NL1028423C2 - Productiemethode van zonnecellen. - Google Patents
Productiemethode van zonnecellen. Download PDFInfo
- Publication number
- NL1028423C2 NL1028423C2 NL1028423A NL1028423A NL1028423C2 NL 1028423 C2 NL1028423 C2 NL 1028423C2 NL 1028423 A NL1028423 A NL 1028423A NL 1028423 A NL1028423 A NL 1028423A NL 1028423 C2 NL1028423 C2 NL 1028423C2
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- silicon
- extrusion
- controlled atmosphere
- chamber
- downwards
- Prior art date
Links
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 41
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 40
- 239000010703 silicon Substances 0.000 title claims abstract description 40
- 238000004320 controlled atmosphere Methods 0.000 title claims abstract 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 title 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims abstract description 14
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims abstract description 14
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 claims abstract description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 10
- 230000005484 gravity Effects 0.000 claims abstract 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 11
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 abstract description 2
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 12
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 229910021419 crystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 210000001787 dendrite Anatomy 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000012432 intermediate storage Methods 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 235000013619 trace mineral Nutrition 0.000 description 1
- 239000011573 trace mineral Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/18—Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
- H01L31/1804—Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof comprising only elements of Group IV of the Periodic Table
- H01L31/182—Special manufacturing methods for polycrystalline Si, e.g. Si ribbon, poly Si ingots, thin films of polycrystalline Si
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B11/00—Single-crystal growth by normal freezing or freezing under temperature gradient, e.g. Bridgman-Stockbarger method
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/02—Elements
- C30B29/06—Silicon
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/546—Polycrystalline silicon PV cells
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/547—Monocrystalline silicon PV cells
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
Description
PRODUCTIEMETHODE VAN ZONNECELLEN.
De uitvinding heeft betrekking op een methode om kristallijnen zonnecellen te 5 produceren in een continu of discontinu proces.
De huidige productie van zonnecellen is een discontinu proces waarbij in een gewenste atmosfeer silicium wordt gesmolten en hierna in een vat door afkoeling uitgekristalliseerd tot een staaf silicium. De aldus verkregen staaf 10 kristallijn silicium wordt in plakken gezaagd en over het algemeen worden deze plakken silicium op een glasplaat aangebracht waarbij de nodige geleidingsdraden worden aangebracht om de elektrische stroom af te voeren.
Het warme bad silicium mag nauwelijks ongewenste sporen elementen bevatten 15 die de werking van de zonnecel nadelig beïnvloeden hetgeen leidt tot dure staven kristallijn silicium.
Van de staven silicium worden nu plakken gezaagd die in feite veel te dik zijn voor een optimale werking van de zonnecel. Dit materiaalverlies wordt nog 20 verhoogd door de dikte van de zaagsnede.
De uitvinding stelt zich ten doel om de genoemde bezwaren en nadelen te vermijden, respectievelijk op te heffen.
25 Dit doel wordt volgens de uitvinding bereikt door in een gewenste atmosfeer gezuiverde silicium te smelten en deze vloeistof met een aangepaste druk als een soort extrusie uit een of meer spleten te laten komen die worden gevormd door het op een kleine afstand stapelen van vlakke bij voorkeur keramiekplaten die na omkering van een gesloten verwarmingsvat in de bodem van het vat 30 kunnen zitten zodat het vloeibare silicium er uit wil lopen en wel zodanig dat het silicium in deze spleet of spleten wordt gekoeld en dan als een dunne band of banden amorf silicium of reeds als uitgekristalliseerd silicium de spleet of spleten verlaten om hangend in een gewenste gasvormige atmosfeer verder af te koelen en uit te kristalliseren zonder enig voorwerp aan te raken.
1 0 2 8 4 2 3 2
Door aanpassing van het koel traject in of na de extrusiespleten kunnen de kristal dendrieten loodrecht op de silicium banden staan ofwel in de lengterichting omdat de dendrieten tegengesteld aan de koelrichting aangroeien 5 met het resultaat een ongelijk rendement van de zonnecel. Bij voldoende lengte van al de extrusiespleten kunnen de silicium banden naar elkaar worden gedrukt of geblazen en in pakketjes worden afgeknipt en weggelegd.
Andere kenmerken en voordelen van de uitvinding zullen duidelijk worden uit de 10 hierna volgende beschrijving waarbij verwezen wordt naar de bijgevoegde tekeningen. Hierin is:
Fig. 1 een schematische voorstelling van een verticale doorsnede van een draaibaar opgehangen smetvat tijdens het verhitten.
15
Fig. 2 een schematische voorstelling van een verticale doorsnede over een omgekeerd smeltvat waarbij vloeistof door spleten het vat verlaat.
Fig. 3 een schematische voorstelling van een verticale dwarsdoorsnede 20 over een smeltinrichting om in een continue proces silicium plaatjes te produceren.
In fig. 1 is schematisch een voorstelling weergegeven van een verticale dwarsdoorsnede over een draaibaar om de assen 1 en 2 opgehangen smeltvat 25 3 met silicium 4, dat wordt verhit door een stroomdraad 5, dat wordt gevoed via de aansluitingen 6 en 7 buiten de kamer 8 waarin een gewenste druk en atmosfeer heerst. Het smeltvat 3 is boven voorzien van een soort deksel 9 waarin één of meerdere sleuven 10 zijn aangebracht die een aangepaste doorsnede hebben terwijl de sleuflengte overeenkomt met de gewenste 30 zonnecel breedte.
Als het silicium 4 in het smeltvat 3 is gesmolten waarbij eventuele ongerechtigheden boven zijn gaan drijven, wordt het smeltvat 3 gedraaid met behulp van een tandwiel 11, dat via een tandheugel 12 wordt aangedreven bijvoorbeeld een lineaire elektromotor 13.
1 0 ? ft 4 ? J
3
In fig. 2 is schematisch een voorstelling weegegeven van een verticale dwarsdoorsnede over een omgekeerd smeltvat 14 waarbij het vloeibare silicium 15 door de spleten 16 het vat 11 verlaat mede doordat in de ruimte boven het 5 vloeistof 17 een hogere gasdruk wordt aangelegd dan de druk in de ruimte 18 om het smeltvat. Terwijl het vloeibare silicium door de spleten 10 loopt wordt deze gekoeld dank zij de koelribben 19 waar het gas langs stroomt met behulp van een ventilator 20 terwijl het gas met een gewenste samenstelling wordt gekoeld door koelspiralen 21 die in de ruimte 18 zijn aangebracht. Als de 10 silicium banden 22 de spleten 16 verlaten kunnen deze nog in een amorfe tussenfase of reeds uitgekristalliseerd zijn in afhankelijkheid met de spleettoevoer en de mate van afkoeling van de spleten 16 die evenwijdig van vorm of een kleine wighoek kunnen hebben. Bij het omlaag zakken van de silicium banden 22 worden deze verder afgekoeld en eventueel verder 15 uitgekristalliseerd door de circulerende gasstroom binnen de ruimte 18.
De koelengte van de siliciumbanden 22 wordt mede bepaald door de gewicht sterkte verhouding van het hete silicium. Onder in de ruimte 18 is een op opvang 23 die de hangende siliciumbanden 22 naar elkaar brengt al of niet door de banden eerst naar elkaar toe te blazen waarna de banden in de ruimte 24 20 alwaar de banden op een gewenste lengte worden gebroken of afgeknipt door een mes 25 aangedreven door een druktoevoer 26 die er tevens voor zorgt dat het pakketje silicium plaatjes wordt weggeschoven naar een tussenopslag 27 gesteund door 28.
De nu geproduceerde plaatjes silicium met minimaal materiaal verbruik worden 25 verder verwerkt tot zonnecellen overeenkomstig de gezaagde plakken silicium met het verschil dat de plaatjes 22 gladder worden en de kristalstructuur veel fijner zal zijn terwijl de dikte van de geëxtrudeerde en gerekte plaatjes veel dunner kan zijn waardoor het rendement van de zonnecel hoger zal zijn. Door de geringe plaatjesdikte zijn deze beter geschikt voor duplo en triplo cellen, zelfs 30 vier of vijf plaatjes op elkaar om cellen met een zeer hoog rendement te vervaardigen.
In fig. 3 is schematisch een voorstelling weergegeven van een verticale dwarsdoorsnede over een smeltinrichting om in een continu proces silicium 1 0 2 8 * ? 3_ _ 4 plaatjes te produceren. In het smeltvat 28 wordt silicium met de gewenste samenstelling verhit door de stroomdraad 30 waarbij de onderafvoer 31 met een afsluiter 32 is afgesloten en de ruimte 33, na het vullen wordt afgesloten met een deksel 34 waarna de ruimte 35 wordt gevuld met gas met gewenste 5 samenstelling en druk. Periodiek wordt de afsluiter 32 geopend zodat de onderliggende ruimte 35 kan worden bijgevuld en op een gewenste temperatuur gebracht of gehouden met behulp van de stroomdraden 30 aangebracht in de wand van het vat 37, dat op dat moment onder dezelfde gasdruk staat als de ruimte 33.
10 Als het niveau in de ruimte 33 voldoende is gedaald wordt de afsluiter 32 gesloten en kan de zonodig afsluiter 38 worden geopend om de bovenste laag van het vloeibare silicium waarin relatief veel ongewenste stoffen in zitten worden afgetapt via de afvoer 39 waarna de ruimte wordt bijgevuld met te smelten silicium.
15 Het vloeibare silicium verlaat de ruimte 35 in een continu stroom door de spleten 40 die in hoogte evenwijdig of wigvormig kunnen zijn en in de spleet gekoeld met behulp van de koelvinnen 41 die op hun beurt worden gekoeld door de koelspiralen 42 en de gascirculatie die in stand wordt gehouden door de ventilator 43 terwijl het geheel is ondergebracht in de ruimte 44. De silicium 20 banden 45 kunnen een geringe dikte hebben door de kleine spleetdikte 40 en het rekken na het verlaten van de spleten voordat de banden uitkristalliseren tijdens de afkoeling. De banden 45 verlaten de ruimt 44 via de tapse openingen 45 om bij een gewenste lengte te worden opgedeeld in plaatjes voor zonnecellen.
25 30 1 0 2 R 4 ? 3
Claims (8)
1. Werkwijze voor het produceren van siliciumplaatjes uitgaande van vast silicium met de gewenste zuiverheidsgraad, waarbij het vast silicium wordt gesmolten, met het kenmerk, dat het gesmolten silicium vertikaal naar beneden wordt geëxtrudeerd in een ruimte met een gecontroleerde 10 atmosfeer, en de aldus gevormde baan na afkoeling wordt gescheiden tot afzonderlijke plaatjes.
2. Werkwijze volgens conclusie 1, met het kenmerk dat de extrusie uitsluitend door zwaartekracht plaatsvindt. 15
3. Werkwijze volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat het smelten plaatsvindt in een gecontroleerde atmosfeer.
4. Werkwijze volgens een der voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat 20 de extrusie kracht wordt geregeld door de lengte van de naar beneden uitstekende baan te regelen.
5. Werkwijze volgens een der voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat de geëxtrudeerde baan reeds tijdens het extruderen worden gekoeld. 25
6. Werkwijze volgens een der voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat de gevormde plaatjes ten minste tijdelijk nog worden bewaard in gecontroleerde omstandigheden.
7. Inrichting voor het uivoeren van de werkwijze volgens een der voorgaande conclusies, omvattende een verwarmbare kamer voor het smelten van silicium, met het kenmerk, dat de kamer een zijde heeft voorzien van extrusie openingen en de kamer verdraaibaar is tussen twee standen een eerste stand waarbij de extrusie openingen naar boven 1028423 zijn gericht en een tweede stand waarbij de extrusieopeningen naar beneden zijn gericht.
8. Inrichting voor het uitvoeren van de werkwijze volgens een der conclusies 5 1 tot 6, omvattende een verwarmbare kamer voor het smelten van silicium, met het kenmerk dat een tweede kamer is aangebracht die is voorzien van tenminste één extrusie-opening en dat de tweede kamer kan worden verbonden met de verwarmbare kamer. 10 15 20 25 30 35 40 45 1 n 9 fi A 9 7 i
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL1028423A NL1028423C2 (nl) | 2005-02-28 | 2005-02-28 | Productiemethode van zonnecellen. |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL1028423A NL1028423C2 (nl) | 2005-02-28 | 2005-02-28 | Productiemethode van zonnecellen. |
NL1028423 | 2005-02-28 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL1028423C2 true NL1028423C2 (nl) | 2006-08-29 |
Family
ID=35079445
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NL1028423A NL1028423C2 (nl) | 2005-02-28 | 2005-02-28 | Productiemethode van zonnecellen. |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
NL (1) | NL1028423C2 (nl) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4211600A (en) * | 1974-12-04 | 1980-07-08 | Metals Research Limited | Crystal growth |
US4419177A (en) * | 1980-09-29 | 1983-12-06 | Olin Corporation | Process for electromagnetically casting or reforming strip materials |
EP0822273A1 (en) * | 1996-07-29 | 1998-02-04 | Ngk Insulators, Ltd. | A process and apparatus for growing crystalline silicon plates for solar cell elements |
EP1384538A1 (en) * | 2002-07-25 | 2004-01-28 | Mitsubishi Materials Corporation | Casting apparatus for manufacturing polycrystalline silicon ingots and method therefor |
-
2005
- 2005-02-28 NL NL1028423A patent/NL1028423C2/nl not_active IP Right Cessation
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4211600A (en) * | 1974-12-04 | 1980-07-08 | Metals Research Limited | Crystal growth |
US4419177A (en) * | 1980-09-29 | 1983-12-06 | Olin Corporation | Process for electromagnetically casting or reforming strip materials |
EP0822273A1 (en) * | 1996-07-29 | 1998-02-04 | Ngk Insulators, Ltd. | A process and apparatus for growing crystalline silicon plates for solar cell elements |
EP1384538A1 (en) * | 2002-07-25 | 2004-01-28 | Mitsubishi Materials Corporation | Casting apparatus for manufacturing polycrystalline silicon ingots and method therefor |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6122900B2 (ja) | フローティングシートの製造装置及び方法 | |
TWI463043B (zh) | 板厚控制 | |
KR101589891B1 (ko) | 무-전위 결정질 시트를 제조하기 위한 방법 및 장치 | |
KR20070048180A (ko) | 결정성 규소 잉곳의 제조방법 | |
JPS5832098A (ja) | 粗結晶から単結晶までの半導体材料製造方法 | |
US20110168081A1 (en) | Apparatus and Method for Continuous Casting of Monocrystalline Silicon Ribbon | |
JP2012500172A5 (nl) | ||
NL1028423C2 (nl) | Productiemethode van zonnecellen. | |
KR101345747B1 (ko) | 반도체 또는 금속산화물 잉곳 제조장치 | |
TW201139761A (en) | Removing a sheet from the surface of a melt using gas jets | |
US4461671A (en) | Process for the manufacture of semiconductor wafers | |
JP2012025612A (ja) | 多結晶シリコンインゴット製造装置、多結晶シリコンインゴットの製造方法及び多結晶シリコンインゴット | |
KR101408594B1 (ko) | 다결정 실리콘 잉곳을 생산하기 위한 장치 | |
US8603242B2 (en) | Floating semiconductor foils | |
JP6046780B2 (ja) | 多結晶シリコンインゴッドの製造方法 | |
DK1509642T3 (da) | Anordning til fremstilling af krystalstave med et defineret tværsnit og söjleformet polykrystallinsk struktur ved en digelfri kontinuerlig krystallisering | |
KR20160096728A (ko) | 용융물 정제 및 배송 시스템 | |
JP2004196577A (ja) | 多結晶シリコンの製造方法 | |
JP2010523446A (ja) | シリコンまたはその他の結晶性材料の自立プレートを製造する装置および方法 | |
JP2013079411A (ja) | Cu−Ga合金スパッタリングターゲット及びその製造方法 | |
CH309912A (fr) | Procédé pour le traitement par la chaleur d'une matière solide finement divisée, et installation pour la mise en oeuvre de ce procédé. | |
US8501139B2 (en) | Floating Si and/or Ge foils | |
JP2000302431A (ja) | 板状シリコンの製造装置及び製造方法 | |
TWI452182B (zh) | 鑄造晶碇之方法 | |
KR101401255B1 (ko) | 잉곳 제조장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PD2B | A search report has been drawn up | ||
VD1 | Lapsed due to non-payment of the annual fee |
Effective date: 20090901 |