JP4342013B2 - 超高集積回路のblpスタック及びその製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は超高集積回路のBLP(Bottom Leaded Package) スタック及びその製造方法に関し、更に詳細には、メモリ容量を増加させた半導体メモリのためのパッケージの積層にあたって、信頼性高く、且つ実装面積を小さくし、軽く、薄くより小型化を図ったパッケージスタック構造及びその製造方法に関する。なお、本明細書におけるパッケージとはチップを収容する外囲器そのものを意味するのではなく、チップを収納した状態を意味する。
【0002】
一般に、半導体産業において集積回路に対するパッケージング技術は小型化の要求を満たすために発展し続けてきた。集積回路を小型化する方法の進歩は半導体チップ中に数百万の回路素子を集積可能にし、ひいては空間の利用効率を考慮した集積回路のパッケージングの重要性を浮かび上がらせた。
【0003】
図1〜図3は、個々のパッケージングを完了したパッケージ単品を積層してメモり容量の拡張された半導体パッケージスタックを得る過程を示す。
以下、従来のTSOP(thin small outline package)スタック5の製造過程を説明する。
まず、図1A、図1Bに示すように、下部用と上部用のTSOPでパッケージングした単品50を用意する。そして、単品50の折り曲げられたアウタリード500を図2Bに示すように伸ばした後、図2Cに示すようにその先端部を一定の長さだけ残して断ち切る。次いで、図3Aに示すように、各単品50の各々のリードが一致するように整列させた状態で単品50を相互接着させる。この際、上部の単品50と下部の単品50との間には接着剤501が介在される。この後、図3Bに示すように、各単品50のアウタリード500を連結するための孔511を有する積層用レール510を用意し、積層用レール510の孔511と相互接合された単品50のアウタリード500の先端部を整列させる。次いで、単品50のアウタリード500をレール510の孔511に嵌合する。この後、レール510の上端部の下面に接着剤503を塗布して、レール510を単品50の上面に取り付ける。これにより、レール510の動きが防止される。しかるのちに、半田ペースト502をレール510の孔511上部に付着した後、半田ペースト502に熱を加えてレール510とアウタリード500とを接合させる。
半田ペーストに代えて、溶融された半田にディップして接合させてもよい。
【0004】
上記過程を通じて2つのパッケージを機械的、電気的に連結させると、TSOPスタック5が完成され、パッケージのメモリ容量は2倍に増加する。すなわち、積層型のTSOPスタック5は、必要なメモリ容量に基づいて単品50を所望の数だけ積層してパッケージスタックのメモリ容量を増加させる。例えば、4メガDRAMの単品で8メガDRAMのパッケージスタックを制作しようとする場合には4メガDRAMの容量のTSOP単品2つ、4メガDRAMの単品で16メガDRAMのパッケージスタックを制作しようとする場合には4メガDRAMのTSOP単品4つを上記工程を経て積層する。
【0005】
一方、図5は従来の積層型パッケージスタックの他の例を示す図であり、薄く、頑丈で、湿気及び撓み等の機械的な変形に強く、放熱性能に優れたパッケージスタック6を提供するものである。これについては米国特許番号5、446、620に詳細記載されている。
【0006】
しかし、これらの従来のパッケージスタックは、単品パッケージを単純積層してなるため、スタックが大きく、且つ重い。更に、レール510との連結部位が露出され、連結部位の接合強度が弱いため、機械的な信頼性が低下するという問題があった。そして、半導体チップのボンディングパッドから印刷回路基板まで長い信号線(アウタリード及びレール)を経るので、高速性能を妨げる信号遅延が発生したり、干渉ノイズが大きくなったりする等、電気的な信頼性が低下するという問題点があった。
【0007】
一方、製造過程においては、接着剤を用いて接合しなければならないので、構成材料の変形が生じたり、半導体チップとモールドボディとの境界の接着力が悪くなる問題があった。そして、単品のパッケージ制作工程が終わった状態で積層工程が追加されるので工程数が多くなり、単品のパッケージに対するパッケージング工程用装備以外に別の積層装備を必要とするため、追加コストが余分にかかり、制作期間も長期化される等、多くの問題があった。
特に、TSOPスタック5の場合、単品50のアウタリードを伸ばして余分の部分を断ち切る過程、レール510を別途制作する過程、そして制作完了したレール510の孔511にTSOPのリード500を挿入する作業及びレールをパッケージの上面に取り付ける作業を行うために上・下部の単品50のリード500を整列する過程及びレールとパッケージ間を整列する過程等を必要とするため、パッケージスタックのための工程が非常に複雑となる問題があった。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記の問題点を解決するためになされたものであり、その目的は、集積度に優れ、工程が単純で、且つ短い信号線を有して機械的・電気的な信頼性に優れた半導体パッケージスタックを提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するための本発明の1実施態様によれば、底面から露出され、パッケージボディの底面及び側面及び上部面の一部を囲むように延長形成される外部電源接続用のリードを有する3次元型BLPと、3次元型BLPのパッケージボディの底面から露出しているボトムリード部にボトムリードが接合されて3次元型BLPにスタックされる標準型BLPとを備えることを特徴とする超高集積回路のBLPスタックを提供する。
【0010】
上記目的を達成するための本発明の第2実施態様によれば、底面から露出される外部電源接続用のリードが延長形成され、パッケージボディの底面及び側面及び上部面の一部を囲むように形成される3次元型BLPが、少なくとも2個以上順次にスタックされるとともに、それらの上側の3次元型BLPのリードとその下側の3次元型BLPのリードとが互いに電気的に連結されることを特徴とする超高集積回路のBLPスタックを提供する。
【0011】
上記目的を達成するための本発明の第3実施態様によれば、底面から露出される外部電源接続用のリードが延長形成され、パッケージボディの下部面及び側面及び上部面の一部を囲むように形成される3次元型BLPと、3次元型BLPの上に載せられて接合され、3次元型BLPのアッパーリード部にボトムリードが電気的に接続されるようにスタックされる標準型BLPとから構成される第1BLPスタックと;第1BLPスタックと同じ構成であり、第1BLPスタックに対向するよう位置し、第1BLPスタックの3次元型BLPのボトムリード部に3次元型BLPのボトムリード部が接合される第2BLPスタックと;を備えることを特徴とする超高集積回路のBLPスタックを提供する。
【0012】
上記目的を達成するための本発明の第4実施形態によれば、底面から露出される外部電源接続用のリードが延長形成され、パッケージボディの底面及び側面及び上部面の一部を囲むように形成される3次元型BLPと、3次元型BLPのボトムリード部の上部に載せられ、3次元型BLPのアッパーリード部にボトムリードが電気的に接続されるように接合される標準型BLPとからなり、3次元型BLPと標準型BLPとが離隔されるように3次元型BLPと標準型BLPとの間にスペーサを設けたことを特徴とする超高集積回路のBLPスタックを提供する。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態を添付図面を参照して詳細に説明する。
まず、図6〜図11に基づき本発明の第1実施形態の底面からリードを導出したパッケージ、すなわちBLP(Bottom Leaded Package) を複数重ねたBLPスタックのスタック過程を説明する。
図6A、図6Bは本発明に利用される標準型BLP20、3次元型BLP10をそれぞれ示す縦断面図であり、図9は本発明の超高集積回路のBLPスタックの第1実施形態(3D+標準)1を示す縦断面図である。
本発明の第1実施形態のBLPスタック1は、図9に示すように、標準型BLP20の上に3次元型BLP10が積層された形状である。本明細書において上下という表現は単に図面上でのもので絶対的なものではない。3次元型BLP10は、チップ7をパッケージボディ12で覆い、チップ7の底面に連結され、パッケージボディ12の底面で外に出されて露出し、パッケージボディの側面から上面にまでパッケージボディ12に沿って延びている外部電源接続用のリード11を有する。一方、標準型BLP20の外部電源接続用のリード21はパッケージボディの底面の両端部分に露出しているだけである。標準型と3次元型では上記したリードの違いがあるだけである。これらを積層するに当たっては図9に示すように標準型20の外部電源接続用のリード21を3次元型BLP10の外部電源接続用のリードの底面に露出している部分111に接合させる。
【0014】
3次元型BLP10の外部電源接続用のリード11を、パッケージボディ12の底面から露出した部分をボトムリード部111と、これから延びてボディの側面に沿った部分をサイドリード部113と、サイドリード部113から延びてボディの上面の一部を囲む部分をアッパーリード部112という。標準型BLP20は外部電源接続用のリード21はパッケージボディの底面から露出された状態であり、これはボトムリードと称する。
【0015】
次に、このように構成された本発明の第1実施形態のBLPスタックの製造過程について図7〜図10を参照して説明する。
図7は本発明実施形態の超高集積回路のBLPスタック製作用のジグを示す縦断面図であり、図8は図7の下部ジグの全体を示す平面図であり、図10は図7のジグ100にスタックのために3次元型BLPが装着された状態を示す断面図である。
まず、ボトムリード21を上方に向けるように標準型BLP20を図7のスタック用の下部ジグ101に形成されたポケット102に入れた後、それを図10に示すように真空圧で吸着して下部ジグに固定させる。その後、標準型BLP20上に3次元型BLP10を置く。その際、標準型BLP20のボトムリード21と、その上の3次元型BLP10のボトムリード部111とを互いに整列させた状態で当接させる。次いで、上側の3次元型BLP10を上部ジグ103にて押圧して固定した状態で、標準型BLP20のボトムリード21と3次元型BLP10のボトムリード部111との境界面にレーザを照射して、3次元型BLP10のボトムリード部111とその下部の標準型BLP20のボトムリード21とを溶接させる。
【0016】
このようにして、3次元型BLP10と標準型BLP20を用いたBLPスタックが製造される。BLPスタックは、3次元型BLP10の半導体チップと標準型BLP20の半導体チップとが互いに電気的に連結されるため、メモリ容量が拡張される。かかる第1実施形態の超高集積回路のBLPスタック1は図11に示すような形態にマザーボード200に実装可能である。
【0017】
尚、3次元型BLP10のアッパーリード部112と標準型BLP20のボトムリード21とが互いに溶接されるように、3次元型BLP10と標準型BLP20をスタックしてもよい。また、レーザによる溶接に代えて3次元型BLP10のリード11と標準型BLP20のリード21とを半田或いは導電性を備えた導電膜にっよて接合して電気的に連結してもよい。
【0018】
図12は超高集積回路のBLPスタックの第2実施形態(3D+3D)を示す縦断面図である。この実施形態は二つの1次元BLP10を重ねたものである。その積層に当たっては、標準型BLP20の代わりに図13に示すようにBLPスタック製作用のジグに3次元型BLPを装着し、その上に他の3次元型BLPを置いて接合させる。図14は第2実施形態の超高集積回路のBLPスタックをマザーボードに実装させた状態を示す。
本発明の第2実施形態のBLPスタック2は、底面から露出される外部電源接続用のリード11が延長形成され、パッケージボディ12の底面及び側面及び上部面の一部を囲むよう曲げられた3次元型BLP10が、少なくとも2個以上順次にスタックされるとともに、上側の3次元型BLP10の半導体チップ7とその下側の3次元型BLP10の半導体チップ7とが各々のリード11を介して互いに電気的に連結されるように構成されている。
【0019】
以下、このように構成された本発明の第2実施形態のBLPスタックの製造過程を説明する。
まず、図7のスタック用の下部ジグ101のポケット102に3次元型BLP10単品を入れて真空圧を用いて吸着させて固定させる。ポケット102の下部には真空圧を維持可能な真空ライン(図示せず)が連結されている。一方、真空圧を用いて3次元型BLP10を固定させた後に、3次元型BLP10上面に又他の3次元型BLP10を置く。このスタックされる3次元型BLP10は、下側の3次元型BLP10のアッパーリード部112と、上側の3次元型BLP10のボトムリード部111とが互いに接続するように整列する。
【0020】
次に、図13に示すように、上部の3次元型BLP10を上部ジグ103にて押圧して固定させた状態で、3次元型BLP10のリード11間の境界面にレーザ(図示せず)を用いて光線を照射して、上下部の3次元型BLP10のリード11を相互溶接させる。これにより、3次元型BLP10を用いたBLPスタックを製造完了する。各BLPスタックの各半導体チップ7はリード11を介して互いに電気的に連結され、このためメモリ容量が拡張される。
上記したような第2実施形態の高集積回路のBLPスタックは図14に示すような形態にマザーボード200に実装可能である。
【0021】
図15は第2実施形態の超高集積回路の3次元型BLPスタックの変形例を示す縦断面図である。
3次元型BLP10は、2個のBLPをスタックする場合、リード11の形態的な特性上、図15に示すようにリード11のアッパーリード部112側が対向接触するようにスタックしてもよく、ボトムリード111側が対向接触するようにスタックしてもよい。
【0022】
図16は第2実施形態の超高集積回路のBLPスタックの容量拡張例を示す縦断面図である。
第2実施形態のBLPスタックは、3次元型BLP10の個数さえ増加させればメモリ容量を拡張可能であることを示している。実装の時に、BLPスタック高があんまり高くならないように8個以下に積層することが好ましく、4個以下に積層することが更に好ましい。上記の図16の超高集積回路のBLPスタックは図17に示すような形態にマザーボード200に実装してもよく、図18に示すような形態に実装してもよい。
【0023】
図19は本発明の超高集積回路のBLPスタック製作用のジグの他の実施形態を示す縦断面図であり、図20は図19のジグ100aに3次元型BLP10が装着された状態を示す縦断面図である。
このジグ100aを用いてBLPスタックを制作する場合には、上・下部のジグでなく、左・右に対向するように設けられたジグを用いて積層されるBLPを挟み込む。ただし、左右のジグとも上下に分離するように形成されており、それぞれの上又は下のいずれかに突起とその突起を挿入する孔又は溝を形成させて、突起を孔又は溝に挿入することで上下一体とする。そして、レーザ(図示せず)からの照射光によってリードの境界部位を溶接する。この際、左右に対向するように設けられたジグ100aの一方には案内孔が形成されている。この案内孔には、ジグに装着された3次元型BLPのうち何れか一方の3次元型BLP10を他方の3次元型BLPに押圧するプッシャ104が入れられる。
【0024】
図21は本発明の超高集積回路のBLPスタックの第3実施形態((3D+標準)+(3D+標準))を示す縦断面図である。
本発明の第3実施形態のBLPスタック3によれば、底面から露出された外部電源接続用のリード11が、パッケージボディ12の底面及び側面及び上部面の一部を囲むように曲げられた3次元型BLP10と、3次元型BLP10上に載せられて接合され、3次元型BLP10のアッパーリード部111にボトムリード21が電気的に接続されるようにスタックされる標準型BLP20とから構成される第1BLPスタックと;第1BLPスタックと同じ構成であり、第1BLPスタックに対向するように配置され、第1BLPスタックの3次元型BLP10のボトムリード部111に自身の3次元型BLP10のボトムリード部111が接合される第2BLPスタックとを備えている。
【0025】
次に、このように構成された本発明の第3実施形態のBLPスタックの製造過程を説明する。
まず、3次元型BLP10をスタック用の下部ジグ101のポケット102に入れる第1段階と、その3次元型BLP10を真空圧を用いて吸着する第2段階と、第3次元型BLP10のアッパーリード部112と標準型BLP20のボトムリード21とが接続するように3次元型BLP上に標準型BLPを整列させて載せる第3段階と、標準型BLP20のボトムリード21の先端にレーザ光線を照射して、標準型BLP20のボトムリード21と3次元型BLP10のボトムリード部111とを溶接させる第4段階とで第1BLPスタックを製造する。
この後、第1〜第4段階を同様に経て第2BLPスタックを製造した後、第1BLPスタックの3次元型BLP10のボトムリード部111と第2BLPスタックの3次元型BLP10のボトムリード部111とが対向して接触するように第1BLPスタックの上部に第2BLPスタックを載せる。この状態で、対向する第1、第2BLPスタックを上部ジグ103にて押圧してクランピングした後、第1、第2BLPスタックの各3次元型BLP10のボトムリード部111の接する境界面にレーザ光線を照射して第1、第2BLPスタックの3次元型BLP10のリード11間の境界部位を溶接させる。これにより、第3実施形態のBLPスタック3が完成する。
このようにして制作した本発明の第3実施形態のBLPスタックは図22に示すような形態にマザーボード200に実装可能である。
【0026】
図23は本発明の第4実施形態(3D+標準+スペーサ)のBLPスタックを示す正面図であり、図24は本発明の第4実施形態のBLPスタック制作に適用される半田ディップ装置を示す斜視図であり、図25〜図29は本第4実施形態の超高集積回路のBLPスタックの制作過程を示す正面図である。
本発明の第4実施形態のBLPスタック4は、3次元型BLP10と標準型BLP20を間にスペーサ70を介在させて結合したものである。同じ3次元型BLP及び標準型BLPという言葉を使用しているが、正確には前の各実施形態に使用したパッケージの形状とは異なるが、本明細書において、基本的に3次元型BLP10とは要するにチップを覆うパッケージボディの底面から外部リードをパッケージボディの上側の面にまで曲げて延ばした形状のものを意味し、一方、標準型BLP20とはパッケージボディの底面部から外部リードが短く直線状に延びているものを意味する。パッケージボディの形状や、外部リードが底面部位外でパッケージボディに接触しているかどうかは問わない。この第4実施形態4は双方のBLPの間が離れているのが特徴である。したがって、外部リードどうしを連結するのに先の例のように溶接や接着剤による接着を使用することはできない。半田にディップさせて接合している。
【0027】
このように構成された本発明の第4実施形態のBLPスタック4の製造過程は以下の通りである。
まず、標準型BLP20と3次元型BLP10を用意するとともに、図24に示すような半田ディップ装置8を用意する。BLP単品及び半田ディップ装置8の用意が完了すると、3次元型BLP10のアッパーリード部112を下に向けるようにした状態でBLPのボトム側のボディ上面に図25Aに示すように小さな塊であるスペーサ70を適宜の位置に置く。この後、スペーサ70が配置された3次元型BLP10の上に、標準型BLP20を図25Bに示すように載せる。3次元型BLP10に標準型BLP20を載せた後には、図25Cに示すように3次元型BLP10及び標準型BLP20を固定ジグ9で挟み込んでクランプさせる。このように、3次元型BLP10及び標準型BLP20を固定ジグ9でクランプした後には、固定ジグ9で双方のBLPをその形状のまま移動させることができる。図26に示すようにクランプされた双方のBLP10、20の一方の端部を半田ディップ装置8へ向け、半田供給チップ81から排出される半田71に図27に示すようにディップさせる。これにより、3次元型BLP10の一方のボトムリード部111と、これに対向する標準型BLP20の一方のボトムリード21とが電気的に接続されるように半田付けされる。このとき、3次元型BLP10のボディと標準型BLP20のボディとの間にはスペーサ70があり、一定の間隙のギャップがあるので、ギャップを介して半田が流入し易いため、パッケージ間の接着信頼性が向上する。半田ディップ装置8の中央部の半田供給チップ81から噴出される半田71のうち、半田付け作業後の残留分は再び貯蔵槽の内部へ流入され、再循環される。
【0028】
そして、パッケージスタックの一方のリード11に対する半田付けが完了すると、半田付けされない反対側のリードに対する半田付けを行う。その際、固定ジグ9が図28に示すように振動しながら回転する。これは、固定ジグ9を振動させることによってパッケージスタックのリード11についた半田の量を一定にするとともに、半田をパッケージ間の隙間の広い面積に拡散させるためである。固定ジグ9の振動のために、固定ジグ9を振動させる発振モータ(図示せず)等の発振装置を備える必要があることはいうまでもない。
【0029】
一方、固定ジグ9が振動しつつ180゜回転した後には、クランプした双方のBLP10、20の他方のボトムリード部111とボトムリード21の先端を半田ディップ装置8の半田供給チップ81から排出される半田71に図29のようにディップさせる。これにより、3次元型BLP10のボトムリード部111とこれに対向する標準型BLP20のボトムリード21とが電気的に接続されるように半田付けされる。
このようにして完成した超高集積回路の3次元型BLPスタック4(図30に示す)はメモリ容量が拡張される。BLPスタック4は図31に示すような形態にマザーボード200に実装可能である。
【0030】
【発明の効果】
本発明のBLPスタックは、パッケージボディの底面に露出したリードを互いに連結した構造であるので、集積度に優れ、信号経路が短く、高速デバイスの積層時に優れた性能を示す。
また本発明の製造方法は、工程が単純で、作業速度が速く、且つ工程の信頼性が高い。したがって、TAT(処理所要時間)を短縮することができ、更に生産性を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 スタックのために用意されたTSOP単品を示す縦断面図。
【図2】 TSOP単品のアウタリードの断切り過程を示す縦断面図、
【図3】 積層されたTSOPを積層レールに入れて半田付けする過程を示す縦断面図。
【図4】 従来の積層型半導体パッケージを示す図。
【図5】 従来の積層型半導体パッケージの他例を示す側面図。
【図6】 本発明が適用される標準型BLPを示す縦断面図(A)と本発明に適用される3次元型BLPを示す縦断面図(B)。
【図7】 本発明実施形態の超高集積回路のBLPスタック製作用の上・下部ジグを示す要部縦断面図。
【図8】 図7の下部ジグの全体を示す平面図。
【図9】 本発明の超高集積回路のBLPスタックの第1実施形態を示す縦断面図。
【図10】 図7のジグに、スタックのために標準型及び3次元型BLPが装着された状態を示す縦断面図。
【図11】 図9の超高集積回路のBLPスタックがマザーボードに実装される状態を示す縦断面図。
【図12】 完成した超高集積回路の3次元型BLPスタックの第2実施形態を示す縦断面図。
【図13】 図7のBLPスタック製作用のジグにスタックのために3次元型BLPが装着された状態を示す縦断面図。
【図14】 第2実施形態の超高集積回路のBLPスタックがマザーボードに実装される状態を示す縦断面図。
【図15】 第2実施形態の超高集積回路の3次元型BLPスタックの変形例を示す縦断面図。
【図16】 第2実施形態の超高集積回路のBLPスタックの容量拡張例を示す縦断面図。
【図17】 図16のBLPスタックがマザーボードに対して実装される様子を示す縦断面図。
【図18】 図16のBLPスタックがマザーボードに対して他の形態に実装される様子を示す縦断面図。
【図19】 本発明の超高集積回路のBLPスタック製作用のジグの他実施形態を示す縦断面図。
【図20】 図19のジグへ3次元型BLPが装着された状態を示す縦断面図。
【図21】 本発明の超高集積回路のBLPスタックの第3実施形態を示す縦断面図。
【図22】 図21の超高集積回路のBLPスタックがマザーボードに実装される状態を示す縦断面図。
【図23】 本発明の超高集積回路のBLPスタックの第4実施形態を示す正面図。
【図24】本発明の第4実施形態のBLPスタックの制作に適用される半田ディップ装置を示す斜視図。
【図25】〜【図30】 本発明の第4実施形態の超高集積回路のBLPスタックの製造過程を示す正面図。
【図31】 本発明の第4実施形態のBLPスタックがマザーボードに実装される状態を説明する正面図。
【符号の説明】
1 第1実施形態のBLPスタック
10 3次元型BLP
11 3次元型BLPのリード
111 ボトムリード部
112 アッパーリード部
113 サイドリード部
12 パッケージボディ
2 第2実施形態のBLPスタック
20 標準型BLP
21 ボトムリード
3 第3実施形態のBLPスタック
4 第4実施形態のBLPスタック
7 半導体チップ
Claims (5)
- パッケージボディの底面から露出され、ボディの側面を経て上面まで延長されている、パッケージボディの底面から露出されているボトムリード部と、パッケージボディの側面を囲むサイドリード部と、パッケージボディの上面を囲むアッパーリード部とからなる外部電源接続用のリードを有する第1パッケージと、
パッケージボディの底面から露出され、第1パッケージの外部電源接続用のリードに接合されて電気的に連結される外部電源接続用のリードを有する第2パッケージと、
を備え、
前記第1パッケージのパッケージボディと前記第2パッケージのパッケージボディとの間に、前記第1パッケージのパッケージボディと前記第2パッケージのパッケージボディ間を離隔させるためのスペーサが介在し、
前記第1パッケージの前記ボトムリード部と前記第2パッケージの前記リードとが半田付けにより接続される
ことを特徴とする超高集積回路のBLPスタック。 - 第2パッケージの外部電源接続用のリードは、第1パッケージの外部電源接続用のリードと同様にパッケージボディの底面から露出され、パッケージボディの側面を経て上面まで延長形成されることを特徴とする請求項1記載の超高集積回路のBLPスタック。
- 第1パッケージ上に、パッケージボディの底面から露出され、パッケージボディの側面を経て上面まで延長形成される外部電源接続用のリードを有する第3パッケージと、
パッケージボディの底面から露出され、第3パッケージの外部電源接続用のリードに接合されて電気的に連結される外部電源接続用のリードを有する第4パッケージと、
を更に重ねることを特徴とする請求項1記載の超高集積回路のBLPスタック。 - 第1パッケージの外部電源接続用のリードと第2パッケージの外部電源接続用のリードは半田によって接合されて電気的に連結されることを特徴とする請求項1記載の超高集積回路のBLPスタック。
- パッケージボディの底面から露出されるボトムリード部と、ボトムリード部から延びてボディの側面を囲むサイドリード部と、サイドリード部から延びて上面を囲むアッパーリード部とからなる外部電源接続用のリードを有する第1パッケージのボトムリード部を上方に向けるようにした状態で第1パッケージのパッケージボディの底面にスペーサを置く段階と、
スペーサが置かれた第1パッケージの上にパッケージボディの下面を介して露出される外部電源接続用のリードを有する第2パッケージを載せる段階と、
第1パッケージと第2パッケージを固定ジグでクランプする段階と、
固定ジグを移動させることにより、クランプした双方のパッケージのボトムリード部と前記外部電源接続用のリードの先端を半田ディップ装置の半田供給チップから排出される半田にディップさせて、第1パッケージのボトムリード部の一方とこれに対向する第2パッケージの前記外部電源接続用のリードの一方とが電気的に接続されるように半田付けする段階と、
固定ジグが振動しつつ回転して、クランプした双方のパッケージのボトムリード部と前記外部電源接続用のリードの先端を半田ディップ装置の半田供給チップから排出される半田にディップさせて、第1パッケージの他方のボトムリード部とこれに対向する第2パッケージの他方の前記外部電源接続用のリードとが電気的に接続されるように半田付けする段階と、
を備えることを特徴とする超高集積回路のBLPスタックの製造方法。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019980016194A KR100331841B1 (ko) | 1998-05-06 | 1998-05-06 | 초고집적회로비·엘·피스택및그제조방법 |
KR16194/1998 | 1998-05-07 | ||
KR16342/1998 | 1998-05-07 | ||
KR1019980016342A KR100290885B1 (ko) | 1998-05-07 | 1998-05-07 | 초고집적회로비·엘·피스택및그제조방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11330312A JPH11330312A (ja) | 1999-11-30 |
JP4342013B2 true JP4342013B2 (ja) | 2009-10-14 |
Family
ID=26633627
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP34990598A Expired - Fee Related JP4342013B2 (ja) | 1998-05-06 | 1998-12-09 | 超高集積回路のblpスタック及びその製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6399420B2 (ja) |
JP (1) | JP4342013B2 (ja) |
DE (1) | DE19920445B4 (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SG75958A1 (en) * | 1998-06-01 | 2000-10-24 | Hitachi Ulsi Sys Co Ltd | Semiconductor device and a method of producing semiconductor device |
JP2001352035A (ja) * | 2000-06-07 | 2001-12-21 | Sony Corp | 多層半導体装置の組立治具及び多層半導体装置の製造方法 |
TWI226648B (en) | 2002-07-18 | 2005-01-11 | Epcos Ag | Surface-mountable component and its production method |
DE10244713A1 (de) * | 2002-07-18 | 2004-02-05 | Epcos Ag | Oberflächenmontierbares Bauelement und Verfahren zu dessen Herstellung |
US20040108583A1 (en) * | 2002-12-05 | 2004-06-10 | Roeters Glen E. | Thin scale outline package stack |
CN2779618Y (zh) * | 2005-01-21 | 2006-05-10 | 资重兴 | 可层叠的封装芯片结构改良 |
US8080867B2 (en) * | 2009-10-29 | 2011-12-20 | Stats Chippac Ltd. | Integrated circuit packaging system with stacked integrated circuit and method of manufacture thereof |
US20110147910A1 (en) * | 2009-12-21 | 2011-06-23 | Micron Technology, Inc. | Method for stacking die in thin, small-outline package |
US8513784B2 (en) * | 2010-03-18 | 2013-08-20 | Alpha & Omega Semiconductor Incorporated | Multi-layer lead frame package and method of fabrication |
TWI550823B (zh) * | 2014-04-10 | 2016-09-21 | 南茂科技股份有限公司 | 晶片封裝結構 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5446620A (en) | 1990-08-01 | 1995-08-29 | Staktek Corporation | Ultra high density integrated circuit packages |
US5760471A (en) | 1994-04-20 | 1998-06-02 | Fujitsu Limited | Semiconductor device having an inner lead extending over a central portion of a semiconductor device sealed in a plastic package and an outer lead exposed to the outside of a side face of the plastic package |
US6002167A (en) * | 1995-09-22 | 1999-12-14 | Hitachi Cable, Ltd. | Semiconductor device having lead on chip structure |
KR100204753B1 (ko) | 1996-03-08 | 1999-06-15 | 윤종용 | 엘오씨 유형의 적층 칩 패키지 |
JP3638750B2 (ja) * | 1997-03-25 | 2005-04-13 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体装置 |
US5986209A (en) * | 1997-07-09 | 1999-11-16 | Micron Technology, Inc. | Package stack via bottom leaded plastic (BLP) packaging |
-
1998
- 1998-12-09 JP JP34990598A patent/JP4342013B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1999
- 1999-05-04 DE DE19920445A patent/DE19920445B4/de not_active Expired - Fee Related
-
2001
- 2001-05-04 US US09/848,586 patent/US6399420B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6399420B2 (en) | 2002-06-04 |
DE19920445A1 (de) | 1999-11-18 |
US20010040278A1 (en) | 2001-11-15 |
DE19920445B4 (de) | 2005-09-01 |
JPH11330312A (ja) | 1999-11-30 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050823 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081110 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081125 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090225 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090407 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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