JP4262175B2 - 適応リソグラフィ短寸法エンハンスメント - Google Patents
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Description
102 リソグラフィ露光装置
104 ウェハ・トラック装置
106 露光前処理モジュール
108 露光後処理モジュール
200 適応CDエンハンスメント・プロセス
310 補正マップ・ライブラリ・エンハンスメント・モジュール
320 補正マップ・ライブラリ
330 露光エンハンスメント・モジュール
335 論理機構
Claims (27)
- 基板を露光する露光装置と、露光前に基板を処理する露光前装置と、露光後に基板を処理する露光後装置とを有するリソグラフィ・システムによって処理された基板の均一性を向上させる方法であって、
前記露光後装置によって処理された後の基板の属性を測定するステップと、
前記測定された基板属性が均一であるかどうかを、予め指定された基板プロファイル情報に基づいて評価するステップと、
前記測定された基板属性が均一でないと判定されたときに、前記測定された基板属性及び前記基板の処理経路に基づいて補正露光データを計算するステップであって、前記補正露光データが、前記リソグラフィ・システムの前記露光装置の露光量を調節することによって前記基板属性の不均一性を補正するように構成されているステップと、
前記補正露光データの集合を補正マップとして補正マップ・ライブラリに記憶するステップと、
基板ごとの処理経路情報と前記補正マップ・ライブラリに記憶された情報とを相関させて対応する補正マップを決定し、決定した補正マップの補正露光データに従って基板を露光するステップとを含み、
前記補正露光データの計算を前記基板属性が均一であると判定されるまで繰り返し、前記補正露光データを更新していく方法。 - 前記補正露光データの計算が、
前記基板を処理するのに使用した前記露光前装置及び露光後装置のうちの特定の装置の情報に基づいて、処理モジュール情報を得るステップと、
前記基板を処理するのに使用した前記露光前装置及び露光後装置のうちの前記特定の装置に関連した情報を含む度量衡情報を得るステップと、
露光量ゲイン・ファクタを決定するステップと、
以前に処理した基板の履歴を得るステップと、
それぞれの前記補正マップを、前記処理モジュール情報、前記度量衡情報、前記基板履歴、前記露光量ゲイン・ファクタ及び前記測定された基板属性のうちの少なくとも1つと相関させるステップと、
前記補正露光データを、前記処理モジュール情報、前記度量衡情報、前記基板履歴、前記露光量ゲイン・ファクタ及び前記測定された基板属性のうちの少なくとも1つに基づいて繰り返し計算し更新するステップと
を含み、
前記補正露光データの繰返し計算及び更新が、前記基板属性が均一であると判定されるまで続く、
請求項1に記載の方法。 - 前記補正マップ相関を論理機構によって監視し検証するステップと、
前記論理機構によって、前記補正マップ、前記処理モジュール情報、前記度量衡情報、前記基板履歴、前記露光量ゲイン・ファクタ及び前記測定された基板属性のうちの少なくとも1つと通信するステップと
をさらに含む、請求項2に記載の方法。 - 前記基板属性が均一であると判定されたときに、前記論理機構によって前記基板属性を監視するステップと、
前記基板属性がもはや均一でないと判定されたときに、前記論理機構によって、補正露光データの計算及び更新の呼出しを開始するステップと
をさらに含む、請求項3に記載の方法。 - 前記処理モジュール情報がさらに、前記露光前装置及び露光後装置のうちの前記特定の装置によって処理された前記基板の処理経路に関連したデータを含む、請求項2に記載の方法。
- 前記補正露光データの繰返し計算及び更新、前記基板属性の前記監視、並びに前記補正露光データの計算及び更新の呼出しの開始が、前記論理機構によって制御される、請求項4に記載の方法。
- 前記露光量ゲイン・ファクタの決定が、単位露光量あたりの前記基板の前記測定された属性の変化を求めることを含む、請求項2に記載の方法。
- 前記露光装置、前記露光前装置、前記露光後装置、前記補正マップ、前記処理モジュール情報、前記度量衡情報、前記基板履歴、前記露光量ゲイン・ファクタ、前記測定された基板属性及び前記論理機構のうちの少なくとも1つに関する情報を伝達するユーザ・インターフェースを提供するステップをさらに含む、請求項6に記載の方法。
- 前記基板を処理するのに使用した前記露光前装置及び露光後装置のうちの特定の装置並びに処理経路の情報に基づいて、処理モジュール情報を得るステップと、
前記基板を処理するのに使用した前記露光前装置及び露光後装置のうちの前記特定の装置に関連した情報を含む度量衡情報を得るステップと、
露光量ゲイン・ファクタを決定するステップであって、単位露光量あたりの前記基板の前記測定された属性の変化を求めることを含むステップと、
以前に処理した基板の履歴を得るステップと、
それぞれの前記補正マップを、前記処理モジュール情報、前記度量衡情報、前記基板履歴、前記露光量ゲイン・ファクタ及び前記測定された基板属性のうちの少なくとも1つと相関させるステップと、
前記補正露光データを、前記処理モジュール情報、前記度量衡情報、前記基板履歴、前記露光量ゲイン・ファクタ及び前記測定された基板属性のうちの少なくとも1つに基づいて繰り返し計算し更新するステップと、
論理機構を提供するステップと
をさらに含み、
前記論理機構が、前記繰返し補正露光データの計算及び更新を監視し、制御し、前記基板属性が均一であると判定されたときに前記基板属性が均一であると判定されるまで前記繰返し補正露光データの計算及び更新のこれらが継続することを可能にし、
前記論理機構が、前記基板属性がもはや均一でないと判定されたときに、補正露光データの計算及び更新の呼出しを開始する、
請求項1に記載の方法。 - 基板の均一性を向上させるリソグラフィ・システムであって、
基板を露光するように構成された露光装置と、
露光前に基板を処理するように構成された露光前装置と、
前記露光装置及び複数の処理モジュールに動作可能に結合されたトラック装置と、
露光後に基板を処理するように構成された露光後装置と、
前記露光後装置によって処理された後の基板の属性を測定するように構成された測定装置と、
前記基板属性が均一でないと判定されたときに前記測定された基板属性及び基板の処理経路に基づいて補正露光データを計算する補正露光モジュールと
を含み、
前記補正露光データが、前記露光装置の露光量を調節することによって基板の不均一性を補正するように構成され、
前記補正露光データの集合が、補正マップとして補正マップ・ライブラリに記憶され、
基板ごとの処理経路情報と前記補正マップ・ライブラリに記憶された情報とを相関させて対応する補正マップを決定し、前記露光装置が、決定した補正マップの補正露光データに従って基板を露光し、
前記補正露光データの計算を前記基板属性が均一であると判定されるまで繰り返し、前記補正露光データを更新していくシステム。 - 前記補正露光モジュールの前記補正露光データの計算が、
前記基板を処理するのに使用した前記露光前装置及び露光後装置のうちの特定の装置の情報に基づいて、処理モジュール情報を得るステップと、
前記基板を処理するのに使用した前記露光前装置及び露光後装置のうちの前記特定の装置に関連した情報を含む度量衡情報を得るステップと、
露光量ゲイン・ファクタを決定するステップと、
以前に処理した基板の履歴を得るステップと、
それぞれの前記補正マップを、前記処理モジュール情報、前記度量衡情報、前記基板履歴、前記露光量ゲイン・ファクタ及び前記測定された基板属性のうちの少なくとも1つと相関させるステップと、
前記補正露光データを、前記処理モジュール情報、前記度量衡情報、前記基板履歴、前記露光量ゲイン・ファクタ及び前記測定された基板属性のうちの少なくとも1つに基づいて繰り返し計算し更新するステップと
を含み、
前記補正露光データの繰返し計算及び更新が、前記基板属性が均一であると判定されるまで続く、
請求項10に記載のシステム。 - 前記補正マップ相関を監視し検証する論理機構をさらに含み、前記論理機構が、前記補正マップ、前記処理モジュール情報、前記度量衡情報、前記基板履歴、前記露光量ゲイン・ファクタ及び前記測定された基板属性のうちの少なくとも1つと通信するように構成された、請求項11に記載のシステム。
- 前記論理機構が、前記基板属性が均一であると判定されたときに前記基板属性を監視し、前記基板属性がもはや均一でないと判定されたときに、補正露光データの計算及び更新の呼出しを開始する、請求項12に記載のシステム。
- 前記処理モジュール情報がさらに、前記露光前装置及び露光後装置のうちの前記特定の装置によって処理された前記基板の処理経路に関連したデータを含む、請求項11に記載のシステム。
- 前記補正露光データの繰返し計算及び更新、前記基板属性の前記監視、並びに前記補正露光データの計算及び更新の呼出しの開始が、前記論理機構によって制御される、請求項13に記載のシステム。
- 前記露光量ゲイン・ファクタの決定が、単位露光量あたりの前記基板の前記測定された属性の変化を求めることを含む、請求項11に記載のシステム。
- 前記露光装置、前記露光前装置、前記露光後装置、前記補正マップ、前記処理モジュール情報、前記度量衡情報、前記基板履歴、前記露光量ゲイン・ファクタ、前記測定された基板属性及び前記論理機構のうちの少なくとも1つに関する情報を伝達するユーザ・インターフェースをさらに含む、請求項15に記載のシステム。
- 前記補正露光モジュールの前記補正露光データの適応計算が、
前記基板を処理するのに使用した前記露光前装置及び露光後装置のうちの特定の装置並びに処理経路の情報に基づいて、処理モジュール情報を得るステップと、
前記基板を処理するのに使用した前記露光前装置及び露光後装置のうちの前記特定の装置に関連した情報を含む度量衡情報を得るステップと、
露光量ゲイン・ファクタを決定するステップであって、単位露光量あたりの前記基板の前記測定された属性の変化を求めることを含むステップと、
以前に処理した基板の履歴を得るステップと、
それぞれの前記補正マップを、前記処理モジュール情報、前記度量衡情報、前記基板履歴、前記露光量ゲイン・ファクタ及び前記測定された基板属性のうちの少なくとも1つと相関させるステップと、
前記補正露光データを、前記処理モジュール情報、前記度量衡情報、前記基板履歴、前記露光量ゲイン・ファクタ及び前記測定された基板属性のうちの少なくとも1つに基づいて繰り返し計算し更新するステップと、
論理機構を提供するステップと
を含み、
前記論理機構が、前記繰返し補正露光データの計算及び更新を監視し、制御し、前記基板属性が均一であると判定されたときに前記基板属性が均一であると判定されるまで前記繰返し補正露光データの計算及び更新のこれらが継続することを可能にし、
前記論理機構が、前記基板属性がもはや均一でないと判定されたときに、補正露光データの計算及び更新の呼出しを開始する、
請求項10に記載のシステム。 - コンピュータによって実行されたときに、基板を露光する露光装置と、露光前に基板を処理する露光前装置と、露光後に基板を処理する露光後装置とを有するリソグラフィ・システムによって処理された基板の均一性を向上させるプロセスを実行する命令でコード化されたコンピュータ可読プログラム記憶装置であって、前記プロセスが、
前記露光後装置によって処理された後の基板の属性を測定するステップと、
前記測定された基板属性が均一であるかどうかを、予め指定された基板プロファイル情報に基づいて評価するステップと、
前記測定された基板属性が均一でないと判定されたときに、前記測定された基板属性及び前記基板の処理経路に基づいて補正露光データを計算するステップであって、前記補正露光データが、前記リソグラフィ・システムの前記露光装置の露光量を調節することによって前記基板属性の不均一性を補正するように構成されているステップと、
前記補正露光データの集合を補正マップとして補正マップ・ライブラリに記憶するステップと、
基板ごとの処理経路情報と前記補正マップ・ライブラリに記憶された情報とを相関させて対応する補正マップを決定し、決定した補正マップの補正露光データに従って基板を露光するステップと
を含み、
前記補正露光データの計算を前記基板属性が均一であると判定されるまで繰り返し、前記補正露光データを更新していくコンピュータ可読プログラム記憶装置。 - 前記補正露光データの計算が、
前記基板を処理するのに使用した前記露光前装置及び露光後装置のうちの特定の装置の情報に基づいて、処理モジュール情報を得るステップと、
前記基板を処理するのに使用した前記露光前装置及び露光後装置のうちの前記特定の装置に関連した情報を含む度量衡情報を得るステップと、
露光量ゲイン・ファクタを決定するステップと、
以前に処理した基板の履歴を得るステップと、
それぞれの前記補正マップを、前記処理モジュール情報、前記度量衡情報、前記基板履歴、前記露光量ゲイン・ファクタ及び前記測定された基板属性のうちの少なくとも1つと相関させるステップと、
前記補正露光データを、前記処理モジュール情報、前記度量衡情報、前記基板履歴、前記露光量ゲイン・ファクタ及び前記測定された基板属性のうちの少なくとも1つに基づいて繰り返し計算し更新するステップと
を含み、
前記補正露光データの繰返し計算及び更新が、前記基板属性が均一であると判定されるまで続く、
請求項19に記載のコンピュータ可読プログラム記憶装置。 - 前記補正マップ相関を論理機構によって監視し検証するステップと、
前記論理機構によって、前記補正マップ、前記処理モジュール情報、前記度量衡情報、前記基板履歴、前記露光量ゲイン・ファクタ及び前記測定された基板属性のうちの少なくとも1つと通信するステップと
をさらに含む、請求項20に記載のコンピュータ可読プログラム記憶装置。 - 前記基板属性が均一であると判定されたときに、前記論理機構によって前記基板属性を監視するステップと、
前記基板属性がもはや均一でないと判定されたときに、前記論理機構によって、補正露光データの計算及び更新の呼出しを開始するステップと
をさらに含む、請求項21に記載のコンピュータ可読プログラム記憶装置。 - 前記処理モジュール情報がさらに、前記露光前装置及び露光後装置のうちの前記特定の装置によって処理された前記基板の処理経路に関連したデータを含む、請求項20に記載のコンピュータ可読プログラム記憶装置。
- 前記補正露光データの繰返し計算及び更新、前記基板属性の前記監視、並びに前記補正露光データの計算及び更新の呼出しの開始が、前記論理機構によって制御される、請求項22に記載のコンピュータ可読プログラム記憶装置。
- 前記露光量ゲイン・ファクタの決定が、単位露光量あたりの前記基板の前記測定された属性の変化を求めることを含む、請求項20に記載のコンピュータ可読プログラム記憶装置。
- 前記露光装置、前記露光前装置、前記露光後装置、前記補正マップ、前記処理モジュール情報、前記度量衡情報、前記基板履歴、前記露光量ゲイン・ファクタ、前記測定された基板属性及び前記論理機構のうちの少なくとも1つに関する情報を伝達するユーザ・インターフェースを提供するステップをさらに含む、請求項24に記載のコンピュータ可読プログラム記憶装置。
- 前記基板を処理するのに使用した前記露光前装置及び露光後装置のうちの特定の装置並びに処理経路の情報に基づいて、処理モジュール情報を得るステップと、
前記基板を処理するのに使用した前記露光前装置及び露光後装置のうちの前記特定の装置に関連した情報を含む度量衡情報を得るステップと、
露光量ゲイン・ファクタを決定するステップであって、単位露光量あたりの前記基板の前記測定された属性の変化を求めることを含むステップと、
以前に処理した基板の履歴を得るステップと、
それぞれの前記補正マップを、前記処理モジュール情報、前記度量衡情報、前記基板履歴、前記露光量ゲイン・ファクタ及び前記測定された基板属性のうちの少なくとも1つと相関させるステップと、
前記補正露光データを、前記処理モジュール情報、前記度量衡情報、前記基板履歴、前記露光量ゲイン・ファクタ及び前記測定された基板属性のうちの少なくとも1つに基づいて繰り返し計算し更新するステップと、
論理機構を提供するステップと
をさらに含み、
前記論理機構が、前記繰返し補正露光データの計算及び更新を監視し、制御し、前記基板属性が均一であると判定されたときに前記基板属性が均一であると判定されるまで前記繰返し補正露光データの計算及び更新のこれらが継続することを可能にし、
前記論理機構が、前記基板属性がもはや均一でないと判定されたときに、補正露光データの計算及び更新の呼出しを開始する、
請求項19に記載のコンピュータ可読プログラム記憶装置。
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