを測定する第2リニアスケールと、前記第1ノズル昇降機構のエンコーダ部と前記第1リニアスケールとを切り替える第1切替器と、前記第2ノズル昇降機構のエンコーダ部と前記第2リニアスケールとを切り替える第2切替器をさらに具備し、
前記第1,第2昇降制御装置は、前記第1,第2切替器によって選択された前記第1,第2ノズル昇降機構のエンコーダ部または前記第1,第2リニアスケールのいずれか一方の測定値を用いて、前記第1,第2ノズル昇降機構の駆動部を駆動するための制御信号を発生させることを特徴とする塗布膜形成装置。 - 略水平姿勢に保持された基板に所定の塗布液を供給して塗布膜を形成する塗布膜形成装置であって、
所定の塗布液を吐出する塗布液吐出口を備えた長尺状の塗布液ノズルと、
実質的に前記塗布液ノズルの長手方向の一端を保持し、前記塗布液ノズルを昇降させる第1ノズル昇降機構と、
実質的に前記塗布液ノズルの長手方向の他端を保持し、前記塗布液ノズルを昇降させる第2ノズル昇降機構と、
前記第1ノズル昇降機構の昇降制御を行う第1昇降制御装置と、
前記第2ノズル昇降機構の昇降制御を行う第2昇降制御装置と、
前記基板と前記塗布液ノズルとを相対的に移動させる移動機構と、
前記基板のうねりを、前記塗布液ノズルによって塗布液が塗布される方向の前記塗布液吐出口から所定距離前方、かつ、前記基板の端部において測定する第1変位センサおよび第2変位センサと、
前記第1変位センサによる測定値に所定時間の遅延操作を行い、その遅延信号を前記第1昇降制御装置に送る第1バッファー装置と、
前記第2変位センサによる測定値に所定時間の遅延操作を行い、その遅延信号を前記第2昇降制御装置に送る第2バッファー装置と、
前記第1バッファー装置および前記第2バッファー装置における遅延時間を決定する遅延時間生成装置と、
を具備し、
前記塗布液ノズルから塗布液を吐出させながら前記基板と前記塗布液ノズルとを相対的に移動させることによって前記基板の表面に塗布膜を形成する際に、前記第1昇降制御装置および前記第2昇降制御装置は、前記塗布液ノズルの塗布液吐出口と前記基板との間の距離が一定となるように、前記基板のうねりに適応させて前記塗布液ノズルの昇降および傾斜姿勢の制御を行うとともに、前記塗布液ノズルの一端の高さと他端の高さとの差が予め定められた値以上となった際に、前記第1、第2ノズル昇降機構の動作を停止させることを特徴とする塗布膜形成装置。 - 前記第1、第2ノズル昇降機構はそれぞれ駆動部およびエンコーダ部を有し、
前記塗布液ノズルの一端の高さを測定する第1リニアスケールと、前記塗布液ノズルの他端の高さを測定する第2リニアスケールと、前記第1ノズル昇降機構のエンコーダ部と前記第1リニアスケールとを切り替える第1切替器と、前記第2ノズル昇降機構のエンコーダ部と前記第2リニアスケールとを切り替える第2切替器をさらに具備し、
前記第1、第2昇降制御装置は、前記第1、第2切替器によって選択された前記第1、第2ノズル昇降機構のエンコーダ部または前記第1、第2リニアスケールのいずれか一方の測定値を用いて、前記第1、第2ノズル昇降機構の駆動部を駆動するための制御信号を発生させることを特徴とする請求項7に記載の塗布膜形成装置。 - 前記遅延時間生成装置は、前記移動機構による前記基板と前記塗布液ノズルとの相対的な移動速度と、前記第1、第2変位センサと前記塗布液ノズルの塗布液吐出口との間の水平方向距離と、に基づいて、前記第1、第2バッファー装置における遅延時間を決定することを特徴とする請求項6から請求項8のいずれか1項に記載の塗布膜形成装置。
- 前記第1,第2変位センサは前記塗布液ノズルの長手方向端部近傍にそれぞれ取り付けられていることを特徴とする請求項6から請求項9のいずれか1項に記載の塗布膜形成装置。
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