JPH06302672A - 受け渡し装置 - Google Patents

受け渡し装置

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Publication number
JPH06302672A
JPH06302672A JP5113890A JP11389093A JPH06302672A JP H06302672 A JPH06302672 A JP H06302672A JP 5113890 A JP5113890 A JP 5113890A JP 11389093 A JP11389093 A JP 11389093A JP H06302672 A JPH06302672 A JP H06302672A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bellows
shaft
wafer
holder
bearing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5113890A
Other languages
English (en)
Inventor
Tatsuya Shimazawa
達也 島沢
Masayuki Shimizu
政之 清水
Toshio Kiga
敏雄 木賀
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Renesas Eastern Japan Semiconductor Inc
Original Assignee
Hitachi Tokyo Electronics Co Ltd
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Tokyo Electronics Co Ltd, Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Tokyo Electronics Co Ltd
Priority to JP5113890A priority Critical patent/JPH06302672A/ja
Publication of JPH06302672A publication Critical patent/JPH06302672A/ja
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ベローズの伸縮作動を確保しつつ、軸受と軸
とのクリアランスからの異物の侵入を防止する。 【構成】 ウエハホルダ41にウエハ受け板46付きの
軸45が軸受44で摺動自在に支承され、軸45の外側
にベローズ48がホルダ41の下面と軸45の中間部と
の間に伸縮自在に装着されている受け渡し装置におい
て、途中にトラップ54、55、56が介設されたベン
ト路51がホルダ41に、ホルダ41の外周とベローズ
48の中空部内とを連通させるように開設されている。 【効果】 ベローズ48の中空部内での気体の出入りは
ベント路51で確保されるため、軸受44と軸45との
クリアランスは小さくできる。よって、ベローズ48の
中空部内への異物侵入が防止でき、ベローズ48の損傷
を防止できる。また、ベローズ48の伸縮作動はベント
路51での気体の出入りで確保できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、受け渡し装置、特に、
ベローズを有する受け渡し装置の改良に関し、例えば、
半導体装置の製造工程において、種々の半導体製造装置
に使用される真空予備室装置に利用して有効なものに関
する。
【0002】一般に、半導体装置の製造工程において
は、イオン注入装置やドライエッチング装置等の種々の
半導体製造装置において、真空予備室装置が広く使用さ
れている。半導体装置の製造工程において、真空予備室
装置が広く使用される理由は、次の通りである。イオン
注入装置やドライエッチング装置等の半導体製造装置に
おいては、真空状態の処理室でイオン注入処理やドライ
エッチング処理が半導体ウエハ(以下、ウエハとい
う。)に対して施される。この処理室の真空状態を維持
しつつ、ウエハを処理室に搬入搬出するために、処理室
に真空予備室装置を通じて処理室にウエハが搬入搬出さ
れる。
【0003】このような真空予備室装置においては、次
のように構成されているウエハ受け渡し装置が使用され
ることになる。すなわち、ウエハ受け渡し装置は、大気
圧の室外からウエハを受け取り、受け取ったウエハを真
空状態に置いた後、真空状態が維持されている処理室に
ウエハを受け渡すように構成されている。
【0004】従来のこの種のウエハ受け渡し装置とし
て、ウエハが載置されるホルダにウエハ受け板を有する
軸が挿通されて軸受によって摺動自在に支承されてお
り、この軸の外側にベローズが、ホルダの載置側と反対
の主面と軸の中間部との間に軸受と軸とのクリアランス
の下方の周囲を気密を維持した状態で取り囲むように伸
縮自在に装着されている受け渡し装置、がある。そし
て、このようなウエハ受け渡し装置においては、ベロー
ズの伸縮を確保するために、軸受と軸との間のクリアラ
ンスが比較的に大きく設定されている。
【0005】なお、このような真空予備室装置を備えて
いるイオン注入装置を述べてある例としては、特開平1
−206552号公報がある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前述したウエ
ハ受け渡し装置においては、軸受と軸との間のクリアラ
ンスが比較的に大きく設定されているため、このクリア
ランスから異物がベローズの中空部内に侵入し、侵入し
た異物によってベローズが損傷されるという問題点があ
ることが、本発明者によって明らかにされた。
【0007】本発明の目的は、ベローズの円滑な伸縮作
動を確保しつつ、軸受と軸との間のクリアランスを小さ
く設定し、異物のベローズ中空部内への侵入を防止する
ことができる受け渡し装置を提供することにある。
【0008】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
【0009】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を説明すれば、次の通り
である。
【0010】すなわち、ワークが載置されるホルダにワ
ーク受け板を有する軸が挿通されて軸受によって摺動自
在に支承されており、この軸の外側にベローズが、ホル
ダの載置側と反対の主面と軸の中間部との間に軸受と軸
とのクリアランスの下方の周囲を気密を維持した状態で
取り囲むように伸縮自在に装着されている受け渡し装置
において、前記ホルダにベント路が、このホルダの外周
と前記ベローズの中空部内とを連通させるように開設さ
れていることを特徴とする。
【0011】
【作用】前記した手段によれば、ベローズの中空部内に
対する流体の出入りはホルダに開設されたベント路によ
って確保された状態になっているため、ベローズは軸の
ホルダに対する進退作動に追従して円滑に伸縮作動する
ことができる。
【0012】他方、ベローズの伸縮作動がベント路によ
って確保されているため、軸受と軸とのクリアランスは
小さく設定することができる。軸受と軸とのクリアラン
スが小さく設定されると、当該クリアランスから異物が
侵入するのは抑制されるため、ベローズの中空部内に異
物が侵入するのを防止することができる。その結果、ベ
ローズの中空部内に侵入した異物によってベローズが損
傷される事故の発生は未然に回避されることになる。
【0013】
【実施例】図1は本発明の一実施例であるウエハ受け渡
し装置を示す一部省略一部切断斜視図である。図2はそ
のウエハ受け渡し装置が使用されている真空予備室装置
を示す一部省略正面断面図である。図3以降はその作用
を示す各一部省略正面断面図である。
【0014】本実施例において、本発明に係る受け渡し
装置は、ワークとしてのウエハを外部から注入室へ搬入
する真空予備室装置に使用されている。この真空予備室
装置はイオン注入装置(図示せず)における注入室2に
隣接して並設されており、注入室2と外部との間でワー
クとしてのウエハ1が受け渡し装置によって搬入搬出さ
れるに際して、注入室2の真空状態を維持し得るように
構成されている。
【0015】真空予備室装置10は注入室2に連通する
チャンバ11を備えている。チャンバ11の上面壁にお
ける注入室2に近傍位置には、ウエハ出し入れ口として
の第1開口12が開設されており、この第1開口12は
最大外径を有するウエハ1の直径よりも大径の円形に形
成されている。
【0016】チャンバ11の上面壁における第1開口1
2の開口縁辺部にはバルブシート13が実質的に形成さ
れており、第1開口12には上側ロックバルブ14がバ
ルブシート13に離着座して、第1開口12を開閉させ
るように同心的に配設されている。上側ロックバルブ1
4は図示しない駆動装置によって昇降されるように構成
されている。第1開口12の近傍位置には給排路15の
一端が接続されており、給排路15の他端は真空ポンプ
および窒素ガス供給装置(いずれも図示せず)に適宜接
続されるようになっている。
【0017】チャンバ11の上面壁には案内筒16が第
1開口12に隣接するように配されて円筒形状に形成さ
れており、この案内筒16はその内径が最大外径のウエ
ハ1の外径よりも大径に形成されている。案内筒16の
筒壁の一部には第2開口17が開設されており、この第
2開口17は案内筒16の中空部内と注入室2との間を
連絡するように形成されている。また、この第2開口1
7は後記する第1軸31が下側位置に下降された際に、
後記するウエハホルダ41が筒壁に対向する位置に開設
されている。
【0018】そして、案内筒16には内外にわたって下
側バルブ装置20が設備されている。すなわち、下側バ
ルブ装置20はエアシリンダ装置21を備えており、こ
のエアシリンダ装置21は案内筒16の真下位置におい
てピストンロッド22が同軸に、かつ、垂直方向上向き
に配されて据え付けられている。エアシリンダ装置21
の上面と案内筒16の下面との間にはガイドレール23
が複数本、垂直方向に配されて固定されており、これら
ガイドレール23には上側支持板24および下側支持板
25が、ガイドブッシュ26を介して垂直方向に摺動自
在に支持されている。上側支持板24と下側支持板25
とは上下方向に適当間隔だけ離間されており、その間に
介設された連結棒27によって連結されて一体的に昇降
するようになっている。
【0019】上側支持板24には第1軸31がピストン
ロッド22の延長線上に配されて、その下端部が固定板
30によって固定されており、第1軸31はその上端が
案内筒16の下面壁を貫通されて案内筒16の内部に挿
通されている。第1軸31は長い円筒形状にされてお
り、その中空部内には後記する第2軸45が進退自在に
挿通されている。そして、第1軸31はエアシリンダ装
置21のピストンロッド22に、固定板30、上側支持
板24および下側支持板25を介して連結された状態に
なっているため、エアシリンダ装置21によって上下動
されるように構成されている。
【0020】第1軸31の外側には第1ベローズ32が
同心円的に配設されており、この第1ベローズ32の上
下端部は案内筒16の下面壁および上側支持板24に、
上側シート33および下側シート34を介して固定され
ている。詳細な説明は省略するが、この第1ベローズ3
2はステンレスからなるリング形状の薄板が多数枚、互
いに重合されてその内周縁辺と外周縁辺とを溶接されて
円筒形の蛇腹形状に形成されており、軸心方向(上下方
向)に伸縮し得るように構成されている。したがって、
この第1ベローズ32は第1軸31の上下動に追従して
上下方向に伸縮するようになっている。
【0021】案内筒16の中空部内には下側ロックバル
ブ35が同心的に配されて上下方向に摺動自在に嵌装さ
れており、下側ロックバルブ35は上下端面がいずれも
閉塞された円筒形状にされている本体36を備えてい
る。本体36の外周にはバルブ部37が上端部付近に配
されて、径方向外向きに円形リング形状に突設されてお
り、このバルブ部37は案内筒16の内周における上端
部に径方向内向きに円形リング形状に突設されたバルブ
シート38に離着座するようになっている。
【0022】そして、上側ロックバルブ14と下側ロッ
クバルブ35との間における第1開口12内にはロック
室39が実質的に形成されるようになっている。このロ
ック室39の気密を維持するために、バルブシート13
と上側ロックバルブ14との間、および、バルブ部37
とバルブシート38との間にはシールリング14aおよ
び37aがそれぞれ適宜介設されている。
【0023】下側ロックバルブ35の内部にはウエハ受
け渡し装置40が組み込まれている。ウエハ受け渡し装
置40はウエハホルダ41を備えており、ウエハホルダ
41は最大外径を有するウエハ1よりも大径の円盤形状
に形成されている。また、ウエハホルダ41は上側プレ
ート42と下側プレート43とが同軸に配されて重合さ
れた状態で、固定されて一体化された状態になってい
る。本実施例において、ウエハ1と接触する上側プレー
ト42はウエハ1を重金属汚染させない材料であるアル
ミニウムが用いられて形成されており、下側プレート4
3はステンレス鋼が用いられて形成されている。
【0024】ウエハホルダ41の中心には軸受44が固
定されており、この軸受44には第2軸45の上端部が
垂直方向に挿通されて摺動自在に支持されている。本実
施例において、軸受44は耐摩耗性および耐熱性を有す
るエンジニアリング・プラスチックが使用されて形成さ
れており、その軸受面における第2軸45とのクリアラ
ンスは、異物の侵入を阻止するために、きわめて小さく
なるように設定されている。
【0025】第2軸45は細長い丸棒形状に形成されて
おり、第1軸31の中空部内に同心的に配されて上下方
向に挿通されている。第2軸45の上端部は軸受44に
摺動自在に挿通されてウエハホルダ41の上面に貫通さ
れており、その上端にはウエハ受け板46が直交するよ
うに配されて固定されている。このウエハ受け板46は
最小直径を有するウエハ1よりも小径の円板形状に形成
されている。そして、ウエハホルダ41の上側プレート
42における上面には収容凹部42aが円形穴形状に没
設されており、この収容凹部42aによってウエハ受け
板46が収容されるようになっている。
【0026】また、第2軸45の下端部は第1軸31の
下端から下方に突出されており、その突出した下端部に
は上下動レバー47が直角に配されて固定されている。
この上下動レバー47はエアシリンダ装置21と別に設
備された上下動装置(図示せず)によって上下方向に操
作されるようになっている。
【0027】第2軸45の外側には第2ベローズ48が
同心円的に配設されており、この第2ベローズ48の上
下端部は下側プレート43の下面壁および第2軸45の
中間部に上側シート49および下側シート50を介して
固定されている。詳細な説明は省略するが、第1ベロー
ズ32と同様に、この第2ベローズ48はステンレスか
らなるリング形状の薄板が多数枚、互いに重合されてそ
の内周縁辺と外周縁辺とを溶接されて円筒形の蛇腹形状
に形成されており、軸心方向(上下方向)に伸縮し得る
ように構成されている。したがって、この第2ベローズ
48は第2軸45の上下動に追従して上下方向に伸縮す
るようになっている。
【0028】本実施例において、ウエハホルダ41の内
部にはラビリンス(迷路)構造に構成されているベント
路51が複数本、放射状に配されて第2ベローズ48の
内外を連通させるようにそれぞれ開設されている。各ベ
ント路51は互いに周方向に間隔を置いて放射状に配さ
れており、ベント路51のそれぞれは上側プレート42
および下側プレート43の合わせ面に形成されている。
すなわち、各ベント路51は上側プレート42の下面お
よび下側プレート43の上面にそれぞれ没設された細長
い溝同士が互いに合わせられることによって、気体を流
通し得る通気路構造に構成されている。但し、ベント路
51の溝は上側プレート42または下側プレート43の
いずれか一方だけに没設してもよい。
【0029】そして、ベント路51の内側開口52は上
側シート49の第2軸45と対向する内周面に位置され
ており、第2ベローズ48の中空部内に連通するように
なっている。他方、ベント路51の外側開口53はウエ
ハホルダ41の外周面に位置されており、前記給排路1
5に連通し得るようになっている。
【0030】ベント路51の中間部には第1トラップ5
4、第2トラップ55および第3トラップ56がそれぞ
れ介設されており、これらによってベント路51のラビ
リンス構造が実質的に構成されている。第1トラップ5
4および第2トラップ55は、上側プレート42と下側
プレート43とに互いに対向する凹凸部がウエハホルダ
41の軸方向に微小の間隙をとって形成されることによ
って、それぞれ構成されている。第3トラップ56はそ
の経路がウエハホルダ41の法線から周方向に屈曲され
た後、法線方向に戻されて構成されている。
【0031】次に、前記構成に係る真空予備室装置10
の作用をチャンバ11における注入室2にワークとして
のウエハ1を搬入する場合について説明する。
【0032】ウエハ1が注入室2に搬入されるに際し
て、図3に示されているように、上側ロックバルブ14
がバルブシート13から離座されて第1開口12が開放
される。この際、下側ロックバルブ35は第1軸31に
よって上限に位置されており、下側ロックバルブ35の
バルブ部37はバルブシート38に着座された状態にな
っている。したがって、常時真空状態の注入室2に連通
する案内筒16の中空部内は真空状態を保つための気密
が維持された状態になっている。
【0033】また、第1開口12が開放される前に、不
活性ガスである窒素ガスが給排路15からロック室39
の内部に供給され、ロック室39に窒素ガスが充満され
る。この窒素ガスの供給によって、ロック室39の圧力
が大気圧に維持されるとともに、ロック室39内への大
気の侵入が防止される状態になる。
【0034】この状態で、第2軸45が上下動レバー4
7によって上昇されると、ワークとしてのウエハ1が搬
送ロボット等から構成されたハンドリング装置(図示せ
ず)によって、第2軸45のウエハ受け板46に移載さ
れる。
【0035】ウエハ1がウエハ受け板46に移載される
と、第2軸45が上下動レバー47によって下降され、
図4に示されているように、ウエハ受け板46が収容凹
部42aに収容されるとともに、ウエハ受け板46の上
のウエハ1はウエハホルダ41の上に移載される。
【0036】以上の第2軸45の上下動に追従して、第
2ベローズ48は伸縮作動する。この際、第2ベローズ
48の中空部内に充満した窒素ガスはベント路51を通
って出入りすることができるため、第2ベローズ48の
伸縮作動が確保されるとともに、きわめて円滑に実行さ
れることになる。
【0037】そして、ロック室39側の窒素ガスが第2
ベローズ48の伸長作動に伴って第2ベローズ48の中
空部内に吸い込まれるに際して、ロック室39側の異物
(図示せず)がその窒素ガスに随伴して、第2ベローズ
48の中空部内に吸い込まれて侵入しようとする。しか
し、本実施例において、侵入しようとする異物はベント
路51の途中において第1トラップ54、第2トラップ
55および第3トラップ56によって捕捉されるため、
侵入を確実に阻止されることになる。
【0038】他方、第2軸45を摺動自在に支承してい
る軸受44の第2軸45に対するクリアランスはきわめ
て小さく設定されているため、ロック室39側の異物が
そのクリアランスを通って、第2ベローズ48の中空部
内に侵入するのは防止される。したがって、ベント路5
1および軸受44と第2軸45とのクリアランスのいず
れの経路においても、異物の第2ベローズ48の中空部
内への侵入は阻止されるため、第2ベローズ48が中空
部内へ侵入した異物によって損傷される事故の発生は、
未然に防止されることになる。
【0039】また、換言すると、ベント路51によって
第2ベローズ48の円滑な伸縮作動が確保されているた
め、軸受44の第2軸45に対するクリアランスをきわ
めて小さく設定することができる。そして、軸受44に
耐摩耗性および耐熱性を有するエンジニアリング・プラ
スチックを使用することにより、摺動特性を損なうこと
なく、軸受44と第2軸45との間のクリアランスをき
わめて小さく設定することができる。
【0040】続いて、図4に示されているように、上側
ロックバルブ14が上側バルブシート13に着座されて
第1開口12が閉鎖される。第1開口12が閉鎖される
と、ロック室39は給排路15を介して真空排気され
る。この際、第2ベローズ48の中空部内に充満した窒
素ガスは、ベント路51を通じて完全に排気される。こ
の窒素ガスがベント路51を流通する時、ベント路51
の途中における第1トラップ54、第2トラップ55お
よび第3トラップ56に捕捉されている異物は、流通す
る窒素ガスと一緒にベント路51から排出されて行く。
【0041】ロック室39が真空排気されると、図5に
示されているように、下側ロックバルブ35は第1軸3
1によって案内筒16の内部を下限位置まで下降され
る。この下降によって、下側ロックバルブ35のウエハ
ホルダ41は案内筒16に開設された第2開口17に対
向する状態になる。
【0042】続いて、図6に示されているように、第2
軸45が上下動レバー47によって上昇されると、ウエ
ハ受け板46に載置されたウエハ1がウエハホルダ41
の上面から持ち上げられる。ウエハ1がウエハホルダ4
1から持ち上げられると、注入室2の内部に設備された
ハンドリング装置(図示せず)によってウエハ1がウエ
ハホルダ41からピックアップされる。ピックアップさ
れたウエハ1はハンドリング装置によって注入室2の内
部に搬入されて、イオン注入装置のプラテン(図示せ
ず)の上に移載される。
【0043】他方、ウエハ1がハンドリング装置に受け
取られると、第2軸45が上下動レバー47によって下
降され、ウエハ受け板46はウエハホルダ41の上面に
没設された収納凹部42aに収容される。
【0044】ちなみに、この下側ロックバルブ35の下
限位置における第2軸45の上下動に伴って、第2ベロ
ーズ48が伸縮作動するが、第2ベローズ48の中空部
内は真空排気されているため、この場合における気体の
出入りは殆どない。
【0045】ウエハ受け板46がウエハホルダ41の収
納凹部42aに収容されると、下側ロックバルブ35が
第1軸31によって上昇されて、下側ロックバルブ35
のバルブ部37がバルブシート38に着座される。バル
ブ部37がバルブシート38に着座されることによっ
て、上側ロックバルブ14と下側ロックバルブ35との
間にロック室39が形成されると、給排路15から窒素
ガスが供給されて、ロック室39の圧力が大気圧に設定
される。
【0046】ちなみに、第1軸31の上下動に追従し
て、第1ベローズ32が伸縮作動するが、第1ベローズ
32は常時真空状態が保たれているチャンバ1の室内に
設備されているため、第1ベローズ32の中空部内に対
して気体が出入りすることはない。したがって、第1軸
31を支承する軸受のクリアランスは大きくてもよい。
【0047】以降、前記作動が繰り返されることによ
り、ウエハ1が注入室2に順次搬入されて行く。
【0048】以上説明した前記実施例によれば次の効果
が得られる。 (1) ウエハホルダ41にベント路51をこのウエハ
ホルダ41の外周と第2ベローズ48の中空部内とを連
通させるように開設することにより、第2ベローズ48
の中空部内に対する気体の出入りはウエハホルダ41に
開設されたベント路51によって確保された状態になる
ため、第2ベローズ48は第2軸45のウエハホルダ4
1に対する進退作動に追従して円滑に伸縮作動すること
ができる。
【0049】(2) 他方、第2ベローズ48の伸縮作
動がベント路51によって確保されていることにより、
軸受44と第2軸45とのクリアランスは小さく設定す
ることができるため、小さく設定されたクリアランスか
ら異物が侵入するのを抑制することができる。その結
果、第2ベローズ48の中空部内に異物が侵入するのを
防止することができ、第2ベローズ48の中空部内に侵
入した異物によって第2ベローズ48が損傷される事故
の発生を未然に回避することができる。
【0050】(3) ベント路51に異物を捕捉するた
めのトラップを介設することにより、ベント路51を通
じて第2ベローズ48の中空部内に異物が侵入するのを
確実に防止することができるため、異物によって第2ベ
ローズ48が損傷されるのをより一層確実に防止するこ
とができる。
【0051】(4) ウエハホルダ41を上側プレート
42および下側プレート43を重合して製作することに
より、上側プレート42と下側プレート43との合わせ
面を利用してベント路51を簡単に形成することができ
る。
【0052】(5) ウエハホルダ41を上側プレート
42および下側プレート43を重合して製作することに
より、上側プレート42と下側プレート43とを材質の
異なる板材によってそれぞれ形成することができるた
め、ウエハ1と接触するウエハホルダ41にウエハ1を
汚染させない材質の板材を使用することができる。
【0053】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変更可能であることはいうまでもない。
【0054】例えば、ウエハホルダ41は上側プレート
42と下側プレート43とを重合して製作するに限ら
ず、一体構造に構成してもよい。
【0055】ベント路51に介設されるトラップは第1
トラップ54、第2トラップ55および第3トラップ5
6に限らず、第1トラップ54、第2トラップ55およ
び第3トラップ56のうちいずれか1個でもよいし、4
個以上であってもよい。また、ベント路のトラップは省
略することもできる。
【0056】軸受44は耐熱性および耐摩耗性を有する
エンジニアリング・プラスチックを使用するに限らず、
軸受用の金属材料を使用してもよい。
【0057】前記実施例では、ワークがウエハである場
合について説明したが、ワークはウエハに限らず、液晶
パネルやホトマスク等であってもよい。
【0058】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野である真空予
備室装置に使用されるウエハ受け渡し装置に適用した場
合について説明したが、それに限定されるものではな
く、加圧された処理室に連設される加圧予備室装置に使
用される受け渡し装置等の受け渡し装置全般に適用する
ことができる。特に、本発明は、大気圧の室外からワー
クを受け取り、受け取ったワークを減圧または加圧雰囲
気に置いた後、減圧または加圧状態が維持されている処
理室にワークを受け渡す受け渡し装置に利用して優れた
効果を得ることができる。
【0059】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、次
の通りである。
【0060】ワークホルダにベント路をこのワークホル
ダの外周とベローズの中空部内とを連通させるように開
設することにより、ベローズの中空部内に対する気体の
出入りはワークホルダに開設されたベント路によって確
保された状態になるため、ベローズは軸のワークホルダ
に対する進退作動に追従して円滑に伸縮作動することが
できる。
【0061】他方、ベローズの伸縮作動がベント路によ
って確保されていることにより、軸受と軸とのクリアラ
ンスは小さく設定することができるため、小さく設定さ
れたクリアランスから異物が侵入するのを抑制すること
ができる。その結果、ベローズの中空部内に異物が侵入
するのを防止することができ、ベローズの中空部内に侵
入した異物によってベローズが損傷される事故の発生を
未然に回避することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例であるウエハ受け渡し装置を
示す一部省略一部切断斜視図である。
【図2】そのウエハ受け渡し装置が使用されている真空
予備室装置を示す一部省略正面断面図である。
【図3】ウエハ受け取り工程を示す一部省略正面断面図
である。
【図4】真空排気工程を示す一部省略正面断面図であ
る。
【図5】下限位置工程を示す一部省略正面断面図であ
る。
【図6】ウエハ受け渡し工程を示す一部省略正面断面図
である。
【符号の説明】
1…ウエハ(ワーク)、2…注入室、10…真空予備室
装置、11…チャンバ、12…第1開口、13…バルブ
シート、14…上側ロックバルブ、15…給排路、16
…案内筒、17…第2開口、20…下側バルブ装置、2
1…エアシリンダ装置、22…ピストンロッド、23…
ガイドレール、24…上側支持板、25…下側支持板、
26…ガイドブッシュ、27…連結棒、30…固定板、
31…第1軸、32…第1ベローズ、33…上側シー
ト、34…下側シート、35…下側ロックバルブ、36
…本体、37…バルブ部、38…バルブシート、39…
ロック室、40…ウエハ受け渡し装置、41…ウエハホ
ルダ、42…上側プレート、43…下側プレート、44
…軸受、45…第2軸、46…ウエハ受け板、47…上
下動レバー、48…第2ベローズ、49…上側シート、
50…下側シート、51…ベント路、52…内側開口、
53…外側開口、54…第1トラップ、55…第2トラ
ップ、56…第3トラップ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 木賀 敏雄 東京都青梅市藤橋3丁目3番地2 日立東 京エレクトロニクス株式会社内

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ワークが載置されるホルダにワーク受け
    板を有する軸が挿通されて軸受によって摺動自在に支承
    されており、この軸の外側にベローズが、ホルダの載置
    側と反対の主面と軸の中間部との間に軸受と軸とのクリ
    アランスの下方の周囲を気密を維持した状態で取り囲む
    ように伸縮自在に装着されている受け渡し装置におい
    て、 前記ホルダにベント路が、このホルダの外周と前記ベロ
    ーズの中空部内とを連通させるように開設されているこ
    とを特徴とする受け渡し装置。
  2. 【請求項2】 ベント路の途中に異物を捕捉するトラッ
    プが、少なくとも1箇所に介設されていることを特徴と
    する請求項1に記載の受け渡し装置。
  3. 【請求項3】 軸受が、耐熱性および耐摩耗性を有する
    樹脂が用いられて形成されているとともに、軸受と軸と
    のクリアランスがきわめて小さく設定されていることを
    特徴とする請求項1に記載の受け渡し装置。
JP5113890A 1993-04-16 1993-04-16 受け渡し装置 Pending JPH06302672A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001524751A (ja) * 1997-11-21 2001-12-04 エーエスエム アメリカ インコーポレイテッド 半導体処理装置用基板移動システム

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001524751A (ja) * 1997-11-21 2001-12-04 エーエスエム アメリカ インコーポレイテッド 半導体処理装置用基板移動システム

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