JP2018032141A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 動作信頼性を向上出来る半導体装置を提供する。
【解決手段】 実施形態によれば、半導体装置は、第1チャネルのための複数の第1入出力回路と、複数の第1入出力回路にそれぞれ対応する複数の第1入出力パッドと、第1チャネルのための複数の第2入出力回路と、複数の第2入出力回路にそれぞれ対応する複数の第2入出力パッドと、複数の第1入出力パッドの列と、複数の第2入出力パッドの列との間に配置され、複数の第1入出力回路と、複数の第2入出力回路とからのデータのメモリへの入力を行なう入力回路とを有する。複数の第1入出力パッド及び複数の第2入出力パッドからメモリへ入力されるデータは、メモリにおいて、入力されるクロック信号の立ち上がり及び立ち下がりに基づいて取り込まれる。
【選択図】図3
Description
本発明の実施形態は、半導体装置に関する。
半導体基板上に設けられたインターフェイスチップ上に、シリコン貫通電極(TSV:Through−Silicon Via)を通して、コアチップが積層される半導体装置が知られている。
動作信頼性を向上出来る半導体装置を提供する。
実施形態によれば、半導体装置は、第1チャネルのための複数の第1入出力回路と、複数の第1入出力回路にそれぞれ対応する複数の第1入出力パッドと、第1チャネルのための複数の第2入出力回路と、複数の第2入出力回路にそれぞれ対応する複数の第2入出力パッドと、複数の第1入出力パッドの列と、複数の第2入出力パッドの列との間に配置され、複数の第1入出力回路と、複数の第2入出力回路とからのデータのメモリへの入力を行なう入力回路とを有する。複数の第1入出力パッド及び複数の第2入出力パッドからメモリへ入力されるデータは、メモリにおいて、入力されるクロック信号の立ち上がり及び立ち下がりに基づいて取り込まれる。
以下、実施の形態について、図面を参照して説明する。
1.第1実施態様
第1実施形態に係るメモリシステムについて説明する。以下ではメモリセルが半導体基板上に二次元に配列されたNAND型フラッシュメモリを備えたメモリシステムを例に挙げて説明する。実施形態では、DDR方式を採用する高速のメモリシステムについて説明するが、これに限られるものではない。実施形態のメモリシステムは、一般的なメモリシステムであっても良い。
第1実施形態に係るメモリシステムについて説明する。以下ではメモリセルが半導体基板上に二次元に配列されたNAND型フラッシュメモリを備えたメモリシステムを例に挙げて説明する。実施形態では、DDR方式を採用する高速のメモリシステムについて説明するが、これに限られるものではない。実施形態のメモリシステムは、一般的なメモリシステムであっても良い。
1.1 構成について
以下ではメモリセルが半導体基板上に二次元に配列されたNAND型フラッシュメモリを備えたメモリシステムを例に挙げて説明する。
以下ではメモリセルが半導体基板上に二次元に配列されたNAND型フラッシュメモリを備えたメモリシステムを例に挙げて説明する。
1.1.1 メモリシステムの全体構成
まず、本実施形態に係るメモリシステムの大まかな全体構成について、図1を用いて説明する。図1は、本実施形態に係るメモリシステムのブロック図である。
まず、本実施形態に係るメモリシステムの大まかな全体構成について、図1を用いて説明する。図1は、本実施形態に係るメモリシステムのブロック図である。
図示するようにメモリシステム1は、複数のNAND型フラッシュメモリ100−0〜100−Nと、インターフェイス(I/F)チップ400と、コントローラ200とを備えている。なお、実施形態において、NAND型フラッシュメモリ100−0〜100−Nを区別して説明する必要がない場合には、ハイフンを省略して「NAND型フラッシュメモリ100」として説明する。他の構成要素も同様である。
NAND型フラッシュメモリ100は、複数のメモリセルを備え、データを不揮発に記憶する。実施形態では、NAND型フラッシュメモリ100は2つのチャネル(チャネル0(ch0)及びチャネル1(ch1))を有する。コントローラ200は、NANDバスによって、チャネル毎にI/Fチップ400を介してNAND型フラッシュメモリ100に接続され、ホストバスによってホスト機器300に接続される。そして、コントローラ200はI/Fチップ400を介してチャネル毎にNAND型フラッシュメモリ100を制御する。また、コントローラ200はホスト機器300から受信した命令に応答して、I/Fチップ400を介してチャネル毎にNAND型フラッシュメモリ100にアクセスする。ホスト機器300は、例えばデジタルカメラやパーソナルコンピュータ等であり、ホストバスは、例えばSDTMインターフェイスに従ったバスである。
NANDバスは、NANDインターフェイスに従った信号の送受信を行う。実施形態では、図1に示すように、コントローラ200とI/Fチップ400との間は、2つのチャネルのNANDインターフェイスによって接続される。なお、ここでは、チャネル毎にNANDインターフェイスを設ける場合について示したが、チャネルの識別情報などを使用して、同一のNANDインターフェイスを使用しても良い。
この信号の具体例は、チップイネーブル信号CEn、アドレスラッチイネーブル信号ALE、コマンドラッチイネーブル信号CLE、ライトイネーブル信号WEn、リードイネーブル信号REn、入出力信号I/O及びデータストローブ信号DQSである。
信号CEnは、NAND型フラッシュメモリ100をイネーブルにするための信号であり、lowレベルでアサートされる。信号CLE及びALEは、NAND型フラッシュメモリ100への入力信号I/Oがそれぞれコマンド及びアドレスであることをNAND型フラッシュメモリ100に通知する信号である。信号WEnは、コマンドもしくはアドレスをlowレベルからHighレベルの遷移タイミングで取り込む信号である。信号REnもlowレベルでアサートされ、NAND型フラッシュメモリ100から出力信号I/Oを読み出すための信号である。信号BREnは、信号REnの相補信号であり、NAND型フラッシュメモリ100から出力信号I/Oを読み出すための信号である。
入出力信号I/Oは、例えば8ビットの信号である。そして入出力信号I/Oは、NAND型フラッシュメモリ100とコントローラ200との間で送受信されるデータの実体であり、コマンド、アドレス、書き込みデータ、及び読み出しデータ等である。
信号DQS及び信号DQSの相補信号BDQSは、送信側から信号I/O(データ)とともに出力される。データ受信側は、送信された信号DQS及び信号BDQSを受けてデータを取り込むタイミングを調整する。
信号DQS及び信号DQSの相補信号BDQSは、送信側から信号I/O(データ)とともに出力される。データ受信側は、送信された信号DQS及び信号BDQSを受けてデータを取り込むタイミングを調整する。
1.1.2 NAND型フラッシュメモリ100の構成について
次に、NAND型フラッシュメモリ100の構成について説明する。図1に示すように、NAND型フラッシュメモリ100は、メモリセルアレイ110、ロウデコーダ120、ドライバ回路130、センスアンプ140、アドレスレジスタ150、コマンドレジスタ160、及びシーケンサ170を備える。
次に、NAND型フラッシュメモリ100の構成について説明する。図1に示すように、NAND型フラッシュメモリ100は、メモリセルアレイ110、ロウデコーダ120、ドライバ回路130、センスアンプ140、アドレスレジスタ150、コマンドレジスタ160、及びシーケンサ170を備える。
メモリセルアレイ110は、ロウ及びカラムに対応付けられた複数の不揮発性のメモリセルの集合体である例えば4つのブロックBLK(BLK0〜BLK3)を備えている。そしてメモリセルアレイ110は、コントローラ200から与えられたデータを記憶する。
ロウデコーダ120は、ブロックBLK0〜BLK3のいずれかを選択し、更に選択したブロックBLKにおけるロウ方向を選択する。
ドライバ回路130は、選択されたブロックBLKに対して、ロウデコーダ120を介して電圧を供給する。
センスアンプ140は、データの読み出し時には、メモリセルアレイ110から読み出されたデータをセンスし、必要な演算を行う。そして、このデータDATをコントローラ200に出力する。データの書き込み時には、コントローラ200から受信した書き込みデータDATを、メモリセルアレイ110に転送する。
アドレスレジスタ150は、コントローラ200から受信したアドレスADDを保持する。コマンドレジスタ160は、コントローラ200から受信したコマンドCMDを保持する。
シーケンサ170は、コマンドレジスタ160に保持されたコマンドCMDに基づき、NAND型フラッシュメモリ100全体の動作を制御する。
なおメモリセルアレイ110は、メモリセルトランジスタが半導体基板の上方に三次元に積層された構成であっても良い。このような構成については、例えば、“三次元積層不揮発性半導体メモリ”という2009年3月19日に出願された米国特許出願12/407,403号に記載されている。また、“三次元積層不揮発性半導体メモリ”という2009年3月18日に出願された米国特許出願12/406,524号、“不揮発性半導体記憶装置及びその製造方法”という2010年3月25日に出願された米国特許出願12/679,991号“半導体メモリ及びその製造方法”という2009年3月23日に出願された米国特許出願12/532,030号に記載されている。これらの特許出願は、その全体が本願明細書において参照により援用されている。
1.1.3 I/Fチップ400の構成について
図2は、実施形態のI/Fチップ400の構成を示す図である。
図2は、実施形態のI/Fチップ400の構成を示す図である。
I/Fチップ400は、チャネル毎にI/F回路500を有している。実施形態では、複数のNAND型フラッシュメモリ100−0〜100−Nのそれぞれは、チャネル0(ch0)又はチャネル1(ch1)のいずれかのチャネルに接続される。
従って、2つのチャネル(チャネル0(ch0)及びチャネル1(ch1))により、(N+1)個のNAND型フラッシュメモリ100−0〜100−Nに対して同時にアクセス出来る。
チャネル0(ch0)のI/F回路500−0は、コントローラ200からチャネル0(ch0)のNAND型フラッシュメモリ100への信号I/Oなどの入力を行なう入力I/F410−0及びチャネル0(ch0)のNAND型フラッシュメモリ100からコントローラ200への信号I/Oなどの出力を行なう出力I/F420−0を有する。
チャネル1(ch1)のI/F回路500−1は、コントローラ200からチャネル1(ch1)のNAND型フラッシュメモリ100への信号I/Oなどの入力を行なう入力I/F410−1及びチャネル1(ch1)のNAND型フラッシュメモリ100からコントローラ200への信号I/Oなどの出力を行なう出力I/F420−1を有する。
入力I/F410−0は、コントローラ200からチャネル0(ch0)に入力される信号(CEn、ALE、CLE、WEn、REn、BREn、I/O、DQS、BDQS)を対応するチャネル0(ch0)のNAND型フラッシュメモリ100に繋げるためのインターフェイスである。
入力I/F410−1は、コントローラ200からチャネル1(ch1)に入力される信号(CEn、ALE、CLE、WEn、REn、BREn、I/O、DQS、BDQS)を対応するチャネル1(ch1)のNAND型フラッシュメモリ100に繋げるためのインターフェイスである。
出力I/F420−0は、チャネル0(ch0)のNAND型フラッシュメモリ100から出力されるデータ(信号I/O)をコントローラ200のチャネル0(ch0)に繋げるためのインターフェイスである。
出力I/F420−1は、チャネル1(ch1)のNAND型フラッシュメモリ100から出力されるデータ(信号I/O)をコントローラ200のチャネル1(ch1)に繋げるためのインターフェイスである。
1.1.4 I/Fチップ400のパッドPaの配置構成
図3は、第1実施形態に係る2チャネル構成のI/Fチップ400のパッドPaの配置構成を示す図である。
図3は、第1実施形態に係る2チャネル構成のI/Fチップ400のパッドPaの配置構成を示す図である。
チャネル0(ch0)側について説明する。同図に示すように、チャネル0(ch0)側のI/O回路10−0〜10−7は、それぞれコントローラ200のチャネル0(ch0)との信号I/Oの入出力のために使用されるパッドPa及びコントローラ200のチャネル0からパッドPaを介して入力される信号を受信するインプットレシーバIRを有する。
DQS回路11、BDQS回路12、REn回路13及びBREn回路14は、それぞれコントローラ200のチャネル0(ch0)と信号の入出力のために使用されるパッドPaを有する。DQS回路11及びBDQS回路12は、それぞれインプットレシーバIRを独立に有する。REn回路13及びBREn回路14は、インプットレシーバIRを共通にする。
制御回路21−1〜21−4は、それぞれコントローラ200のチャネル0側の信号の入出力のために使用されるパッドPa及びコントローラ200のチャネル0からパッドPaを介して入力される信号を受信するインプットレシーバIRを有する。制御回路21−1〜21−4において入出力される信号は、信号(I/O、DQS、BDQS、REn、BREn)以外の信号(CEn、ALE、CLE、WEn)である。
パッドPaは、その上にマイクロバンプMBPが形成され、このマイクロバンプMBPを介して、I/Fチップ400とコントローラ200のチャネル0(ch0)とを電気的に接続する。すなわち、I/Fチップ400の対応する回路(I/O回路10、DQS回路11、BDQS回路12、REn回路13及びBREn回路14及び制御回路21)とコントローラ200との信号の通信は、パッドPaを介して行なわれる。
また、I/Fチップ400の対応する回路とアドレス選択により選択されたNAND型フラッシュメモリ100との通信は、マイクロバンプ領域A−1〜A−3の対応するパッド(図示せず)及びマイクロバンプMBPを介して行なわれる。なお、I/Fチップ400、コントローラ200及びNAND型フラッシュメモリ100の接続関係については、図6を使用して後述する。
チャネル0(ch0)側のI/O回路10−0〜10−3、BDQS回路12及びDQS回路11のパッドPaは、I/Fチップ400の内側から外側にかけて一列に配置されている。同様に、チャネル0(ch0)側のI/O回路10−7〜10−4、REn回路13及びBREn回路14のパッドPaは、I/Fチップ400の内側から外側にかけて一列に配置されている。I/O回路10−0〜10−7の各インプットレシーバIRと、I/O回路10−0〜10−7の対応する各パッドPaとの間の配線の距離は、一定である。
また、各I/O回路10−0〜10−3のパッドPaは、DQS回路11及びBDQS回路12のパッドPaよりもI/Fチップ400の内側に配置される。各I/O回路10−4〜10−7のパッドPaは、REn回路13及びBREn回路14のパッドPaよりもI/Fチップ400の内側に配置される。
チャネル0(ch0)のデータ入力用ラッチDINは、I/O回路10−0〜10−7、DQS回路11及びBDQS回路12の各インプットレシーバIRと配線により接続されている。
データ入力用ラッチDINは、I/O回路10−0〜10−3、DQS回路11及びBDQS回路12の各パッドPaの列と、I/O回路10−4〜10−7、REn回路13及びBREn回路14の各パッドPaの列との間に配置される。データ入力用ラッチDINの配置をこのように構成することにより、I/O回路10−0〜10−7の各インプットレシーバIRと、データ入力用ラッチDINとの配線の長さを略均一にすることができる。
チャネル0(ch0)側の各制御回路21−1〜21−4は、インプットレシーバIR及びパッドPaを有する。各制御回路21−1〜21−4のパッドPaは一列に配置されている。制御回路21−1〜21−4のパッドPaの列は、I/O回路10−0〜10−3、DQS回路11及びBDQS回路12のパッドPaの列及びI/O回路10−4〜10−7、REn回路13及びBREn回路14のパッドPaの列に対して、直交する方向の列である。
次に、チャネル1(ch1)側について説明する。チャネル1(ch1)側の構成は、上述のチャネル0(ch0)側の構成と同様であるが、その配置が異なる。すなわち、チャネル1(ch1)側のI/O回路10−0〜10−7、DQS回路11、BDQS回路12、REn回路13及びBREn回路14は、チャネル0(ch0)側の回路(I/O回路10−0〜10−7、DQS回路11、BDQS回路12、REn回路13及びBREn回路14)とチャネル1(ch1)側の回路(I/O回路10−0〜10−7、DQS回路11、BDQS回路12、REn回路13及びBREn回路14)との中心に対して、点対称に配置される。
また、チャネル1(ch1)側の各制御回路21−1〜21−4は、チャネル0(ch0)側の各制御回路21−1〜21−4とチャネル1(ch1)側の各制御回路21−1〜21−4との中心に対して、点対称に配置される。
チャネル0(ch0)側のIO回路10−4〜10−7、REn回路13、BREn回路14が形成される領域と、チャネル1(ch1)側のIO回路10−0〜10−3、DQS回路11及びBDQS回路12が形成される領域との間の領域には、マイクロバンプ領域A−1が形成される。
チャネル0(ch0)側のIO回路10−0〜10−3、DQS回路11及びBDQS回路12が形成される領域と、チャネル1(ch1)側のIO回路10−4〜10−7、REn回路13及びBREn回路14が形成される領域との間の領域には、マイクロバンプ領域A−2が形成される。
チャネル0(ch0)側の制御回路21−1〜21−4が形成される領域と、チャネル1(ch1)側の制御回路21−1〜21−4が形成される領域との間の領域には、マイクロバンプ領域A−3が形成される。その他、電圧発生回路が形成される領域などがある。マイクロバンプ領域A−1、A−2、及びA−3には図示せぬパッドが形成され、このパッドには、コアチップCC−8と接続するためのマイクロバンプMBPが形成される。
1.1.5 IFチップ400のデータ入出力の回路構成
図4は、実施形態のI/Fチップ400のデータ入力(データ書き込み)側の各I/O回路10のインプットレシーバIRとデータ入力用ラッチDINとの配線を示す図である。これらインプットレシーバIRとデータ入力用ラッチDINとは、チャネル毎の配線関係を示している。
図4は、実施形態のI/Fチップ400のデータ入力(データ書き込み)側の各I/O回路10のインプットレシーバIRとデータ入力用ラッチDINとの配線を示す図である。これらインプットレシーバIRとデータ入力用ラッチDINとは、チャネル毎の配線関係を示している。
同図に示すように、各I/O回路10−0〜10−7のパッドPaと、各I/O回路10−0〜10−7のインプットレシーバIRとは、パッド配線により接続されている。
各I/O回路10−0〜10−7のインプットレシーバIR(例えば、図3のチャネル0(ch0)側のI/O回路10−0〜10−7のインプットレシーバIR)とデータ入力用ラッチDIN(例えば、図3のチャネル0(ch0)側のデータ入力用ラッチDIN)とは配線により接続されている。I/Fチップ400では、各I/O回路10−0〜10−7のパッドPaと、パッドPaに対応するインプットレシーバIRとの距離はそれぞれ一定である。実施形態では、各I/O回路10−0〜10−7のインプットレシーバIRとデータ入力用ラッチDINとの間の配線の長さが、従来のI/Fチップ400に比して、短くなるように設計される。
データ入力用ラッチDINには、コントローラ200から送られたDQS回路11のパッドPaを介してインプットレシーバIRに入力される信号DQS及びBDQS回路12のパッドPaを介してインプットレシーバIRに入力される信号BDQSがトリガー信号として入力される。データ入力用ラッチDINは、マイクロバンプ領域A−1、A−2の対応するマイクロバンプMBPのパッドPa’に接続されており、入力されたトリガー信号(信号DQS、信号BDQS)を基に、各I/O回路10−0〜10−7のインプットレシーバIRで受信した信号I/O(8ビット)をラッチする。
データ入力用ラッチDINによってラッチされたデータは、マイクロバンプ領域A−1、A−2の対応するパッドPa’及びマイクロバンプMBPを介して、アドレス選択により選択されたNAND型フラッシュメモリ100に出力される。NAND型フラッシュメモリ100には、例えば、8×mビット(mは任意の整数)でデータが出力される。
図5は、実施形態のI/Fチップ400のデータ出力(データ読み出し)側のREn回路13のインプットレシーバIRと各I/O回路10のMUX620との配線を示す図である。これらインプットレシーバIRとMUX620とは、チャネル毎の配線関係を示している。
同図に示すように、REn回路13のパッドPaと、REn回路13のインプットレシーバIRとは、パッド配線により接続されている。また、REn回路13のインプットレシーバIRと、各I/O回路10のMUX620とは、I/Fチップ400の内部配線により接続されている。
各I/O回路10のMUX620は、マイクロバンプ領域A−1、A−2の対応するマイクロバンプMBPのパッドPa’に接続されている。また、各I/O回路10のMUX620は、パッド配線(8ビット)により、各I/O回路10のパッドPaに接続されている。MUX620は、NAND型フラッシュメモリ100からのバッファに格納された対応する読み出しデータをREn回路13のインプットレシーバIRからの信号REnに基づいて選択する。NAND型フラッシュメモリ100からは、例えば、8×nビット(nは任意の整数)でデータが出力される。
また、REn回路13のインプットレシーバIRからの信号REnに基づいて、DQS回路11及びBDQS回路12内のMUX回路において、信号DQS及び信号BDQSが生成される。生成された信号DQS及び信号BDQSは、DQS回路11及びBDQS回路12のパッドPaを介してコントローラ200のチャネル0(ch0)に出力される。
I/O回路10−0〜10−7のMUX620で選択された読み出しデータは、プレドライバによって駆動された出力ドライバを介して、I/Fチップ400において生成された信号DQS及び信号BDQSの立下りを使用してダブルデータレートで、各I/O回路10のパッドPaを介してコントローラ200に出力される。
実施形態では、REn回路13のインプットレシーバIR610とI/O回路10−0〜10−7のMUX620との間の配線の長さが、従来のI/Fチップ400に比して、短くなるように設計される。
なお、実施形態では、I/O回路10−0〜10−7のMUX620について説明するが、出力回路の他のコンポーネント(例えば、プレドライバなど)であっても良い。
1.1.6 I/Fチップ400及びNAND型フラッシュメモリ100の実装について
図6は、実施形態のI/Fチップ400とNAND型フラッシュメモリ100との実装方法を示す断面図である。なお、図1では(N+1)個のNAND型フラッシュメモリ100の場合を示したが、図6では、8個のコアチップCC−1〜CC−8それぞれに、1つのNAND型フラッシュメモリ100が搭載されている2チャネル構成の半導体装置を示している(N=7)。
図6は、実施形態のI/Fチップ400とNAND型フラッシュメモリ100との実装方法を示す断面図である。なお、図1では(N+1)個のNAND型フラッシュメモリ100の場合を示したが、図6では、8個のコアチップCC−1〜CC−8それぞれに、1つのNAND型フラッシュメモリ100が搭載されている2チャネル構成の半導体装置を示している(N=7)。
同図に示すように、実装基板S上にはI/Fチップ400が搭載されている。半導体基板Sの上面には複数のラージバンプLBP(LBP−1〜LBP−4)が形成されている。また、I/Fチップ400の上面には、複数のマイクロバンプMBP(MBP−1〜MBP−3)が形成されている。ラージバンプLBP及びマイクロバンプMBPは、複数のコアチップCC(CC−1〜CC−8)を積層するために、基板Sの上面からの高さが同じとなるように形成される。
基板Sの下面には複数のバンプBP(BP−1〜BP−9)が形成されている。バンプBPとラージバンプLBPとは、基板S内に形成された配線を介して電気的に接続されている。バンプBPは、基板Sの外部との入出力信号のために使用される。実施形態では、例えば、バンプBP−1は各コアチップCC−1〜CC−8に供給される電源などのために使用される。バンプBP−2〜BP−9は、コントローラ200とI/Fチップ400との間で伝送される入出力信号I/Oに使用される。
ラージバンプLBP及びマイクロバンプMBP上には、複数のコアチップCC(CC−1〜CC−8)が積層される。各コアチップCC−1〜CC−8は、チップを貫通する電極(TSV)及びバンプBP−Aを使用して積層されている。このような構造は、BGA(Ball Grid Array)と呼ばれ、入出力のピンが多いパッケージ方式の1つである。
なお、図6では、バンプBP1〜BP9、ラージバンプLBP−1〜LBP−4及びマイクロバンプMBP−1〜MBP−4のみを示しているが、実装基板Sには、他の入出力信号などのための図示せぬバンプBP、ラージバンプLBP及びマイクロバンプMBPが設けられている。
図6の例であると、コアチップCC−2〜CC−8は、フェイスアップで実装基板上に搭載され、最上層のコアチップCC−1は、フェイスダウンでコアチップCC−2上に搭載される。そして、各コアチップCC(CC−1〜CC−8)内には、図1で説明したNAND型フラッシュメモリ100が形成される。なお、コアチップCC−2〜CC−8は、フェイスダウンで実装基板上に搭載されていても良い。
最下層のコアチップCC−8の下面(NAND型フラッシュメモリ100が形成される基板Sの上面と反対側)には、再配線層RDL(RDL−1〜RDL−4及び図示せぬ再配線層RDL)が形成される。再配線層RDLは、基板S上に形成されたラージバンプLBPを、パッドPを介してTSVに電気的に接続する。また、再配線層RDLは、基板S上に形成されたラージバンプLBPをマイクロバンプMBPに電気的に接続する。
具体的には、バンプBP−1は、基板S内の配線、ラージバンプLBP−1、再配線層RDL−1、パッドP−1を介して、TSVに電気的に接続される。バンプBP−2〜BP−9及び図示せぬBPは、基板S内の配線、ラージバンプLBP、再配線層RDL、マイクロバンプMBP及びパッドPa(図示せず)を介してI/Fチップ400に電気的に接続される。I/Fチップ400は、マイクロバンプMBP、再配線層RDL及びパッドPa’、TSVを介して各コアチップCCに電気的に接続される。
TSVは、各コアチップCC−2〜CC−8を貫通するように形成されている。各コアチップCC−2〜CC−8のTSVは、上層及び/又は下層の他のコアチップCCに電気的に接続するためのものである。コアチップCC−1は、フェイスダウンで搭載されているため、TSVは形成されていない。コアチップCC−1に形成されたNAND型フラッシュメモリ100は、バンプBP−Aと、パッド(図示せず)を介してコアチップCC−2のTSVに電気的に接続される。コアチップCC−2〜CC−8の各TSVは、バンプBP−Aを介して他の上層及び/又は下層のコアチップCCのTSVに電気的に接続される。
1.2 動作について
以下、第1実施形態のI/Fチップ400のチャネル0(ch0)についての読み出しの動作を図7のタイミングチャートを参照して説明する。なお、ここではチャネル0(ch0)について説明するが、チャネル1(ch1)についての動作も同様である。
以下、第1実施形態のI/Fチップ400のチャネル0(ch0)についての読み出しの動作を図7のタイミングチャートを参照して説明する。なお、ここではチャネル0(ch0)について説明するが、チャネル1(ch1)についての動作も同様である。
実施形態のメモリシステムでは、DDR方式を採用し、信号DQS及び信号BDQSを使用して、NAND型フラッシュメモリ100に対して、読み出し及び書き込みを行なう。
読み出しの場合、コントローラ200からI/Fチップ400にチャネル0(ch0)について、データ出力コマンドが入力され、次に、チップアドレス信号により、対応するNAND型フラッシュメモリ100が選択される。具体的には、データ出力コマンド及びチップアドレス信号は、基板Sの下面に取り付けられたバンプBP、基板S内部に形成された配線を介して、基板Sの上面に取り付けられたラージバンプLBPに伝達される。ラージバンプLBPに伝達されたデータ出力コマンド及びチップアドレス信号は、コアチップCC−8の下面に取り付けられた再配線層RDL、I/Fチップ400の上面に形成されたマイクロバンプMBPを通り、チャネル0(ch0)側のIO回路10−0〜10−7のパッドPa、インプットレシーバIR、データ入力用ラッチDIN、マイクロバンプ領域A−1、A−2の対応するマイクロバンプMBPへ出力される。これにより、対応する対応するNAND型フラッシュメモリ100が選択される。
次に、コントローラ200から、チャネル0(ch0)についてリードイネーブル信号REnが発行される。信号REnは、基板Sの下面に取り付けられたバンプBP、基板S内部に形成された配線を介して、基板Sの上面に取り付けられたラージバンプLBPに伝達される。ラージバンプLBPに伝達された信号REnは、コアチップCC−8の下面に取り付けられた再配線層RDL、I/Fチップ400の上面に形成されたマイクロバンプMBPを通り、チャネル0(ch0)側のREn回路13のパッドPaに到達する。
パッドPaに到達した信号REnは、REn回路13のインプットレシーバIRを介して、内部信号REnとしてマイクロバンプ領域A−1、A−2内の対応するマイクロバンプMBPへ出力される。内部信号REnは、マイクロバンプMBP、再配線層RDL、コアチップCC−8のTSVのパッドP、コアチップCC−1〜CC−7のTSV、BP−Aを通り、アドレス選択信号により選択されたNAND型フラッシュメモリ100に伝達される(図7(a): CNT→I/F→NAND)。
なお、信号(I/O、DQS、BDQS、REn、BREn)以外の信号(CEn、ALE、CLE、WEn)については、制御回路21−1〜21−4の各パッドPa、Pa´を介して、コントローラ200とNAND型フラッシュメモリ100と送受信が行なわれる。
チャネル0(ch0)に対応するNAND型フラッシュメモリ100は、信号REnを受信すると、信号REnの立下りに応じて、指定されたアドレスのデータを読み出す(図7(b): NAND→I/F)。読み出されたデータは、信号I/Oとして、コアチップCCのTSV、バンプBP−A、コアチップCC−8の再配線層RDL、マイクロバンプ領域A−1、A−2にの対応するマイクロバンプMBPを通過し、パッドPa’を介して、チャネル0(ch0)側のI/Fチップ400のI/O回路10−0〜10−7のMUX620に入力される。
MUX620は、チャネル0(ch0)側のI/O回路10−0〜10−7に設けられており、NAND型フラッシュメモリ100からのバッファに格納された対応する読み出しデータを選択する。
I/Fチップ400は、REn信号に基づいて生成された信号DQS及び信号BDQSをDQS回路11のパッドPa及びBDQS回路のパッドPaから出力する。また、MUX620で選択された対応する読み出しデータは、I/Fチップ400においてREn信号に基づいて生成された信号DQS及び信号BDQSと同期したタイミングで、対応するチャネル0(ch0)のI/O回路10−0〜10−7のパッドPaからダブルデータレートで出力される。パッドPaから出力された信号I/O、信号DQS及び信号BDQSは、マイクロバンプMBP、再配線RDL、ラージバンプLBP、基板S内部の配線、バンプBPを介してコントローラ200に出力される(図7(c)〜(e): I/F→CNT)。
書き込み動作の場合、コントローラ200から、チャネル0(ch0)について、信号I/O、信号DQS及び信号BDQSが出力される。信号I/O、信号DQS及び信号BDQSは、基板Sの下面に取り付けられたバンプBP、基板S内部に形成された配線を介して、基板Sの上面に取り付けられたラージバンプLBPに伝達される。ラージバンプLBPに伝達された信号I/O、信号DQS及び信号BDQSは、コアチップCC−8の下面に取り付けられた再配線層RDL、I/Fチップ400の上面に形成されたマイクロバンプMBPを通り、チャネル0(ch0)側のI/O回路10−0〜10−7、DQS回路11及びBDQS回路12のパッドPaに到達する。
パッドPaに到達した信号I/O、信号DQS及び信号BDQSは、I/O回路10−0〜10−7、DQS回路11及びBDQS回路12のインプットレシーバIR、データ入力用ラッチDINを介して、マイクロバンプ領域A−1、A−2内の対応するマイクロバンプMBPへ出力される。信号I/O、信号DQS及び信号BDQSは、マイクロバンプMBP、再配線層RDL、コアチップCC−8のTSVのパッドP、コアチップCC−1〜CC−7のTSV、BP−Aを通り、アドレス選択信号により選択されたNAND型フラッシュメモリ100に伝達され、センスアンプを介して書き込まれる。
なお、上述の実施形態では、チャネルch毎に、I/O回路10−0〜10−7のパッドPaの数を均等にわける場合(I/O回路10−0〜10−3、I/O回路10−4〜10−7)について説明したが、必ずしも同じ数でなくても良い。
また、実施形態では、2チャネル構成のI/Fチップ400を示したが、I/Fチップ400は単一チャネルであっても良い。また、I/Fチップ400は、3チャネル以上であっても良い。
1.3 効果について
1.3.1 比較例
図8は、比較例のパッドの配置の構成を示す図である。
1.3.1 比較例
図8は、比較例のパッドの配置の構成を示す図である。
チャネル0(ch0)について説明する。同図に示すように、比較例のパッドPaの配置は、チャネル0(ch0)側において、I/O回路10−0〜10−3、BDQS回路12、DQS回路11のパッドPaは一列に並んでいる。また、I/O回路10−4〜10−7、REn回路13、BREn回路14のパッドPaは、一列に並んでいる。さらに、制御回路21−1〜21−4のパッドPaは、一列に並んでいる。これら3つの列は同じ方向に並んでいる。
データ入力用ラッチDINは、I/O回路10−0〜10−3、BDQS回路12及びDQS回路11のパッドPaの列と、I/O回路10−4〜10−7、REn回路13及びBREn回路14のパッドPaの列との間ではない領域に配置されている。
このようにパッドPaを配置した場合、I/O回路10−0〜10−7の構成は同一であり(言い換えれば、各I/O回路10−0〜10−7におけるパッドPaの位置は同じであり)、各I/O回路10−0〜10−7のパッドPaとインプットレシーバIRとの距離は略同一であることから、各I/O回路10−0〜10−7のインプットレシーバIRとデータ入力用ラッチDINとの距離が、入力データ線の長さに影響を与える。
図8に示したパッドPaの配置の場合、入出力データ線は、各I/O回路10−0〜10−7のパッドPaまで延びることになる。したがって、入力データ線については、データ入力用ラッチDINから一番遠いI/O回路10−0、10−7のパッドPaまでの距離と、一番近いI/O回路10−3、10−4との距離との間で最も相違が生ずる。
これにより、データ線の長さの相違に起因する波形の変化、I/O間のタイミングスキューを招く。I/O間のタイミングスキューを最小化するために、データ入力用ラッチDINから最も遠いI/O回路(図8の10−0、10−7)へのデータ線の長さに合わせて、それ以外のI/O回路(図8の10−1〜10−6)へのデータ線を延ばして長さを合わせることが行なわれる。この場合、データ線を延ばすことによる寄生容量の増大が発生し、消費電流の増大を招く。
出力データ線については、共通の信号REnに基づいて、信号I/Oが出力されるので、REn回路13と出力回路(例えば、MUX620)との距離が問題になる。比較例によれば、一番近いI/O回路10−4と、一番遠いI/O回路10−0との距離との間で最も相違が生ずる。
1.3.2 第1実施形態の効果
第1実施形態の半導体装置のI/Fチップ400によれば、図3に示すように、同一チャネルのI/O回路10−0〜10−7のパッドPaを2列に配置し、両者が対向するように配置されている。そして、対向するこれら2列のパッドPaの間に、データ入力用ラッチDINがある。このような構成により、各I/O回路10−0〜10−7とデータ入力用ラッチDINとの間の距離を比較例に比して、短縮することができる。これにより、各I/O回路10からの信号I/Oタイミングを揃えるために、データ入力用ラッチDINから最も遠いI/O回路10(図8のI/O回路10−0、10−7)のデータ線の長さに合わせて、それ以外のI/O回路10(図8のI/O回路10−1〜10−6)のデータ線を延ばす距離を抑制することができる。その結果、消費電流の増大を最小にすることができる。
第1実施形態の半導体装置のI/Fチップ400によれば、図3に示すように、同一チャネルのI/O回路10−0〜10−7のパッドPaを2列に配置し、両者が対向するように配置されている。そして、対向するこれら2列のパッドPaの間に、データ入力用ラッチDINがある。このような構成により、各I/O回路10−0〜10−7とデータ入力用ラッチDINとの間の距離を比較例に比して、短縮することができる。これにより、各I/O回路10からの信号I/Oタイミングを揃えるために、データ入力用ラッチDINから最も遠いI/O回路10(図8のI/O回路10−0、10−7)のデータ線の長さに合わせて、それ以外のI/O回路10(図8のI/O回路10−1〜10−6)のデータ線を延ばす距離を抑制することができる。その結果、消費電流の増大を最小にすることができる。
また、このような構成を採用することにより、各I/O回路10−0〜10−7、DQS回路11及びBDQS回路12へ供給される出力用クロックの距離を比較例に比して、均一化することができる。その結果、信号I/O、信号DQS及び信号BDQS間の出力タイミングのスキューを抑制することができる。また、出力タイミングスキューを最小化するために、REn回路13及びBREn回路14から最も遠い回路(図8の場合、I/O回路10−0)への出力クロック信号の長さに合わせて、それ以外の回路(I/O回路10−1〜10−7、DQS回路11及びBDQS回路12)への出力クロック信号を延ばして長さを合わせることが行なわれることがある。その場合でも、寄生容量の増大を比較例に比して抑制できるので、消費電流の増大を最小限にすることができる。
従って、第1実施形態によれば、複数の入出力データ線の長さの相違に起因する波形の変化、I/O間のタイミングスキューを抑制することができる。特に、高速で動作するメモリシステムであっても、タイミングマージンを向上させることができる。また、入出力データ線の寄生容量が削減されるため、消費電力を削減することができる。
2. 第2実施形態
次に、第2実施形態に係るメモリシステムについて説明する。第2実施形態以降の実施形態は、I/Fチップ400の構成を除き、第1実施形態の構成と同様であるので、ここでは異なる部分についてのみ述べる。
次に、第2実施形態に係るメモリシステムについて説明する。第2実施形態以降の実施形態は、I/Fチップ400の構成を除き、第1実施形態の構成と同様であるので、ここでは異なる部分についてのみ述べる。
図9は、第2実施形態に係るI/Fチップ400のパッドPaの配置構成を示す図である。同図に示すように、第1実施形態に比して、I/O回路10−0〜10−7、DQS回路11、BDQS回路12、REn回路13及びBREn回路14の配置が異なる。
具体的には、チャネル0(ch0)側のI/O回路10−0、10−1、BDQS回路12、DQS回路11、I/O回路10−2、10−3のパッドPaは、I/Fチップ400の内側から外側にかけて一列に配置されている。同様に、チャネル0(ch0)側のI/O回路10−7、10−6、REn回路13、BREn回路14、IO回路10−5、10−4のパッドPaは、I/Fチップ400の内側から外側にかけて一列に配置されている。
すなわち、第2実施形態ではBDQS回路12及びDQS回路11のパッドPaをI/O回路10−0、10−1のパッドPaと、I/O回路10−2、10−3のパッドPaとの間に配置する。また、BREn回路14及びREn回路13のパッドPaをI/O回路10−4、10−5のパッドPaと、I/O回路10−6、10−7のパッドPaとの間に配置する。
次に、チャネル1(ch1)側について説明する。チャネル1(ch1)側の構成は、上述のチャネル0(ch0)側の構成と同様であるが、その配置が異なる。すなわち、チャネル1(ch1)側の回路(I/O回路10−0〜10−7、DQS回路11、BDQS回路12、REn回路13及びBREn回路14)は、チャネル0(ch0)側の回路(I/O回路10−0〜10−7、DQS回路11、BDQS回路12、REn回路13及びBREn回路14)とチャネル1(ch1)側の回路(I/O回路10−0〜10−7、DQS回路11、BDQS回路12、REn回路13及びBREn回路14)との中心点に対して、点対称に配置される。
第2実施形態によれば、第1実施形態の効果に加えて、REn回路13及びBREn回路14の入力バッファから生成される出力用クロック信号の配線を更に短くすることができる。
3. 第3実施形態
図10は、第3実施形態に係るI/Fチップ400のパッドPaの配置構成を示す図である。
図10は、第3実施形態に係るI/Fチップ400のパッドPaの配置構成を示す図である。
第3実施形態では、図3に示した第1実施形態のI/O回路10−0〜10−7、BDQS回路12、DQS回路11、REn回路13及びBREn回路14のパッドPaの配置と比較して、チャネル0(ch0)側のI/O回路10−0〜10−3、BDQS回路12及びDQS回路11のパッドPaは、I/Fチップ400の内側から外側にかけて斜め方向に一列に配置されている。同様に、チャネル0(ch0)側のI/O回路10−4〜10−7、REn回路13及びBREn回路14のパッドPaは、I/Fチップ400の内側から外側にかけて斜め方向に一列に配置されている。
データ入力用ラッチDINは、I/O回路10−0〜10−3の各パッドPaの列と、I/O回路10−4〜10−7の各パッドPaの列との間に配置される。
次に、チャネル1(ch1)側について説明する。チャネル1(ch1)側の構成は、上述のチャネル0(ch0)側の構成と同様であるが、その配置が異なる。すなわち、チャネル1(ch1)側の回路(I/O回路10−0〜10−7、DQS回路11、BDQS回路12、REn回路13及びBREn回路14)は、チャネル0(ch0)側の回路(I/O回路10−0〜10−7、DQS回路11、BDQS回路12、REn回路13及びBREn回路14)とチャネル1(ch1)側の回路(I/O回路10−0〜10−7、DQS回路11、BDQS回路12、REn回路13及びBREn回路14)との中心点に対して、点対称に配置される。
第3実施形態によれば、第1実施形態の効果に加えて、I/Fチップ400の単体での評価が容易になる。すなわち、単体のI/Fチップ400評価時には、RDL配線がないため、ワイヤによりI/Fチップ400のパッドに接続する必要がある。第3実施形態では、各パッドPaを斜めにずらして配置することにより、このワイヤを容易にすることができる。
4. 第4実施形態
図11は、第4実施形態に係るI/Fチップ400のパッドPaの配置構成を示す図である。同図に示すように、第1実施形態に比して、I/O回路10−0〜10−7、DQS回路11、BDQS回路12、REn回路13及びBREn回路14の配置が異なる。
図11は、第4実施形態に係るI/Fチップ400のパッドPaの配置構成を示す図である。同図に示すように、第1実施形態に比して、I/O回路10−0〜10−7、DQS回路11、BDQS回路12、REn回路13及びBREn回路14の配置が異なる。
具体的には、チャネル0(ch0)側のI/O回路10−0、10−1、BDQS回路12、DQS回路11、I/O回路10−2、10−3のパッドPaは、I/Fチップ400の内側から外側にかけて斜め方向に一列に配置されている。同様に、チャネル0(ch0)側のI/O回路10−6、10−7、REn回路13、BREn回路14、I/O回路10−4、10−5のパッドPaは、I/Fチップ400の内側から外側にかけて斜め方向に一列に配置されている。
すなわち、第4実施形態ではBDQS回路12及びDQS回路11のパッドPaをI/O回路10−0、10−1のパッドPaと、I/O回路10−2、10−3のパッドPaとの間に配置する。また、BREn回路14及びREn回路13のパッドPaをI/O回路10−4、10−5のパッドPaと、I/O回路10−6、10−7のパッドPaとの間に配置する。
次に、チャネル1(ch1)側について説明する。チャネル1(ch1)側の構成は、上述のチャネル0(ch0)側の構成と同様であるが、その配置が異なる。すなわち、チャネル1(ch1)側の回路(I/O回路10−0〜10−7、DQS回路11、BDQS回路12、REn回路13及びBREn回路14)は、チャネル0(ch0)側の回路(I/O回路10−0〜10−7、DQS回路11、BDQS回路12、REn回路13及びBREn回路14)とチャネル1(ch1)側の回路(I/O回路10−0〜10−7、DQS回路11、BDQS回路12、REn回路13及びBREn回路14)との中心点に対して、点対称に配置される。
第4実施形態によれば、第3実施形態の効果に加えて、REn回路13及びBREn回路14の入力バッファから生成される出力用クロック信号の配線を更に短くすることができる。
5. 第5実施形態
図12は、第5実施形態に係るI/Fチップ400のパッドPaの配置構成を示す図である。同図においては、2チャネル構成のI/Fチップ400の配置構成を示している。
図12は、第5実施形態に係るI/Fチップ400のパッドPaの配置構成を示す図である。同図においては、2チャネル構成のI/Fチップ400の配置構成を示している。
チャネル0(ch0)側について説明する。制御回路21−1〜21−4、I/O回路10−0〜10−3、DQS回路11及びBDQS回路12のパッドPaの列の配置は、図9に示した第2実施形態と同様である。I/O回路10−4〜10−7のパッドPaの列は、I/Fチップ400の内側から外側にかけて一列に配置されている。
REn回路13及びBREn回路14のパッドPaの列は、I/O回路10−0〜10−3、DQS回路11及びBDQS回路12のパッドPaの列及びI/O回路10−4〜10−7のパッドPaの列と直交する方向に配置される。
また、データ入力用のラッチDINは、I/O回路10−0〜10−3、DQS回路11及びBDQS回路12のパッドPaの列と、I/O回路10−4〜10−7のパッドPaの列との間に配置する。
次に、チャネル1(ch1)側について説明する。チャネル1(ch1)側の構成は、上述のチャネル0(ch0)側の構成と同様であるが、その配置が異なる。すなわち、チャネル1(ch1)側の回路(I/O回路10−0〜10−7、DQS回路11、BDQS回路12、REn回路13及びBREn回路14)は、チャネル0(ch0)側の回路(I/O回路10−0〜10−7、DQS回路11、BDQS回路12、REn回路13及びBREn回路14)とチャネル1(ch1)側の回路(I/O回路10−0〜10−7、DQS回路11、BDQS回路12、REn回路13及びBREn回路14)との中心点に対して、点対称に配置される。
第5実施形態によれば、第1実施形態の効果に加え、さらに、REn回路13及びBREn回路14の入力バッファから生成される出力用クロック信号の配線を更に短くすることができる。
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
1…メモリシステム、100…NAND型フラッシュメモリ、200…コントローラ、300…ホスト機器、400…I/Fチップ、Pa、P…パッド、IR…インプットレシーバ、RDL…再配線層。
Claims (10)
- 第1チャネルのための複数の第1入出力回路と、
前記複数の第1入出力回路にそれぞれ対応する複数の第1入出力パッドと、
前記第1チャネルのための複数の第2入出力回路と、
前記複数の第2入出力回路にそれぞれ対応する複数の第2入出力パッドと、
前記複数の第1入出力パッドの列と、前記複数の第2入出力パッドの列との間に配置され、前記複数の第1入出力回路と、前記複数の第2入出力回路とからのデータのメモリへの入力を行なう入力回路と
を有し、
前記複数の第1入出力パッド及び前記複数の第2入出力パッドからメモリへ入力されるデータは、前記メモリにおいて、入力されるクロック信号の立ち上がり及び立ち下がりに基づいて取り込まれる、
半導体装置。 - メモリ装置との間で信号を送受信可能な半導体装置であって、
前記メモリ装置との間の第1チャネルに関連付けられ、少なくとも一列に配列された複数の第1入出力パッドと、
前記第1チャネルに関連付けられ、少なくとも一列に配列された複数の第2入出力パッドと、
前記複数の第1入出力パッドの列と、前記複数の第2入出力パッドの列との間に配置され、前記第1及び第2入出力パッドで受信されたデータを前記メモリ装置へ入力する入力回路と
を具備する半導体装置。 - 前記複数の第1及び第2入出力パッドは、前記第1チャネルのための複数の入出力回路にそれぞれ設けられ、
前記複数の入出力回路は、外部から受信したリードイネーブル信号に基づいて、それぞれ前記メモリ装置からのデータの一部を出力する出力回路をさらに具備する、
請求項2記載の半導体装置。 - 前記複数の第1入出力パッド及び前記複数の第2入出力パッドを介して前記メモリ装置へ入力されるデータは、前記メモリ装置において、入力されるクロック信号の立ち上がり及び立ち下がりに基づいて取り込まれる、
請求項2記載の半導体装置。 - リードイネーブル信号のためのリードイネーブル回路のパッドをさらに具備し、
前記リードイネーブル回路のパッドは、前記複数の第2入出力パッドの間に配置されている、
請求項2記載の半導体装置。 - 前記複数の第1入出力パッドの列及び前記複数の第2入出力パッド及び前記リードイネーブル回路のパッドの列は、前記半導体装置の基板の内側から外側にかけて斜め方向に配置されている、
請求項5記載の半導体装置。 - 前記リードイネーブル回路のパッドは、前記複数の第1入出力パッドの列と、前記複数の第2入出力パッドの列との間に配置される、
請求項5記載の半導体装置。 - 前記クロック信号のための制御用パッド
をさらに具備する請求項1又は請求項4記載の半導体装置。 - 他のチャネルのための第1入出力パッド、第2入出力パッド及び入力回路をさらに具備する請求項1又は請求項2記載の半導体装置。
- 基板を貫通する電極を備え、前記電極に接続されたメモリ装置がそれぞれ形成された複数のメモリチップと、
前記電極を介して、前記複数のメモリ装置との間でデータの送受信を行なうインターフェイスチップとを具備し、
前記複数のメモリチップは、前記インターフェイスチップ上に積層された第1メモリチップと、前記第1メモリチップ上に積層された第2メモリチップとを含み、
前記インターフェイスチップは、
前記メモリチップとの間の第1チャネルに関連付けられ、外部のコントローラと電気的に接続され、且つ少なくとも一列に配列された複数の第1入出力パッドと、
前記第1チャネルに関連付けられ、前記外部のコントローラと電気的に接続され、且つ少なくとも一列に配列された複数の第2入出力パッドと、
前記第1チャネルに関連付けられ、前記第1メモリチップの前記電極と電気的に接続された第3入出力パッドと、
前記複数の第1入出力パッドの列と、前記複数の第2入出力パッドの列との間に配置され、前記第1及び第2入出力パッドで受信されたデータを、前記第3入出力パッドを介して前記メモリチップへ入力する入力回路と
を具備する半導体装置。
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