JP4357810B2 - 鋳造装置及び鋳造方法 - Google Patents
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- C30B11/00—Single-crystal growth by normal freezing or freezing under temperature gradient, e.g. Bridgman-Stockbarger method
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、多結晶シリコンインゴット等を製造するための鋳造装置及び鋳造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えば、シリコン（Ｓｉ）や高融点金属など、大気中において鋳型に鋳込むと酸化しやすい材料に関しては、不活性ガスを吹き付けて鋳型近傍を不活性雰囲気にしつつ鋳造が行われる。特に、太陽電池等に用いられる多結晶シリコンインゴットを作製する場合、シリコン溶湯表面にアルゴン（Ａｒ）ガスを吹き付けながら鋳造を行う技術が用いられている。
【０００３】
このようにＡｒガスの供給により、溶湯から発生する酸化シリコン（ＳｉＯ）ガスを除去すると共にＳｉＯガスと炉材のカーボン（Ｃ）とが反応して生成される炭酸（ＣＯ）ガスが溶湯内に混入することを抑制している。特に、ＣＯガスが溶湯内に混入するとインゴットにカーボンが多く含まれてしまい製品特性に悪影響を及ぼすことが分かっている。
従来、上記カーボン混入を防ぐために、例えば特開２０００−１５８０９６号公報には、Ａｒガスの供給手段と共に鋳型上部に蓋を設けてＣＯガスの混入を防ぐ技術が採用されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来における鋳造技術には、以下の課題が残されている。すなわち、鋳型上部に蓋が存在すると原料を装填する際に装填可能な原料の量が制限されてしまう不都合があった。また、原料溶解中に溶解した原料表面のシリコン溶湯が飛散して蓋に付着し、不純物を取り込むおそれもあった。さらに、凝固終了直前には溶湯の残湯量が減少し、残湯の飛散が発生しやすくなるためＡｒガス量を減少させる必要があるが、Ａｒガス量を減少させるとガスの押出し効果が滅殺されてしまう問題があった。また、ガス量を増加させると、ガス圧により蓋が所定の位置から動いてしまうおそれもあった。
【０００５】
本発明は、前述の課題に鑑みてなされたもので、原料の十分な装填を可能にすると共に不純物混入を防ぐことができる鋳造装置及び鋳造方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、前記課題を解決するために以下の構成を採用した。すなわち、本発明の鋳造装置は、溶湯を収容し上部に開口部を有する鋳型と、該鋳型の上方に配置されたヒータと、前記溶湯浴面に向かって不活性ガスを供給するガス供給機構と、前記溶湯浴面とヒータとの間に配された蓋とを備えた鋳造装置であって、前記蓋を前記鋳型に対して相対的に移動させて前記鋳型上部の開口量を制御する蓋移動機構を備え、前記ガス供給機構は、前記不活性ガスの流量を制御するガス供給部と、前記ガス供給部から供給される不活性ガスを前記溶湯浴面に向かって吹き付けるガス管と、から構成され、前記蓋移動機構は、前記不活性ガスの流量に応じて、前記鋳型と前記蓋との間から流出する不活性ガスの流速が一定になるように前記開口量を調整することを特徴とする。
また、本発明の鋳造方法は、上部に開口部を有する鋳型に溶湯を収容すると共に、該溶湯浴面と溶湯浴面の上方に配置されたヒータとの間に蓋を配し、溶湯浴面に向かって不活性ガスを供給しながらヒータによる加熱を制御して溶湯を凝固させる鋳造方法であって、前記不活性ガスの流量に応じて前記蓋を前記鋳型に対して相対的に移動させて、前記鋳型と前記蓋との間から流出する不活性ガスの流速が一定になるように前記鋳型上部の開口量を制御することを特徴とする。
【０００７】
この鋳造装置では、蓋を鋳型に対して相対的に移動させて鋳型上部の開口量を制御する蓋移動機構を備えているので、例えば原料の装填に際し、蓋を移動させて十分に鋳型上部の開口量を確保することで十分な装填が可能になる。また、他の鋳造過程において、必要に応じて蓋を移動させて上記開口量を制御することができるので、種々の鋳造条件に対応させて良好な鋳造が可能になる。
【０００９】
すなわち、これらの鋳造装置及び鋳造方法では、不活性ガスの流量に応じて、鋳型と蓋との間から流出する不活性ガスの流速が一定になるように開口量を調整するので、例えば、溶湯浴面に供給される不活性ガスの流量が大きいほど開口量を大きくする調整により、鋳型と蓋との間から排出されるガスの流速を所定の速度に制御することができ、不活性ガスの流量にかかわらず不純物混入の抑制効果等を維持することができる。
【００１０】
また、本発明の鋳造装置は、前記蓋移動機構が、前記蓋を前記鋳型に対して上下移動、水平移動又は回転移動を行う機構を有することを特徴とする。すなわち、この鋳造装置では、蓋移動機構が、蓋を鋳型に対して上下移動、水平移動又は回転移動を行う機構を有するので、簡易な機構及び動作で開口量を制御することが可能である。
【００１１】
また、本発明の鋳造装置は、前記溶湯がシリコンの融液であり、前記蓋が、少なくとも下面が酸化シリコンガスに不活性な材料又はケイ化物で覆われていることが好ましい。すなわち、この鋳造装置では、溶湯がシリコンの融液であり、蓋が、少なくとも下面が酸化シリコンガスに不活性な材料又はケイ化物、例えばシリコンカーバイト（ＳｉＣ）で覆われているので、溶湯を凝固させて多結晶シリコンインゴットを得る際に、蓋下面がカーボンの場合に比べて蓋下面からの不純物混入を防ぐことができる。なお、少なくとも蓋下面が上記酸化シリコンガスに不活性な材料又はケイ化物であればよいが、蓋全体が当該材料で形成されていても構わない。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る鋳造装置及び鋳造方法の第１実施形態を、図１から図４を参照しながら説明する。
【００１３】
本実施形態の鋳造装置１は、太陽電池用の多結晶シリコンインゴットを作製するものであり、図１に示すように、溶湯７を収容し上部に開口部を有する鋳型２と、鋳型２の上方に配置された上部ヒータ３と、鋳型２の下方に配置された下部ヒータ４と、不活性ガス８を溶湯７浴面に向かって供給するガス管５と、溶湯７浴面と上部ヒータ３との間に配された蓋６とを備えている。これらは、保温材からなる天井部１０と底部１１と側壁部１２とによって囲まれている。また、これらの部材はチャンバ１７によって外気と遮断されている。さらに、鋳造装置１は、蓋６を鋳型２に対して相対的に移動させて鋳型２上部の開口量を制御する蓋移動機構Ｍを備えている。
【００１４】
有底筒状に形成された鋳型２は、図２に示すように、例えば平面視略正方形状の角型に形成されており、その開口部には平面視四角形の環状の上縁部２ａが形成されている。この鋳型２の内部には例えばシリコン融液からなる溶湯７が収容されている。
上記上部ヒータ３及び下部ヒータ４は、電極棒１５によって支持されている。また、貫通孔４ａに挿通した支持部９の上端には冷却板１３が設置されており、この冷却板１３の上面には鋳型２が載置されている。
【００１５】
モリブデン又はカーボン製のガス管５は、チャンバ１７を貫通して上下動可能に支持されており、該チャンバ１７から下方に延びるように設けられている。また、このガス管５は、上部ヒータ３の中心近傍に形成された貫通孔３ａに挿通している。このガス管５は、Ａｒガスなどの不活性ガス８を供給するガス供給部Ｇに接続され、該ガス供給部Ｇから供給された不活性ガス８が溶湯７の浴面に向かって吹き付けるようになっている。すなわち、ガス管５及びガス供給部Ｇはガス供給機構を構成している。このガス供給部Ｇは、鋳造方法の各工程において不活性ガス８の流量を制御する機構を有している。
【００１６】
ガス管５の下端部５ａ近傍には、鋳型２の開口部を覆うようにシリコンカーバイト（ＳｉＣ）製の蓋６が固定されており、溶湯７の浴面から離間させて配されている。なお、蓋６がＳｉＣ製であるので、溶湯７を凝固させて多結晶シリコンインゴットを得る際に、蓋６がカーボン製である場合に比べて蓋６下面からの不純物混入を防ぐことができる。
【００１７】
また、蓋移動機構Ｍは、モータ等からなり、ガス管５の上部に接続されて該ガス管５を介して蓋６を上下動させ、その高さ位置を制御する。
上記蓋６は、図２に示すように、鋳型２の開口部に合わせて平面視略正方形盤状に形成されている。また、蓋６の縁部６ａは、断面Ｌ字状に形成されており、該Ｌ字部分が上方に向かって設けられている。蓋６は、鋳型２の開口部面積より若干小さくなるように形成されており、蓋移動機構Ｍによる最低位置が鋳型２の上縁部２ａとほぼ同じ高さ位置に設定されている。そして、蓋６と上縁部２ａとの間には蓋６の外周に沿って間隙１４が形成されている。
【００１８】
蓋移動機構Ｍは、不活性ガス８の流量に応じて蓋６を鋳型２に対して相対的に上下に移動させて鋳型２上部の開口量を制御する機構を有し、具体的には、鋳型２と蓋６との間から流出する不活性ガス８の流速が一定になるように開口量を制御する。すなわち、ガス流量が多いときには間隙１４の開口量を大きく設定し、ガス流量が小さいときは間隙１４の開口量を小さくする。したがって、以下の関係式で示すと、
ガス流量／間隙の開口面積＝間隙から排出されるガス流速（一定）
となり、このガス流速が一定になるように制御される。
【００１９】
次に、本実施形態の鋳造装置１を用いた多結晶シリコンインゴットの鋳造方法を、図３及び図４を参照して説明する。
【００２０】
先ず、鋳型２内にＳｉの原料Ｓを装填する。この際、図３の（ａ）に示すように、蓋移動機構Ｍにより蓋６の位置を上部ヒータ３に当接しない限度まで上昇させた最高位置に配置しておく。これによって、原料投入作業が容易になると共に、最低位置に蓋６を配する場合に比べて多くの原料Ｓを鋳型２に装填することができる。
【００２１】
次に、上部ヒータ３と下部ヒータ４とを稼働させ、装填した原料Ｓを加熱して溶融させると共にガス供給部Ｇからガス管５を介して蓋６の中心近傍から溶湯浴面に不活性ガス８を供給する。この不活性ガス８は、蓋６の下面に沿って放射状に流れて間隙１４から排出される。この際、図４に示すように、ガス供給部Ｇからの不活性ガス８の流量を少な目にすると共に、図３の（ｂ）に示すように、この流量に応じて蓋移動機構Ｍにより蓋６の位置を最低位置よりも少し上昇させた位置に配しておく。これによって、加熱初期時のコンタミネーション及び原料Ｓの飛散を抑制することができる。なお、図４は、上側のグラフがヒータ制御パターンであって鋳型２内の温度を示すグラフであり、下側のグラフが不活性ガス（Ａｒガス）８の流量及び蓋６の開口量（間隙１４の開口量）を示すグラフである。
【００２２】
両ヒータによる加熱によって温度が所定の溶解温度まで上昇したら、この温度で一定の間、加熱を行う。この際、ガス供給部Ｇにより不活性ガス８の流量を徐々に増加させ、所定の値で一定流量にすると共に、蓋移動機構Ｍにより蓋６の位置を不活性ガス８の流量増加に合わせて上方に移動させ、蓋６と鋳型２との間隙１４の開口量を徐々に大きくし、所定の値で一定開口量にする。
【００２３】
次に、完全に原料Ｓを溶融させて溶湯７とした後、下部ヒータ４の稼働を停止させ、不活性ガス８を供給しつつ、冷却板１３によって鋳型２の熱を該鋳型２の下方から抜熱させ、凝固温度以下まで降温する。これに伴って鋳型２に収容されている溶湯７は下方から徐々に凝固される。このとき、溶湯７は上下方向に沿って配向しながら凝固し、一方向に配向した組織を持つ多結晶シリコンインゴットが生成される。また、この際、結晶成長安定化のため、ガス供給部Ｇからの不活性ガス８の流量を、凝固過程前半では上記溶解時よりも少ない一定量とし、凝固過程後半からは徐々に少なくする。また、この流量に応じて蓋移動機構Ｍにより蓋６の位置も、不活性ガス８の間隙１４からの排出流速が一定になるように下降させる。これによって、凝固終了付近では、溶湯７の飛散を防止することができる。
【００２４】
最後に、完全に溶湯７が凝固した後、さらに冷却を行って鋳型２が取り出せる状態まで降温する。この際、不活性ガス８の流量は極微量にすると共に、蓋６の位置も最低位置まで降下させて間隙１４の開口部面積を最小にする。そして、十分に冷却した状態で、鋳型２を取り出して一方向凝固多結晶シリコンインゴットを得ることができる。
【００２５】
本実施形態では、蓋６を鋳型２に対して相対的に移動させて鋳型２上部の開口量を制御する蓋移動機構Ｍを備えているので、原料Ｓの装填に際し、蓋６を移動させて鋳型２上部の開口量を大きく確保することで十分な装填が可能になる。また、種々の鋳造条件、特に不活性ガス８の流量に応じて蓋６を移動させて上記開口量を制御するので、ガス流速を所定の速度に制御することができ、不活性ガス８の流量にかかわらず不純物混入の抑制効果等を維持することができる。
【００２６】
なお、従来の固定型蓋を使用した鋳造技術では、作製するインゴットの高さが２３０ｍｍ程度であったのに対し、同一の鋳型を用いても本実施形態によれば、３００ｍｍの高さのインゴットを作製することができた。また、従来の固定型蓋を使用した鋳造技術では、作製したインゴットのカーボン濃度が５×１０１７／ｃｍ３であったのに対し、本実施形態によれば、５×１０１６／ｃｍ３にまで低減させることができた。
【００２７】
次に、本発明に係る第２実施形態を、図５を参照しながら説明する。
【００２８】
第２実施形態と第１実施形態との異なる点は、第１実施形態では蓋移動機構Ｍが蓋６を上下方向に移動可能であったのに対し、第２実施形態では、図５に示すように、蓋移動機構Ｍが蓋１６を水平方向に移動させて間隙１４の開口量を制御する点である。すなわち、本実施形態では、間隙１４を広げるには蓋移動機構Ｍにより、蓋１６を図中の左方向に移動させ、逆に間隙１４を狭めるには、蓋１６を図中の右方向に移動させる。
【００２９】
次に、本発明に係る第３実施形態を、図６を参照しながら説明する。
【００３０】
第３実施形態と第２実施形態との異なる点は、第２実施形態では蓋移動機構Ｍが蓋１６を水平方向に移動させるのに対し、第３実施形態では、図６に示すように、蓋移動機構Ｍが蓋２６を中央のガス管５を中心に回転させて鋳型２との間隙１４の開口量を制御する点である。すなわち、本実施形態では、水平断面形状が角形の鋳型２に対して蓋２６を一致させた状態から、図６の（ａ）に示すように、蓋２６を９０°回転させた状態にすれば間隙１４の開口量は最大になり、図６の（ｂ）に示すように、この状態からさらに回転させれば間隙１４の開口量は回転量に応じて徐々に少なくなる。
【００３１】
次に、本発明に係る第４実施形態を、図７及び図８を参照しながら説明する。
【００３２】
第４実施形態と第３実施形態との異なる点は、第３実施形態では一枚構造の蓋６を回転させて間隙１４の開口量を制御するのに対し、第４実施形態では、図７及び図８に示すように、可動上板３６Ａ及び固定下板３６Ｂの２枚で構成された二重構造の蓋３６を有し、複数の通気口３６ａを有する可動上板３６Ａ及び固定下板３６Ｂのうち蓋移動機構Ｍにより可動上板３６Ａのみを回転させることによって鋳型３２上部の開口量を制御する点である。なお、本実施形態では、水平断面形状が円形の鋳型３２を使用している。
【００３３】
すなわち、本実施形態では、図７に示すように、固定下板３６Ｂが支持部材３７でガス管５と独立して鋳型３２上に支持されていると共に、可動上板３６Ａがガス管５に固定されてガス管５と共に蓋移動機構Ｍにより回転可能になっている。例えば、図８の（ａ）に示すように、蓋移動機構Ｍにより可動上板３６Ａを回転させて可動上板３６Ａと固定下板３６Ｂとの通気口３６ａをずらし、互いの通気口３６ａを覆うようにすると、鋳型３２上部の開口量は最低になる。また、図７及び図８の（ｂ）に示すように、蓋移動機構Ｍにより可動上板３６Ａを回転させて可動上板３６Ａと固定下板３６Ｂとの通気口３６ａを完全に一致させると、鋳型３２上部の開口量は最大になる。また、図８の（ｃ）に示すように、蓋移動機構Ｍにより可動上板３６Ａを回転させて可動上板３６Ａと固定下板３６Ｂとの通気口３６ａを半分程度に一致させると、鋳型３２上部の開口量を最大と最低との中間的な量とすることができる。
【００３４】
このように第２〜第４実施形態においても蓋移動機構Ｍにより、鋳型３２上部の開口量を自在に制御することができ、鋳造における各過程において適切な開口量を得ることができ、良好な鋳造が可能になる。
【００３５】
なお、本発明の技術範囲は上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
【００３６】
例えば、上記第１実施形態では、蓋とガス管とが固定されて共に上下動する機構としたが、ガス管は固定し、ガス管と別に蓋が独立して上下動する機構としても構わない。この場合、ガス管の下端部が上下動しないため、ガスの吹き出し位置が変わらないという利点がある。
また、上記各実施形態では、蓋をＳｉＣで形成したが、他の酸化シリコンガスに不活性な材料又はケイ化物で形成しても構わない。また、蓋全体をＳｉＣで形成したが、蓋の下面のみを酸化シリコンガスに不活性な材料又はケイ化物で形成したものでもよい。例えば、カーボン製の蓋の下面にＳｉＣ膜をコーティングしたものを用いても構わない。
【００３７】
【発明の効果】
本発明によれば、以下の効果を奏する。すなわち、本発明の鋳造装置によれば、蓋を鋳型に対して相対的に移動させて鋳型上部の開口量を制御する蓋移動機構を備えているので、蓋を移動させて鋳型上部の開口量を大きく確保することで十分な原料装填が可能になる。また、鋳造過程において、不活性ガスの流量に応じて、鋳型と蓋との間から流出する不活性ガスの流速が一定になるように上記開口量を制御して種々の鋳造条件に対応させて良好な鋳造を行うことができる。したがって、一度の鋳造で得られるインゴットの量が増大すると共に、不純物混入を効果的に抑制することができ、良質なインゴットを効率的に得ることができる。
【００３８】
また、本発明の鋳造装置及び鋳造方法によれば、不活性ガスの流量に応じて、鋳型と蓋との間から流出する不活性ガスの流速が一定になるように開口量を調整するので、ガス流速を所定の速度に制御することができ、不活性ガスの流量にかかわらず不純物混入の抑制効果等を良好な状態のまま維持することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明に係る鋳造装置及び鋳造方法の第１実施形態において、鋳造装置を示す断面図である。
【図２】 本発明に係る鋳造装置及び鋳造方法の第１実施形態において、鋳型近傍の上方から見た平面図である。
【図３】 本発明に係る鋳造装置及び鋳造方法の第１実施形態において、原料投入時及び原料溶解時の蓋の位置を説明するための概略的な要部断面図である。
【図４】 本発明に係る鋳造装置及び鋳造方法の第１実施形態において、鋳造における各工程での鋳型温度及びＡｒ流量・開口量を示すグラフである。
【図５】 本発明に係る鋳造装置及び鋳造方法の第２実施形態において、鋳造装置を示す概略的な要部断面図である。
【図６】 本発明に係る鋳造装置及び鋳造方法の第３実施形態において、鋳造装置を示す鋳型近傍の上方から見た平面図である。
【図７】 本発明に係る鋳造装置及び鋳造方法の第４実施形態において、鋳造装置を示す概略的な要部断面図である。
【図８】 本発明に係る鋳造装置及び鋳造方法の第４実施形態において、鋳造装置を示す鋳型近傍の上方から見た平面図である。
【符号の説明】
２、３２ 鋳型
３ 上部ヒータ
４ 下部ヒータ
５ ガス管
６、１６，２６、３６ 蓋
３６Ａ 可動上板
３６Ｂ 固定下板
７ 溶湯
８ 不活性ガス
１４ 間隙
Ｇ ガス供給部
Ｍ 蓋移動機構
【発明の属する技術分野】
本発明は、多結晶シリコンインゴット等を製造するための鋳造装置及び鋳造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えば、シリコン（Ｓｉ）や高融点金属など、大気中において鋳型に鋳込むと酸化しやすい材料に関しては、不活性ガスを吹き付けて鋳型近傍を不活性雰囲気にしつつ鋳造が行われる。特に、太陽電池等に用いられる多結晶シリコンインゴットを作製する場合、シリコン溶湯表面にアルゴン（Ａｒ）ガスを吹き付けながら鋳造を行う技術が用いられている。
【０００３】
このようにＡｒガスの供給により、溶湯から発生する酸化シリコン（ＳｉＯ）ガスを除去すると共にＳｉＯガスと炉材のカーボン（Ｃ）とが反応して生成される炭酸（ＣＯ）ガスが溶湯内に混入することを抑制している。特に、ＣＯガスが溶湯内に混入するとインゴットにカーボンが多く含まれてしまい製品特性に悪影響を及ぼすことが分かっている。
従来、上記カーボン混入を防ぐために、例えば特開２０００−１５８０９６号公報には、Ａｒガスの供給手段と共に鋳型上部に蓋を設けてＣＯガスの混入を防ぐ技術が採用されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来における鋳造技術には、以下の課題が残されている。すなわち、鋳型上部に蓋が存在すると原料を装填する際に装填可能な原料の量が制限されてしまう不都合があった。また、原料溶解中に溶解した原料表面のシリコン溶湯が飛散して蓋に付着し、不純物を取り込むおそれもあった。さらに、凝固終了直前には溶湯の残湯量が減少し、残湯の飛散が発生しやすくなるためＡｒガス量を減少させる必要があるが、Ａｒガス量を減少させるとガスの押出し効果が滅殺されてしまう問題があった。また、ガス量を増加させると、ガス圧により蓋が所定の位置から動いてしまうおそれもあった。
【０００５】
本発明は、前述の課題に鑑みてなされたもので、原料の十分な装填を可能にすると共に不純物混入を防ぐことができる鋳造装置及び鋳造方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、前記課題を解決するために以下の構成を採用した。すなわち、本発明の鋳造装置は、溶湯を収容し上部に開口部を有する鋳型と、該鋳型の上方に配置されたヒータと、前記溶湯浴面に向かって不活性ガスを供給するガス供給機構と、前記溶湯浴面とヒータとの間に配された蓋とを備えた鋳造装置であって、前記蓋を前記鋳型に対して相対的に移動させて前記鋳型上部の開口量を制御する蓋移動機構を備え、前記ガス供給機構は、前記不活性ガスの流量を制御するガス供給部と、前記ガス供給部から供給される不活性ガスを前記溶湯浴面に向かって吹き付けるガス管と、から構成され、前記蓋移動機構は、前記不活性ガスの流量に応じて、前記鋳型と前記蓋との間から流出する不活性ガスの流速が一定になるように前記開口量を調整することを特徴とする。
また、本発明の鋳造方法は、上部に開口部を有する鋳型に溶湯を収容すると共に、該溶湯浴面と溶湯浴面の上方に配置されたヒータとの間に蓋を配し、溶湯浴面に向かって不活性ガスを供給しながらヒータによる加熱を制御して溶湯を凝固させる鋳造方法であって、前記不活性ガスの流量に応じて前記蓋を前記鋳型に対して相対的に移動させて、前記鋳型と前記蓋との間から流出する不活性ガスの流速が一定になるように前記鋳型上部の開口量を制御することを特徴とする。
【０００７】
この鋳造装置では、蓋を鋳型に対して相対的に移動させて鋳型上部の開口量を制御する蓋移動機構を備えているので、例えば原料の装填に際し、蓋を移動させて十分に鋳型上部の開口量を確保することで十分な装填が可能になる。また、他の鋳造過程において、必要に応じて蓋を移動させて上記開口量を制御することができるので、種々の鋳造条件に対応させて良好な鋳造が可能になる。
【０００９】
すなわち、これらの鋳造装置及び鋳造方法では、不活性ガスの流量に応じて、鋳型と蓋との間から流出する不活性ガスの流速が一定になるように開口量を調整するので、例えば、溶湯浴面に供給される不活性ガスの流量が大きいほど開口量を大きくする調整により、鋳型と蓋との間から排出されるガスの流速を所定の速度に制御することができ、不活性ガスの流量にかかわらず不純物混入の抑制効果等を維持することができる。
【００１０】
また、本発明の鋳造装置は、前記蓋移動機構が、前記蓋を前記鋳型に対して上下移動、水平移動又は回転移動を行う機構を有することを特徴とする。すなわち、この鋳造装置では、蓋移動機構が、蓋を鋳型に対して上下移動、水平移動又は回転移動を行う機構を有するので、簡易な機構及び動作で開口量を制御することが可能である。
【００１１】
また、本発明の鋳造装置は、前記溶湯がシリコンの融液であり、前記蓋が、少なくとも下面が酸化シリコンガスに不活性な材料又はケイ化物で覆われていることが好ましい。すなわち、この鋳造装置では、溶湯がシリコンの融液であり、蓋が、少なくとも下面が酸化シリコンガスに不活性な材料又はケイ化物、例えばシリコンカーバイト（ＳｉＣ）で覆われているので、溶湯を凝固させて多結晶シリコンインゴットを得る際に、蓋下面がカーボンの場合に比べて蓋下面からの不純物混入を防ぐことができる。なお、少なくとも蓋下面が上記酸化シリコンガスに不活性な材料又はケイ化物であればよいが、蓋全体が当該材料で形成されていても構わない。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る鋳造装置及び鋳造方法の第１実施形態を、図１から図４を参照しながら説明する。
【００１３】
本実施形態の鋳造装置１は、太陽電池用の多結晶シリコンインゴットを作製するものであり、図１に示すように、溶湯７を収容し上部に開口部を有する鋳型２と、鋳型２の上方に配置された上部ヒータ３と、鋳型２の下方に配置された下部ヒータ４と、不活性ガス８を溶湯７浴面に向かって供給するガス管５と、溶湯７浴面と上部ヒータ３との間に配された蓋６とを備えている。これらは、保温材からなる天井部１０と底部１１と側壁部１２とによって囲まれている。また、これらの部材はチャンバ１７によって外気と遮断されている。さらに、鋳造装置１は、蓋６を鋳型２に対して相対的に移動させて鋳型２上部の開口量を制御する蓋移動機構Ｍを備えている。
【００１４】
有底筒状に形成された鋳型２は、図２に示すように、例えば平面視略正方形状の角型に形成されており、その開口部には平面視四角形の環状の上縁部２ａが形成されている。この鋳型２の内部には例えばシリコン融液からなる溶湯７が収容されている。
上記上部ヒータ３及び下部ヒータ４は、電極棒１５によって支持されている。また、貫通孔４ａに挿通した支持部９の上端には冷却板１３が設置されており、この冷却板１３の上面には鋳型２が載置されている。
【００１５】
モリブデン又はカーボン製のガス管５は、チャンバ１７を貫通して上下動可能に支持されており、該チャンバ１７から下方に延びるように設けられている。また、このガス管５は、上部ヒータ３の中心近傍に形成された貫通孔３ａに挿通している。このガス管５は、Ａｒガスなどの不活性ガス８を供給するガス供給部Ｇに接続され、該ガス供給部Ｇから供給された不活性ガス８が溶湯７の浴面に向かって吹き付けるようになっている。すなわち、ガス管５及びガス供給部Ｇはガス供給機構を構成している。このガス供給部Ｇは、鋳造方法の各工程において不活性ガス８の流量を制御する機構を有している。
【００１６】
ガス管５の下端部５ａ近傍には、鋳型２の開口部を覆うようにシリコンカーバイト（ＳｉＣ）製の蓋６が固定されており、溶湯７の浴面から離間させて配されている。なお、蓋６がＳｉＣ製であるので、溶湯７を凝固させて多結晶シリコンインゴットを得る際に、蓋６がカーボン製である場合に比べて蓋６下面からの不純物混入を防ぐことができる。
【００１７】
また、蓋移動機構Ｍは、モータ等からなり、ガス管５の上部に接続されて該ガス管５を介して蓋６を上下動させ、その高さ位置を制御する。
上記蓋６は、図２に示すように、鋳型２の開口部に合わせて平面視略正方形盤状に形成されている。また、蓋６の縁部６ａは、断面Ｌ字状に形成されており、該Ｌ字部分が上方に向かって設けられている。蓋６は、鋳型２の開口部面積より若干小さくなるように形成されており、蓋移動機構Ｍによる最低位置が鋳型２の上縁部２ａとほぼ同じ高さ位置に設定されている。そして、蓋６と上縁部２ａとの間には蓋６の外周に沿って間隙１４が形成されている。
【００１８】
蓋移動機構Ｍは、不活性ガス８の流量に応じて蓋６を鋳型２に対して相対的に上下に移動させて鋳型２上部の開口量を制御する機構を有し、具体的には、鋳型２と蓋６との間から流出する不活性ガス８の流速が一定になるように開口量を制御する。すなわち、ガス流量が多いときには間隙１４の開口量を大きく設定し、ガス流量が小さいときは間隙１４の開口量を小さくする。したがって、以下の関係式で示すと、
ガス流量／間隙の開口面積＝間隙から排出されるガス流速（一定）
となり、このガス流速が一定になるように制御される。
【００１９】
次に、本実施形態の鋳造装置１を用いた多結晶シリコンインゴットの鋳造方法を、図３及び図４を参照して説明する。
【００２０】
先ず、鋳型２内にＳｉの原料Ｓを装填する。この際、図３の（ａ）に示すように、蓋移動機構Ｍにより蓋６の位置を上部ヒータ３に当接しない限度まで上昇させた最高位置に配置しておく。これによって、原料投入作業が容易になると共に、最低位置に蓋６を配する場合に比べて多くの原料Ｓを鋳型２に装填することができる。
【００２１】
次に、上部ヒータ３と下部ヒータ４とを稼働させ、装填した原料Ｓを加熱して溶融させると共にガス供給部Ｇからガス管５を介して蓋６の中心近傍から溶湯浴面に不活性ガス８を供給する。この不活性ガス８は、蓋６の下面に沿って放射状に流れて間隙１４から排出される。この際、図４に示すように、ガス供給部Ｇからの不活性ガス８の流量を少な目にすると共に、図３の（ｂ）に示すように、この流量に応じて蓋移動機構Ｍにより蓋６の位置を最低位置よりも少し上昇させた位置に配しておく。これによって、加熱初期時のコンタミネーション及び原料Ｓの飛散を抑制することができる。なお、図４は、上側のグラフがヒータ制御パターンであって鋳型２内の温度を示すグラフであり、下側のグラフが不活性ガス（Ａｒガス）８の流量及び蓋６の開口量（間隙１４の開口量）を示すグラフである。
【００２２】
両ヒータによる加熱によって温度が所定の溶解温度まで上昇したら、この温度で一定の間、加熱を行う。この際、ガス供給部Ｇにより不活性ガス８の流量を徐々に増加させ、所定の値で一定流量にすると共に、蓋移動機構Ｍにより蓋６の位置を不活性ガス８の流量増加に合わせて上方に移動させ、蓋６と鋳型２との間隙１４の開口量を徐々に大きくし、所定の値で一定開口量にする。
【００２３】
次に、完全に原料Ｓを溶融させて溶湯７とした後、下部ヒータ４の稼働を停止させ、不活性ガス８を供給しつつ、冷却板１３によって鋳型２の熱を該鋳型２の下方から抜熱させ、凝固温度以下まで降温する。これに伴って鋳型２に収容されている溶湯７は下方から徐々に凝固される。このとき、溶湯７は上下方向に沿って配向しながら凝固し、一方向に配向した組織を持つ多結晶シリコンインゴットが生成される。また、この際、結晶成長安定化のため、ガス供給部Ｇからの不活性ガス８の流量を、凝固過程前半では上記溶解時よりも少ない一定量とし、凝固過程後半からは徐々に少なくする。また、この流量に応じて蓋移動機構Ｍにより蓋６の位置も、不活性ガス８の間隙１４からの排出流速が一定になるように下降させる。これによって、凝固終了付近では、溶湯７の飛散を防止することができる。
【００２４】
最後に、完全に溶湯７が凝固した後、さらに冷却を行って鋳型２が取り出せる状態まで降温する。この際、不活性ガス８の流量は極微量にすると共に、蓋６の位置も最低位置まで降下させて間隙１４の開口部面積を最小にする。そして、十分に冷却した状態で、鋳型２を取り出して一方向凝固多結晶シリコンインゴットを得ることができる。
【００２５】
本実施形態では、蓋６を鋳型２に対して相対的に移動させて鋳型２上部の開口量を制御する蓋移動機構Ｍを備えているので、原料Ｓの装填に際し、蓋６を移動させて鋳型２上部の開口量を大きく確保することで十分な装填が可能になる。また、種々の鋳造条件、特に不活性ガス８の流量に応じて蓋６を移動させて上記開口量を制御するので、ガス流速を所定の速度に制御することができ、不活性ガス８の流量にかかわらず不純物混入の抑制効果等を維持することができる。
【００２６】
なお、従来の固定型蓋を使用した鋳造技術では、作製するインゴットの高さが２３０ｍｍ程度であったのに対し、同一の鋳型を用いても本実施形態によれば、３００ｍｍの高さのインゴットを作製することができた。また、従来の固定型蓋を使用した鋳造技術では、作製したインゴットのカーボン濃度が５×１０１７／ｃｍ３であったのに対し、本実施形態によれば、５×１０１６／ｃｍ３にまで低減させることができた。
【００２７】
次に、本発明に係る第２実施形態を、図５を参照しながら説明する。
【００２８】
第２実施形態と第１実施形態との異なる点は、第１実施形態では蓋移動機構Ｍが蓋６を上下方向に移動可能であったのに対し、第２実施形態では、図５に示すように、蓋移動機構Ｍが蓋１６を水平方向に移動させて間隙１４の開口量を制御する点である。すなわち、本実施形態では、間隙１４を広げるには蓋移動機構Ｍにより、蓋１６を図中の左方向に移動させ、逆に間隙１４を狭めるには、蓋１６を図中の右方向に移動させる。
【００２９】
次に、本発明に係る第３実施形態を、図６を参照しながら説明する。
【００３０】
第３実施形態と第２実施形態との異なる点は、第２実施形態では蓋移動機構Ｍが蓋１６を水平方向に移動させるのに対し、第３実施形態では、図６に示すように、蓋移動機構Ｍが蓋２６を中央のガス管５を中心に回転させて鋳型２との間隙１４の開口量を制御する点である。すなわち、本実施形態では、水平断面形状が角形の鋳型２に対して蓋２６を一致させた状態から、図６の（ａ）に示すように、蓋２６を９０°回転させた状態にすれば間隙１４の開口量は最大になり、図６の（ｂ）に示すように、この状態からさらに回転させれば間隙１４の開口量は回転量に応じて徐々に少なくなる。
【００３１】
次に、本発明に係る第４実施形態を、図７及び図８を参照しながら説明する。
【００３２】
第４実施形態と第３実施形態との異なる点は、第３実施形態では一枚構造の蓋６を回転させて間隙１４の開口量を制御するのに対し、第４実施形態では、図７及び図８に示すように、可動上板３６Ａ及び固定下板３６Ｂの２枚で構成された二重構造の蓋３６を有し、複数の通気口３６ａを有する可動上板３６Ａ及び固定下板３６Ｂのうち蓋移動機構Ｍにより可動上板３６Ａのみを回転させることによって鋳型３２上部の開口量を制御する点である。なお、本実施形態では、水平断面形状が円形の鋳型３２を使用している。
【００３３】
すなわち、本実施形態では、図７に示すように、固定下板３６Ｂが支持部材３７でガス管５と独立して鋳型３２上に支持されていると共に、可動上板３６Ａがガス管５に固定されてガス管５と共に蓋移動機構Ｍにより回転可能になっている。例えば、図８の（ａ）に示すように、蓋移動機構Ｍにより可動上板３６Ａを回転させて可動上板３６Ａと固定下板３６Ｂとの通気口３６ａをずらし、互いの通気口３６ａを覆うようにすると、鋳型３２上部の開口量は最低になる。また、図７及び図８の（ｂ）に示すように、蓋移動機構Ｍにより可動上板３６Ａを回転させて可動上板３６Ａと固定下板３６Ｂとの通気口３６ａを完全に一致させると、鋳型３２上部の開口量は最大になる。また、図８の（ｃ）に示すように、蓋移動機構Ｍにより可動上板３６Ａを回転させて可動上板３６Ａと固定下板３６Ｂとの通気口３６ａを半分程度に一致させると、鋳型３２上部の開口量を最大と最低との中間的な量とすることができる。
【００３４】
このように第２〜第４実施形態においても蓋移動機構Ｍにより、鋳型３２上部の開口量を自在に制御することができ、鋳造における各過程において適切な開口量を得ることができ、良好な鋳造が可能になる。
【００３５】
なお、本発明の技術範囲は上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
【００３６】
例えば、上記第１実施形態では、蓋とガス管とが固定されて共に上下動する機構としたが、ガス管は固定し、ガス管と別に蓋が独立して上下動する機構としても構わない。この場合、ガス管の下端部が上下動しないため、ガスの吹き出し位置が変わらないという利点がある。
また、上記各実施形態では、蓋をＳｉＣで形成したが、他の酸化シリコンガスに不活性な材料又はケイ化物で形成しても構わない。また、蓋全体をＳｉＣで形成したが、蓋の下面のみを酸化シリコンガスに不活性な材料又はケイ化物で形成したものでもよい。例えば、カーボン製の蓋の下面にＳｉＣ膜をコーティングしたものを用いても構わない。
【００３７】
【発明の効果】
本発明によれば、以下の効果を奏する。すなわち、本発明の鋳造装置によれば、蓋を鋳型に対して相対的に移動させて鋳型上部の開口量を制御する蓋移動機構を備えているので、蓋を移動させて鋳型上部の開口量を大きく確保することで十分な原料装填が可能になる。また、鋳造過程において、不活性ガスの流量に応じて、鋳型と蓋との間から流出する不活性ガスの流速が一定になるように上記開口量を制御して種々の鋳造条件に対応させて良好な鋳造を行うことができる。したがって、一度の鋳造で得られるインゴットの量が増大すると共に、不純物混入を効果的に抑制することができ、良質なインゴットを効率的に得ることができる。
【００３８】
また、本発明の鋳造装置及び鋳造方法によれば、不活性ガスの流量に応じて、鋳型と蓋との間から流出する不活性ガスの流速が一定になるように開口量を調整するので、ガス流速を所定の速度に制御することができ、不活性ガスの流量にかかわらず不純物混入の抑制効果等を良好な状態のまま維持することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明に係る鋳造装置及び鋳造方法の第１実施形態において、鋳造装置を示す断面図である。
【図２】 本発明に係る鋳造装置及び鋳造方法の第１実施形態において、鋳型近傍の上方から見た平面図である。
【図３】 本発明に係る鋳造装置及び鋳造方法の第１実施形態において、原料投入時及び原料溶解時の蓋の位置を説明するための概略的な要部断面図である。
【図４】 本発明に係る鋳造装置及び鋳造方法の第１実施形態において、鋳造における各工程での鋳型温度及びＡｒ流量・開口量を示すグラフである。
【図５】 本発明に係る鋳造装置及び鋳造方法の第２実施形態において、鋳造装置を示す概略的な要部断面図である。
【図６】 本発明に係る鋳造装置及び鋳造方法の第３実施形態において、鋳造装置を示す鋳型近傍の上方から見た平面図である。
【図７】 本発明に係る鋳造装置及び鋳造方法の第４実施形態において、鋳造装置を示す概略的な要部断面図である。
【図８】 本発明に係る鋳造装置及び鋳造方法の第４実施形態において、鋳造装置を示す鋳型近傍の上方から見た平面図である。
【符号の説明】
２、３２ 鋳型
３ 上部ヒータ
４ 下部ヒータ
５ ガス管
６、１６，２６、３６ 蓋
３６Ａ 可動上板
３６Ｂ 固定下板
７ 溶湯
８ 不活性ガス
１４ 間隙
Ｇ ガス供給部
Ｍ 蓋移動機構
Claims (4)
- 溶湯を収容し上部に開口部を有する鋳型と、該鋳型の上方に配置されたヒータと、前記溶湯浴面に向かって不活性ガスを供給するガス供給機構と、前記溶湯浴面とヒータとの間に配された蓋とを備えた鋳造装置であって、
前記蓋を前記鋳型に対して相対的に移動させて前記鋳型上部の開口量を制御する蓋移動機構を備え、
前記ガス供給機構は、前記不活性ガスの流量を制御するガス供給部と、前記ガス供給部から供給される不活性ガスを前記溶湯浴面に向かって吹き付けるガス管と、から構成され、
前記蓋移動機構は、前記不活性ガスの流量に応じて、前記鋳型と前記蓋との間から流出する不活性ガスの流速が一定になるように前記開口量を調整することを特徴とする鋳造装置。 - 請求項１に記載の鋳造装置において、
前記蓋移動機構は、前記蓋を前記鋳型に対して上下移動、水平移動又は回転移動を行う機構を有することを特徴とする鋳造装置。 - 請求項１又は２に記載の鋳造装置において、
前記溶湯は、シリコンの融液であり、
前記蓋は、少なくとも下面が酸化シリコンガスに不活性な材料又はケイ化物で覆われていることを特徴とする鋳造装置。 - 上部に開口部を有する鋳型に溶湯を収容すると共に、該溶湯浴面と溶湯浴面の上方に配置されたヒータとの間に蓋を配し、溶湯浴面に向かって不活性ガスを供給しながらヒータによる加熱を制御して溶湯を凝固させる鋳造方法であって、
前記不活性ガスの流量に応じて前記蓋を前記鋳型に対して相対的に移動させて、前記鋳型と前記蓋との間から流出する不活性ガスの流速が一定になるように前記鋳型上部の開口量を制御することを特徴とする鋳造方法。
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