JP4319192B2 - 干渉型リソグラフィ投影装置 - Google Patents
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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Description
104 ビーム分割器
104A〜104D 格子
106A、106B、106C、106D ビーム
108A、108B、108C、108D、302A、302B 反射面
110 基板
202 ビーム調整光学
204、204A〜204D 交換可能な上部光学モジュール
206 開口プレート
208 下部光学モジュール
210 浸液
212 偏光プレート
404、504 格子
414 ライン
516 コンタクト・ホール
518 コンタクト・ホール・パターン
700 リソグラフィ投影装置
702 照明系
722 コントローラ
724 液浸リソグラフィ投影装置
Claims (25)
- 放射線のビームを調整する照明系と、
前記ビームを受け取り、且つ前記ビームを複数のビーム部分に分割するビーム分割器及び望ましくないビーム部分を阻止する開口プレートを少なくとも含む交換可能な上部光学モジュールと、
前記ビーム部分を受け取って、基板上に干渉縞を生成するように該基板の同じ場所の上に前記ビーム部分を方向付ける下部光学モジュールとを備え、
前記交換可能な上部光学モジュール及び前記下部光学モジュールの少なくとも1つは前記ビーム部分を同じ場所に方向付ける反射面を備え、
前記交換可能な上部光学モジュールの各構成部品は、該光学モジュール内で相互に対して動かないように設置されており、
前記交換可能な上部光学モジュールは前記干渉縞を変えるように、異なる交換可能な上部光学モジュールと交換可能であり、前記下部光学モジュールは前記基板に対して固定位置に設置されているリソグラフィ投影装置。 - 前記ビーム分割器はゼロ次、一次及び二次の回折ビームを回折することによって前記ビームを複数のビーム部分に分割する請求項1に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記ビーム分割器はゼロ次、一次及び二次の回折ビームを回折することによって前記ビームを複数のビーム部分に分割し、前記交換可能な上部光学モジュールは前記ゼロ次の回折ビームを阻止する開口プレートを備えた請求項1に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記開口プレートはさらに高次のビーム部分を阻止する開口プレートを備えた請求項3に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記下部光学モジュールは、該下部光学モジュールと前記基板との間に浸液が維持可能であるように、前記基板に対して固定位置に設置されている請求項1乃至4に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記ビーム分割器は位相シフトビーム分割器を含む請求項1乃至5に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記ビーム分割器は線形格子を含む請求項1乃至5に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記ビーム分割器はチェス盤状格子を含む請求項1乃至5に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記チェス盤状格子は位相がずらされたチェス盤状格子を含む請求項1乃至5に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記ビーム分割器はバスケット・ウィーブ状格子を含む請求項1乃至5に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記ビーム分割器は面がエッチングされたバスケット・ウィーブ状格子を含む請求項1乃至5に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記面がエッチングされたバスケット・ウィーブ状格子は位相がずらされたチェス盤状格子を含む請求項11に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記下部光学モジュールはプリズムを含む請求項1乃至12に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記下部光学モジュールは4本のビーム部分を方向付けて前記干渉縞を形成する請求項1乃至13に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記4本のビーム部分の対になったビーム部分は異なるピッチを有する請求項14に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記下部光学モジュールは前記ビーム部分のうちの2本を方向付けて前記干渉縞を形成する請求項1乃至13に記載のリソグラフィ投影装置。
- 放射線のビームを調整する照明系と、
前記ビームを受け取り、且つ前記ビームを複数のビーム部分に分割するビーム分割器及び望ましくないビーム部分を阻止する開口プレートを少なくとも含む交換可能な上部光学モジュールと、
少なくとも4本のビーム部分を受け取って、基板上に二次元の干渉縞を生成するように前記基板の同じ場所の上に該4本のビーム部分を方向付ける下部光学モジュールとを備え、
前記交換可能な上部光学モジュールの各構成部品は、該光学モジュール内で相互に対して動かないように設置されており、
前記交換可能な上部光学モジュール及び前記下部光学モジュールの少なくとも1つは前記ビーム部分を同じ場所に方向付ける反射面を備え、
前記交換可能な上部光学モジュールは前記干渉縞を変えるように、異なる交換可能な上部光学モジュールと交換可能であり、前記下部光学モジュールは前記基板に対して固定位置に設置されているリソグラフィ投影装置。 - 前記下部光学モジュールを用いて前記ビーム部分を方向付けてコンタクト・ホール・パターンを形成するための請求項17の投影装置を用いる方法。
- 前記コンタクト・ホールは矩形のコンタクト・ホールを含む請求項18に記載の方法。
- 前記コンタクト・ホールは楕円形のコンタクト・ホールを含む請求項18に記載の方法。
- 前記反射面はプリズム上に設けられる請求項17乃至20に記載のリソグラフィ投影装置。
- 放射線のビームを調整する照明系と、
コンピュータ制御下でビームの経路へスワップされる複数の交換可能な上部光学モジュールであって、各交換可能な上部光学モジュールは、前記ビームを複数のビーム部分に分割するビーム分割器、望ましくないビーム部分を阻止する開口プレート及び前記ビーム部分を同じ場所に方向付ける反射面を少なくとも含む複数の交換可能な上部光学モジュールと、
少なくとも4本のビーム部分を受け取り、基板上に二次元の干渉縞を生成するように前記基板上の同じ場所の上に該4本のビーム部分を方向付ける下部光学モジュールとを備え、
前記交換可能な上部光学モジュールの各構成部品は、該光学モジュール内で相互に対して動かないように設置されており、
前記交換可能な上部光学モジュールは前記干渉縞が変えられるように、異なる交換可能な上部光学モジュールと交換可能であり、前記下部光学モジュールは、該基板と該下部光学モジュールとの間に浸液が維持可能であるように、前記基板に対して固定位置に設置されたリソグラフィ投影装置。 - 前記下部光学モジュールと前記基板との間から流体を分注及び回収する自動流体分注及び回収システムをさらに備える請求項22に記載の投影装置。
- 前記複数の交換可能な上部光学モジュールの各々は異なる分解能のコンタクト・ホール・パターンを生成する請求項22または23に記載の投影装置。
- 前記複数の交換可能な上部光学モジュールの各々は、異なるコンタクト・ホール形状のコンタクト・ホール・パターンを生成する請求項22または23に記載の投影装置。
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