JP2006352071A - 干渉型リソグラフィ投影装置 - Google Patents

Abstract

【課題】複数のパターンを印刷する能力を有する干渉型リソグラフィ投影装置を提供すること。
【解決手段】照明系と、交換可能な上部光学モジュールと、下部光学モジュールとを備えるリソグラフィ投影装置。照明系は放射線のビームを提供する。交換可能な上部光学モジュールはビームを受け取り、また、ビームを複数の部分に分割するビーム分割器と、開口プレートと、複数の反射面とを含む。下部光学モジュールは反射面の個々からビームの複数の部分を受け取り、基板上にビームの複数の部分を方向付ける。干渉縞又はコンタクト・ホール・パターンがビームの複数の部分を用いて基板上に形成される。
【選択図】図２

Description

本願は本明細書にその全体を援用した２００５年２月１日に出願された米国仮特許出願第６０／６４８３８８号の優先権を主張するものである。

本発明はリソグラフィ投影装置に関し、より具体的には、干渉型リソグラフィ投影装置（液浸及び非液浸の両方）に関する。

リソグラフィ装置は一般に、テスト用ライン・パターン（又はテスト用コンタクト・ホール・パターン）を印刷する際には、最も微細な分解能で開始してより大きなライン及び／又はコンタクト・ホールで終了しながら、いくつかのラインのセットを印刷することを好む。これは半導体製造工程全体の分解能が、関与する光学だけでなく、化学的工程、及びフォトレジストとエッチング用化学剤等との間の相互作用に依存していることにもよる。したがって、多くの場合リソグラフィ装置はフォトレジストのエッチングがどの分解能で壊れ始めるかを知っておく必要がある。

分解能が３０〜１００ｎｍなどのナノメートル規模に達するとき、これを達成するのに従来のマスク及びレチクルを使用するのは非常に困難である。また、レチクル及びレンズを使用する従来のリソグラフィ投影装置を利用するのは、そのような投影装置、特に分解能が限界にある投影装置は多くの場合５００万ドル〜２０００万ドルのコストがかかるために、非常に高価である。レンズをベースにしたリソグラフィ投影装置の現在の分解能の限界は約６５ｎｍであり、この分解能に到達することでさえ、現行の技術では達成が困難であると考えられる。

干渉型のリソグラフィ印刷に利用可能な現行のリソグラフィ投影装置の多くは、従来のリソグラフィ投影装置よりも低い分解能で印刷するにはより良いかもしれないが、干渉型リソグラフィ投影装置は異なるパターンを異なる分解能で印刷することはできない。

したがって、当該技術では複数のパターンを印刷する能力を有する干渉型リソグラフィ投影装置の必要性がある。

本発明の一実施例では、放射線のビームを調整する照明系と、ビームを受け取り、且つビームを複数のビーム部分に分割するビーム分割器を含む交換可能な上部光学モジュールと、ビーム部分を受け取って、基板上に干渉縞を生成するように基板の同じ場所の上にビーム部分を方向付ける下部光学モジュールとを備えており、交換可能な上部光学モジュール及び下部光学モジュールの少なくとも１つはビーム部分を同じ場所に方向付ける反射面を備え、交換可能な上部光学モジュールは干渉縞が変えられるように異なる交換可能な上部光学モジュールについて交換可能である、リソグラフィ投影装置が提供される。上部光学モジュール及び下部光学モジュールという用語は、下部光学モジュールが上部光学モジュールの下側に位置すべきであることを必ずしも意味するわけではないことを理解しておく必要がある。これはビームはまず上部光学モジュールを通過してから下部光学モジュールに達するように、光学的意味合いで上部光学モジュールが下部光学モジュールの前に位置するということを意味するに過ぎない。

一実施例では、ビーム分割器はゼロ次、一次、及びさらに高位の回折パターンを生成する。この実施例では、交換可能な上部光学モジュールに設けられた開口プレートはゼロ次の回折パターンを阻止し、任意にはより高次の回折パターンを阻止する。

一実施例では、下部光学モジュールと基板との間に浸液を用いることができる。

種々の実施例では、ビーム分割器は線形格子、チェス盤状格子、バスケット・ウィーブ状格子、又は面がエッチングされたバスケット・ウィーブ状格子を含むことができる。

一実施例では、放射線のビームを調整する照明系と、ビームを受け取り、且つビームを複数のビーム部分に分割するビーム分割器を含む交換可能な上部光学モジュールと、少なくとも４本のビーム部分を受け取って、基板上に二次元の干渉縞を生成するように基板の同じ場所の上にその４本のビーム部分を方向付ける下部光学モジュールとを備えており、交換可能な上部光学モジュール及び下部光学モジュールの少なくとも１つはビーム部分を同じ場所に方向付ける反射面を備え、交換可能な上部光学モジュールは干渉縞が変更されるように異なる交換可能な上部光学モジュールについて交換可能である、リソグラフィ投影装置が提供される。

別の実施例では、放射線のビームを調整する照明系と、コンピュータ制御下でビームの経路へスワップされる複数の交換可能な上部光学モジュールであって、各交換可能な上部光学モジュールはビームを複数のビーム部分に分割するビーム分割器を備えた複数の交換可能な上部光学モジュールと、ビーム部分を受け取り、基板上に干渉縞を生成するように基板上の同じ場所の上にビーム部分を方向付ける下部光学モジュールとを備え、交換可能な上部光学モジュール及び下部光学モジュールの少なくとも１つはビーム部分を同じ場所に方向付ける反射面を備え、交換可能な上部光学モジュールは干渉縞が変えられるように異なる交換可能な上部光学モジュールについて交換可能である、リソグラフィ投影装置が提供される。

上記説明及び以下の詳細な説明はともに例示的且つ説明的なものであり、請求される本発明をさらに説明することを意図したものであることを理解されたい。

本発明のさらなる実施例、フィーチャ、及び利点のほか、本発明の種々の実施例の構造及び動作を添付図面を参照して以下に詳細に記載する。

ここに組み入れ、本明細書の一部を成す添付図面は本発明の１つ又は複数の実施例を説明するものであり、説明と共に、さらに、本発明の原理を説明し、当業者が本発明を作製且つ使用できるような役割をする。

ここで本発明を添付図面を参照して記載する。図面中、同様の参照番号は同一か機能的に類似する要素を表す。また、一番左の数字はその参照番号が最初に登場する図面を示し得る。

具体的な構成及び配置を考察するが、それは単に説明のためのものであることを理解されたい。当業者であれば、本発明の精神及び範囲から逸脱することなく他の構成及び配置を使用できることが理解されよう。この発明を種々の他の用途にも使用することができることは当業者には明白であろう。

図１はＴａｌｂｏｔ干渉計として知られた従来の干渉型リソグラフィ投影装置を示しており、これは基板上にライン・パターンを印刷又は形成するのに用いられる。図１には、ビーム分割器１０４に入射する、通常はレーザによって生成されるコヒーレント光ビーム１０２を示している。ビーム分割器１０４はビーム１０２を２本のビーム、１０６Ａ及び１０６Ｂに分割する。次に、この２本のビーム１０６Ａ及び１０６Ｂは反射面１０８Ａ及び１０８Ｂからそれぞれ反射され、次いで基板１１０に向けて再び方向付けられる。基板１１０は通常、投影装置の焦点面内にあり、干渉縞は基板１１０に形成される。干渉縞はフォトレジスト層（図１には示さず）を露光し、格子と同様のライン・パターンを形成する。

フォトレジスト製造業者はレジストの性能を種々のライン形状のほか種々のコンタクト・ホール形状でも試験する必要があるかもしれない。これはエッチングの化学が、ラインを印刷する場合に比べコンタクト・ホールを印刷する場合においてより複雑であるためと思われる。すなわち、フォトレジスト製造業者は、コンタクト・ホール（バイア孔）を非常に微細な分解能で形成するためにレジストの能力を試験する必要がある。

図２は本発明の一実施例を示している。図２に示すように、干渉型リソグラフィ投影装置用の光学モジュールが２つのモジュール、すなわち交換可能な上部光学モジュール２０４と下部光学モジュール２０８とに分割されている。

一実施例では、下部光学モジュール２０８は、液体２１０（又は、非液浸干渉型リソグラフィ投影装置が使用される場合には、空隙）及びウエハ（すなわち基板）１１０と接するように、適所に永久的に設置される。すなわち、図示の実施例では、下部光学モジュール２０８は１回で位置合わせされ、次いで適所に残されるように意図されている。

交換可能な上部光学モジュール２０４は、必要に応じてそれを交換するように、例えばカルーセル又はスライダー上に設置されてよい。一実施例では、交換可能な上部光学モジュール２０４はビーム調整光学２０２、ビーム分割器１０４、開口プレート２０６、反射面１０８Ａ及び１０８Ｂ、並びに偏光プレート２１２を備える。ビーム分割器１０４はゼロ次、一次、及びより高次の回折ビーム部分を回折する。開口プレート２０６を用いて、反射面１０８Ａ及び１０８Ｂに入射する一次のビーム部分１０６Ａ及び１０６Ｂのみを残しながら、ゼロ次、任意にはより高次の回折ビーム部分を阻止することができる。

したがって、本発明のこの実施例は、交換可能な上部光学モジュールを変えることによってリソグラフィ投影装置の印刷構成を変更しながら、基板（ウエハ）と下部光学モジュールとの間に浸液を維持する能力を提供することができる。光学とウエハとの流体界面に影響を及ぼさない必要がある。種々の実施例では、印刷構成の変更によって、ライン／空間比等を変えながらコンタクト・ホール特性、ライン幅特性を容易に変えることが可能となる。

一実施例では、構成部品（例えば、ビーム分割器、プリズム光学、浸液、及びフォトレジスト）のうちで最低の屈折率が、考えられる最小の分解能を達成する際の限定要因となり得る。

しかし、いくつかのＴａｌｂｏｔ干渉計では、干渉縞が不安定になり得る。これはＴａｌｂｏｔ干渉計に必要なミラーを、相互に対して及び露光される表面に対して非常に正確に位置合わせ状態に保持する必要があるためである。したがって、本発明のこの実施例では、構成部品が相互に対して動かないように、構成部品の多くは「固体（ｓｏｌｉｄ）」の光学モジュール内に設置される。これを図２のモジュール２０４に示している。図示の実施例では、光学とウエハ１１０との間に流体界面を維持するために、光学は２つの部分、すなわち上部光学モジュール２０４と下部光学モジュール２０８とに分割されている。一実施例では、上部モジュール２０４は交換可能であり、下部モジュール２０８は固定位置に残ったままであることが意図される。

一実施例では、上部モジュール２０４を用いてコントラストを変更することもできる。典型的には、干渉型の印刷を実行する場合、コントラストは非常に鋭くなる。しかし、コントラストを故意に下げる理由があるかもしれない。交換可能な上部光学モジュール２０４を用いて高コントラスト及び低コントラストの両方を提供することができる。

図３は高分解能が望ましい、本発明の一実施例を示している。図２の実施例に示したように小さい鋭角で表面１０８から反射させる代わりに、図３に示すように、ビーム１０６はきつい鋭角で、下部モジュール２０８のプリズムの反射面であり得る反射面３０２Ａ及び３０２Ｂから反射する。プリズムの上に反射面を形成することは、相互に対する反射面の位置が非常に安定して、良好且つ安定した反射面の位置合わせを確実に行えるという利点がある。したがって、高分解能を生成するために、ビーム角はより鋭くなっており、面３０２Ａ及び３０２Ｂから反射され、中分解能を生成するためには、ビーム角の鋭角はより小さく、ビームは交換可能な上部光学モジュール２０４内で反射されて下部光学モジュール２０８を真っ直ぐに通過する。角度を変えて異なる分解能を生成するには、下部光学モジュール及び照明系が同じ状態に留まったままで、交換可能な上部光学モジュールを変えてよい。

一実施例では、開口プレート２０６を用いて所望の次数の回折を含むか、又は除外することができる。例えば、ゼロ次の回折を阻止することができるか、又は一次より高い次数の回折を阻止することなどができる。

一実施例では、変更が必要になるかもしれない別のパラメータはビームの偏光である。ＴＥモードの偏光は最高の像コントラストを提供し、ＴＭモードの偏光は最低の像コントラストを提供するために、偏光が重要となることが多い。したがって、図２に示した要素２１２などの偏光プレートを用いてビーム偏光を定めることができる。一実施例では、設計者はＴＥモードの偏光とＴＭモードの偏光との間のバランスを変えることを望むこともできる。

一実施例では、流体界面を維持したままで、例えば２方向対称から４方向対称へと、ビームの対称性を変えることが好ましいであろう。

例えば、交換可能な上部光学モジュール２０４の一部として図２に示した構成部品の一部又は全部は、所望の印刷タスクに応じてモジュールのいくつかの中には存在し、その他のモジュールには存在しなくてよいことが理解されよう。

一実施例では、下部光学モジュール２０８は、例えば、その全体を本願明細書に援用した「Ａｄｊｕｓｔａｂｌｅ Ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ Ｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｒｉｃ Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｉｃ Ｓｙｓｔｅｍ」と題する同一の譲受人の米国特許同時係属出願第１０／９２７３０９号に記載されたものなどの多面プリズムを含んでよい。

レーザ・ビーム１０２の偏光に関し、分解能が益々微細になるにつれて、偏光はさらに重要になる。例えば、図２に示したリソグラフィ投影装置では、４方向対称ビームに関し、コンタクト・ホールの直径が１００ｎｍ程度の場合には、偏光は重要な問題ではない。干渉縞を生成するために４本のビームすべてが共通の偏光成分を有することが理解されよう。しかし、偏光方向の大半はより大きな分解能、例えば１００ｎｍ程度にて使用可能である。しかし、偏光に対する感度は、分解能が微細になると向上する。したがって、分解能がさらに微細になると、４本のビームすべてについて共通の偏光成分を有することがさらに一層重要になる。他の実施例では、線形偏光（例えば、ＴＥ、ＴＭ、又はこの２つの組み合わせ）に加え、円形偏光又は楕円偏光を使用してよい。

図４Ａ及び４Ｂは本発明の一実施例のライン印刷用の２本ビーム回折リソグラフィ投影装置を示している。上記のものと類似する要素には同様の参照番号を付して示している。この実施例では、格子４０４はビーム分割器１０４に対して用いている。図４Ｂに示すように、ライン４１４はビーム１０６Ａ及び１０６Ｂの干渉を通して基板１１０上に印刷され得る。

図５Ａ及び５Ｂは本発明の一実施例のコンタクト露光パターンを生成するための４本ビーム回折リソグラフィ投影装置を示している。この実施例では、４つの個々の反射面１０８Ａ〜１０８Ｄから反射される４本のビーム１０６Ａ〜１０６Ｄを生成するために格子５０４をビーム分割器１０４に用いる。図５Ｂに示すように、コンタクト・ホール５１６はビーム１０６Ａ〜１０６Ｄの干渉を通して基板１１０の上にコンタクト・ホール・パターン５１８を生成する。一実施例では、ビームのピッチは同じでなくてよい。例えば、４本ビーム投影装置では、対向するビームの一方のセットは対向するビームの他方のセットとは異なったピッチを有し得る。これによって、正方形（又は、完全な角を得るのは通常困難であるので、角が丸い正方形）のみならず、矩形、楕円形等であるコンタクト・ホールの印刷が可能となる。反射面は相互に対する反射面の位置が非常に安定して、良好且つ安定した反射面の位置合わせを確実に行えるように、プリズム上に形成されてよい。

図６Ａ〜６Ｄは本発明の種々の実施例による、ビーム分割器１０４として使用されてよい例示的な個々の格子１０４Ａ〜１０４Ｄを示している。これはすべてチェス盤状格子の例であり、ウエハ１１０で干渉してコンタクト・ホール・パターンを生成する４方向対称ビームを生成するのに用いることができる。図６Ａはクロムのチェス盤パターンを有するガラス板１０４Ａを示している。図６Ｂはエッチングされた位相パターンを有するガラス板１０４Ｂを示している。図６Ｃはクロムのバスケット・ウィーブ状パターンを有するガラス板１０４Ｃを示している。図６Ｄは面がエッチングされたバスケット・ウィーブ状パターンを有するガラス板１０４Ｄを示している。図６Ｃ及び６Ｄに示した格子１０４Ｃ及び１０４Ｄは、フォトレジストの過剰露光及び露光不足を受け難いものであり得る。

一実施例では、図６Ａ〜６Ｄに示したものなどの格子１０４Ａ〜１０４Ｄのピッチは１〜２μｍ程度であるが、正確なピッチは所望の分解能、リソグラフィ投影装置の他の光学的構成部品等に左右される。格子ピッチは光学設計者によって容易に計算される設計パラメータであるので、当業者には本発明が任意の特定のチェス盤状格子形状、すなわち任意の特定の格子ピッチに限定されるものではないことが理解されよう。

図７は本発明の一実施例の、図６Ａ〜６Ｄ各々の格子１０４Ａ〜１０４Ｄが使用できる例示的なリソグラフィ投影装置７００を示している。また、上記のものと同様の要素には同様の参照番号を付して示している。投影装置７００は、放射線のビーム１０２を調整し交換可能な上部光学モジュール２０４上にビーム１０２を方向付ける照明系７２０を備えている。コントローラ７２２の制御下では、格子１０４Ａ〜１０４Ｄは、上記のように交換可能であろう別の上部光学モジュール２０４Ａ〜２０４Ｄ内に存在するであろう。このような投影装置は、適した交換可能な上部光学モジュール２０４Ａ〜２０４Ｄを内外にスワップされることによって、分解能、パターン・フィーチャ、コンタクト・ホール形状等の種々のパラメータを迅速に変更する。また、当業者には知られたような、後で化学的に分析することのできる浸液２１０の自動分注及び回収に使用することのできる液浸リソグラフィ投影装置７２４を用いた液浸リソグラフィの変形例を提供する。さらに、このリソグラフィ投影装置は露光領域全体にわたって実質的に均一な露光領域（例えば、ほぼ正方形の露光領域）を定める。

ビーム分割器１０４及び交換可能な上部光学モジュール２０４に関する４つの変形例を考察したが、本発明の範囲内で任意の数の変形が予期されることを理解されたい。

一実施例では、そのような短い波長（例えば、１９３ｎｍ、１５７ｎｍ）では従来のガラスを用いることは一般に難しいので、深紫外線用途では、溶融シリカ又は石英などの特別なガラスが通常使用される。

本明細書の考察は主としてライン・パターン及びコンタクト・ホール・パターンを印刷する観点のものであるが、例えば、パターン化層（複雑な半導体回路を構築する過程で必要とされる多数の層の１つ）を形成しなければならないときに、実際の半導体回路を積層する際にこのプロセスを用いることも可能であることに留意されたい。例えば、そのようなパターン化層を用いてウエハ上の他の２つの層間の誘電性の結合を低減させることができる。

本発明の種々の実施例を記載してきたが、それらは例示として示したに過ぎず、限定するものではないことを理解されたい。本発明の精神及び範囲から逸脱せずに形態及び詳細の種々の変形を行うことができることは当業者には明白であろう。したがって、本発明の広がり及び範囲は、上記の例示的実施例のいずれによっても限定されるべきではなく、添付の特許請求の範囲及びその同等物によってのみ定められるべきである。

課題を解決するための手段及び要約の箇所ではなく、実施例の箇所は特許請求の範囲を解釈するのに使用されることが意図されたものであることを理解されたい。課題を解決するための手段及び要約の箇所は発明者（ら）によって想定される本発明の例示的実施例の１つ又は複数を説明することはできるが、そのすべてを説明することができるわけではなく、したがって、いかなる場合も本発明及び添付の特許請求の範囲を限定することを意図したものではない。

従来の干渉型リソグラフィ投影装置を示す図である。 本発明の一実施例を示す図である。 高分解能が望まれる本発明の別の実施例を示す図である。 本発明の一実施例の、ライン印刷用の２本ビーム回折リソグラフィ投影装置を示す図である。 本発明の一実施例の、ライン印刷用の２本ビーム回折リソグラフィ投影装置を示す図である。 本発明の一実施例の、コンタクト露光パターンを生成するための４本ビーム回折リソグラフィ投影装置を示す図である。 本発明の一実施例の、コンタクト露光パターンを生成するための４本ビーム回折リソグラフィ投影装置を示す図である。 本発明の種々の実施例による、ビーム分割器として使用されてよい格子の例を示す図である。 本発明の種々の実施例による、ビーム分割器として使用されてよい格子の例を示す図である。 本発明の種々の実施例による、ビーム分割器として使用されてよい格子の例を示す図である。 本発明の種々の実施例による、ビーム分割器として使用されてよい格子の例を示す図である。 本発明の一実施例の、図６Ａ〜６Ｄの格子が使用できる例示的なリソグラフィ投影装置を示す図である。

符号の説明

１０２ コヒーレント光ビーム
１０４ ビーム分割器
１０４Ａ〜１０４Ｄ 格子
１０６Ａ、１０６Ｂ、１０６Ｃ、１０６Ｄ ビーム
１０８Ａ、１０８Ｂ、１０８Ｃ、１０８Ｄ、３０２Ａ、３０２Ｂ 反射面
１１０ 基板
２０２ ビーム調整光学
２０４、２０４Ａ〜２０４Ｄ 交換可能な上部光学モジュール
２０６ 開口プレート
２０８ 下部光学モジュール
２１０ 浸液
２１２ 偏光プレート
４０４、５０４ 格子
４１４ ライン
５１６ コンタクト・ホール
５１８ コンタクト・ホール・パターン
７００ リソグラフィ投影装置
７０２ 照明系
７２２ コントローラ
７２４ 液浸リソグラフィ投影装置

Claims (25)

1. 放射線のビームを調整する照明系と、
   前記ビームを受け取り、且つ前記ビームを複数のビーム部分に分割するビーム分割器を含む交換可能な上部光学モジュールと、
   前記ビーム部分を受け取って、基板上に干渉縞を生成するように該基板の同じ場所の上に前記ビーム部分を方向付ける下部光学モジュールとを備え、
   前記交換可能な上部光学モジュール及び前記下部光学モジュールの少なくとも１つは前記ビーム部分を同じ場所に方向付ける反射面を備え、前記交換可能な上部光学モジュールは前記干渉縞を変えるように異なる交換可能な上部光学モジュールについて交換可能であるリソグラフィ投影装置。
2. 前記ビーム分割器はゼロ次、一次及び二次の回折ビームを回折することによって前記ビームを複数のビーム部分に分割する請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
3. 前記ビーム分割器はゼロ次、一次及び二次の回折ビームを回折することによって前記ビームを複数のビーム部分に分割し、前記交換可能な上部光学モジュールは前記ゼロ次の回折ビームを阻止する開口プレートを備えた請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
4. 前記交換可能な上部光学モジュールは望ましくないビーム部分を阻止する開口プレートを備えた請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
5. 前記下部光学モジュールと前記基板との間に位置する浸液をさらに備える請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
6. 前記ビーム分割器は位相シフトビーム分割器を含む請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
7. 前記ビーム分割器は線形格子を含む請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
8. 前記ビーム分割器はチェス盤状格子を含む請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
9. 前記チェス盤状格子は位相がずらされたチェス盤状格子を含む請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
10. 前記ビーム分割器はバスケット・ウィーブ状格子を含む請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
11. 前記ビーム分割器は面がエッチングされたバスケット・ウィーブ状格子を含む請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
12. 前記面がエッチングされたバスケット・ウィーブ状格子は位相がずらされたチェス盤状格子を含む請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
13. 前記下部光学モジュールはプリズムを含む請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
14. 前記下部光学モジュールは４本のビーム部分を方向付けて前記干渉縞を形成する請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
15. 前記４本のビーム部分の対になったビーム部分は異なるピッチを有する請求項１４に記載のリソグラフィ投影装置。
16. 前記下部光学モジュールは前記ビーム部分のうちの２本を方向付けて前記干渉縞を形成する請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
17. 放射線のビームを調整する照明系と、
    前記ビームを受け取り、且つ前記ビームを複数のビーム部分に分割するビーム分割器を含む交換可能な上部光学モジュールと、
    少なくとも４本のビーム部分を受け取って、基板上に二次元の干渉縞を生成するように前記基板の同じ場所の上に該４本のビーム部分を方向付ける下部光学モジュールとを備え、
    前記交換可能な上部光学モジュール及び前記下部光学モジュールの少なくとも１つは前記ビーム部分を同じ場所に方向付ける反射面を備え、前記交換可能な上部光学モジュールは前記干渉縞を変えるように異なる交換可能な上部光学モジュールについて交換可能であるリソグラフィ投影装置。
18. 前記下部光学モジュールを用いて前記ビーム部分を方向付けてコンタクト・ホール・パターンを形成するための請求項１７の投影装置を用いる方法。
19. 前記コンタクト・ホールは矩形のコンタクト・ホールを含む請求項１８に記載の方法。
20. 前記コンタクト・ホール・パターンは楕円形のコンタクト・ホールを含む請求項１８に記載の方法。
21. 前記反射面はプリズム上に設けられる請求項１７に記載のリソグラフィ投影装置。
22. 放射線のビームを調整する照明系と、
    コンピュータ制御下でビームの経路へスワップされる複数の交換可能な上部光学モジュールであって、各交換可能な上部光学モジュールは前記ビームを複数のビーム部分に分割するビーム分割器を備えた複数の交換可能な上部光学モジュールと、
    前記ビーム部分を受け取り、基板上に干渉縞を生成するように前記基板上の同じ場所の上に前記ビーム部分を方向付ける下部光学モジュールとを備え、
    前記交換可能な上部光学モジュール及び前記下部光学モジュールの少なくとも１つは前記ビーム部分を同じ場所に方向付ける反射面を備え、前記交換可能な上部光学モジュールは前記干渉縞が変えられるように異なる交換可能な上部光学モジュールについて交換可能であるリソグラフィ投影装置。
23. 前記下部光学モジュールと前記基板との間から流体を分注及び回収する自動流体分注及び回収システムをさらに備える請求項２２に記載の投影装置。
24. 前記複数の交換可能な上部光学モジュールの各々は異なる分解能の前記コンタクト・ホール・パターンを生成する請求項２２に記載の投影装置。
25. 前記複数の交換可能な上部光学モジュールの各々は、異なるコンタクト・ホール形状の前記コンタクト・ホール・パターンを生成する請求項２２に記載の投影装置。

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