JP4351466B2 - リン含有ビニルベンジルエーテル化合物及び該化合物を必須成分とする難燃性樹脂組成物 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明はリン原子を分子内に含有する新規なビニルベンジルエーテル化合物に関する発明であり、かつ該化合物を必須成分とする新規難燃性樹脂組成物、特に、建材用の注型材・成形剤・接着剤・塗料など、電子回路基板に用いられる銅張積層板製造用の樹脂組成物や電子部品に用いられる封止材・成形材・注型材・接着剤・電気絶縁塗料・フィルム材など、難燃性を必要とする用途に使用される新規難燃性化合物に関する。
【0002】
【従来の技術】
ビニルベンジルエーテル化合物は、特許文献1にビスフェノールAやビスフェノールS等のポリフェノールのビニルベンジルエーテルが開示されている。また、特許文献2には臭素化ビフェニルのビニルベンジルエーテル化合物を用いて難燃化を行う方法が開示されている。更に特許文献3でも難燃性を付与するためにテトラブロモビスフェノールAのビニルベンジルエーテル化合物の提案がある。この様にビニルベンジルエーテル化合物に難燃性を付与する方法としては臭素、塩素等のハロゲンを骨格中に導入した樹脂を用いることによって行われていた。
【特許文献1】
米国特許第4,116,936号公報
【特許文献2】
米国特許第4,170,711号公報
【特許文献3】
特開2001−253992号公報
しかし、ハロゲン化樹脂は燃焼の際にハロゲン化物などの有害物質を発生し、環境安全性の視点からハロゲンの利用が問題視されるようになり、これに代わる材料が研究されるようになってきている。この様なことから、ハロゲンを使用しないで難燃性を付与するビニルベンジルエーテル化合物の開発とその商業化は時代の要求に対応するものである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
本発明者は、ハロゲンを使用しないで難燃性を付与した新規ビニルベンジルエーテル化合物を開発すべく鋭意研究し、本発明を完成させるに至った。
【0004】
【課題を解決するための手段】
即ち本発明の要旨は、一般式(1)又は一般式(3)で示されるリン含有ビニルベンジルエーテル化合物である。
一般式(1)
【化6】
一般式(3)
【化7】
(一般式(1)及び(3)において、R1,R2はC1〜C12の炭化水素基であり、R 1 ,R2は同一であっても異なっていても良く、リン原子と共にR1,R2が環状構造を形成していても良い。R3は水酸基又は式(2)で示される。nは0又は1である。式中のXはフェニレン基又はナフタレニル基を示す。)
式(2)
【化8】
上記一般式(1)または(3)のリン含有ビニルベンジルエーテル化合物は、一般式(4)及び/又は一般式(5)で示されるリン含有フェノール化合物とビニルベンジルハライドを反応して得られる。
一般式(4)
【化9】
一般式(5)
【化10】
(一般式(4)及び(5)において、R1,R2はC1〜C12の炭化水素基であり、R 1 ,R2は同一であっても異なっていても良く、リン原子と共にR1,R2が環状構造を形成していても良い。nは0又は1である。式中のXはフェニレン基又はナフタレニル基を示す。)
そして、リン含有フェノール化合物がシクロオクチレンホスホニルベンゼンジオール、10−(ジヒドロキシフェニル)10H−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド、10−(ジヒドロキシナフチル)10H−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド、ジフェニルホスフィニルハイドロキノンであることが好ましく、また、反応条件としては、リン含有フェノール化合物の活性水素1当量に対して、0.4〜1.5当量のビニルベンジルハライドを反応させることが好ましい。
また、本発明の要旨は、上記本発明のリン含有ビニルベンジルエーテル化合物を必須成分とする、熱硬化性樹脂及び又は熱可塑性樹脂を配合してなる樹脂組成物であり、特に、本発明のリン含有ビニルベンジルエーテル化合物を必須成分とする電子回路基板用積層板、電子部品用封止材・成形剤・注型材・接着剤、電気絶縁塗料、電気絶縁用フィルム材等の樹脂組成物である。
本発明は、一般式(1)、一般式(3)で示されるように骨格中にリン原子を含有し、且つ、ビニル基を有するリン含有ビニルベンジルエーテル化合物であって、該化合物は骨格中にリン原子を含有したリン含有フェノール化合物とビニルベンジルハライドを反応して得ることができる。そして、該化合物はハロゲンを含有せず各種樹脂に配合することによって難燃性樹脂組成物を得ることができるので、ハロゲンを含有しないで難燃性樹脂組成物が得られ、また、該難燃性樹脂組成物は優れた硬化物物性を示す。
【0005】
更に、本発明のリン含有ビニルベンジルエーテル化合物及び、該ビニルベンジルエーテル化合物を必須成分とする樹脂組成物は通常のビニルベンジルエーテル化合物と同様に建材用の注型材・成形剤・接着剤・塗料などや、電子回路基板に用いられる銅張積層板製造用の樹脂組成物や電子部品に用いられる封止材・成形材・注型材・接着剤・電気絶縁塗料・フィルム材など難燃性を必要とするあらゆる用途に使用可能である。
【0006】
【発明の実施の形態】
本発明について詳細に述べる。
本発明に用いる骨格中にリン原子を含有したリン含有フェノール化合物は一般式4及び又は一般式5で示され、I.G.M.Campbell and I.D.R.Stevens, Chemical Communications,第505-506頁(1966)やZh.Obshch.khim.42(11),第2415-2418頁(1972)、特開昭60−126293号公報、特開昭61−236787号公報、特開平05−331179号公報、特開平05−39345号公報で示される方法により反応されることが開示されている。具体的にはジメチルホスフィニルハイドロキノン、ジエチルホスフィニルハイドロキノン、ジフェニルホスフィニルハイドロキノン、10−(2,5−ジヒドロキシフェニル)−10H−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド(HCA−HQ 三光化学株式会社製)、10−(2,5−ジヒドロキシナフチル)−10H−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド、1,4−シクロオクチレンホスホニルハイドロキノン、1,5−シクロオクチレンホスホニルハイドロキノン(CPHO−HQ 日本化学工業株式会社製)等が挙げられる。これらのリン化合物は単独でも2種類以上混合して使用しても良く、これらに限定されるものではない。
【0007】
本発明に用いるビニルベンジルハライドはp−ビニルベンジルクロライド(CMS−14 セイミケミカル株式会社製)、m−ビニルベンジルクロライド、あるいは2種類の混合物(CMS−AM,CMS−P セイミケミカル株式会社製)、p−ビニルベンジルブロマイド、m−ビニルベンジルブロマイド等が挙げられるが、これらに限定されるものではなく、2種類以上混合して使用しても良い。
【0008】
骨格中にリン原子を含有したリン含有フェノール化合物とビニルベンジルハライドの反応は、ポリフェノール類とビニルベンジルハライドとの反応であり、従来から公知の方法により反応する事ができる。例えばリン含有フェノール化合物とビニルベンジルハライドを適当な不活性溶媒中で、アルカリ金属水酸化物を分割投入又は滴下して反応を行い、生成するハロゲン化金属を濾過や水洗によって分離する方法がある。あるいはリン含有フェノール化合物と、アルカリ金属水酸化物を配合し、ビニルベンジルハライドを分割投入又は滴下して反応を行い、生成するハロゲン化金属を濾過や水洗によって分離する方法もある。
リン含有フェノール化合物とビニルベンジルハライドとの反応割合は、リン含有フェノール化合物の活性水素1当量に対してビニルベンジルハライドが0.4〜1.5当量であり、好ましくは0.8〜1.2当量である。より好ましくは、0.95〜1.05当量である。リン含有フェノール化合物の活性水素1当量に対してビニルベンジルハライドが0.4当量未満では未反応のリン含有フェノール化合物の残存量が多くなり、ビニル基の濃度が下がり好ましくない。また、1.5当量を越えると、未反応のビニルベンジルハライドの残存量が多くなるか、副反応生成物が多くなりすぎることから好ましくない。
【0009】
反応に用いる不活性溶媒は特に限定はなくヘキサン、へプタン、オクタン、デカン、ジメチルブタン、ペンテン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の各種炭化水素、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、アミルアルコール、ペンタノール、ヘキサノール、メチルアミルアルコール、ヘプタノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、フリフリルアルコール等のアルコール類、エチルエーテル、イソプロピルエーテル、ブチルエーテル、ジイソアミルエーテル、メチルフェニルエーテル、エチルフェニルエーテル、アミルフェニルエーテル、エチルベンジルエーテル、ジオキサン、メチルフラン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチルアセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルアミルケトン、ジエチルケトン、エチルブチルケトン、ジプロピルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類等、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブ、セロソルブアセテート、エチレングリコールイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、メチルエチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等が使用できるが、これらに限定されるものではなく、2種類以上混合して使用しても良い。しかし、生成したハロゲン化金属を水洗により除去する場合は水層を分液可能な溶媒を使用する必要がある。好ましい分液可能な溶媒としてはベンゼン、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等があるがこれらに限定されるものではなく、2種類以上混合して使用しても良い。
【0010】
反応に用いるアルカリ金属水酸化物としては水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が使用できるがこれらに限定されるものではなく、2種類以上混合して使用しても良い。また、固形で使用しても水溶液等の溶液で使用しても良い。アルカリ金属水酸化物の使用量はビニルベンジルハライド1モルに対して、0.5〜5.0モル、好ましくは1〜3モルである。アルカリ金属水酸化物の使用量が0.5モル未満の場合、反応が十分行われず好ましくない。一方、アルカリ金属水酸化物の使用量が5.0モルを越えると、中和に必要な酸が多量に必要となる等経済的に好ましくない。
【0011】
反応には必要に応じて触媒を使用することも出来る。使用する触媒の具体例としてはベンジルジメチルアミン等の第3級アミン類、テトラメチルアンモニウムクロライド等の第4級アンモニウム塩類、トリフェニルホスフィン、トリス(2,6−ジメトキシフェニル)ホスフィン等のホスフィン類、エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド等のホスホニウム塩類、2メチルイミダゾール、2エチル4メチルイミダゾール等のイミダゾール類等各種触媒が挙げられるがこれらに限定されるものではなく、2種類以上使用しても良い。
【0012】
反応は30℃〜150℃、好ましくは50℃〜90℃で反応を行うことが好ましい。反応温度が高いとビニル基の反応により重合してしまい、低すぎると反応が進まず効率が悪い。反応の追跡には各種クロマトグラフィーやIR、UV等を利用することが出来る。例えば、原料のビニルベンジルハライドの残存量や、反応に関わる官能基のピークを測定することで終点を決定することが出来る。
【0013】
得られたリン含有ビニルベンジルエーテル化合物はビニル基の反応性から光照射や加熱により重合することができる。また、保存に際して重合禁止剤を添加しておくことも出来る。重合禁止剤の例としてはキノン類、ハイドロキノン類、フェノール類、各種銅塩類、アミジン類、ヒドラジン類等があり、より具体的にはトルキノン、ハイドロキノン、ナフテン銅酸、ヒドラジン塩酸塩などが挙げられるがこれらに限定されるものではなく、2種類以上使用しても良い。
【0014】
リン含有ビニルベンジルエーテル化合物を必須成分とする硬化性樹脂組成物には必要に応じてラジカル重合開始剤を使用することもできる。具体的にはメチルエチルケトンパーオキシド、シクロヘキサノンパーオキシド、メチルアセテートパーオキシド、アセチルアセトンパーオキシド、クメンハイドロパーオキシド、ベンゾイルパーオキシド、t−ブチルパーオキシベンゾエート等が挙げられるがこれらに限定されるものではなく、2種類以上使用しても良い。
【0015】
本発明のリン含有ビニルベンジルエーテル化合物を必須成分とする樹脂組成物には他の各種硬化性樹脂を配合することが出来る。また、必要に応じて熱可塑性樹脂や各種充填剤を配合することが出来る。一般式1,2で示した様に−R3はビニルベンジルエーテル基又は水酸基となっており、水酸基を硬化に応用することも出来る。硬化性樹脂の具体例としてはエポキシ樹脂、ビニルベンジルエーテル化合物、ポリエステル樹脂等が挙げられ、熱可塑性樹脂としてはポリエチレン、ポリプロピレン、ABS樹脂、ポリスチレン、メタクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド等が挙げられるがこれらに限定されるものではなく、2種類以上使用しても良い。
【0016】
充填剤の具体例としては水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、タルク、焼成タルク、クレー、カオリン、酸化チタン、ガラス粉末、シリカバルーン等、ガラス繊維、パルプ繊維、合成繊維、セラミック繊維等が挙げられるがこれらに限定されるものではなく、2種類以上使用しても良い。更に顔料等を配合しても良い。
【0017】
本発明組成物の特性の評価を行った結果、骨格中にリン原子を含有したリン含有フェノール化合物とビニルベンジルハライドを反応して得られるリン含有ビニルベンジルエーテル化合物を必須成分とする樹脂組成物は、ハロゲン化物を含有しないで難燃性を有しており、高温でのハロゲンの解離が無く、広い周波数範囲にわたり誘電率が3.2以下の低誘電率を示し、広い周波数範囲にわたり0.006以下の低誘電正接を有する、耐熱性等に優れた樹脂組成物が得られるものである。
【0018】
【実施例】
実施例及び比較例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、難燃性はUL(Underwriter Laboratorics)規格に準じて測定を行った。誘電率、誘電正接はヒューレットパッカード株式会社製4291Bにて測定を行った。熱重量減少開始温度及びガラス転移温度はセイコーインスツルメンツ株式会社製 Exster6000で測定を行った。赤外吸光スペクトルはパーキンエルマージャパン製1760Xで測定を行った。液体クロマトグラフィーはヒューレットパッカード株式会社製SERIES1100にて以下の条件で測定を行った。
カラム:cadenza CD−C18(インタクト(株)製)15cm
溶離液:A液:蒸留水/酢酸/酢酸アンモニウム=98.5/1.2/0.3
B液:THF/アセトニトリル=1/1
A液/B液=40/60(一定)
流速:1.0ml/分
【0019】
合成例1
攪拌装置、温度計、冷却管、酸素ガス導入装置を備えたガラス製セパラブルフラスコに、リン含有フェノール化合物としてCPHO−HQ66.5部、アルカリ金属として20%NaOH水溶液200部、溶媒としてメチルエチルケトン188部を仕込み、50〜60℃に加温して溶解した。65℃〜75℃に反応温度を保ちながら、ビニルベンジルハライドとしてCMS−14 77.84部を4時間かけて滴下した。この間、溶液はエアーによりバブリングされていた。反応温度を75℃に保ちながら、ガスクロマトグラフィーにてCMS−14の残存量を追跡し、十分反応する迄反応を継続した。この時、CMS−14を滴下終わってから3時間経過していた。その後、メチルイソブチルケトン250部、n−ブタノール100部を加え希釈した。35%塩酸で、pHが5〜6になるまで中和し、下層水層を分離除去した。りん酸2水素ナトリウム水溶液でpHが7〜6になる様にしながら、水洗洗浄、水層分離除去を3〜5回繰り返した。還流脱水を行い、溶液濾過を行って溶剤回収を行った。得られたリン含有含有ビニルベンジルエーテル化合物(以下P−1)は暗褐色の半固形状物質であった。赤外吸光スペクトルを図1に、液体クロマトグラフィーを図2に示した。リン含有率を測定した結果、6.2%だった。
【0020】
合成例2
合成例1と同様な装置にリン含有フェノール化合物としてHCA−HQ 162.2部、反応溶媒としてジメチルスルホキシド243.3部、ビニルベンジルハライドとしてCMS−P 155.7部を加え、75℃で溶解した。触媒としてテトラメチルアンモニウムクロライド0.33部を水溶液で加えた。アルカリ金属として48.5%水酸化ナトリウム水溶液148.5部を反応発熱に注意しながら滴下して反応を行った。ガスクロマトグラフィーにて残存するCMS−Pの量を追跡し、十分反応したことを確認して反応を終了した。この時、水酸化ナトリウム水溶液を滴下し終わってから3時間経過していた。メチルイソブチルケトン651部、重合禁止剤トリメチルハイドロキノンを0.3部加え35%塩酸で、pHが5〜6になるまで中和し、下層水層を分離除去した。燐酸2水素ナトリウム水溶液でpHが7〜6になる様にしながら、水洗洗浄、水層分離除去を3〜5回繰り返した。還流脱水を行い、溶液濾過を行って溶剤回収を行った。得られたリン含有含有ビニルベンジルエーテル化合物(以下P−2)は暗褐色の固形状物質であった。赤外吸光スペクトルを図3に、液体クロマトグラフィーを図4に示した。リン含有率を測定した結果、5.6%だった。
【0021】
合成例3
合成例1と同様な装置に9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド340部、トルエン660部を仕込み80℃で溶解した。1,4−ナフトキノン245部を反応発熱に注意しながら、分割投入した。反応を続け、温度を110℃に上げて更に反応を行った。3時間後暗褐色結晶が析出したスラリー溶液を得た。濾過により結晶を分離し、メタノール500部に結晶を分散した。この操作を3回行った後熱風循環オーブンにて乾燥を行った。得られた淡黄色粉末のリン含有フェノール化合物10−(2,5−ジヒドロキシナフチル)−10H−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイドを93.5部、溶媒としてジメチルスルホキシド140.5部、メチルイソブチルケトン93.5部、ビニルベンジルハライドとしてCMS−Pを77.8部、触媒としてテトラメチルアンモニウムクロライド0.20部、アルカリ金属として48.5%水酸化ナトリウム水溶液74.2部、重合禁止剤としてトリメチルハイドロキノンを0.16部とした以外は合成例2と同様な操作を行い、暗褐色固形状のリン含有ビニルベンジルエーテル化合物(以下P−3)を得た。赤外吸光スペクトルを図5に、液体クロマトグラフィーを図6に示した。リン含有率を測定した結果、4.0%だった。
【0022】
合成例4
アルカリ金属として20%水酸化ナトリウム水溶液219部、リン含有フェノール化合物としてジフェニルホスフィニルハイドロキノン147部、溶媒としてトルエン300部、ビニルベンジルハライドとしてCMS−P 167.6部とした以外は合成例1と同様な操作を行い、暗褐色固形のリン含有含有ビニルベンジルエーテル化合物(以下P−4)を得た。リン含有率を測定した結果、5.9%だった。
【0023】
合成例5
リン含有フェノール化合物の代わりにテトラブロモビスフェノールA170部、反応溶媒としてトルエン90部、ビニルベンジルハライドとしてCMS−P 97.9部、触媒としてテトラメチルアンモニウムクロライド0.9部、アルカリ金属として48.5%水酸化ナトリウム水溶液83.1部とした以外は合成例2と同様な操作を行い、臭素含有ビニルベンジルエーテル化合物(以下B−1)を得た。臭素含有率は42%だった。
【0024】
実施例1〜5及び比較例1〜5
表1および表2に示した配合比により、150℃×2時間及び180℃×2時間の条件で硬化物を作成した硬化物物性を示す。配合比は重量部である。
【0025】
【表1】
【0026】
【表2】
【0027】
【発明の効果】
比較例1及び比較例4は臭素含有ビニルベンジルエーテル化合物により、難燃性を有しているが、燃焼の際にハロゲン化物等の有害性ガスが発生する。比較例2及び比較例3、比較例5は低誘電率、低誘電正接であるが非難燃性である。実施例1〜実施例5はハロゲンを含有しないで難燃性を有しており、その硬化物物性も優れている。
【図面の簡単な説明】
【図1】合成例1で得られたリン含有ビニルベンジルエーテル化合物(以下P−1)の赤外吸光スペクトル。
【図2】合成例1で得られたリン含有ビニルベンジルエーテル化合物(以下P−1)の液体クロマトグラフィーの図。
【図3】合成例2で得られたリン含有ビニルベンジルエーテル化合物(以下P−2)の赤外吸光スペクトルの図。
【図4】合成例2で得られたリン含有ビニルベンジルエーテル化合物(以下P−2)の液体クロマトグラフィーの図。
【図5】合成例3で得られたリン含有ビニルベンジルエーテル化合物(以下P−3)の赤外吸光スペクトル。
【図6】合成例3で得られたリン含有ビニルベンジルエーテル化合物(以下P−3)の液体クロマトグラフィーの図。
Claims (9)
- リン含有フェノール化合物がシクロオクチレンホスホニルベンゼンジオールである請求項1または2記載のリン含有ビニルベンジルエーテル化合物。
- リン含有フェノール化合物が10−(ジヒドロキシフェニル)10H−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイドである請求項1または2記載のリン含有ビニルベンジルエーテル化合物。
- リン含有フェノール化合物が10−(ジヒドロキシナフチル)10H−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイドである請求項1または2記載のリン含有ビニルベンジルエーテル化合物。
- リン含有フェノール化合物がジフェニルホスフィニルハイドロキノンである請求項1または2記載のリン含有ビニルベンジルエーテル化合物。
- リン含有フェノール化合物の活性水素1当量に対して、0.4〜1.5当量のビニルベンジルハライドを反応させることを特徴とする請求項1〜6の何れかの請求項記載のリン含有ビニルベンジルエーテル化合物。
- 請求項1〜7の何れかの項に記載のリン含有ビニルベンジルエーテル化合物を必須成分とする、熱硬化性樹脂及び又は熱可塑性樹脂を配合してなる樹脂組成物。
- 請求項1〜7の何れかの項に記載のリン含有ビニルベンジルエーテル化合物を必須成分とする電子回路基板用積層板。
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