JP4361724B2 - 集積回路、半導体装置及びデータプロセシングシステム - Google Patents

集積回路、半導体装置及びデータプロセシングシステム Download PDF

Info

Publication number
JP4361724B2
JP4361724B2 JP2002352795A JP2002352795A JP4361724B2 JP 4361724 B2 JP4361724 B2 JP 4361724B2 JP 2002352795 A JP2002352795 A JP 2002352795A JP 2002352795 A JP2002352795 A JP 2002352795A JP 4361724 B2 JP4361724 B2 JP 4361724B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
signal
input
circuit
semiconductor device
output terminal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2002352795A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2003264240A (ja
Inventor
張星珍
全永鉉
姜昌萬
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Samsung Electronics Co Ltd
Original Assignee
Samsung Electronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Samsung Electronics Co Ltd filed Critical Samsung Electronics Co Ltd
Publication of JP2003264240A publication Critical patent/JP2003264240A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4361724B2 publication Critical patent/JP4361724B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C5/00Details of stores covered by group G11C11/00
    • G11C5/06Arrangements for interconnecting storage elements electrically, e.g. by wiring
    • G11C5/063Voltage and signal distribution in integrated semi-conductor memory access lines, e.g. word-line, bit-line, cross-over resistance, propagation delay
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C5/00Details of stores covered by group G11C11/00
    • G11C5/02Disposition of storage elements, e.g. in the form of a matrix array
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Landscapes

  • Dram (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、集積回路、半導体装置及びデータプロセシングシステムに関する。
【0002】
【従来の技術】
通常の集積回路は、多様な種類の能動素子及び受動素子を含む。能動素子としてはダイオードまたはトランジスタがあり、受動素子としてはキャパシタまたは抵抗がある。
【0003】
基板上に集積された電気素子は、互いに有機的に連結されて電気的な機能を実行する。例えば、集積された要素は、DRAMやSRAMとして動作するように構成されうる。また、そのように集積されたメモリチップを一つに組み立てることにより、大容量を有するメモリモジュールが作られる。
【0004】
大部分のメモリモジュールは、印刷回路基板(プリント回路基板)のようなモジュールボードの両面に搭載された様々な集積回路を使用する。例えば、チップスケール、ガルウィング、フリップチップ、ボールグリッドアレイまたは他のパッケージ形態で様々なメモリチップがモジュールボードの両面に搭載される。モジュールボードは、集積回路を物理的に支える役割を果たす。また、モジュールボードは、搭載された集積回路を外部回路に電気的に連結するターミナルになる。
【0005】
デュアルインラインメモリモジュール(DIMM)は、印刷回路基板の両面に多数のメモリチップを搭載する。互いに向き合う面での結線構造は、互いに対称になるピン配列を有している。一つの面のチップは、反対側の面の対応するチップと互いに対称になるターミナル(またはピン)構造を有する。このような形態のチップを“鏡形の対”(対称形の対)ということができる。
【0006】
モジュールボード上においてチップを互いに対称に配置する際に、モジュールボードの両面で互いに対称にされるチップのターミナルは、実質的に同一の位置で互いに連結される。したがって、モジュールボードのレイアウトを簡単に設計することができ、導電線の長さを短く配列することができる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
集積回路の密度が増加することによって、チップ間の連結と信号の伝達は幾何学的にさらに難しくなり、また、RC遅延または伝達遅延などの問題がさらに深化される。集積密度が高くなることにもかかわらず、同一の伝達遅延、例えば、チップの内部入出力ラインとボード−パッケージ間のインタフェースによる伝達遅延を小さくすることが重要である。多様な種類のインタフェース条件において電気的な遅延が実質的に同一に維持されれば、より速い動作スピードと、さらに大きい入出力容量を有するチップを製造することが可能である。これはマルチビットまたは同期式データ伝送のためのメモリモジュールの開発において、重要なキーポイントになる。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明の1つの側面によると、集積回路装置は、回路群が集積された基板を備える。スイッチング回路が第1及び第2パッドの各々に対する第1及び第2信号経路を選択的に動作させる。前記第1及び第2パッドは、前記基板を中心に互いに対称である。選択信号に従って、前記スイッチング回路は、前記第1パッドと第1及び第2内部ノードのうち一つのノードとの間に配置された第1信号経路と、前記第2パッドと前記第1及び第2ノードのうち他の一つのノードとの間に配置された前記第2信号経路を選択的に構成する。前記第1及び第2信号経路のうちの少なくとも一つは、前記スイッチング回路と前記第1及び第2パッドの各々と間に直列に連結され、TTLレベルの信号をCMOSレベルの信号に変換するバッファを含む。
【0010】
他の望ましい実施形態によると、前記バッファは前記第1または第2パッドに連結された伝送経路に対するインピーダンス整合機能を提供する。
【0011】
更に他の実施形態において、対称形で配置された複数の第1及び第2パッドの鏡型ピンからなるボールグリッドアレイと対応して配列される。
【0012】
上述の実施形態で示した本発明の手段または方法に準じて本発明の技術分野で通常の知識を持つ者は本発明の範囲内で本発明の変形及び応用が可能である。
【0013】
ここで使用される“基板”または基板アセンブリという用語は、半導体ウェハのダイ(die)をも含む意味であるものとする。そのようなダイは、基板内にまたは基板上に形成された一つまたはそれ以上の層を有する。その層は、回路集積のための素子(例えば、トランジスタ、ダイオード、キャパシタ、連結配線など)を作るためにパターニングされる。そのような素子の形成において、一つまたはそれ以上のパターニングされた層は、多様な高さの表面形状を有する。“集積回路”という用語は、基板上または基板内に共に形成された回路の集積された状態またはそれによる素子を包括する。
【0014】
ここで使用される“集積回路”という用語はまた、与えられたパッケージ形状のための追加的な工程または組み立ての後に得られる装置をも包括する。パッケージは、チップスケール、ボールグリッドアレイ、フリップチップ、ガルウィング、J−リード、リードフレーム及びそれと類似する多様な種類であり得る。また、前記集積回路という用語は、‘半導体集積回路装置’または単純に‘チップ’のような用語の組み合わせをも包括する。すなわち、追加的なパッケージ工程及び組み立て過程が付加されたとしても、その中間段階の“集積回路”は上位概念として通用される。
【0015】
“チップ”とは、半導体ダイを意味する。或いは、“チップ”は、フリップチップ形状の“チップスケールパッケージ”のような形態で呼ばれうる。より具体的な意味は関連した状況の前後関係に従って明確になる。
【0016】
【発明の実施の形態】
図面中において実質的に同一の構成と機能を有する構成要素については、同一の参照符号を使用する。
【0017】
図1を参照すると、集積回路150のボールグリッドアレイは、第1信号配列100に従って多様な信号に割り当てられたピン群(例えば、144ピン)110からなる。図1において、ピン群110に割り当てられた信号群は、メモリ装置とインタフェースし、動作させるための信号を示す。アレイ100のピンまたはパッドは、行A〜Mと列1〜12に沿って配置される。各ピン/パッドは、行と列のインデックスとして参照される。例えば、最も左側の最も下に配置されたピンは110(A,1)として、最も下の行に沿って配置されたピンは110(A)として、4番目の列のピンは110(4)として参照される。
【0018】
アレイ100の一部のピン、例えば110(F、2〜3)及び110(F、10〜11)はNCとして割当られる。NCは、集積回路装置の内部に連結されないターミナルであることを意味する。リードフレーム形態のパッケージにおいて、NCは特定リードに対するワイヤボンディングが形成されていないことを意味する。
【0019】
ここで、“ピン”という用語は、外部回路とインタフェースする集積回路のターミナルを意味する。ボールグリッドアレイの場合、ピンという用語は、集積回路のパッドに接触する導電性を有する“ボール”を含む。或いは、ターミナルという用語は、集積回路から突出したパッドまたは陥没したパッドを含む。突出または陥没したパッドは、印刷回路基板、または他の外部回路に組まれた回路網に電気的に連結される。
【0020】
図2を参照すると、ボールグリッド形状の集積回路150'は、図1の第1信号配列100と対称なピン−信号配列100'からなるピン110を含む。配列100'の信号割り当て状態は、配列100の信号割り当て状態と互いに鏡に映ったように対称(以下、単に“対称”という)になっている。例えば、ピン110(A、1)及び110(A、12)は、図2の配列100'においてアドレスビットA7及びA0に各々割り当てられている。これは、図1の配列100においてA0及びA7が同一のピンに割り当てられた状態と対称である。したがって、メモリコントローラから伝送されたアドレスビットA0は、図1のピン110(A、1)を通じて図3のアドレスA0パッド310(124)に印加される一方、図2のピン110(A、12)を通じて図3のアドレスパッド310(90)に印加される。しかし、アドレスA7パッド310(90)に印加されたアドレスビットA0は、対称形のパッケージ内のスイッチング回路MUXを通じてアドレス信号A0として内部回路に伝送される。
【0021】
メモリコントローラから伝送されたアドレス信号A7は、図1のピン110(A、12)を通じて図3のパッド310(90)に印加される一方、図2のピン110(A、1)を通じて図3のアドレスパッド310(124)に印加される。しかし、アドレスパッド130(124)に印加されるアドレス信号A7は、対称形のパッケージ内のスイッチング回路MUXを通じてアドレス信号A7として内部回路に伝送される。
【0022】
すなわち、図1のピン110(A、1)と図2のピン110(A,12)は、メモリコントローラから外部アドレス信号A0を取り込むが、図1のピン110(A、1)が図3のアドレスパッド310(124)に連結される一方、図2のピン110(A,12)は、図1の110(A,12)のように、図3のアドレスパッド130(90)に連結される。
【0023】
同じように、図1のピン110(A、12)と図2のピン110(A、1)は、メモリコントローラから外部アドレス信号A7を取り込むが、図1のピン110(A、12)が図3のアドレスパッド310(90)に連結される一方、図2のピン110(A,1)は、図1の110(A、12)のように、図3のアドレスパッド310(124)に連結される。
【0024】
外部アドレス信号A7を受信する図2のピン110(A、1)が図3のアドレスパッド210(124)に連結されても、外部アドレス信号A7は信号SELに応答して図4のスイッチング回路450を通じてアドレス信号A7として内部回路に伝送される。
【0025】
図2のピン110(A、1)が外部アドレス信号A7を受信する理由は、基本型のピン配列形態と対称形のピン配列形態が図5のようなチップパッケージに実装された場合に、ピン110(A、12)の位置と同一であるからである。同じように、図2のピン110(A,2)が外部アドレス信号A0を受信する理由は、基本型のピン配列形態と対称形のピン配列形態が図5のようなチップパッケージに実装された場合に、ピン110(A、1)の位置と同一であるからである。
【0026】
同様に、データビットDQS3、DQS0は、配列100'では、ピン110(M、1)、110(M、12)に各々割り当てられ、配列100では、それと対称形に各々のピンに割り当てられる。
【0027】
したがって、図2の配列100'でのピン−信号割り当ては、図1の配列100でのピン−信号割り当てに対して対称である。“対称形”及び“基本型”という用語は、説明の便宜のためのものであり、図1の配列100が基本型の配列100'に対して対称形(互いに鏡に映った形状の状態)になると表現することができる。
【0028】
図1及び図2を再び参照すると、対称軸120は、ピン110(6)及び110(7)に相当する6番目の列と7番目の列との間で集積回路150を横切る。対称軸120を中心として、図1の配列100におけるピン−信号割り当ては、図2の配列100'と互いに対称的である。集積回路150のパッドまたはピン110の位置は、軸120に対して互いに物理的に対称であることが分かる。例えば、ピン110(A、6)の物理的な位置は、軸120を中心としてピン110(A、7)の位置と対称である。同じように、他の対称な対のピンも、軸120を中心として、物理的に互いに対称である。
【0029】
また、本発明の実施形態では、対称な対をなす各ピンには、同一の種類の信号が割り当てられている。図1を参照すると、ピン対110(A、1&12)のピンは、アドレス信号A0及びA7に各々割り当てられ、ピン対110(B、1&12)のピンは、電圧信号VREFに割り当てられ、ピン対110(C、1&12)のピンは、データ信号DQ23及びDQ8に各々割り当てられる。このような類似の信号の割り当ては、本実施形態のために示したものであり、必ずしも、同種の信号(例えば、制御信号、アドレス信号、データ信号及び電圧信号)を互いに対称なピンに割り当てる必要はない。
【0030】
一般的に、ピンの配置を対称的にすることは、モジュールボードのレイアウトと配線を単純化することに有利である。ボード上の配線処理を単純にすることは、対称的に配列された多様な種類のピンに対する信号伝達チャネルの特性を向上させる。
【0031】
もし、そのような対称形(または鏡形)ピンの配置を利用しなければ、異なる種類の集積回路の間で、同一のピンに対するインタフェースが複雑になるか、信号伝達の長さが異なるようになる。例えば、ボードの一面に搭載された集積回路のピンをインタフェースための配線の長さがボードの他の面に搭載された集積回路のピンをインタフェースするための配線の長さと異なるようになり、信号伝達の特性を低下させる。
【0032】
例えば、第1の集積回路と第2の集積回路が対向して配置されている場合において、アドレス信号は第2の集積回路の該当するピンに到達する前に、第1の集積回路のより近いピンに先に到達しうる。このような伝達時間の差は、同期方式で動作すべきチップを搭載したメモリモジュールの全体において、望ましくない影響を与える。
【0033】
さらに、短い配線長は、他の集積回路に伝達される信号の特性に影響を及ぼすような反響作用を誘発しうる。同様に、長い配線長は、より近い集積回路に対して望ましくないインピーダンスの不連続性(impedance discontinuity)を誘発させうる。そのようなインピーダンスの不連続性、例えば、二つの伝送線が接するところでの不連続性は、集積回路により受信または送信される信号の特性に悪影響を及ぶ。
【0034】
信号の伝達遅延の差を補正するための多様な方法の1つとして、より短い配線に別途の信号線を追加することがある。しかし、別途の信号線を追加して配線を延長することは、より大きなボードスペースを要求したり、外部のノイズに対して弱くしたり、モジュールの他の領域への望ましくない信号を伝達したり、モジュールの外部への放射を誘発したりしうる。対称形のピン配列は、このような問題点を克服する。
【0035】
図1及び図2を参照すると、1つの例示的な実施形態としての対称形のピン対を有する集積回路100及び100'は、同一のパッド100(A−M,1−12)の配列を有する。したがって、互いに向き合う集積回路のピンは、ボード上で実質的に同一の位置に置かれた同一の信号線に連結される。このような連結は、互いに向き合う集積回路の間で同一に割り当てられた信号を伝達する際の配線長の差を最小化することができる。
【0036】
本発明の実施形態によると、集積回路内にあるスイッチング回路は、分離されたパッド−ピン配列構造において、パッドとピンを選択的に連結させる動作を実行する。このように、互いに異なるピン−信号配列構造を単一集積回路に形成することによって、同一の工程を通じて集積回路を組み立てることが可能である。そうでなければ、基本型の配列構造と対称形の配列構造のために各々別途の工程を実施しなければならない。
【0037】
図3を参照すると、組み立て工程の中間段階における集積回路300(または基板300)は、そのエッジに配置されたパッド310を含む。複数のパッド310(1〜166)は、基板のエッジまたは端部320に沿って配置される。このような形態のパッド配列を“エッジパッド配列”または“エッジパッド構造”ということができる。この状態で、組み立て工程をさらに進めると、基板300は、後に形成される図1及び図2に示したボールグリッドアレイ配列100及び100'のピン110にパッド310を連結する付加的な伝送線が形成される。
【0038】
図3に示したように、本発明の実施形態によると、集積回路300の内部回路は、集積回路200の互いに異なるボンディングパッド310の間で、二種類の異なる信号を選択的に伝送する。基板300の互いに異なるボンディングパッド310は、ボールグリッドアレイ100及び100'(図1及び図2)に示した各々の対称形のピン110に結合される。例えば、中間層(例えば、半導体物質、誘電物質、金属、連結用の開口など)は、集積回路300の表面と集積回路150及び150'のボールグリッドアレイ100及び100'に置かれたピン110との間で電気的な連結をするための媒介機能を果たす。
【0039】
特に、本発明の実施形態では、図1乃至図3に示したように、アドレス信号A7のためのボンディングパッド310(90)がボールグリッドアレイ100のピン110(A,12)に中間層(図示せず)を通じて連結されて、外部のアドレス信号A7を受信するようになっている。同じように、アドレス信号A0のための集積回路300のボンディングパッド310(124)は、基本型のボールグリッドアレイ100のピン110(A、1)に連結されて外部のアドレス信号A0を受信する。
【0040】
一方、対称形の配列100'において、集積回路300のボンディングパッド310(90)はピン110(A、12)に連結され、図1のピン110(A、1)と共に外部アドレス信号A0を受信する。そして、基板300のボンディングパッド310(124)は、ピン110(A、1)に連結されて、図1のピン110(A、12)と共に外部アドレス信号A7を受信する。集積回路の内部で選択的な信号伝送を制御する回路は、ボンディングパッド(例えば、310(90)及び310(124))と、ピン(例えば110(A、12)及び110(A、1))に対する信号割り当てを決める。
【0041】
メモリモジュールにおいて、データ、電源電圧及び接地電圧用のピンは、基本型のピン配列構造と対称形のピン配列構造との間で再経路設定をする必要がない場合がある。例えば、図1に示したように、接地電圧Vssはピン110(D、5)、110(D、6)及び110(D、8)に割り当てられる。そのような信号割り当ては、基本型のピン配列構造と対称形のピン配列構造に対して同一に適用される。データビットに対しても同一である。一方、メモリ装置内において、与えられたワードの特定データビットに対する正確な列の位置は重要でない可能性もある。したがって、パッケージまたは集積回路のピンに割り当てられるデータワードの特定データビットは、基本型のピン配列と対称形のピン配列の間で再経路設定を必要としない場合がある。
【0042】
データビットは、ある実施形態では互いに対称的に割り当てられなくてもよいが、図1及び図2の実施形態に示した配列100及び100'では、データビットが対称的になっている。データビットが対称的な配列は、データ伝送のためのタイミング管理を厳密にすべきである場合、例えば、高速動作または同期式のデータ伝送を要する場合に有利である。
【0043】
アドレス及び制御信号については、データ信号に比べて、集積回路内の指定された内部回路への経路設定に対する要求が強い。基本型のピン配列構造または対称形のピン配列構造において、もし指定された信号を受信するために内部回路を選択的にスイッチングする回路がないとすると、前述した媒介層(または中間層)のみによってチップパッドレイアウトから基本型のピン配列構造または対称形のピン配列構造に至る再経路設定をしなければならない。
【0044】
媒介構造が有する短所としては、基本型のピン配列または鏡形のピン配列の集積回路を各々別個の組み立て工程により製作しなければならないことである。例えば、基本型のピン配列と対称形のピン配列とでは、互いに異なる媒介層の構造(図示せず)を通じてボンディングパッドとピンが互いに電気的に連結される。そして、ピンの数が増加すれば、媒介層からなる再経路設定の回路の構成がさらに複雑になる。
【0045】
さらに、そのような媒介層を有する半導体装置の電気的な特性は、動作周波数の増加に従って影響を受ける。動作周波数が増加すると、入出力ライン間の長さの差による影響が顕著になる。その結果、鏡形のピン−信号配列を設定するための媒介構造を有する半導体装置の内部回路に対する信号遅延は、基本型のピン−信号配列の半導体装置の内部回路に対する信号遅延との間に差が生じる。一方、本発明の実施形態では、内部のスイッチング回路が内部回路のピンに対して割り当てられた信号を選択的に設定する。したがって、本発明の実施形態では、前述の媒介用の回路が必要ではなく、配線の長さの差、信号の相互カップリング及びノイズなどを誘発する媒介構造による問題を解消することができる。
【0046】
しかし、動作周波数が増加することによって、広い動作周波数領域にわたって集積回路またはメモリモジュールの動作性を維持するために、前述のように、媒介構造の採用を考慮する必要がある。
【0047】
集積回路の内部の入出力ラインは、信号の特性と信号伝達構造に影響を及ぼす。集積回路の内部回路に信号が到達するために、信号は、入出力インタフェース、入出力インタフェースからスイッチング回路に至る第1経路、スイッチング回路とスイッチング回路から内部回路に至る他の経路を通過する。そして、媒介用の配線の間またはボードレイアウトでの電気的な配線の長さの差が基本型及び鏡形のピン配列の半導体装置の内部回路に到達する信号の特性に影響を与えるので、集積回路の内部経路を設定することに関する困難性が存在する。このような経路上の差は、信号のスルーレート(slew rate)、信号伝達上の不整合(miscorrelation)、信号反射特性の不一致、インピーダンスの不連続性、伝達損失または予想外のR/C遅延などを誘発する。
【0048】
図4を参照すると、本発明の実施形態においては、内部回路150に属する第1及び第2内部回路410及び420は、スイッチング回路450の選択状態にしたがってパッド430及び440または440及び430を各々通じて信号を取り込む。本実施形態では、スイッチング回路450がマルチプレクサ450A及び450Bからなる。マルチプレクサ450Aは、第1内部回路410の入力460Aに連結されていて、制御線470の制御信号に従ってパッド430またはパッド440の信号を取り込む。マルチプレクサ450Bは、第2内部回路420の入力460Bに連結されていて、制御線470の制御信号に従ってパッド440またはパッド430の信号を取り込む。制御回路480は、マルチプレクサ450A及び450Bの駆動状態を設定するための制御信号を発生する。
【0049】
図4において、バッファ490及び496は、スイッチング回路450とパッド430及び440との間の信号経路上に直列に配置される。本実施形態の1つの特徴によると、バッファ490及び496は、入出力パッド430及び440に近い位置に配置される。例えば、パッド430とそれに対応するバッファ450との間の伝送線492の長さは、数μmより短く設計されることが望ましい。一方、バッファ490とスイッチング回路450との間の伝送線の長さは、数μmより長く設計されうる。本実施形態では、バッファがスイッチング回路よりパッドに電気的により近い位置に配置されるようにする。すなわち、バッファ496は、スイッチング回路450よりもパッド440に近い位置に配置する。
【0050】
パッド430及び440は、ボールグリッドアレイの配列内で互いに対称になっている(例えば、図1及び図2のパッド110に相当する)。また、前記パッドは、エッジ形のパッド配列の基板のエッジに沿って配列されうる(図3のパッド310に該当する)。また、エッジ形のパッドは、基板の対称軸(または鏡軸)を中心として互いに対称に配置されうる。
【0051】
基本型の配列構造のパッケージのために、マルチプレクサ450Aは、バッファ490を通過するパッド430の信号に連結されて第1内部回路410への経路を設定するように配置される。また、マルチプレクサ450Bは、バッファ496を通過するパッド440の信号に連結されて第2内部回路420への経路を設定するように配置される。
【0052】
対称形の配列を設定するために、制御回路480は、制御線470に制御信号を提供し、マルチプレクサ450A及び450Bは、互いに選択的に動作する。マルチプレクサ450Aがパッド430からの信号を第2内部回路420に伝達する一方、マルチプレクサ450Bはパッド440からの信号を第1内部回路410に伝達する。
【0053】
バッファ490及び496は、電圧コンバーターを含みうる。バッファは、集積回路の外部から提供されるTTLレベルの信号をCMOSレベルに変換して内部回路を駆動する。外部の信号源から入力される信号は信号レベルが低いかもしれないので、ボード上の集積回路で使用されるためには、バッファリングが必要であるかもしれない。
【0054】
内部回路410(または420)からの入出力信号経路492及び494〜460A(または494〜460B)は、内部回路の他の回路の近くの領域において交差するように、または長く配置されうる。これらの他の回路は、入出力経路上の信号に容量性または誘導性の結合によって影響を及ぼしうる。入出力経路に対するノイズの結合成分は、集積回路に到達する信号の特性を低下させる。入出力パッドに近い領域で信号をバッファリングすることによって、単一ボード上の集積回路から伝送される信号レベルをさらに大きい駆動能力で提供することが可能である。
【0055】
前記バッファはまた、逆方向の信号遮断の機能を提供する。内部回路に提供される信号(例えば、集積回路の外部のローレベル信号に比較してハイレベルである)は、内部回路内で一定のレベルに維持される。もし、バッファを使用しなければ、他の伝送線にカップリングされた内部信号が、集積回路の外部回路に連結された該伝送線に通って外部に伝搬されうる。結果的に、信号経路上に配置されたバッファは、そのような(ノイズ成分の)信号が外部に伝達される程度を減らすための逆遮断機能を提供する。
【0056】
前述の実施形態において、集積回路の内部回路に送られる入出力パッド(例えば、430及び440)からの信号をバッファリングするものとして説明した。しかし、本発明の範囲は他の種類のバッファも含む。例えば、バッファは、内部から信号を受けた後に、入出力パッドを通じて集積回路の外部に信号を伝達するように構成されることができる。このような場合に、バッファは、CMOSレベルの内部信号をTTLレベルの外部信号に変換しうる。また、この場合においても、集積回路の外部から入出力信号経路を通じて集積回路の内部に流入されるノイズ成分の信号に対する遮断機能を果たす。
【0057】
図1及び図2及び図4及び図5を参照すると、基本型150または対称形のピン−信号配列150'の半導体装置または集積回路は、ボード510の両面に搭載される。ここで、各集積回路150または150'で互いに対称なピン110(K、5)及び110(K、8)は、互いに向き合っており、ボード510により互いに連結される。
【0058】
ボード510は、集積回路150及び150'のピン110に対する電気的なインタフェースのためのパッド(例えば、図6及び図7の560及び562)を搭載している。伝送線522、524、530及び532は、基本型及び対称形の配列100及び100'において割り当てられたピンに対して互いに異なる信号を伝達する。例えば、信号DQ1は、図5に示したメモリコントローラ540で発生される。ボード510は、信号DQ1を伝送線530を通して基本型及び対称形の配列100及び100'の該当するピン110(K、5)及び110(K、8)に各々伝達する。図6を参照すると、ボードに搭載されたパッド560及び562は、対称形の対の集積回路の対称形のピンを各々インタフェースする。パッド560及び562は、対向したピンに近い位置に配置された導電性の物質を通じて互いに連結される。すなわち、対称形のピンのためのパッド560及び562は、ボードを貫通する連結通路531により互いに連結される。
【0059】
図7はモジュールボード上でパッドを連結するための、図6の構造と類似した連結通路564を示す。本実施形態において、ピン110(K、8)及び110(K、5)は、図1及び図2と関連して先に説明したように、配列100及び100'の信号DQ1に結合される図6のガルウィング(gull wing)形態のパッケージにおけるピンを示すためである。配列100のDQ1(K、5)は、図3のDQ1パッド310(8)に連結され、配列100'のDQ1(K、8)は、図1のDQ30(K、8)のようにDQ30パッド310(38)に連結される。
【0060】
このようなボードでの結合構造により、基本型及び対称形の配列100及び100'における対称形のピンは、互いに電気的に連結されて、信号原、例えば、メモリコントローラ540または他のチップセットから実質的に同一の位置で同一の信号を受信することができる。基本型及び対称形の配列100及び100'において、各信号経路上の伝達距離は実質的に同一に維持される。本実施形態では、連結通路による多少の差がある(すなわち、経路530と各パッド560及び562との間の連結構造が少し異なる)。また、回路ボード(例えば、薄い層からなるボード)内の中間層の経路530は、ほぼ中間で連結通路531と結合する。
【0061】
図5〜7に示したように、対称形の対150及び150'の集積回路の基本型及び対称形の配列を構成するために、各装置の制御回路480(図4参照)は、基本型及び対称形の制御信号を設定するようにプログラムされる。集積回路150の制御回路480は、基本型の配列構造のための制御信号を発生するようにプログラムされる。伝送線470上の制御信号は、マルチプレクサ450Aを選択的に駆動して内部回路410の入力460Aとピン430との間の信号経路を設定する。マルチプレクサ450Bは、内部回路420の入力460Bとピン440との間の第2信号経路を設定する。
【0062】
互いに向き合う集積回路の制御回路は、対称形の配列100'の信号−ピン割り当て状態を設定するようにプログラムされる。伝送線470上の対称形の制御信号を利用して、マルチプレクサ450Aは、内部回路410の入力460Aとピン440との間の信号経路を設定し、マルチプレクサ450Bは、内部回路420の入力460Bとピン430との間の信号経路を設定する。
【0063】
図8を参照すると、マルチプレクサ450A及び450Bの各々は、二つの伝送ゲートと一つのインバーターで構成される。例えば、マルチプレクサ450Aは、2:1の選択比を有する伝送ゲート610及び620を含む。伝送ゲート610は、第1内部回路410の入力になるノード460Aとバッファ490の出力に連結されるノード494との間に連結されるゲート制御型のチャネルを有する。伝送ゲート620は、ノード460aとバッファ496との間の信号経路に直列に連結されたチャネルを有する。伝送ゲート610のP型のチャネルは制御信号に直接的に接続され、N型のチャネルはインバーター650を通じて前記制御信号に接続される。伝送線470の制御信号は、伝送ゲート610と相補的な方式により伝送ゲート620を駆動する。すなわち、伝送ゲート620のN型のチャネルは制御信号に直接的に接続され、P型のチャネルはインバーター650を通じて前記制御信号に接続される。
【0064】
同様に、マルチプレクサ450Bは、二つの伝送ゲート630及び640と一つのインバーター660で構成され、出力460Bと二つの入力(バッファ490からの入力及びバッファ496からの入力)に対して2:1の選択比で動作する。伝送ゲート630は、ノード460Bとバッファ496との間に直列に連結されており、伝送ゲート640は、ノード460Bとバッファ490との間に直列に連結されている。伝送ゲート630及び640のP型及びN型のチャネルは、前述の伝送ゲート610及び620の場合のように、伝送線470上の制御信号により駆動される。
【0065】
図8を参照すると、本実施形態では、ハイレベルの制御信号は、入出力パッド440と内部ノード460Aとの間の第1信号経路と、入出力パッド430と内部ノード460Bとの間の第2信号経路を設定する。一方、ローレベルの制御信号は、入出力パッド430と内部ノード460Aとの間の第1信号経路と、入出力パッド440と内部ノード460Bとの間の第2信号経路を設定する。
【0066】
図9及び図11を参照すると、制御回路480(図4参照)は、スイッチング回路(すなわち、マルチプレクサ450)を選択的に駆動する制御信号を設定するためのプログラム可能な回路要素を含む。このプログラム要素は、ウェハ段階、パッケージ段階、モジュール段階、またはこれらの結合段階でプログラムされる。例えば、プログラム要素は、ボンディングワイヤ、ヒューズ、オッション回路、ラッチ、フラッシュセルまたはそれと類似なものを含む。
【0067】
図9を参照すると、配線(またはボンディングワイヤ)740は、伝送線に連結されるワイヤボンド構造になっている。ボンディングワイヤがボンディングパッド710に連結されると、制御信号は、インバーター714を通じてローレベルになる。一方、ボンディングワイヤが接地パッド730に連結されると、制御信号は、インバーター714を通じてハイレベルになる。
【0068】
図9において、配線740は、他の形態の連結構造、例えばソルダを通じて形成されることができる。集積回路150(図9の点線で表示された部分)は、モジュール510Bの一面に置かれたパッド730に連結されるピン720を含む。パッド730は、接地電圧のようなローレベルのバイアス電圧に連結されている。一方、集積回路がメモリモジュール510Aの他の面に搭載された場合には、ピン720はパッド710に連結されて電源電圧Vccが提供される。集積回路(すなわち、基本型または対称形)の配列は、集積回路が搭載されるモジュールボードの面に応じて変更されうる。モジュールボード510Aの一面では、導電線712は、第1レベルバイアスVCCに連結される。モジュールボード510Bの他の面では、導電線732が他のレベルのバイアスGNDに連結される。
【0069】
図10を参照すると、制御回路480は、ヒューズ752に直列に連結されたゲート制御型のチャネルを有するPMOSFET750を含む。ヒューズ752は接地電圧に連結され、PMOSFET750のソースは電源電圧VCCに連結される。PMOSFET750のドレインはヒューズ752とラッチ回路の入力に連結される。前記ラッチ回路はヒューズ752とPMOSFET750により決められる信号の論理状態をラッチする。前記ラッチ回路は、プログラム可能なヒューズ752の状態(切断されているか否か)に従って選択信号SELを出力ノード470に送る。
【0070】
図10に示したように、前記ラッチ回路は、PMOSFETで構成されたフィードバック用のMOSFETに結合されたインバーター714を含む。制御回路480に最初に電源電圧VCCが供給されると、PMOSFET750のゲートは電源電圧VCCに遅延して応答する。制御回路の動作に関するグラフに示したように、電源電圧VCC(点線で表示される)が上昇する時に、ゲートの制御信号VCCHBは初期にはローレベルを維持する。ヒューズが切られていなければ、ラッチの入力レベルはローレベルを維持し、ラッチはローレベルの入力をラッチし、ハイレベルの制御信号SELを出力する。これはラッチのPMOSFETフィードバックトランジスタをターンオフさせる。
【0071】
VCCの上昇から所定の時間の後には、PMOSSFET750のゲートに印加される制御信号VCCHBが電源電圧VCCと同一の電圧レベルを有する。これにより、PMOSSFET750はターンオフされ、ヒューズ752に流れる電流を遮断する。ヒューズが既に切れた状態でプログラムされていれば、ラッチ回路はハイレベルの入力をラッチし、ローレベルの制御信号SELを出力する。
【0072】
他の実施形態では、制御回路は、ウェハ段階、パッケージ段階、またはその後の段階で設定されるプログラム可能な要素を含む。例えば、制御回路は、電気的にプログラム可能なヒューズ回路を有することができる。図11を参照すると、ラッチ回路760は、ヒューズ切断活性化信号FCUTを入力するMOSFET770に連結される。MOSFET770は、ラッチ回路760の一方の側に配置されたヒューズ710を切断した場合にターンオンされる。ヒューズ710の抵抗値は、ヒューズ720の抵抗値より大きく設計される。したがって、ヒューズ710が切断されれば、制御信号SELがローレベルになる一方、ヒューズ710が切断されなければ、制御信号SELはハイレベルを維持する。図4及び図5乃至図7を再び参照すると、対称の対で互いに向き合う集積回路150及び150'は、モジュールボード510の両面で互いに向き合い、同一の信号が割り当てられたピンを有している。集積回路の内部では、他の種類のピンに対する各々の入出力信号の経路がそれらに直列に連結されたバッファを有する。
【0073】
したがって、実施形態において、類似のバッファと、ピンとバッファとの間の類似の配線の長さとが集積回路の多数の入出力ターミナルについて設計される。そのような実施形態においては、集積回路は、多数の入出力信号経路にわたって同一の電気的な特性を有することを理解しなければならない。
【0074】
また、基本型及び対称形の集積回路はチップの外部に対して類似のタミネーション特性及び伝達遅延特性を有する。各バッファに対する基本型及び対称形の信号経路において電気的な配線の長さは実質的に同一である。これと共に、多数または広域の動作周波数の条件にわたって動作特性は同一に維持される。
【0075】
また、本発明の実施形態では、基本型及び対称形の配列の装置の製造において、同一の組み立て工程を使用する。
【0076】
集積回路の入出力ピンに近い位置でバッファを使用する実施形態では、制御可能なタミネーションインピーダンスが入出力インタフェース上に付与されることによって、より長い信号経路において過度なRC影響を避けることができる。その結果、互いに異なる動作の周波数の環境でセットアップ/ホールド時間を充実に制御することができる。
【0077】
前述の説明では、単一の対称形の対の二つの信号に関連したバッファ及び入出力パッドのみに関して説明したが、本発明は、多重対称形の対に対しても適用されることを理解すべきである。例えば、図12を参照すると、二つの集積回路850及び850'は、基本型及び対称形のピン/信号の配列の入出力パッドの構成110(B)を有している。集積回路850の入出力パッド804、806、808、810、812、814、816及び818は、集積回路150の基本型のピン/信号配列100に対して図1に示した行Bに属するピンと対応する。対称形の関係においては、図2に示した対称形のピン/信号の配列100'の集積回路150'のボールグリッドアレイにおける行Bに属するピンにピン804〜818が対応するようになっている。
【0078】
図12の例は、ボールグリッドアレイの単一行に対するパッドを示している。しかし、本発明によれば、ボールグリッドアレイの他の行についても同一の構成を実現することができる。また、本発明は、そのような1つの行または複数の行に対する他の形態の信号配列が可能であり、行当たりのピンの数を異なることができる。
【0079】
図12に示すように、一つの対で信号割り当てが互いに対称にされうるだけではなく、それらの物理的な位置も互いに対称にされうる。また、信号の種類は同一であってもよい。例えば、対称形の対のピンにアドレス、データ、制御または電圧信号の種類を割り当ることができる。そして、そのような種類の信号において、互いに相補的な関係の信号が一つの対称形の対に相当する各々のピンに割り当てられうる。図12の例では、信号A2、A10、/RAS、CK、/CK、/CS、A9及びA5が対称形の装置850'のパッド804〜818に割り当てられ、信号A5、A9、/CS、/CK、CK、/RAS、A10及びA2が基本型装置850の該当するパッド804〜818に割り当てられる。図4及び図8に関して前述した場合と同じように、基本型及び対称形の装置850及び850'のマルチプレクサ840は、制御線470上の制御信号SEL及びSEL'に従って、入出力パッドと該当する集積回路との間の信号伝送を適切にスイッチングする役割を果たす。
【0080】
バッファ820は、マルチプレクサ840と各々の入出力パッド804〜818との間に連結され、入出力パッドの信号を他の論理レベルに変換してもよい。例えば、外部のTTLレベルの信号を内部回路に使用されるCMOSレベルの信号に変換することができる。変換された信号は、マルチプレクサ840を通じて元来の指定された内部回路に伝送される。
【0081】
対称形の対のピンに割り当てられた信号の種類に応じて、対称形の対のピンに対するバッファは、第1種類の対のピンについての信号変換と第2種類の対のピンについての信号変換とが異なるように設計されてもよい。例えば、アドレスピンはデータ回路を駆動するための論理レベルとは異なる論理レベルとしてデコーダを駆動するので、アドレス対に割り当てられたバッファはデータ対に割り当てられたバッファとは区別して設計されうる。
【0082】
図12において、選択信号SEL及びSEL'を発生する回路は、図9乃至図11と関連して前述した制御回路に相当する。
【0083】
また他の実施形態として、図13を参照すると、データプロセッサシステム900はバス940に連結される。バス940は、キーボード、マウス、プリンタ、ネットワックインタフェース、ディスクシステムなどのようなサブシステム960に連結される。バス940は、メモリモジュール510を直接またはメモリコントローラ540を通じてインタフェースする。コントローラを通じてメモリモジュール510をインタフェースする場合には、メモリモジュール510はコントローラにより動作する。
【0084】
図13で拡張して示したように、本発明のメモリモジュールは、図4乃至図12に関連して説明した実施形態に従って対称形の対の集積回路150及び150'を含む。モジュールボード内での経路設定は、コントローラ540またはバス940のような集積回路を電気的にインタフェースするように設計されている。また、経路設定を通じてバス(またはコントローラ)と対称形の集積回路の同一のピンとの間で信号の伝達が行われる。
【0085】
本発明は、前述の実施形態に限定されず、本発明の範囲内で通常の知識を持つ者によって多様な方式により実施されることができることを理解しなければならない。
【0086】
【発明の効果】
本実施形態によれば、入出力バッファは、ピンをインタフェースし、ピンと集積回路内の指定された内部回路との間での信号伝達を担当する。スイッチング回路(例えば、マルチプレクサ)は、制御信号に応答して入出力ピンと各内部回路との間での信号経路を設定する。制御信号は、基本型または対称形の信号体系を選択する。
【0087】
したがって、本発明によれば、メモリモジュール上の集積回路の密度が増加することによるRC遅延または伝達遅延などの問題を解消する効果がある。また、本発明によればチップの内部の入出力ラインとボード−パッケージとの間のインタフェースによる伝達遅延を減らすことができる。また、本発明によれば、多様な種類のインタフェース条件で電気的な遅延を実質的に同一に維持することによって、より速い動作スピードとさらに大きい入出力容量を有するようにチップを製造することが可能な利点がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】通常のピン配列のボールグリッドアレイの下面を示す概略図である。
【図2】鏡形のピン配列のボールグリッドアレイの下面を示す概略図である。
【図3】半導体集積回路装置のためのボールグリッドアレイのパッドの配列を示す概略図である。
【図4】本発明の実施形態による集積回路装置の構成を示すブロック図である。
【図5】通常のピン配列または対称形のピン配列のパッケージに印加される外部信号のための信号体系を示す図面である。
【図6】対称形の対をなす互いに対称な集積回路を搭載したモジュールボードの部分断面図である。
【図7】対称形の対をなす互いに対称な集積回路を搭載したモジュールボードの部分断面図である。
【図8】図4に示した実施形態に使用されるマルチプレクサの回路図である。
【図9】図4に示したマルチプレクサを駆動するための選択信号を設定する制御回路を示す図面である。
【図10】図4に示したマルチプレクサを駆動するための選択信号を設定する制御回路を示す図面である。
【図11】図4に示したマルチプレクサを駆動するための選択信号を設定する制御回路を示す図面である。
【図12】本発明の実施形態による対称形のピン配列のパッケージを使用する信号伝達構造を示す図面である。
【図13】本発明の実施形態に従って、図1及び図2の一行に配列されたものと同一のボンディングパッド及び信号割り当て状態による対称形の対の集積回路を示す図面である。

Claims (10)

  1. 半導体装置において、
    互いに向き合う第1及び第2面を有するボードと、
    前記ボードの前記第1面に配置されたメモリ集積回路と、
    前記ボードの前記第2面に配置された他の一つのメモリ集積回路を備え、
    前記メモリ集積回路のうちの少なくとも一つが、内部ノード及び入出力ターミナルを有する半導体チップと、
    選択信号に従って前記内部ノードの第1及び第2ノードのうちの一つと第1入出力ターミナルとの間で第1信号経路を選択的に設定するマルチプレクサと、
    前記選択信号に従って前記第1及び第2ノードのうちの他の一つと第2入出力ターミナルとの間で第2信号経路を選択的に設定する他の一つのマルチプレクサと、前記第1入出力ターミナルと前記マルチプレクサとの間に配置され、TTLレベルの信号をCMOSレベルの信号に、またはCMOSレベルの信号をTTLレベルの信号に変換するバッファとを備え、
    前記第1及び第2入出力ターミナルが前記半導体チップを横切る軸を中心に対称であることを特徴とする半導体装置。
  2. 前記バッファが、前記バッファと前記第1入出力ターミナルとの間の信号経路上のインピーダンスと整合されるタミネーションインピーダンスを有することを特徴とする請求項に記載の半導体装置。
  3. 前記入出力ターミナルがボールグリッドアレイからなるピンを備え、
    前記第1及び第2入出力ターミナルは前記ボールグリッドアレイの第1及び第2ピンに各々電気的に連結され、
    前記第1ピンは前記ボールグリッドアレイの対称軸に対して前記第2ピンと対称であることを特徴とする請求項に記載の半導体装置。
  4. 前記選択信号を発生する制御回路をさらに備えることを特徴とする請求項に記載の半導体装置。
  5. 前記制御回路がプログラム可能な要素を備えることを特徴とする請求項に記載の半導体装置。
  6. 前記半導体装置の専用入出力ターミナルと、
    前記ボードの一面に配置されて前記専用入出力ターミナルを第1電圧源にインタフェースするための経路と、
    前記ボードの他の面に配置されて前記専用入出力ターミナルを第2電圧源にインタフェースするための経路とをさらに備え、
    前記専用入出力ターミナルが、前記メモリ集積回路が搭載された前記ボードの面に沿って前記第1及び第2電圧源のうちの一つに連結されることを特徴とする請求項に記載の半導体装置。
  7. 外部電極が互いに対称である第1及び第2パッケージのうちのいずれか一つで組み立てられた半導体装置において、
    前記第1及び第2パッケージのうちのいずれか一つの外部電極に各々対応してTTLレベルの外部信号を各々受信するボンディングパッドと、
    前記ボンディングパッドに各々連結されて前記TTLレベルの外部信号をCMOSレベルの内部信号に変換する入力バッファ回路と、
    前記入力バッファ回路の出力信号を制御信号に応答してスイッチングするマルチプレクシング回路と、
    前記半導体装置が前記第1及び第2パッケージのいずれで組み立てられるかに従って前記制御信号を設定する制御回路を備え、
    前記マルチプレクシング回路が、前記半導体装置が前記第1パッケージで形成される場合には、前記ボンディングパッドに印加される基本型信号が対応する内部回路に伝送されるように前記入力バッファ回路の前記出力信号をスイッチングし、前記半導体装置が前記第2パッケージで形成される場合には、前記ボンディングパッドに印加される対称形信号が前記基本型信号に対応する前記内部回路に伝送されるように前記入力バッファ回路の前記出力信号をスイッチングすることを特徴とする半導体装置。
  8. 前記第1パッケージの前記外部電極を通じて入力される信号が前記第2パッケージの前記外部電極を通じて入力される信号と対称的に割り当てられることを特徴とする請求項に記載の半導体装置。
  9. 前記第1及び第2パッケージの各々がファイン−ピッチボールグリッドアレイ(FBGA)パッケージであることを特徴とする請求項に記載の半導体装置。
  10. データプロセシングシステムにおいて、
    プロセッサと、
    メモリモジュールと、
    前記プロセッサと前記メモリモジュールとをインタフェースするデータバスとを備え、
    前記メモリモジュールが、
    前記データバスに電気的に連結された多数の経路を有するボードと、
    前記ボードの両面で互い向き合う一対の対称形のメモリチップとを含み、
    前記メモリチップのうちの少なくとも一つが、
    前記メモリチップ上の軸に対して互いに対称である第1及び第2入出力ターミナルと、
    選択信号に応答して、前記メモリチップの第1及び第2内部ノードのうちの一つと前記第1入出力ターミナルとの間の第1信号経路を選択的に設定する第1マルチプレクサと、
    選択信号に応答して、前記メモリチップの第1及び第2内部ノードのうちの他の一つと前記第2入出力ターミナルとの間の第2信号経路を選択的に設定する第2マルチプレクサと、
    前記第1入出力ターミナルと前記第1マルチプレクサとの間に配置され、TTL/CMOSレベルの信号をCMOS/TTLレベルの信号に変換するバッファとを含み、
    前記バッファは、前記バッファと前記第1入出力ターミナルとの間の伝送線上のインピーダンスと整合させる入力インピーダンスを有することを特徴とするデータプロセシングシステム。
JP2002352795A 2001-12-06 2002-12-04 集積回路、半導体装置及びデータプロセシングシステム Expired - Fee Related JP4361724B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2001-0076944A KR100454123B1 (ko) 2001-12-06 2001-12-06 반도체 집적 회로 장치 및 그것을 구비한 모듈
KR2001-076944 2001-12-06

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003264240A JP2003264240A (ja) 2003-09-19
JP4361724B2 true JP4361724B2 (ja) 2009-11-11

Family

ID=19716708

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002352795A Expired - Fee Related JP4361724B2 (ja) 2001-12-06 2002-12-04 集積回路、半導体装置及びデータプロセシングシステム

Country Status (6)

Country Link
US (1) US6667895B2 (ja)
JP (1) JP4361724B2 (ja)
KR (1) KR100454123B1 (ja)
DE (1) DE10258722A1 (ja)
IT (1) ITMI20022567A1 (ja)
TW (1) TW569381B (ja)

Families Citing this family (90)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7133972B2 (en) 2002-06-07 2006-11-07 Micron Technology, Inc. Memory hub with internal cache and/or memory access prediction
US6998870B1 (en) 2002-07-31 2006-02-14 Advanced Micro Devices, Inc. Method and apparatus for impedance matching in systems configured for multiple processors
US7117316B2 (en) 2002-08-05 2006-10-03 Micron Technology, Inc. Memory hub and access method having internal row caching
US6820181B2 (en) 2002-08-29 2004-11-16 Micron Technology, Inc. Method and system for controlling memory accesses to memory modules having a memory hub architecture
US7836252B2 (en) 2002-08-29 2010-11-16 Micron Technology, Inc. System and method for optimizing interconnections of memory devices in a multichip module
US6876562B2 (en) * 2002-10-17 2005-04-05 Micron Technology, Inc. Apparatus and method for mounting microelectronic devices on a mirrored board assembly
CA2508141C (en) * 2002-12-02 2009-11-03 Silverbrook Research Pty Ltd Dead nozzle compensation
KR100481184B1 (ko) * 2003-03-26 2005-04-07 삼성전자주식회사 반도체 메모리 집적회로
US7245145B2 (en) 2003-06-11 2007-07-17 Micron Technology, Inc. Memory module and method having improved signal routing topology
US7120727B2 (en) 2003-06-19 2006-10-10 Micron Technology, Inc. Reconfigurable memory module and method
US7260685B2 (en) 2003-06-20 2007-08-21 Micron Technology, Inc. Memory hub and access method having internal prefetch buffers
TW576614U (en) * 2003-06-30 2004-02-11 Yi-Chen Tang Low-voltage driven high-brightness LED
US7389364B2 (en) 2003-07-22 2008-06-17 Micron Technology, Inc. Apparatus and method for direct memory access in a hub-based memory system
US7210059B2 (en) 2003-08-19 2007-04-24 Micron Technology, Inc. System and method for on-board diagnostics of memory modules
US20050050237A1 (en) * 2003-08-28 2005-03-03 Jeddeloh Joseph M. Memory module and method having on-board data search capabilities and processor-based system using such memory modules
US7136958B2 (en) 2003-08-28 2006-11-14 Micron Technology, Inc. Multiple processor system and method including multiple memory hub modules
US7310752B2 (en) 2003-09-12 2007-12-18 Micron Technology, Inc. System and method for on-board timing margin testing of memory modules
US7194593B2 (en) 2003-09-18 2007-03-20 Micron Technology, Inc. Memory hub with integrated non-volatile memory
US7120743B2 (en) 2003-10-20 2006-10-10 Micron Technology, Inc. Arbitration system and method for memory responses in a hub-based memory system
US7023719B1 (en) * 2003-10-23 2006-04-04 Lsi Logic Corporation Memory module having mirrored placement of DRAM integrated circuits upon a four-layer printed circuit board
US7409572B1 (en) 2003-12-05 2008-08-05 Lsi Corporation Low power memory controller with leaded double data rate DRAM package arranged on a two layer printed circuit board
US7330992B2 (en) 2003-12-29 2008-02-12 Micron Technology, Inc. System and method for read synchronization of memory modules
KR100541655B1 (ko) * 2004-01-07 2006-01-11 삼성전자주식회사 패키지 회로기판 및 이를 이용한 패키지
JP4826058B2 (ja) * 2004-01-07 2011-11-30 セイコーエプソン株式会社 マクロセル、集積回路装置、及び電子機器
US7759967B2 (en) * 2004-01-09 2010-07-20 Conexant Systems, Inc. General purpose pin mapping for a general purpose application specific integrated circuit (ASIC)
US7188219B2 (en) 2004-01-30 2007-03-06 Micron Technology, Inc. Buffer control system and method for a memory system having outstanding read and write request buffers
US7181584B2 (en) * 2004-02-05 2007-02-20 Micron Technology, Inc. Dynamic command and/or address mirroring system and method for memory modules
US7788451B2 (en) 2004-02-05 2010-08-31 Micron Technology, Inc. Apparatus and method for data bypass for a bi-directional data bus in a hub-based memory sub-system
US20050195629A1 (en) * 2004-03-02 2005-09-08 Leddige Michael W. Interchangeable connection arrays for double-sided memory module placement
US7366864B2 (en) 2004-03-08 2008-04-29 Micron Technology, Inc. Memory hub architecture having programmable lane widths
US7257683B2 (en) 2004-03-24 2007-08-14 Micron Technology, Inc. Memory arbitration system and method having an arbitration packet protocol
US7120723B2 (en) 2004-03-25 2006-10-10 Micron Technology, Inc. System and method for memory hub-based expansion bus
US6980042B2 (en) 2004-04-05 2005-12-27 Micron Technology, Inc. Delay line synchronizer apparatus and method
US7590797B2 (en) 2004-04-08 2009-09-15 Micron Technology, Inc. System and method for optimizing interconnections of components in a multichip memory module
US7230450B2 (en) * 2004-05-18 2007-06-12 Intel Corporation Programming semiconductor dies for pin map compatibility
DE102005022687A1 (de) * 2004-05-20 2005-12-29 Samsung Electronics Co., Ltd., Suwon Speichersystem, Halbleiterspeicherbauelement und Betriebsverfahren hierfür
KR100689812B1 (ko) * 2004-05-20 2007-03-08 삼성전자주식회사 반도체 장치, 이 장치의 미러 모드 설정 방법, 및 이장치를 이용한 모듈
US7363419B2 (en) 2004-05-28 2008-04-22 Micron Technology, Inc. Method and system for terminating write commands in a hub-based memory system
US7310748B2 (en) 2004-06-04 2007-12-18 Micron Technology, Inc. Memory hub tester interface and method for use thereof
US7519788B2 (en) 2004-06-04 2009-04-14 Micron Technology, Inc. System and method for an asynchronous data buffer having buffer write and read pointers
DE102004041731B3 (de) * 2004-08-28 2006-03-16 Infineon Technologies Ag Speichermodul zum Bereitstellen einer Speicherkapazität
US7392331B2 (en) 2004-08-31 2008-06-24 Micron Technology, Inc. System and method for transmitting data packets in a computer system having a memory hub architecture
US7652896B2 (en) * 2004-12-29 2010-01-26 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Component for impedance matching
KR100702016B1 (ko) * 2005-02-02 2007-03-30 삼성전자주식회사 양면 실장 메모리 모듈의 인쇄 회로 기판 및 이를이용하는 양면 실장 메모리 모듈
US7545651B2 (en) * 2005-04-18 2009-06-09 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Memory module with a predetermined arrangement of pins
US7202701B1 (en) * 2005-12-06 2007-04-10 Micrel, Inc. Input/output circuit for handling unconnected I/O pads
US7352602B2 (en) 2005-12-30 2008-04-01 Micron Technology, Inc. Configurable inputs and outputs for memory stacking system and method
KR100735527B1 (ko) * 2006-02-13 2007-07-04 삼성전자주식회사 2개의 패드 행을 포함하는 반도체 메모리 장치
DE102006042775B3 (de) * 2006-09-12 2008-03-27 Qimonda Ag Schaltungsmodul und Verfahren zur Herstellung eines Schaltungsmoduls
US7433229B2 (en) * 2006-12-19 2008-10-07 Phison Electronics Corp. Flash memory device with shunt
JP4776564B2 (ja) * 2007-02-22 2011-09-21 株式会社東芝 半導体装置の製造方法、及び半導体装置
KR100795027B1 (ko) * 2007-03-12 2008-01-16 주식회사 하이닉스반도체 반도체 집적 회로 및 이를 포함하는 반도체 패키지 모듈
KR100909969B1 (ko) 2007-06-28 2009-07-29 삼성전자주식회사 반도체 소자 및 그 제조 방법, 및 반도체 소자를 포함하는스택 모듈, 카드 및 시스템
US7925844B2 (en) * 2007-11-29 2011-04-12 Micron Technology, Inc. Memory register encoding systems and methods
KR100899568B1 (ko) * 2007-12-26 2009-05-27 주식회사 하이닉스반도체 반도체 소자와 그의 구동 방법
JP2009164263A (ja) * 2007-12-28 2009-07-23 Nec Electronics Corp 配線モジュール及び半導体集積回路装置
JP2013531891A (ja) * 2010-06-17 2013-08-08 モサイド・テクノロジーズ・インコーポレーテッド シリコン貫通孔を有する半導体デバイス
US8513817B2 (en) 2011-07-12 2013-08-20 Invensas Corporation Memory module in a package
US8823165B2 (en) 2011-07-12 2014-09-02 Invensas Corporation Memory module in a package
US8502390B2 (en) 2011-07-12 2013-08-06 Tessera, Inc. De-skewed multi-die packages
US8525327B2 (en) 2011-10-03 2013-09-03 Invensas Corporation Stub minimization for assemblies without wirebonds to package substrate
US8441111B2 (en) 2011-10-03 2013-05-14 Invensas Corporation Stub minimization for multi-die wirebond assemblies with parallel windows
WO2013052372A2 (en) 2011-10-03 2013-04-11 Invensas Corporation Stub minimization for multi-die wirebond assemblies with parallel windows
US8917532B2 (en) 2011-10-03 2014-12-23 Invensas Corporation Stub minimization with terminal grids offset from center of package
US8436457B2 (en) 2011-10-03 2013-05-07 Invensas Corporation Stub minimization for multi-die wirebond assemblies with parallel windows
WO2013052321A2 (en) * 2011-10-03 2013-04-11 Invensas Corporation Stub minimization using duplicate sets of signal terminals in assemblies without wirebonds to package substrate
WO2013052080A1 (en) 2011-10-03 2013-04-11 Invensas Corporation Stub minimization for multi-die wirebond assemblies with orthogonal windows
US8659139B2 (en) 2011-10-03 2014-02-25 Invensas Corporation Stub minimization using duplicate sets of signal terminals in assemblies without wirebonds to package substrate
US8653646B2 (en) 2011-10-03 2014-02-18 Invensas Corporation Stub minimization using duplicate sets of terminals for wirebond assemblies without windows
US8405207B1 (en) 2011-10-03 2013-03-26 Invensas Corporation Stub minimization for wirebond assemblies without windows
US9003221B1 (en) * 2012-04-03 2015-04-07 Xilinx, Inc. Skew compensation for a stacked die
CN103383543B (zh) * 2012-05-02 2017-08-15 飞思卡尔半导体公司 片上系统及其控制模块
US9368477B2 (en) 2012-08-27 2016-06-14 Invensas Corporation Co-support circuit panel and microelectronic packages
US8787034B2 (en) 2012-08-27 2014-07-22 Invensas Corporation Co-support system and microelectronic assembly
US8848391B2 (en) 2012-08-27 2014-09-30 Invensas Corporation Co-support component and microelectronic assembly
US8848392B2 (en) 2012-08-27 2014-09-30 Invensas Corporation Co-support module and microelectronic assembly
US9070423B2 (en) 2013-06-11 2015-06-30 Invensas Corporation Single package dual channel memory with co-support
US9230653B2 (en) * 2013-09-10 2016-01-05 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor memory device
US9123555B2 (en) 2013-10-25 2015-09-01 Invensas Corporation Co-support for XFD packaging
US9129956B2 (en) 2013-12-11 2015-09-08 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Device having multiple-layer pins in memory MUX1 layout
US9281296B2 (en) 2014-07-31 2016-03-08 Invensas Corporation Die stacking techniques in BGA memory package for small footprint CPU and memory motherboard design
US9691437B2 (en) 2014-09-25 2017-06-27 Invensas Corporation Compact microelectronic assembly having reduced spacing between controller and memory packages
US9484080B1 (en) 2015-11-09 2016-11-01 Invensas Corporation High-bandwidth memory application with controlled impedance loading
US10310547B2 (en) 2016-03-05 2019-06-04 Intel Corporation Techniques to mirror a command/address or interpret command/address logic at a memory device
US9679613B1 (en) 2016-05-06 2017-06-13 Invensas Corporation TFD I/O partition for high-speed, high-density applications
JP2018032141A (ja) 2016-08-23 2018-03-01 東芝メモリ株式会社 半導体装置
EP3333852B1 (en) * 2016-12-06 2019-04-24 Axis AB Memory arrangement
JP6847797B2 (ja) * 2017-09-21 2021-03-24 キオクシア株式会社 半導体記憶装置
US11043246B2 (en) 2019-04-18 2021-06-22 Samsung Electronics Co, Ltd. Memory modules including a mirroring circuit and methods of operating the same
JP2021140837A (ja) * 2020-03-02 2021-09-16 キオクシア株式会社 半導体記憶装置

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5898636A (en) * 1993-06-21 1999-04-27 Hitachi, Ltd. Semiconductor integrated circuit device with interleaved memory and logic blocks
JPH07147386A (ja) * 1993-09-29 1995-06-06 Toshiba Micro Electron Kk 半導体装置とその製造方法およびそれに用いる器具
US5889327A (en) 1996-10-04 1999-03-30 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor device with a package having a plurality of bump electrodes and module with a plurality of semiconductor devices
JPH10303366A (ja) * 1997-04-30 1998-11-13 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
US6163459A (en) * 1997-07-25 2000-12-19 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Semiconductor mounting system and semiconductor chip
JP2000340737A (ja) 1999-05-31 2000-12-08 Mitsubishi Electric Corp 半導体パッケージとその実装体
US6307769B1 (en) * 1999-09-02 2001-10-23 Micron Technology, Inc. Semiconductor devices having mirrored terminal arrangements, devices including same, and methods of testing such semiconductor devices
JP4427847B2 (ja) * 1999-11-04 2010-03-10 エルピーダメモリ株式会社 ダイナミック型ramと半導体装置
JP2001185680A (ja) * 1999-12-22 2001-07-06 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置

Also Published As

Publication number Publication date
DE10258722A1 (de) 2003-06-26
KR100454123B1 (ko) 2004-10-26
ITMI20022567A1 (it) 2003-06-07
US6667895B2 (en) 2003-12-23
KR20030046715A (ko) 2003-06-18
US20030107908A1 (en) 2003-06-12
TW569381B (en) 2004-01-01
JP2003264240A (ja) 2003-09-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4361724B2 (ja) 集積回路、半導体装置及びデータプロセシングシステム
JP4010406B2 (ja) 半導体集積回路装置
US7466029B2 (en) Chip on chip device including basic chips capable of functioning independently from each other, and a system in package device including the chip on chip device
US6362651B1 (en) Method for fabricating PLDs including multiple discrete devices formed on a single chip
US8680582B2 (en) Circuit and method for interconnecting stacked integrated circuit dies
US20070182601A1 (en) Impedance matching commonly and independently
US7518231B2 (en) Differential chip performance within a multi-chip package
US20090091019A1 (en) Memory Packages Having Stair Step Interconnection Layers
US8178904B2 (en) Gate array
US6646342B2 (en) Semiconductor chip and multi-chip module
KR20030068436A (ko) 반도체 집적회로 장치
US5801451A (en) Semiconductor device including a plurality of input buffer circuits receiving the same control signal
KR100791003B1 (ko) 반도체 메모리 모듈 및 반도체 메모리 모듈에서의 터미널배치 방법
JP2007335888A (ja) 半導体集積回路装置
US6615289B1 (en) Semiconductor chip configuration and method of controlling a semiconductor chip
JPH0697666A (ja) 電子装置
JP2915319B2 (ja) 半導体装置
JP2727994B2 (ja) 半導体集積回路
JPH05167000A (ja) 半導体装置用パッケージのリード配線
JPS61269331A (ja) 半導体装置の製造方法
JPH06232267A (ja) 半導体集積回路装置の設計方法
JPH1074917A (ja) マスタスライス方式集積回路装置およびその配線方法
JPH04367259A (ja) 多層配線基板
KR20050048900A (ko) 미러형 패키지의 반도체 메모리 칩들을 가지는 메모리 모듈
JPH10335587A (ja) 半導体装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050119

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20080201

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20080616

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080909

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20081209

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090317

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090617

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20090714

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20090813

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120821

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120821

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130821

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees