JP4362224B2 - 半導体処理装置用基板移動装置 - Google Patents
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Description
(関連出願)
本発明は、1997年11月21日に提出された米国出願番号第08/976,537号の一部継続出願である。
【0002】
(技術分野)
本発明は、半導体ウェハ処理作業で使用されるサーマルリアクタに関し、さらに特定すると、ウェハを装填する/取り出す(unload)ためのシステムに関する。
【0003】
(背景技術)
半導体基板、つまりウェハは、典型的には化学的な蒸着によって処理される。半導体処理作業に含まれている構成要素は、所望の温度まで加熱され、熱反応によってウェハ上に付着される物質を含有する反応体ガスの制御された流れを助長するように構成されている反応室を含む。技術において一般的に「サセプタ」と呼ばれているベースは、通常、化学蒸着の間にウェハを支えるために反応室の中に設けられる。自動処理を促進する目的で、サセプタの上にウェハを配置し、その後、処理の後にそれを反応体から取り除くためにロボットアームが利用されてきた。
【0004】
サセプタは、処理ステーションに対してその物理的なサポートを超えて何も貢献しなかった単純な平らなプラットホームから、処理中にウェハを回転するための機構およびサセプタ表面での局所的な温度差を感知し、それに応えるための精密システムを備えたサセプタへと、過去10年間に大幅に進化してきた。さらに、処理の後にサセプタからウェハをh変位するための手段が、ロボットアームによるウェハの除去を補助するために提供されてきた。サセプタ設計におけるこのような革新は、半導体の品質と均一性の改善に大きく貢献してきた。
【0005】
サセプタ表面からのウェハの変位および反応体からの除去のためのロボットアームへの移動を容易にするための手段は、自動半導体処理システムにおいて問題を含んだままである。技術で既知であるウェハ移動作業に対する1つのアプローチは、サセプタ内の穴を通って垂直に移動し、処理後にウェハのサセプタ表面からの変位を達成するウェハサポートピンを含む。
【0006】
ウェハサポートピンの使用には、複数の重要な欠点がある。サセプタの穴の中でのピンの磨砕は、ピンとサセプタによって示される熱膨張の異なる速度だけではなく、サセプタの回転によっても引き起こされる。磨砕の結果、処理環境を汚染し、処理された半導体ウェハの品質を傷つける粒子が生じる。穴の中での磨砕に加えて、相対的に鋭いピンの上で支えられている間にウェハの裏側に傷を付けることも加熱されたウェハの移動のために観測された。典型的なシステムは、サポートピンの間のウェハの中心セクションの下に延びるロボットアーム上の相対的に大きいパドルを活用する。ウェハより冷たいこのようなパドルは、加熱されているウェハに悪影響を及ぼす可能性もある。このようなウェハの損傷を防ぐために必要とされるウェハのより長い冷却期間は、反応体の処理量を削減する傾向がある。
【0007】
ウェハサポートピンの使用にまつわる追加問題点は、必ず、ピンとサセプタの中の穴の間に存在する空間を通る処理ガスの浸透である。その結果、処理ガスは、ウェハの裏側に付着することがある。さらに、サセプタの中に穴があることによって、サセプタ内とその上で支えられているウェハの両方で温度の不均一性である。
【0008】
ピンに基づいたウェハ移動作業を改善するために講じられる1つの方法が、Perlovに対する米国特許番号第5,421,893号である。その発明においては、ウェハ変位機構は、サセプタから吊り下げられているウェハサポートピンを利用する。垂直機構と回転駆動機構の両方と結合されていた初期ピンとは対照的に、自由に吊り下げられているピンの使用は、回転中にサセプタの穴の中でのピン磨砕を削減することを目的とする。さらに、Perlovサポートピンは、サセプタの上部表面に円錐形に広げられている補完的な窪みに嵌る錐台/円錐ヘッドを有し、平らなサポート表面および処理ガスのウェハ裏側への浸透を減少するための密封手段を提供する。
【0009】
減少した回転摩砕および裏面付着に関連した改善点とは関係なく、Perlovは、依然として、従来の技術の観点から温度の不均一性を生じさせるらしい複数の穴のあるサセプタを利用する。加えて、依然として、サポートピンがサセプタ穴の中で垂直に摺動するときに汚染粒子が磨砕によって生じるらしい。最終的には、サポートピン上での高圧ウェハの収縮により、依然として裏面のスクラッチが生じることがある。したがって、Perlovは、処理されたウェハをサセプタから分離する手段としてのサポートピンの使用に固有の最も重要な問題点のいくつかを解決することができない。
【0010】
ウェハ移動の別の方法は、Goodwinらに対する米国特許番号第5,080,549号に開示されている。その発明は、ウェハのコンタクトレス(contactless)ピックアップを達成するためにベルヌーイの原理を活用するウェハハンドリングシステムに関する。具体的には、ロボットアームは、ピックアップワンドの底部板に複数のガス出口を含むように適応されている。ガス出口は、ウェハの上面全体でガスの外向きの流れを生じさせるようなパターンでワンドの中心部分から外向きに四方に広がる。ガスの流れによい、ウェハの上面とピックアップワンドの底面の間に相対的に低い圧力の領域が生じ、物理的な接触がないウェハのピックアップが行われる。ベルヌーイワンドは、ピンをベースにしたウェハ移動機構の主要な欠点のすべてに取り組み、いくつかのそれ以外の優位点を有するが、それは別の問題も提示する。適切なガスの流れを提供する目的では、ロボットアームとピックアップワンドアセンブリは厚すぎて、標準ウェハ供給カセット内の未処理のウェハの間におさまることができない。また、「汚れた」リアクタ内で不適切に運用されると、ワンドからのガスの流れが、ウェハ表面上に定着する粒子をかき乱す可能性がある。また、既知のシステムの問題を回避するが、高い製品スループットを得るために、ウェハに温度の悪影響を及ぼさずに、加熱されたウェハを下からピックアップできるようにするサセプタおよび端部エフェクタシステムを提供することも望ましい。
【0011】
したがって、ウェハサポートピンを使用しないでサセプタから取り外すだけではなく、標準カセットからのウェハ装填も容易にし、それによりリアクタ内での粒子の汚染、温度の不均一性、および加熱ピックアップ中の裏面の損傷を削減する機構に対するニーズが存在する。
【0012】
(発明の開示)
本発明によって開示されているウェハ移動を容易にするためのシステムは、別々のセクションによって形成されているサセプタ装置を含む。セクションは、垂直にかつ回転自在に結合され、ウェハ処理位置またはサセプタ腐食位置で単一の装置として移動する。マルチアームスパイダなどの回転自在のサポートが、回転し、代わりに他方のセクションを回転させ、支持するセクションの一方を回転させ、支持する。また、サセプタセクションは、ウェハ装填/取り出し位置でウェハハンドリングツールと協調するために互いを基準にして垂直に移動可能である。システムは、さらに、サセプタセクション用の第2サポートを含み、該2つのサポートは、互いを基準にして垂直に、かつ回転自在に移動可能である。
【0013】
サセプタ装置の1つの形では、内部セクションと外部セクションが、単一のサセプタ装置を形成するために連動する、複数の放射状に向けられているタブおよび凹部を含む。さらに、内部セクションと外部セクションは、外部セクション内の内部セクションに垂直サポートを提供し、それによりウェハを受け取るための実質的に平らな上部表面を生じさせるために、偏位させる(offsetting)周辺部フランジ付きで作られる。サポート装置の1つの形においては、連動構造はこの上部表面の下にあり、上部表面での2つのセクションの接触面は円形である。
【0014】
本発明の1つの形では、サセプタ装置の下に位置しているマルチアームスパイダは、内部サセプタセクションまたは外部サセプタセクションのどちらかの凹部に係合するための位置に回転して入ることができる。内部セクションが係合されると、サポートスパイダは外部セクションから垂直に内部セクションを持ち上げる。外部セクションが係合されると、スパイダは、サセプタ装置全体を回転するだけではなく、サセプタ装置全体を引き上げる、または引き下げることができる。
【0015】
ウェハの装填と取り出しを容易にするために、ウェハは、ロボットアームによってサセプタ上をじかに、水平に反応チャンバ内の位置に移動される。ウェハでの温度の不均一性を最小限に抑えると同時に、ウェハの高温ピックアップを可能にする端部エフェクタが活用される。これは、ウェハの下部側面に係合し、標準カセット内におさまるだろう端部エフェクタを活用することによって達成される。1つの実施態様においては、ウェハは、叉状の端部エフェクタによって、ウェハの放射状に外側の部分と係合するだけの3本のピンを有するロボットアーム上で支えられ、このようにしてウェハの温度を最小限にだけ、それから周辺点だけで達成する。
【0016】
内部サセプタセクションだけと係合するスパイダは、内部セクションを上昇させ、端部エフェクタ内で支えられている(cradled)ウェハに遭遇し、それを端部エフェクタの外に持ち出す。代わりに、内部セクションは一定の距離引き上げられ、端部エフェクタはサセプタセクション上にウェハを配置するために引き下げられるだろう。それから、ロボットアームが引っ込められ、内部サセプタが、ウェハとともに、外部サセプタサポートによって支えられている外部サセプタの中に引き下げられる。サポートスパイダは、完全なサセプタ装置上にウェハを載せたまま下方に移動し続ける。代わりに、外部サポートは、サセプタをスパイダから分離するために引き上げられるだろう。内部セクションから切り離した後、スパイダは、外部サセプタを係合する第2位置へ回転する。スパイダなどのサポートの適切な相対的な垂直移動は、サセプタ装置およびウェハを処理位置に移動することができる。
【0017】
ウェハを処理した後、サセプタ装置は、外部サセプタサポート上に引き下げられてよく、内部サセプタセクションと再び係合するためにスパイダが回転できるようにし、処理されたウェアはとともに内部セクションが引き上げられる。処理されたウェハの除去を達成するために、ロボットアームはもう一度水平に反応室の中に移動する。端部エフェクタが内部サセプタセクションと外部サセプタセクションの間の位置にあるとき、内部セクションと端部エフェクタの間の相対的な移動が、例えば、内部セクションを、ウェハを受け取ってから、室から退出する開放端部エフェクタを通して引き下げることによって提供される。
【0018】
ウェハが除去された後、スパイダは、内部セクションを外部セクションの中に引き下げるためにもう一度操作され、さらに下方へ移動され、外部セクションの下の位置に回転されてよい。それから、装置全体は、腐食処理のためのプロセス位置の上に引き上げることができる。これにより、上面だけではなく、サセプタの裏面のエッチングも可能になる。
【0019】
別個の垂直に移動可能の内部サセプタセクションを、従来のウェハ移動システムでサセプタ装置からウェハを変位するために使用される複数のサポートピンの代わりに使用することによって、本発明は、前記方法で識別された主要な問題のそれぞれに対処する。まず第1に、2つのセクションが物理的に接触している間に移動される垂直距離がサセプタセクションの厚さに等しいだけであるため、内部サセプタセクションを外部セクション内で移動すると、最小の磨砕が生じる。対照的に、サポートピンは、ロボットアームに接近するために必要な垂直上昇全体でサセプタ本体と接触しながら移動している。さらに、両方のサセプタセクションとも同じ材料から構築されているので、内部サセプタセクションと外部サセプタセクションの熱膨張率の差異のために本発明では大きな磨砕はない。第2に、裏面付着物および温度不均一性は、内部セクションに対する垂直サポートに加えて、反応体ガスの浸透に対する効果的な密封およびさらに均一な伝熱を提供する、重なり合うフランジによって最小限に抑えられる。最後に、ウェハは、移動および処理を通して内部サセプタ表面上に載っているため、加熱ピックアップ中に傷つく可能性はほとんどない。したがって、本発明は、サポートピンにより媒介される移動機構に固有な欠点を回避しつつ、半導体基板の自動装填および取り出しを容易にする。
【0020】
前述された叉状の端部エフェクタは、平坦な部分から上方へ延びる3本のピンまたは突出物のある薄い平らなU字形をした部材という形を取る。ピンだけがウェハに係合するので、U字型部材の残りの部分はウェハの温度均一性に大幅に影響を及ぼさない。別の形では、それはさらに好ましくは半円形であるが、端部エフェクタは依然としていくぶんU字形をしている。端部エフェクタは、石英の管材料またはその他の適切な材料から形成され、好ましくは、ロボットアームに繋がれる管状のハンドルまたは心棒を有する。3本の小さいピンまたはサポート要素は、管状サポートの上部表面に固定されている。1つの要素は、サポートの各端に設置され、第3の要素は、曲線部分と心棒の間のジャンクションでサポートの真中に置かれている。好ましくは、要素は、ウェハをそれらの要素の上に置くのを助ける段付きの上部表面を有する。
【0021】
別の方法では、端部エフェクタは、ウェハサポート要素をその先端部に有する、2つの間隔をあけて置かれている、通常は平行な管の形を取る。第3ウェハサポート要素は、その端部が他のサポート管に接合されている横材の上で支えられている。端部エフェクタ管の前方部分は、ウェハの下に延びる。管先端上のサポート要素は、端部エフェクタを支えているロボットアームから離れた端縁でウェハを係合する。第3サポート要素は、他の2つからウェハの反対側の横材上で利用される。管は、それらが中心に設置されているウェハサポートをまたぐことができるように間隔をあけて配置されている。さらに、管は、Perlov特許に関して前述されたように、組が3本のサポートピンを活用するウェハ移動機構の間で広がることができるように互いに十分に近く配置される。管はウェハの下に延びるが、それらはウェハに対する温度の影響を最小限に抑えるようにウェハから間隔をあけて配置されている。さらに、管材料が低い質量を有し、好ましくは石英から作られているという事実が、ウェハ温度に対する管材料の影響を最小限に抑える。
【0022】
別の方法では、ウェハの下に延びる平らな、通常は矩形のパドルが利用され、パドルはピンサポートシステムとの使用向けである。パドルには、前述された実施態様で使用された要素より背の高い3つのサポート要素が具備されている。その装置を使用すると、パドルのウェハに対する温度影響は、それが背の高い方の要素によってウェハから間隔をあけて配置されるため、最小限に抑えられる。
【0023】
2つのそれ以外の装置では、ウェハの近くに置かれているが、質量がウェハ表面の大部分に広がるため、ウェハに対する温度影響が相対的に均一であるディスクを含む端部エフェクタが提供される。さらに、このような装置は、ウェハの均一な冷却を生じさせるという優位点も持つ。
【0024】
1つのこのような形では、端部エフェクタは、直径が持ち上げられるウェハの直径よりわずかに大きいディスク形状の上部を有する。3つのウェハサポート要素は、ディスクの下部表面から垂れ下がる。これらの要素の2つはディスクの側面上に設置され、第3要素は、端部エフェクタへの結合のための円形要素とサポート心棒の間のジャンクションにある2つの側面要素の中心に設置されている。側面要素は、端部エフェクタがウェハの状面を水平に移動することができるほど十分に間隔をあけて配置され、側面サポート要素はウェハまたいでいる。各サポート要素は、ウェハの下面に係合する内向きに延びる足または横桟を有する。したがって、ウェハは、それらの場所にあるウェハの温度に最小限の影響を及ぼすように、その周縁部での3つの場所だけで支えられているが、ウェハ全体はディスクによって均一に影響を及ぼされている。この端部エフェクタは、本出願に説明されているツーピースサセプタとともに、あるいは前述された3ピン装置のようなサセプタの上にウェハを持ち上げるためのそれ以外の装置を活用するワンピースサセプタとともに使用されてよい。
【0025】
ウェハをサセプタの上に引き上げるための3ピン持ち上げ装置とともに使用するために特に設計されている別の形のディスクタイプの端部エフェクタでは、円形ディスクに、ディスクの前方端縁に対して開いている、2つの間隔をあけて配置されている細長い長穴が具備される。これが、3本のピンによって支えられているウェハの下でパドルが移動できるように、長穴が間隔をあけて配置されている3叉のパドルを生じさせる。ピンの内の2本は、長穴の内の1つで受け入れられるが、第3ピンはそれ以外の長穴で受け入れられ、端部エフェクタパドルの中心部は、ウェハ持ち上げ装置ピンの間で延びる。2つまたは3つ以上のウェハサポート要素が、ウェハを支えるためにパドルの周辺部に配置される。したがって、ウェハより冷たいパドルが、ウェハの相対的に均一な冷却を生じさせる。
【0026】
別の装置では、3叉パドルを、パドルの上に間隔をあけて配置されているディスクと結合することができる。これが、ピックアップ中に、有利に均一にウェハを冷却するポケットを形成する。
【0027】
端部エフェクタの変形のすべてが、ウェハに対する多大な温度の悪影響を引き起こさずに、例えば、700°から1000°の相対的に高温でウェハをピックアップできるという優位点を提供する。
【0028】
図1を参照すると、サセプタ装置150内で垂直移動を生じさせるためのサセプタリフトアセンブリ100を有する本発明の全体的なシステムが示されている。サセプタ装置は、内部152セクションと外部154セクションを備える。サセプタリフトアセンブリ100の中で生じる垂直移動は、取り付けプレートおよび図示されていないその他の構成部品に取り付けられている結合アセンブリ104を介して駆動軸130と連絡する取り付けプレート102に伝えられる。垂直に移動可能な駆動軸は、サセプタ装置の回転移動も可能にする。駆動軸130の上端に結合されているサポートスパイダ120は、それぞれ内部セクションまたは外部セクション152と154のどちらかを選択的に係合することができる。したがって、サポートスパイダ120は、直接的に、サセプタ装置の回転移動のためだけではなく、垂直サポートも提供する。ロボットアーム端部エフェクタ200は、反応室50にウェハを装填し、そこからウェハを取り出すために利用される。ウェハ210は、端部エフェクタ上に載せられて示されている。サセプタ装置150およびサポートスパイダ120は、さらに詳細にいかに説明される。
【0029】
全体的なシステムは、図1にも示されている半導体リアクタの分野で既知である多くの要素を取り入れる。これらは、石英室のそれぞれ上部壁および下部壁10と20、上部放射熱ランプ30、およびロボットアームアクセスポート40を示す。一群の間隔をあけて配置されているランプ30が、石英室の下に配置され、一群のこのようなランプは、室の下のランプに垂直に延びる石英室の上に配置される。処理中、ランプはサセプタ装置の温度を、実質的には装置上に装着されている基板の温度と同じに維持するために制御される。反応体ガスは、ガス注入器システム90を介して反応室の中に入れられる。既知であるように、(図1に示されているような)水平反応室と軸に沿った反応室の両方が、多様な形状構成で利用されてよい。図示されている水平形状構成は、このような室の典型的な概略図としてだけ意図されている。
【0030】
図2は、反応室50をさらに詳細に示している。この断面図から、サセプタ装置150が2つのセクション、つまり内部セクション152と、内部セクションのための垂直サポートを取り囲み、提供する環状の外部セクション154を備えていることが分かる。この垂直サポートは、偏位する補足フランジから成り立っている。外部セクションは、支えとなるフランジ156を提供するためにその下部内部縁に沿って内向きに放射状に突出するが、内部セクションは、外部セクションフランジ156の上に張り出す補足内部セクションフランジ158を提供するためにその上部周方向縁に沿って放射状に外向きに突出する。サセプタ装置が図2に示されているように、その最も低い位置にあるとき、外部サセプタセクションは複数のサポート160に載っている。
【0031】
駆動軸130は、室の低部の開口部132を通って反応室に入り、室の壁は駆動軸を取り囲むスリーブ134と連続している。駆動軸の上端は、反応チャンバ内のサセプタ装置の下に位置するサポートスパイダ120と関着する。スパイダは複数のサポート要素、つまり、中心ハブ124から外向きに四方に広がるアーム122を有する。アーム122の末端は、それぞれ内部サセプタセクションまたは外部サセプタセクションの下部表面の埋め込まれているシート126と127内に嵌るサポートピンまたは合いくぎで終わる。スパイダアーム122と埋め込みシート126の間の関着は、サセプタの回転移動を達成し、熱膨張の間のスパイダとサセプタの同心性を維持するための確動(positive)結合手段を提供する。
【0032】
サセプタを取り囲んでいるのは、室の底部壁20上に載っている脚部141を有するサポートリング140から上方へ延びる合いくぎ161上に支えられている温度補正リング159である。リング140は、図4でさらに明確に見られ、サセプタサポート160がリングに取り付けられているのが分かる。熱電対165が、その領域でのリングおよびサセプタの温度を感知するためにリング159の中に示されている。
【0033】
図2は、ウェハ210を運ぶ端部エフェクタ200にコネクタ190によって接合されているロボットアーム188も概略で示している。ロボットアームは、(左に設置されている)アクセスポート40から反応室に入る。図3に示されている反応室の平面図は、ウェハ210、ロボットアーム端部エフェクタ200、内部152サセプタセクションと外部154サセプタセクション、およびサポートスパイダ120の別の態様を示す。分かるように、端部エフェクタ200は、ウェハを、1組の間隔をあけて配置されているサポートアーム202の上で支えている叉状の端部を有し、ウェハの周縁部の下に伸び、アームの間、つまり内部サセプタセクション152を収容するほど十分に大きい開放領域を離れる。その結果、内部サセプタセクションは、端部エフェクタの開放アーム202の間で垂直に移動することができ、それによって未処理ウェハをピックアップし、処理されたウェハを取り出す。サポートアームの自由端部は開放端部を画定するが、反対側の端部は閉じられている端部分201によって接合されている。見られるように、アームは相対的に狭く、閉じられている端部201が延びるように、ウェハ210の周縁部に隣接して延びる。アーム202の背部および閉じられている端部201は、通常半円形の内縁を有するが、アームの自由端部は散開する。
【0034】
端部エフェクタは、それが、カセットからウェハを引っ込めるまたは交換するために標準カセット内に便利に嵌合することができ、ウェハがサセプタから移動されなければならないときにウェハの下方に嵌合することもできるように相対的に薄い。
【0035】
端部エフェクタは、好ましくは、ウェハを係合するために端部エフェクタの上部表面の上に延びる3本のピンまたは突出部で形成されている。突出部203は、図3と図4に示されているように、サポートアームのそれぞれの外部端部または自由端部上に配置されている。第3の突出部205は、端部エフェクタの閉じられている端部の上で中心に配置されている。突出部のすべての3つは、それらがウェハの外部周縁部近くにウェハの下部表面を係合するように設置されている。3つの突出部だけが、加熱されたウェハを、それが処理室から除去されなければならないときに係合することが望ましい。また、突出部が、端部エフェクタおよび突出部のウェハに対する影響が最小限に抑えられるように、その外部周縁部近くでウェハを係合することも望ましい。好ましくは、ピンはウェハの外部周縁部の2インチ以内、さらに好ましくは1インチ以内、および最も好ましくはウェハ周縁部の1/2インチ以内にあり、ウェハから作られる最終製品またはデバイスと関係して活用されてはならない、ウェハの周縁部のいわゆる排除ゾーン内にあるか、それの近くにある。
【0036】
図3Aは、穴が端部エフェクタを通して形成され、埋め込まれた領域が穴の上端にある端部エフェクタ内に形成されていることが分かる突出部203と205の好まれている形式を示す。突出部は、端部エフェクタ内の穴の主要部分内に融合されている軸部分203aを有し、凹部の中に嵌入するヘッド203bを有するピンの形を取る。製品の試作品形式では、ヘッドが約1/2インチという円形半径で丸められている上部表面で形成されている。しかしながら、ヘッドだけが、1インチの約.010から.020の端部エフェクタの隣接する表面の上に突出する。端部エフェクタ自体は、1インチの約.1という厚さを有する。ピンの丸められた上部表面は、それがウェハを係合している間、ウェハの表面のスクラッチまたはそれ以外の場合は損傷のリスクを最小限に抑える。さらに、上部表面は、再びウェハにスクラッチを付けるリスクを最小限に抑えるために、非常に滑らかに作られている。端部エフェクタは、好ましくは、石英または処理チャンバ内で遭遇される高温に耐えることのできるそれ以外の適切な材料から作られる。石英ピンは、円滑さのために火炎研磨することができる。
【0037】
今度は、図10と図10Aを参照すると、別の形の叉状の端部エフェクタまたはパドル300、および端部エフェクタをロボットアーム188に接合するコネクタ190の追加詳細が示されている。分かるように、パドルは、通常、1組の間隔をおいて配置されているサポートアーム302が開放端部を画定し、閉じられている端部分304によって接合されている、叉状つまりU字形を有している。アームのそれぞれには、パドルの上面の上に延びるピン303があり、第3ピン305は、パドルの閉じられている端部にある。叉状のアームの先端は、カセット内のウェハの下方へパドルを挿入するのを容易にするために薄い方の端縁に対して斜めに切られている。パドル300の内部端縁は半円形の形状をしており、前方端部は載せられているウェハ260から分かるようにわずかに散開し、パドルだけがウェハの外側部分の下方に伸び、ピンはウェハの外側周縁部に隣接したウェハに係合する。
【0038】
各アームの背部には、上方に延びるフランジ307が配置され、その目的はカセットの取り扱い中にカセット長穴から部分的に移動した可能性のあるウェハに押しつけることである。
【0039】
図10は、パドル30の後方に延びる部分に取り付けられているコネクタ190を示す。図10Aは、そのコネクタの側面立面部分断面図を示す。それは、パドルの後方に延びる部分を受け入れるための空間190aを含む。1組の相対的に平らなばね要素191は、パドルの後方に延びる部分を弾力的に係合するために、空間190aに隣接する上部壁と下部壁に隣接して置かれる。図10の破線で示されているロボットアーム188の端部にある取り付け金具が、コネクタ190の上方に延びる部分207の背部に固定される。取り付け金具190およびコネクタ196は金属製でよく、それらを冷たく保つために、冷却剤が、取り付け金具193を通してロボットアーム188の1本の枝を通って伝えられてから、ロボットアームの第2枝で戻される。ある程度の冷却効果も、コネクタおよび取り付け金具が当接関係にあるために、パドル上に取り付けられているコネクタ190に伝えられる。これも、ウェハの加熱ピックアップを容易にする。
【0040】
内部サセプタセクションと外部サセプタセクションの関係も図3に示されている。内部セクション152は、環状の外部セクション154に囲まれて示されている。内部セクションと外部セクションの両方とも、複数の周方向に間隔をあけて配置されている補足的な偏位するセグメントまたはタブおよび凹部164を有し、その結果内部セクションのタブは外部セクションの凹部の中に、またその逆もぴったり当て嵌る。結果的に、2つのサセプタセクションはともに嵌合し、実質的に平らなサセプタ装置を形成する。さらに、2つのサセプタセクションが同じ平面にともに、垂直に置かれているとき、連動するように結合されたタブおよび凹部が回転トルクの確動移動を可能にし、サセプタセクションが単一装置として回転できるようにする。外部サセプタサポート160は、サポートリング140から内向きに延びる。サポート160と161は、それらはサセプタおよびリング159によて上部から隠されているが、見やすくするために実線で図示されている。
【0041】
サポートスパイダ120は内部セクション152の下にあるが、それは理解を容易にするために1つの位置で実線で、その第2位置で破線で示されている。スパイダは、中心ハブ124および複数のサポート要素、つまりアーウ122を備える。図から理解できるように、(このケースでは60度)スパイダを回転することによって、アームは内部サセプタタブ162または外部サセプタタブ164のどちらかを選択的に係合するだろう。
【0042】
図4Aに示されている展開図は、ウェハ移動機構の主要な構成部品の垂直関係性を示す上で有効である。ウェハ210は、端部エフェクタのアーム202によってウェハの縁に沿ってロボットアーム端部エフェクタ200によって支えられる。内部サセプタセクション152タブ162は、その外側縁から外向きに四方に延びると見られてよい。各タブ162の間には凹部166がある。内部セクションの下部表面は、サポートスパイダ120の軸130とハブ142を通って延びる熱電対129の先端を入れるように適応されている中心に置かれている凹部125である。各タブの下部表面は、各スパイダアーム122の末端上のサポート合いくぎ128を受け入れるための埋め込まれているシート126を有する。
【0043】
環状の外部サセプタセクション154タブ164は、その内側縁から中心の穴169の中に内向きに四方に延びると見られてよい。各タブ164の間には凹部168がある。内部サセプタ上のタブおよび凹部は、外部サセプタ上のタブに補完的であり、その結果、内部セクションタブ162は、外部セクション凹部168内で嵌合し、外部セクションタブ164は、内部セクション凹部166内で嵌合し、2つのサセプタセクションがともに嵌合できるようにする。内部セクションは、偏位フランジ156と158によって、外部セクション内で垂直に支えられる。内部セクションの上にかぶさるフランジ158は、外部セクション上の下側で延びる(under−extending)フランジ156の上に載る。フランジがサセプタを通る光の経路がないように放射状に、かつ周方向に延びることに注意する。また、フランジの結合された厚さは、サセプタセクションの厚さに等しいため、サセプタ全体に、ウェハが置かれる領域内で一定の厚さを与える。
【0044】
前記からわかるように、内部セクションと外部セクションの接触面は、内部セクションの周縁部の形状を取る。すなわち、周方向に、および放射状に延びる。接触面の長さを短縮するための装置は図4Cに示されており、そこでは内部セクション252が、外部セクション254内の対応する円形凹部255内で嵌合する円形の上部を有するとして示されている。内部セクション252の直径は、図4Aのセクション152の直径と同じであるが、セクション152の凹部166は、代替内部セクション252の上部には形成されていない。しかしながら、凹部266は、内部セクション252の下部に形成されている。したがって、凹部266の上にあるセクション252の上部は、実際には、セクション上で対応するフランジの上に適合するフランジである。すなわち、図4Cから分かるように、中心開口部269を取り囲む外部セクション254の上部は完全に円形であるが、外部セクション254の下部は外部セクション154の下部部分内と同じである。したがって、セクション254は、内部セクション252の対応する凹部266内で嵌合する、3つの内向きに延びるタブまたはセグメント264を含む。同様に、内部のセグメント226は、外部セクションの凹部268内で嵌合する。前記に注記したように、この装置の優位点とは、ウェハが図4Aの装置の線の内側線と外側線でさらに長く放射状によりむしろ2つのサセプタセクションの間で円形の線に向かい、間隙をより小さくすることができるというという点である。
【0045】
サポートスパイダ120は、駆動軸130の端部に配置されより明確に示されてよい。熱電対129はハブ124の中心を通って延びる。複数のサポート要素、つまりアーム122は、ハブから放射状に外向きに伸び、各アームはサポート合いくぎ128で終わる。サポート合いくぎは、それぞれ内部サセプタセクションと外部サセプタセクションの埋め込まれているシート126と127で嵌合うように適応されている。
【0046】
(作用)
システムの作用は、図5から図8を参照するとさらに明確に理解することができる。第1に、未処理のウェハを反応室に装填するために、ロボットアーム190が、アクセスポート40を介してチャンバ内に入り、端部エフェクタ200が未処理ウェハまたは基板210を支えている。端部エフェクタおよびウェハは、サセプタ装置150のすぐ上に置かれる。それから、内部サセプタセクション152が、サポートスパイダ120によって引き上げられる。内部サセプタセクションは、端部エフェクタの開放アームの間を垂直に通り、図5に見られるように、ウェハ210を端部エフェクタから持ち上げる。内部サセプタセクション152のこの最も高い位置が、「装填/取り出し−腐食」位置と呼ばれてよい。この位置で、ロボットアームが反応チェンバーから引っ込められる。それから、内部セクション152およびウェハは、内部セクションが外部セクション154の中に載るようになるまで引き下げられる。内部セクションと外部セクション上の偏位フランジは、それぞれ、外部セクション内で内部セクションを支えるために協調する。2つのサセプタセクションがいっしょになるときに形成されるサセプタ装置は、サポートリング140に取り付けられている外部サセプタサポート160によって支えられる。図6で分かるように、サセプタ装置は、ウェハ処理位置のわずかに下にある。
【0047】
次に、ウェハを処理するために、サポートスパイダは回転し、それがサセプタ装置150全体をウェハとともに高められた処理位置まで引き上げることができるように、外部サセプタセクションを係合しなければならない。特に、スパイダ120がいったんその最も低い「切り離し/回転」位置まで下がってしまうと、スパイダアームの端部のサポート合いくぎ128は、内部サセプタセクションの下部表面の埋め込まれているシートから完全に離脱する。それから、スパイダ120は第2位置へ自由に回転し、そこではサポート合いくぎ128は現在外部サセプタセクションの下部表面内の埋め込まれているシートのすぐ下に位置している。スパイダが引き上げられるにつれて、それは図6に示されているように外部セクションを係合し、サセプタ装置150を上昇させる。ウェハが化学蒸着に最適な「処理」位置にあるとき、その結果ウェハの上部表面は、図7に示されているように温度補正リング159の上部表面とほぼ同じ面内にあるため、サポートスパイダは上方への移動を停止する。処理中、サポートスパイダは、サセプタ装置およびウェハを回転させ、このようにしてさらに均一な付着を容易にする。
【0048】
処理されたウェハを反応室から取り出すために、スパイダ120が引き下げられる。サセプタ装置およびウェハは、外部サセプタセクション154が外部サセプタサポート160の上に載るようになるまで下方に移動する。もう一度、スパイダ120は「切り離し/か移転」位置まで下がり続け、サセプタ装置から離脱する。それから、スパイダは、その第1位置に回転して戻り、そこではスパイダアーム上のサポート合いくぎが再び内部サセプタセクション152上の埋め込まれたシートのすぐ下で位置合わせされる。それから、スパイダは上昇し、ウェハとともに内部サセプタを、外部サセプタサポートの上に載ったままになっている外部サセプタセクションから持ち上げる。内部セクションおよびウェハは、ロボットアーム端部エフェクタが、高められた内部サセプタセクションと低い方のサセプタセクションの間で反応室に入ることができるほど十分に高い最も高い装填/取り出しまで引き上げられる。端部エフェクタのアームはスパイダをまたいでいる。その結果、スパイダが下がると、内部サセプタセクションは、端部エフェクタの叉状のアームの間で下方に移動する。内部セクションが下方へ続くと、実質的には内部セクションの上にかぶさるウェハが端部エフェクタの叉状のアームに乗るようになる。それから、ロボットアームが、処理されたウェハとともに引っ込められる。
【0049】
最後に、サセプタ装置の化学エッチングによる清掃は、図8に示されている最も高い装填/取り出し−腐食垂直止め子で処理サイクルの間で達成できる。塩化水素などの技術で既知の気体がエッチングに使用されてよい。引き上げられた位置が、サセプタ装置の上部表面と下部表面の両方の清掃を容易にする。
【0050】
サセプタを引き上げ、引き下げるためには、多様な機構が利用されてよい。図1および図9に示されている持ち上げ装置アセンブリ100は、ピン107の上に枢止されているレバーを含む。レバーの一端に取り付けられているアクチュエータ106は、代わりに、取り付けプレート102に結合されている部材109を上下に移動するレバー108を枢動するために使用できる。レバーの垂直移動を調節するための3つの調整可能な止め子がある。これらは、サポートスパイダの3つの垂直位置(下部108a、切り離し/回転、中間108b、処理、および上部108c、装填/取り出し−腐食)に対応する。下部位置は、下部位置止め子110を調整することによって調整することができる。(2つの位置で示されている)中間、処理位置止め子112は、空気アクチュエータ113の動作によって係合する、または切り離すことができる。止め子が112aによって示されている実線の位置にまで引っ込められると、レバーはこの中間位置で停止しないが、上部止め子と下部止め子の間で自由に移動する。対照的に、止め子112が112bによって示されている仮想位置に移動すると、レバーが中間位置108bでテイしされる。上部、装填/取り出し−腐食位置108cは、止め子114の調整によって調節可能である。駆動軸を垂直に移動するためのエレベータ機構100に加えて、軸130を回転するための適切な駆動装置も提供される。
【0051】
本発明は、図解のために詳細に説明されてきたが、以下のクレームによって定められる発明の精神および範囲から逸脱することなく、当業者によって変形を加えることができる。例えば、サセプタの一部がウェハを装填するまたは取り出すために引き上げられると、ウェハを端部エフェクタとサセプタの間で移動するための垂直移動が、サセプタセクションよりむしろ、端部エフェクタを垂直に移動することによって提供できる。すなわち、サセプタセクションがウェハを受け入れるために高められているとき、端部エフェクタは、ウェハをサセプタセクションに移動するために引き下げられるだろう。同様に、ウェハがサセプタから取り出されなければならず、端部エフェクタがウェハの下に挿入されるとき、端部エフェクタは、ウェハをサセプタセクションから持ち上げるために引き上げられるだろう。
【0052】
同様に、システムが処理位置にある状態では、スパイダがサセプタ装置を基準にして回転できるようにする相対的な垂直移動は、スパイダよりむしろ外部サポート160を垂直に移動することによって提供できるだろう。すなわち、いったんサセプタが図6の切り離し/回転位置に匹敵する引き離し/回転位置まで引き下げられるが、スパイダが依然として内部セクションを係合している場合、サポート160は、サセプタ装置をスパイダから分離し、スパイダが、それが内部セクションを係合するために移動できる位置まで回転できるようにするために、わずかに持ち上げられるだろう。代わりに、別個のアクチュエータが、サポート160を通してよりむしろ直接的に外部セクションを係合できるだろう。
【0053】
図4Bに概略して示されているまだ別の実施態様においては、スパイダ120は、つねに外部セクションと接触したままとなり、スパイダ120と同心で、回転可能である別個のアクチュエータスパイダ220は、内部セクションを引き上げたり、引き下げて、ウェハを装填し、取り出すために、スパイダ120を基準にして垂直に移動することができる。その装置を使用する場合、サポート160は必要なく、スパイダを60°割り出し、切り離し/回転位置を有する必要は排除できるだろう。
【0054】
また、多様な装置が、内部サセプタセクションと外部サセプタセクションの間の分離可能な接続部を形成するために活用されてよいことにも注意すべきである。すなわち、図4Aと図4Cに示されている浅裂の形状構成またはセグメント化された形状構成以外の形状構成が活用され、本発明の範囲に該当してよい。
【0055】
ツーピースサセプタおよび叉状端部エフェクタの主要な優位点の1つとは、ウェハを、約700℃から1000℃の範囲の高温で取り出すことができるという点である。これがウェハの下面に接触する端部エフェクタによる処理室でのスループットの増加を可能にする。これまで、このような加熱ピックアップ性能は、ウェハが、減圧を生じさせる気体の流れおよびウェハと実質的に接触しない持ち上げ効果によって上から持ち上げられ前述されたベルヌーイのワンドシステムだけで得られた。
【0056】
パドルが、ウェハを支えているピンの間のウェハの中心部分の下方に延びる従来のシステムは、典型的には500℃から800度の温度範囲でウェハを持ち上げるだけであった。この確実な理由とは、ウェハが高温でピンによって持ち上げられる場合、ウェハの中心部分が一時的に捻れる、あるいはそれが冷却するにつれていくぶん移動するということである。したがって、サポートピンがこの領域にある場合、ウェハがピンに関して移動する傾向があり、それがウェハ表面のスクラッチまたは損傷を引き起こすことがある。さらに、端部エフェクタがピンからウェハを移動するためにウェハの中心部分の下方に置かれると、特にパドルがウェハより冷たいために、再び、ウェハが、ウェハが冷却するにつれてパドルに関して移動する傾向がある可能性がある。その結果、パドルはウェハ表面を傷物にする可能性がある。結果的に、ウェハを移動するためのこのようなシステムは、典型的には前述されたさらに低温で伝えられる。
【0057】
これは、サセプタ内部セクションがウェハから引き下げられている間に、ウェハがサセプタの相対的に大きな内部セクションによって引き上げられてから、サセプタの外側周縁部を係合するパドルに移動される本発明に対照的である。サセプタの中心セクションはウェハと同じ温度であり、サセプタの内部セクションがウェハの領域に関して相対的に大きいので、ウェハが引き上げられている間にウェハが内部セクションに関して移動する傾向はない。内部セクションが引っ込められ、ウェハがその後に、その外側周縁部に隣接するウェハを係合するパドル上の3本のピンによって支えられてからは、ウェハを、それが収縮し、冷却するにつれて傷物にする可能性のあるウェハの中心部分に接触するものは何もない。さらに、ウェハと端部エフェクタのピンの間に相対的な移動がある場合には、ウェハ表面の損傷はウェハ上の実行ゾーン内またはそれに近くだろう。その結果、システムは、約900℃で過熱されたウェハを移動し、このようにしてシステムの生産性を引き上げるするのに効果的である。
【0058】
サセプタの内部セクションと外部セクションは、サセプタの上部表面で相対的に緊密に嵌合する。それにも関わらず、2つのセクションの間の合わせ線では、サセプタと基板の間に接触がないわずかな線空間がある。結晶の滑りやその線に沿った付着物厚さの変動を生じさせるだろうその領域内での温度の不連続性がないことを確実にするために、サセプタの温度とウェハの温度は、付着プロセスの間に同じに保たれる。これは、図1に示されているような室の壁の上下の前記の放射熱源によって提供される熱を適切に制御することにより達成される。適切な加熱システムの追加詳細は、参照してここに組み込まれている米国特許第4,836,186号に述べられる。
【0059】
図11から図15を参照すると、ウェハに対する不均一な温度の悪影響を最小限に抑える一方で、ウェハの高温ピックアップを可能にする共通特徴を共用する端部エフェクタの5つの追加の変形が示されている。図11と図11bは、前方部分に中心で結合され、なんらかの適切な様式でロボットアームに結合されるように適応されている取り付け金具406にも結合されている心棒404によって片持ち梁のように支えられている、実質的には半円形またはU字形をした前方部分402を有する端部エフェクタを示している。心棒404だけではなく前方部分も、好ましくは、石英または高温に耐えることができ、端部エフェクタにより支えられているウェハ260を汚染しないそれ以外の適切な材料から作られる薄い管材料から形成されている。分かるように、サポート要素403は、弧の形をした部分402の先端の上部表面に置かれ、第3要素403は、心棒404との交差点にある部分402の上部表面に置かれている。各サポート要素403は、ウェハを係合し、支えるために下方に延びるように設置され、寸法に作られているその放射状の内側側面上の切り欠きまたは段403aを有する。さらに、要素403の上部は、暗部エフェクタ上でのウェハの位置決めを誘導する。図10に示されている装置での場合のように、端部エフェクタ402だけが3つの周辺部分でウェハに接触し、ウェハからのその間隔だけではなく前方部分402の形状もウェハに対する温度の影響を最小限に抑える。好ましくは、ウェハが載っている表面は、図11cに示されているように放射状に内向きの方向で下方にわずかに傾斜している。傾斜は、図解の目的のために図11cでは誇張されている。端部エフェクタ402は、前述されたツーピースサセプタとともに、および参照してここに組み込まれている前記に識別されたPerlov特許で記述されているような3品ウェハ持ち上げシステムとともに使用することができる。
【0060】
図12aと図12bは、好ましくは薄い石英管材料を活用する別の端部エフェクタ形状構成を示す。見られるように、1組の管502が、実質的に平行な関係で伸び、背部端部はロボットアームに結合されるように適応される構成部品506に接合されている。アーム502も、アーム502にサポートを提供する横材504によって接合され、それらのアームの前方部分502aが片持ち梁的に延びることができるようにする。サポートピン503は、各アーム部分502aの自由な端部に置かれている。類似したサポートピン503は、横材504の中心に置かれている。要素503は、図11の要素403に類似し、それぞれが、図12bに見られるように、ウェハ260の下部側面を係合するための表面を形成する段503aを有する。分かるように、望ましい3点サポート装置が提供され、2つのピンがウェハの前方端縁に設置され、3番目が横材の中心に置かれる。
【0061】
前方部分502aの間隔は、それらのアームが中心サポートにまたがり、前述されたスパイダサポートによって提供されるような、3つの間隔をあけて配置されているサポートの間で嵌合できるほどである。さらに、2叉パドルも、前記に参照されたPerlov特許で説明された種類の持ち上げ装置ピンの間で嵌合するだろう。このようなピンは、図12aの510で概略で示され、パドルとの関係性を図解する。叉502aはウェハの下方に延びるが、それらはウェハから間隔をあけて配置されているため、およびそれらは実質的には大部分の放射物に対し透明である薄い石英の管材料から形成されているため、ウエアはに対する大きな熱の影響を及ぼさない。
【0062】
図13aと図13bは、サセプタの上にウェハを持ち上げるための3ピン型システムとともに使用するために構築されるパドル片の端部エフェクタを開示する。パドルは、その背端部が、ロボットアームに結合されるように適応されている取り付け金具606によって支えられている、通常は矩形のプレート602を含む。2つのウェハサポート要素603は、プレート602の前方角に配置され、3番目はウェハの背部端縁と協調するためにプレート上で中心に配置される。図13aと図13Bから分かるように、3本のピンは、ウェハ260に3点サポートを提供するように設置されている。ピン603は、プレート602の上にウェハを間隔をあけて配置するために図11と図12の装置で使用されているピンより背が高い。好ましくは、ピンは、ウェハをパドルより少なくとも約2ミリメートル、さらに好ましくは少なくとも約5ミリメートル上に置く。このようにして、ウェハはその周縁部の3点だけで係合され、パドルの大部分は、パドルがたとえ中心部分だけに設置されているとしてもパドルがウェハに対して最小限の不均一な熱影響を及ぼすようにウェハの下方に間隔をあけて配置されている。パドルは、持ち上げ装置ピン610の間で嵌合するような大きさで作られている。
【0063】
図4と図15は、温度均一性を維持するためにウェハに対する熱影響の最小値を有する端部エフェクタを利用する代わりに、図14と図15の装置がさらに大きい熱影響を提供するという点で、図11から図13の端部エフェクタの代替方法を活用するおy。しかしながら、熱影響は、反対に作用する温度不均一性が最小限に抑えられるように相対的に均一である。
【0064】
図14aと図14bの装置は、その上に支えられるウェハ260の直径よりわずかに大きい直径となる大型の、通常は円形のパドルを示す。円形部分は、ロボットアームに接合される取り付け金具706に結合されている、通常は矩形の心棒704によって片持ち梁のように支えられる。パドルは、長穴708の間の中心セクション702aを有する3叉パドルを生じさせる1組の間隔をあけて配置されている細長い長穴708、および1組の側部叉702bを含む。長穴708は、前述されたPerlov特許に開示されている型のウェハ持ち上げシステムの3本の概略で示されている持ち上げ装置ピン710が、適切に向けられているピンで長穴の中に嵌合するように設置される。すなわち、示されているように持ち上げ装置ピン710の2本は長穴の内の1つで嵌り、ピン710の1本は他の長穴で嵌るだろう。1組の曲線状のウェハサポートピンまたは要素703は、2つの側部叉702bの外側周縁部に設置されている。サポート要素703は、要素703bの上部がウェハを側面方向で位置決めする間に、ウェハ260が載っているわずかに傾斜している段703aを含む。代わりに3本のピンが図11の装置に示されている方法に類似した方法で設置されてよい。すなわち、ピンは図11に示されているように小さく、3点を提供するために間隔をあけて配置されるだろう。パドルは石英、炭化珪素、または高温に耐えることができるその他の適切な材料から作られてよい。長穴708もあるパドルはウェハ260の面積の約80%を超えて広がっているため、パドルはウェハに対し相対的に均一な熱影響を及ぼす。
【0065】
図15a、図15b、および図15cは、持ち上げられるウェハ260よりわずかに大きい直径の前方円形ディスク802を備える端部エフェクタ802を示す。ディスクは、通常は矩形形状をした、ディスクの背面に接合されている心棒804によって片持ち梁のように支えられている。図15bと図15cで分かるように、1組のサポート要素803が、パドル802の側面方向の側部の下部表面から垂れ下がっている。第3サポート要素803は、ディスク802の背面端縁の中央に設置されている。各要素803は、図15bに見られるように、ウェハ260の周辺部分に対するサポートを形成する垂直部分803aおよび放射状に内向きに延びる横桟または足部803bを含む。ウェハは図15aと図15cには図示されていない。
【0066】
図15の端部エフェクタは、本出願に開示されている型の、あるいは前述された3持ち上げ装置ピン型のサセプタウェハ持ち上げシステムで有効である。ディスク802は、ウェハに熱影響を及ぼすことを意図しているが、それはウェハの上部表面全体に広がるので、熱影響は実質的には均一である。ウェハを係合する内向きに延びる足部803bは、最小熱影響を3点専用サポートに提供する。
【0067】
図11から図15の端部エフェクタの一定の態様を修正できることが理解される必要がある。例えば、図15の装置のサポート要素は、図11から図13で使用されている要素と一貫して周方向でさらに小さくすることができる。さらに、所望の特徴と影響に応じて、多様な材料を利用することができる。
【0068】
使用中、ウェハ260は、図15bに示されているように運ばれるだろう。ウェハを移動するためには、パドルはウェハ持ち上げ装置上で移動され、わずかな相対的な垂直移動がウェハを持ち上げ装置まで移動するだろう。それから、パドルが引っ込められる。持ち上げ装置からパドルへ移動するには、逆の手順が利用される。
【0069】
また、人は、図14と図15の概念を組み合わせ、ポケット内でウェハを受け入れる端部エフェクタを構築できるだろう。これは、図16に概略して示され、下部長穴付きパドル702および上部ディスク802が段付きのウェハサポート要素903によって接合されている。この構造は、ピックアップ中に量側面から実質的に均一にウェハを冷却し、歪みは最小だろう。
【図面の簡単な説明】
【図1】 図1は、全体的な組立てられたシステムを示す断面図である。
【図2】 図2は、サセプタ装置、サポートスパイダ、および端部エフェクタにより支えられているウェハを備える内部セクションと外部セクションを示す、図1の線2で記述されている反応室の拡大断面図である。
【図3】 図3は、反応チャンバ内のウェハ移動サポート機構を示す図2の3−3−からの平面図である。
【図3A】 図3Aは、好まれているウェハサポートの詳細を示す図3の線3A−3Aでの断面図である。
【図4A】 図4Aは、サポートスパイダ、固定サポートリング、サセプタセクション、ロボットアーム端部エフェクタおよびウェハの配置を示す展開透視図である。
【図4B】 図4Bは、代替垂直持ち上げ装置の透視図である。
【図4C】 図4Cは、2つのサセプタセクションの間の接触面の代わりの形状構成の展開透視図である。
【図5】 図5は、ウェハ移動機構を示す反応室の断面図であり、内部サセプタ部は、ロボットアーム端部エフェクタからウェハを持ち上げると示されている。
【図6】 図6は、ウェハ移動機構を示す反応室の断面図であり、そこでは内部セクションが外部セクションまで引き下げられ、ウェハがその上で支えられている完全なサセプタ装置を形成する。
【図7】 図7は、ウェハ移動機構の反応室の断面図であり、そこではサセプタ装置が、ウェハ処理のための位置まで引き上げられている。
【図8】 図8は、清掃のために上部位置の中に引き上げられたサセプタ装置を示す断面図である。
【図9】 図9は、レバーと垂直止め子を示すリフトアセンブリの側面からの断面図である。
【図10】 図10は、端部エフェクタの代わりの形式の平面図である。
【図10A】 図10Aは、図10の端部エフェクタコネクタの拡大側面立面部分断面図である。
【図11】 図11は、6つの代替端部エフェクタの平面図および側面立面図である。
【図12】 図12は、6つの代替端部エフェクタの平面図および側面立面図である。
【図13】 図13は、6つの代替端部エフェクタの平面図および側面立面図である。
【図14】 図14は、6つの代替端部エフェクタの平面図および側面立面図である。
【図15】 図15は、6つの代替端部エフェクタの平面図および側面立面図である。
【図16】 図16は、6つの代替端部エフェクタの平面図および側面立面図である。
Claims (14)
- 基板を支えるためのサセプタ装置を一緒に形成する第1セクション及び第2セクションを有するサセプタであって、前記第1セクションは、環状形状を有し、周方向に間隔をあけて配置されている複数の第1セグメントと前記環状形状の内側縁から内向きに四方に広がる第1フランジとを含み、前記第2セクションは、周方向に間隔をあけて配置されている複数の第2セグメントと外向きに四方に広がる第2フランジとを有する内部セクションを構成し、前記複数の第2セグメントは前記複数の第1セグメントの間に挟まり、前記第1及び第2フランジは互いに四方に広がり重なり合うサセプタと、
互いを基準にして前記第1及び第2セクションを垂直に分離するのに適した第1サセプタサポートであって、前記第1セクションは、前記第1サセプタサポートが、前記第2セクションの厚みに等しい距離まで、前記第1セクションを基準として上方へ前記第2セクションを垂直に移動した後は、前記第2セクションに接触しない第1サセプタサポートとを備え、
前記第1サセプタサポートは、前記第1セクションの周方向に間隔をあけて配置されている前記複数の第1セグメントを支える第1位置と、前記第1及び第2セクションに対して回転され前記第2セクションの周方向に間隔をあけて配置されている前記複数の第2セグメントを支える第2位置とを有し、
前記第2セクションは、基板の移動及び処理の間、基板を支えるように形成されている装置。 - 前記第1セクションと前記第2セクションとは、互いに一体となって垂直軸を中心に回転可能に結合されている請求項1に記載の装置。
- 前記第1セクションは、前記第2セクションを取り囲み、
前記複数の第1セグメントは、前記第1セクションと前記第2セクションとが一体となって垂直軸を中心に回転可能に、前記複数の第2セグメントと相互に係合する請求項1に記載の装置。 - 前記第1フランジは、前記第2セクションが前記第1セクションに載っている時に前記第2フランジを支えるように形成されている請求項3に記載の装置。
- 前記第1セクションが、前記第2セクションを垂直に支えるように構成され、
前記第1及び第2セクションは、前記第1サセプタサポートが前記第1セクションと係合し、前記第1サセプタサポート及び前記第1及び第2セクションが前記第1サセプタサポートの回転により前記サセプタ装置を回転させるように回転自在に結合される基板処理位置を有する請求項1に記載の装置。 - 前記第1セクション及び前記第2セクションは、前記第1サセプタサポートが前記第2セクションを係合する装填/取り出し位置を有し、
前記第2セクションは、前記装填/取り出し位置において、前記基板を前記第2セクションへおよび前記第2セクションから移動するために前記基板を運ぶツールと協働可能となるよう前記第1セクションの上に間隔をあけて配置されている請求項5に記載の装置。 - 前記第1サセプタサポートが前記第2セクションを支えている時に前記第1セクションを支えるための第2サセプタサポートを含む請求項1に記載の装置。
- 前記第1及び第2サセプタサポートが互いに垂直に移動可能である請求項7に記載の装置。
- 前記サセプタ装置は、前記第1サセプタサポートが前記第2セクションを交代で支える前記第1セクションと係合する処理位置を有し、
前記第1サセプタサポートが、前記処理位置から、前記処理位置の上に間隔をあけて配置されているエッチング位置へ前記サセプタ装置を移動するために垂直に移動可能である請求項1に記載の装置。 - 前記第1サセプタサポートが前記第1位置における前記第1セクション上の前記複数の第1セグメントを係合し、前記第2位置における前記第2セクション上の前記複数の第2セグメントを係合するマルチアームスパイダの形態をとる請求項1に記載の装置。
- 基板を支えるために叉状の端部を有するツールを含み、
前記第2セクションは、前記叉状端部と第2セクションの間の相対的に垂直移動中に前記叉状端部分の間に嵌合するような寸法に作られている請求項10に記載の装置。 - 前記第1セクションが、同心状に配置された円形凹部を有し、
前記第2セクションが前記凹部内で嵌合する円形の外側上部を有する請求項10に記載の装置。 - 前記第1フランジが、前記凹部の下方に配置され、
前記第2フランジが前記第1フランジの上に広がり、その結果、前記第1セクションが前記第2セクションを支える請求項12に記載の装置。 - 前記第1サセプタサポートは前記第2位置で前記第1セクションを支えない請求項1に記載の装置。
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