JP4203109B2 - 振動制御用質量体 - Google Patents

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Description

この発明は、一般的には振動制御用質量体に関し、特定的には、半導体装置、フラットパネルディスプレイ等のデバイスを製造するために用いられる露光装置等の移動体を有するステージ装置に組み込まれる振動制御用質量体に関するものである。
従来から、たとえば、半導体装置の製造工程として露光工程においては、マスクまたは基板を保持して移動する移動体(レチクルステージまたはウエハステージ)を高速度で高精度に移動させてパターンの転写が行われる。移動体の移動に伴う振動を制御するために質量体が用いられている。
たとえば、特開2005−30486号公報(特許文献1)には、制振装置をマスダンパーとしてウエハステージに備えた露光装置が記載されている。このマスダンパーは、質量体と弾性体とが連結された振動系を有する。質量体の材料としてタングステンや鉛などの比重の大きなものを用いることが例示されている。
また、たとえば、特開2005−72152号公報(特許文献2)には、制振装置をマスダンパーとしてウエハステージに備えた露光装置が記載されている。このマスダンパーは、質量体と弾性体とが接続されて第1方向に連成振動する第1振動系と、同一の質量体に第2の弾性体が接続されて第1方向とは異なる第2方向に連成振動する第2振動系とを有する。
なお、小型振動発生装置に使用される振動子の慣性体に用いられる耐食性タングステン基焼結合金とその製造方法は、特開平7−150285号公報(特許文献3)に記載されている。
特開2005−30486号公報 特開2005−72152号公報 特開平7−150285号公報
近年、ウエハサイズの大型化に伴い、上記のような露光装置では、ステージサイズの大型化が要求されている。このため、ステージの移動に伴う振動を制御するための質量体に対しても大型化が要求されている。
また、ステージサイズの大型化とともに装置構成のコンパクト化が要求されている。この要求に応じるためには、質量体に複雑な形状を付与することが求められている。
しかし、露光装置等のステージ装置において、ステージ等の移動体の高速移動に伴う振動を高精度に制御することができ、大型で、かつ、複雑な形状を付与することが可能な一つの構成部材としての質量体を製造することは困難である。
そこで、この発明の目的は、ステージ等の移動体の高速移動に伴う振動を高精度に制御するために用いられる質量体において、大型で、かつ、複雑な形状を付与することが可能な振動制御用質量体を提供することである。
この発明に従った振動制御用質量体は、移動体を有するステージ装置において移動体の移動に伴う振動を制御するために用いられる振動制御用質量体であって、略直方体形状をした複数の部材を備える。この複数の部材の各々がタングステン合金からなる。このタングステン合金は主成分としてタングステンを80質量%以上99質量%以下含む。略直方体形状をした複数の部材が、対向する二つの部材を形成している。対向する二つの部材は、リニアガイドに取り付けられるものである。略直方体形状をした複数の部材を組み合わせて凹部が形成されている。凹部の幅は、略直方体形状をした部材の一辺寸法で規定され、かつ、対向する二つの部材の間の間隔を規定する。
この発明に従った振動制御用質量体において、上記の対向する二つの部材は、連結部材を介材させてリニアガイドに取り付けられていることが好ましい。この連結部材の材質は、本発明において振動制御用質量体に要求される材質であれば、振動制御用質量体のその他の部分と同じ材質でもよく、異なった材質でもよい。
また、この発明に従った振動制御用質量体において、移動体がマスクまたは基板を保持して移動するものであり、ステージ装置が露光装置であることが好ましい。
なお、この発明に従った振動制御用質量体においては、複数の部材は、ネジにより締結されているのが好ましい。この場合、ネジ自体をタングステン合金で形成してもよいが、耐衝撃性の向上や低コスト化を図るためには、モリブデンやステンレス鋼のような、タングステン合金よりも比重の小さい金属または合金でネジを形成することになる。これにより、振動制御用質量体の全体の見かけ密度、すなわち、振動制御用質量体の全体の質量をその外表面で規定される形状の体積で除した値は低下する。必要以上に部材数を増やしたり、ネジの数を増やした場合、この見かけ密度が大きく低下する恐れがある。ネジの数を過度に減らすと、見かけ密度を大きくすることができるが、振動制御用質量体の剛性が不足する恐れがある。これらを考慮した場合、好ましい見かけ密度の範囲は、16.5g/cm以上18.8g/cm以下である。また、ネジは、見かけ密度の向上という観点からは、密度が10g/cm以上の金属または合金からなるのが好ましく、剛性の向上という観点からは、引張強度が400N/mm以上である金属または合金からなるのが好ましい。
この発明によれば、振動制御用質量体が複数の部材から構成されるので、相対的に小さな部材を組み合わせることによって全体として大型のものを製造することができる。また、この複数の部材の各々がタングステン合金からなるので、金属タングステンよりも機械加工が容易であり、凹部等を有する複雑な形状に加工することができる。また、振動制御用質量体が複数の部材の組み合わせで構成されるので、1つのタングステン合金が単純なほぼ直方体形状であっても、組み合わせた全体としての形状で凹部などを有する複雑な形状を容易に形成することができる。さらに、このタングステン合金は主成分としてタングステンを80質量%以上99質量%以下含むので、高い比重を有し、剛性の高い振動制御用質量体を得ることができる。
この発明の振動制御用質量体の全体形状として一つの実施の形態を示す概略的な斜視図である。 分割された複数の部材からなる振動制御用質量体の一つの実施の形態を示す概略的な斜視図である。 分割された複数の部材からなる振動制御用質量体のもう一つの実施の形態を示す概略的な斜視図である。 分割された複数の部材からなる振動制御用質量体の別の実施の形態を示す概略的な斜視図である。 この発明の振動制御用質量体とステージ装置の構成部品との連結構造の一つの実施の形態を示す部分断面図である。 この発明の振動制御用質量体とステージ装置の構成部品との連結構造のもう一つの実施の形態を示す部分断面図(A)と底面図(B)である。 この発明の振動制御用質量体とステージ装置の構成部品との連結構造の別の実施の形態を示す部分断面図(A)と底面図(B)である。 この発明の振動制御用質量体とステージ装置の構成部品との連結構造のさらに別の実施の形態を示す部分断面図(A)と底面図(B)である。 分割された複数の部材からなる振動制御用質量体のさらに別の実施の形態を示す概略的な斜視図である。
符号の説明
10,20:板状部材、11,21,110:凹部、12,22:かぎ状部、13,23,31,220:ネジ、14,24,32:接合面、30:筒状容器、40,50,60,70,100,200:振動制御用質量体、41,51,61,71:振動制御用質量体本体部、42,52,63,64,73,74,75:連結用ネジ、62,72:連結部材、501:レール、502:リニアガイド
本発明者は、露光装置等のステージ装置において移動体の移動に伴う振動を制御するために用いられる振動制御用質量体において、大型化することができるとともに、複雑な形状を付与することができ、相対的に比重が高く、剛性の高いものを得るために以下のとおり検討した。
従来から、小型振動発生装置に使用される振動子の慣性体の材料として、タングステン基焼結合金が用いられている。しかし、一つの大型のタングステン基焼結合金を製造しようとすると、焼結工程において不均一な焼結が行われるために部分的に巣が生じてしまう。また、一つの大型のタングステン基焼結合金を製造することは、製造コスト、生産能力の観点から実用的ではない。
以上の考察に基づいて、本発明者は振動制御用質量体の要求特性に着目して鋭意研究を重ねた。その結果、振動制御用質量体を複数の部材に分割して構成し、その複数の部材の各々をタングステン合金で形成しても、上記の要求特性を満足することを見出した。このような発明者の知見に基づいて本発明はなされたものである。
この発明の振動制御用質量体は、複数の部材から構成され、この複数の部材の各々がタングステン合金からなり、このタングステン合金は主成分としてタングステンを80質量%以上99質量%以下含む。このように構成することにより、小片のタングステン合金を複数個、製造し、組み合わせることによって、全体として振動制御用質量体を大型化することができるとともに、金属タングステンよりも機械加工が容易であるので複雑な形状を付与することができ、また複数の部材の組み合わせで構成されるので、1つのタングステン合金が単純なほぼ直方体形状であっても、組み合わせた全体としての形状で凹部などを有する複雑な形状を容易に形成することができ、相対的に比重が高く、剛性の高いものを得ることができる。タングステンの含有量が99質量%を超えると、性状が純タングステンに近くなり、硬くて脆いタングステン合金になるので、剛性の高いものを得ることができない。
なお、1つの部材の体積は540cm以上2700cm以下、重量は10kg以上50kg以下が好ましい。1つの部材の体積が2700cmよりも大きく、重量が50kgよりも大きい場合には、部材の重量が重くなり、部材のハンドリングが困難になる。1つの部材の体積が540cmよりも小さく、重量が10kgよりも小さい場合には、部品点数が増えることによって累積公差が大きくなるので、振動制御用質量体の全体としての寸法精度が悪くなる。
また、振動制御用質量体全体の体積は2700cm以上54000cm以下、重量は50kg以上1000kg以下が好ましい。振動制御用質量体全体の体積と重量が上記の下限値未満では、振動制御用質量体を複数の部材で構成することによって、かえってコストが高くなる恐れがあり、振動制御用質量体全体の体積と重量が上記の上限値を超えると、部品点数が増えることによって寸法精度が悪くなる恐れがある。
この発明の振動制御用質量体においては、タングステン合金は、0質量%を超え18質量%以下の含有量でニッケルと、鉄、銅およびコバルトからなる群より選ばれた少なくとも1種の金属と、不可避的不純物とを含むのが好ましい。
また、この発明の振動制御用質量体においては、タングステン合金はタングステンを90質量%以上98質量%以下含み、比重が17.0g/cm以上であるのが好ましい。また、タングステン合金は、ニッケルと、鉄、銅およびコバルトからなる群より選ばれた少なくとも1種の金属と、不可避的不純物とを含み、これらの合計の含有量が2質量%以上10質量%以下であるのが好ましい。このようにタングステンを90質量%以上含有するタングステン合金から複数の部材を形成することによって、比重をより高くすることができ、振動エネルギを減少させる効率を高めることができる。また、タングステンを98質量%以下含有することによってタングステン合金の焼結性を高めることができる。これらのことから、振動制御用質量体のコンパクト化を図ることができる。なお、この発明のタングステン合金は、本発明の作用効果を損なわない限度において、ニッケル、鉄、銅、コバルト以外の他の元素を含んでいてもよく、たとえば、マンガン、モリブデン、シリコン、レニウム、クロム、チタン、バナジウム、ニオブ、タンタル等の元素を含んでいてもよい。
さらに好ましくは、ニッケルと、タングステンおよびニッケルを除いた残部との質量比率が5:5〜9:1である。このような組成にすることにより、タングステン合金の焼結性をさらに高めることができ、焼結体の形成が容易になる。
最も好ましいタングステン合金の組成範囲は、タングステン:95〜98質量%、ニッケル:1〜4.5質量%、鉄:0.2〜2.5質量%、および、残部が不可避的不純物である。このような組成にすることにより、比重が高く、強度が高いタングステン合金を高い焼結性で製造することができる。なお、上記組成範囲の鉄の一部または全部をコバルトで置き換えてもよい。この場合、タングステン合金に耐食性を付与することができる。
図1は、この発明の振動制御用質量体の全体形状として一つの実施の形態を示す概略的な斜視図である。図1において数字は各部の寸法例(mm)を示す。
図1に示すように、振動制御用質量体100は、凹部110を有する。このように構成することによって、ステージ装置において移動体を移動させるための駆動源としてリニアモータ等の周辺装置を振動制御用質量体100の凹部110に配置することができるので、ステージ装置の装置構成のコンパクト化を図ることができる。なお、振動制御用質量体100にねじ穴を形成してもよい。このねじ穴を用いて、ステージ等の移動体に取り付けることができる。なお、複数の凹部を振動制御用質量体100に設けてもよい。
図2は、分割された複数の部材からなる振動制御用質量体の一つの実施の形態を示す概略的な斜視図である。
図2に示すように、振動制御用質量体100は矢印Pで示される方向に移動可能である。振動制御用質量体100は接合された複数の板状部材10と20を含む。板状部材10と20はタングステン合金からなる。板状部材10と20は、互いに組み合わせられるかぎ状部12と22を有する。複数の板状部材10は矢印Pで示される方向に整列して接合されている。したがって、複数の板状部材10の接合面14は振動制御用質量体100の移動方向Pに対してほぼ垂直である。また、複数の板状部材20は矢印Pで示される方向に整列して接合されている。したがって、複数の板状部材20の接合面24は振動制御用質量体100の移動方向Pに対してほぼ垂直である。このように振動制御用質量体100の移動方向に対してほぼ垂直になるように接合面14、24を配置することによって、接合面14、24に生じるせん断応力を低減することができ、複数の板状部材10と20とからなる振動制御用質量体100の全体としての剛性を高めることができる。
この場合、板状部材10は凹部11を有し、板状部材20は凹部21を有する。板状部材10と20はタングステン合金からなる。タングステン合金は純タングステンよりも機械加工が容易であるため、凹部11と21、凹凸形状のかぎ状部12と22等の複雑な形状を容易に付与することができる。また、互いに組み合わせられる板状部材10と20に凹凸形状を付与することによって、組み合わせ時の位置精度を向上させることができる。なお、組み合わせ面の加工精度は平面度で0.05mmよりも小さく、面粗度Raで6.3μmよりも小さくするのが好ましい。
振動制御用質量体100においては、複数の部材10は互いにネジ13により締結され、複数の部材20は互いにネジ23により締結され、複数の部材10と20とは互いにネジ31により締結されている。このように複数の部材10と20とをネジで締結することにより、全体として複雑な形状を有する振動制御用質量体100を容易にかつ安価に構成することができる。
この場合、振動制御用質量体100は矢印Pで示される方向に移動可能であり、振動制御用質量体100を構成する複数の部材10と20とを接合するためにネジ13と23を締める場合、または、振動制御用質量体100を構成する複数の部材10と20とを分離するためにネジ13と23を緩める場合にネジ13と23が移動する方向、すなわち、ネジ13と23の進む方向は振動制御用質量体100の移動方向Pにほぼ平行である。このように構成することにより、せん断応力を低減することができ、複数の板状部材10と20とからなる振動制御用質量体100の全体としての剛性を高めることができる。
また、このようなタングステン合金同士の接合には、密度が10g/cm以上の金属または合金からなるネジを用いると、振動制御用質量体100の全体としての比重が相対的に低下する割合を小さくすることができる。具体的には、ネジの材質として、相対的に高い比重を有し、加工性の良好なモリブデン、タングステン合金、モリブデン合金等を挙げることができる。
図3は、分割された複数の部材からなる振動制御用質量体のもう一つの実施の形態を示す概略的な斜視図である。
図3に示す振動制御用質量体100では、図2の振動制御用質量体100と異なり、ネジを用いないで、複数の部材10は接合面14で互いに拡散接合され、複数の部材20は接合面24で互いに拡散接合され、複数の部材10と20とは接合面32で互いに拡散接合されている。その他の構成は、図2の振動制御用質量体100と同様である。このように複数の部材10と20とを拡散接合して一体化することにより、全体として複雑な形状を有する振動制御用質量体100を容易にかつ安価に形成することができる。拡散接合は、温度1400℃以上の真空または水素ガス雰囲気中で10時間以上熱処理を施すことにより行われる。
また、図3に示す振動制御用質量体100においては、複数の部材10は接合面14で互いにろう付けされ、複数の部材20は接合面24で互いにろう付けされ、複数の部材10と20とは接合面32で互いにろう付けされていてもよい。このように複数の部材10と20とをろう付け接合して一体化することにより、全体として複雑な形状を有する振動制御用質量体100を容易にかつ安価に形成することができる。ろう付け接合は、表面にニッケルめっきを施した複数の部材10と20とを炉内に配置し、銀ろう材を用いて500〜1000℃の温度で行われる。
さらに、図3に示す振動制御用質量体100においては、複数の部材10は接合面14で互いに高分子化合物等の接着剤で接合され、複数の部材20は接合面24で互いに高分子化合物等の接着剤で接合され、複数の部材10と20とは接合面32で互いに高分子化合物等の接着剤で接合されていてもよい。このように複数の部材10と20とを接着剤で接合して一体化することにより、全体として複雑な形状を有する振動制御用質量体100を容易にかつ安価に形成することができる。なお、接着剤は、有機ガスを発生させないものを用いるのが好ましい。
図4は、分割された複数の部材からなる振動制御用質量体の別の実施の形態を示す概略的な斜視図である。
図4に示すように、振動制御用質量体100は、複数の部材10と20を収容する容器30をさらに備える。この容器30はタングステン合金と異なる材料からなる。図4に示す振動制御用質量体100は、複数の部材10と20とが互いに接合されていない点を除いては、図2の振動制御用質量体100と同様の構成を有する。このように複数の部材10と20とを直接接合しないで容器30内に収納することによって一体化しているので、複数の部材10と20を接合するためのねじ穴加工、メッキ処理等の前処理工程を省くことができる。これにより、全体として複雑な形状を有する振動制御用質量体100を容易にかつより安価に構成することができる。
この発明の振動制御用質量体100は、移動体を有するステージ装置において移動体の移動に伴う振動を制御するために用いられる。これにより、大型の基板を保持する移動ステージ等をよりコンパクトに、かつ低コストで製造することができる。
この場合、移動体がマスクまたは基板を保持して移動するものであり、ステージ装置が露光装置であるのが好ましい。特に、半導体装置の製造工程で用いられる露光装置、プラズマディスプレイの製造工程で用いられる露光装置等に本発明の振動制御用質量体100を適用することにより、上記の効果をより発揮することができる。
図5は、この発明の振動制御用質量体とステージ装置の構成部品との連結構造の一つの実施の形態を示す部分断面図である。
図5に示すように、振動制御用質量体40は、ステージ装置の構成部品としてのリニアガイド502に連結されている。リニアガイド502は、ステージ装置本体に取り付けられたレール501に沿って移動する。したがって、移動体に取り付けられる振動制御用質量体40は、リニアガイド502を介在してレール501に沿って移動する。
この場合、振動制御用質量体40をリニアガイド502に取り付けるためには、振動制御用質量体本体部41に長いネジ穴を形成し、連結用ネジ42を挿入してリニアガイド502に振動制御用質量体本体部41を締結する必要がある。このとき、ネジ穴と連結用ネジ42の存在により振動制御用質量体40の全体としての比重が相対的に低下する。なお、この場合、リニアガイド502の振動制御用質量体本体部41に対する位置合わせを行うためにピン43を振動制御用質量体本体部41に固着する必要がある。
図6は、この発明の振動制御用質量体とステージ装置の構成部品との連結構造のもう一つの実施の形態を示す部分断面図(A)と底面図(B)である。
図6に示すように、長いネジ穴と連結用ネジの存在により振動制御用質量体50の全体としての比重が相対的に低下することを防止するために、4本の相対的に短い連結用ネジ52によって振動制御用質量体本体部51をフランジ付きのリニアガイド502に取り付けることが考えられる。しかし、この場合、リニアガイド502のフランジ部分を4本の連結用ネジ52によって振動制御用質量体本体部51に締結する必要があるので、フランジ部分の面積に相当する分、振動制御用質量体50の底面の面積が増加する。これにより、ステージ装置の小型化が困難になる。なお、この場合も、リニアガイド502の振動制御用質量体50に対する位置合わせを行うために2本のピン53を振動制御用質量体本体部51に固着する必要がある。
図7は、この発明の振動制御用質量体とステージ装置の構成部品との連結構造の別の実施の形態を示す部分断面図(A)と底面図(B)である。
図7に示すように、ネジ穴と連結用ネジの存在により振動制御用質量体60の全体としての比重が相対的に低下することを防止するとともに、振動制御用質量体60の底面の面積があまり増加しないようにするために、振動制御用質量体本体部61と同様の材質の連結部材62を介在させて振動制御用質量体本体部61をリニアガイド502に取り付けることが考えられる。この場合、4本の相対的に短い連結用ネジ63によって振動制御用質量体本体部61と連結部材62とを連結し、4本の相対的に短い連結用ネジ64によってリニアガイド502と連結部材62とを連結する。なお、この場合も、リニアガイド502の振動制御用質量体60に対する位置合わせを行うために2本のピン66を連結部材62に固着する必要がある。このとき、ピン66と連結用ネジ63のネジ穴との位置が干渉するという問題がある。
図8は、この発明の振動制御用質量体とステージ装置の構成部品との連結構造のさらに別の実施の形態を示す部分断面図(A)と底面図(B)である。
図8に示すように、ネジ穴と連結用ネジの存在により振動制御用質量体70の全体としての比重が相対的に低下することを防止するとともに、振動制御用質量体70の底面の面積があまり増加しないようにし、ピンを用いないでリニアガイド502の振動制御用質量体70に対する位置合わせを行うために、振動制御用質量体本体部71と同じ材質のL型形状の連結部材72を介在させて振動制御用質量体本体部71をリニアガイド502に取り付けることが考えられる。この場合、4本の相対的に短い連結用ネジ73、75によって振動制御用質量体本体部71と連結部材72とを連結し、4本の相対的に短い連結用ネジ74によってリニアガイド502と連結部材72とを連結する。
以上のことから、本発明の振動制御用質量体が、移動体を有するステージ装置において移動体の移動に伴う振動を制御するために用いられる場合、まず、振動制御用質量体に可動部材としてリニアガイドを取付ける必要がある。この場合、通常、ネジを用いて振動制御用質量体にリニアガイドが締結される。このネジは、移動体の急発進、急停止の衝撃に耐え得るために衝撃値の高い材料で作製されることが求められる。すなわち、振動制御用質量体を構成するタングステン合金のような材質でネジを作製すると、ネジが変形したり、破断したりする恐れがある。そうすると、たとえば、ステンレス鋼のような衝撃値の高い材料でネジを作製すると、ネジ穴と連結用ネジの存在により振動制御用質量体の全体としての比重が相対的に低下することになる。たとえば、図5に示すように、振動制御用質量体40を一体で構成すると、連結用ネジ42の長さが長くなる。このため、振動制御用質量体の全体としての質量損失が生じる。また、たとえば、図6に示すように、振動制御用質量体50を一体で構成し、連結用ネジ52の長さを短くすると、フランジ付きのリニアガイド502を用いる必要があり、フランジ部分の面積に相当する分、振動制御用質量体50の底面の面積が増加する。これにより、ステージ装置の小型化が困難になる。そこで、ネジ穴と連結用ネジの存在により振動制御用質量体の全体としての比重が相対的に低下することを防止するとともに、振動制御用質量体の底面の面積があまり増加しないようにするために、図7または図8に示すように、連結用ネジ63、64、73、74、75を用いて、連結部材62、72を介在させて振動制御用質量体本体部61、71をリニアガイド502に締結する必要がある。
この場合、連結部材62、72の厚み寸法Lは、移動体の急発進、急停止に耐え得るだけの最低限度の厚みでなければならず、また、ネジ穴と連結用ネジの存在による振動制御用質量体の全体としての質量損失をできるだけ小さくし、かつ、ネジに加えられるモーメントを小さくするためには、一定の範囲に限定されなければならない。このような条件を満足するためには、連結部材62、72の厚み寸法Lは、5mm以上50mm以下の範囲内であるのが好ましく、振動制御用質量体の全体としての比重が相対的に低下するのをより効果的に防止するためには35mm以下であるのがさらに好ましい。
また、連結部材の形状は、図8に示すようにL型形状、または凹型形状にすることによって、ステージ装置との位置合わせ、すなわち、リニアガイド502との位置合わせを容易にかつ精度よく行うことができる。
連結用ネジは、移動体の急発進、急停止に耐え得るために衝撃値の高い材料で作製されることが求められるので、その材質としてはステンレス鋼を用いるのが好ましい。
図9は、図8に示される振動制御用質量体70が組み込まれた、複数の部材からなる振動制御用質量体のさらに別の実施の形態を示す概略的な斜視図である。
図9に示すように、振動制御用質量体200は、複数のほぼ直方体形状をした部材を組み合わせて大型化すればよい。図9において各部の寸法例(mm)が示されている。ネジ220を用いて、ほぼ直方体形状の部材を接合して一体化することにより、高い寸法精度の振動制御用質量体200を容易にかつ安価に形成することができる。1つの部材の体積は連結部を除いて540cm以上2700cm以下、重量は10kg以上50kg以下であるのが好ましい。体積が2700cmよりも大きく、重量が50kgよりも大きい場合には、部材の重量が重くなり、部材のハンドリングが困難になる。体積が540cmよりも小さく、重量が10kgよりも小さい場合には、部材点数が増えることによって累積公差が大きくなるので振動制御用質量体の全体としての寸法精度が悪くなる。
各部材は、タングステン合金を旋盤、マシニングセンタなどの従来の機械加工により穴あけと寸法調整を行うことによって作製される。この加工後、各部材の外表面を平面研削盤によって研磨加工する。たとえば、図9に示されるような振動制御用質量体200を組立てる場合、寸法200(mm)の部分の精度(平行度0.025、寸法公差±0.025)が重要である。この精度を満たさない場合には、振動制御用質量体200にリニアガイドを取付ける際に不具合が生じる。一体物で加工する場合には、放電加工機などの大型設備が必要となる。図9に示される構成では、各直方体の部材を平面研削加工で精度よく加工し、特に部材210を高精度に加工することによって、各部材を組み立てた際に振動制御用質量体全体として満足した精度を容易に得ることができる。すなわち、各部材の平面度、直角度および平行度を0.01mm以下、面粗度Raを1.6μm以下、穴公差を0.05以下とし、特に、部材210の平面度、直角度および平行度を0.01mm以下、長手方向の寸法公差を5μm以下にすることによって、一体化して振動制御用質量体200を構成した場合、図9に示される寸法200(mm)の部分の精度(平行度0.025、寸法公差±0.025)を達成することができる。
以下、この発明の実施例について説明する。
(実施例1)
まず、質量比率でタングステン(W)粉末:97%、ニッケル(Ni)粉末:2%、鉄(Fe)粉末:1%を配合し、ミキサで30分間乾式混合した。その後、上記の金属混合粉を篩目で1回篩い分けした。タイラ(Tyler)粒度メッシュが#150の篩目を用いた。
篩い分けによって分離された#150アンダーの混合粉を冷間静水圧成形(CIP)によって成形し、500mm×30mm×100mmの大きさの成形体を得た。冷間静水圧成形の条件は、圧力1.5ton/cm(加圧速度:0.1ton/min)、保持時間60秒であった。
得られた成形体を帯鋸で切断した後、砥石を用いて平面研削と転削加工(フライス加工)を行った。
その後、加工された成形体を水素ガス雰囲気中(流量:5m/hr)で最高温度が1450℃になるように12時間焼結した。
得られた焼結体をフライス加工することにより、図1で示す寸法の振動制御用質量体100を構成する各部材10と20を作製した。JIS呼称M16のネジ13、23、31を挿入するためのねじ穴は、マシニングセンタ(MC)を用いて穴あけ加工することにより形成した。各部材10と20の平面度は0.05mm以下、面粗度Raは6.3μm以下、穴公差は0.05mm以下であった。
このようにして作製された各部材10と20を組み合わせて、JIS呼称M16のタングステン合金製のネジ13、23、31を用いて接合した。得られた振動制御用質量体100を矢印Pで示す方向に移動速度12m/minで移動させても、各部材10と20は互いに分離することなく、一体化された振動制御用質量体100が高い剛性を有することが確認された。
(実施例2)
まず、質量比率でタングステン(W)粉末:97%、ニッケル(Ni)粉末:2%、鉄(Fe)粉末:1%を配合し、ミキサで30分間乾式混合した。その後、上記の金属混合粉を篩目で1回篩い分けした。タイラ(Tyler)粒度メッシュが#150の篩目を用いた。
篩い分けによって分離された#150アンダーの混合粉を冷間静水圧成形(CIP)によって成形し、所定の大きさの成形体を得た。冷間静水圧成形の条件は、圧力1.5ton/cm(加圧速度:0.1ton/min)、保持時間60秒であった。
得られた成形体を帯鋸で切断した後、砥石を用いて平面研削と転削加工(フライス加工)を行った。
その後、加工された成形体を水素ガス雰囲気中(流量:5m/hr)で最高温度が1450℃になるように12時間焼結した。
得られた焼結体(タングステン合金の比重:18.5g/cm)をフライス加工することにより、図8で示す寸法(mm)の振動制御用質量体70を構成する振動制御用質量体本体部71と連結部材72を作製した。振動制御用質量体本体部71にはJIS呼称M8の連結用ネジ73、75を挿入するための4個のネジ穴(呼び径M8、等級2級)を、連結部材72には8個の貫通穴(穴径14mm、深さ8mmのザグリ穴が付いた貫通逃がし穴径9mm)を、それぞれ、マシニングセンタ(MC)を用いて穴あけ加工することにより形成した。振動制御用質量体本体部71と連結部材72の平面度は0.05mm以下、面粗度Raは6.3μm以下、穴公差は0.05mm以下であった。連結用ネジ73、74、75の材質はJIS呼称 SUS304のステンレス鋼を用いた。このようにして得られた振動制御用質量体70の重量は約200kgであった。
図8で示す寸法Lが3mm、10mm、30mm、45mm、60mmの5種類の振動制御用質量体70を作製し、それぞれ、リニアガイド502を取付けて、ステージ装置上のレール501に沿って20mm/secの移動速度で移動させた。移動開始時と停止時の加速度は9.1m/secであった。移動ストロークを100mmとして、各振動制御用質量体を上記の条件で移動と停止を繰り返し、繰り返し回数が100サイクル、500サイクル、1000サイクルの時点で、連結用ネジ73、74、75で締結された箇所を確認した。
その結果、寸法Lが3mmの振動制御用質量体70では、繰り返し回数が100サイクルの時点で連結部材72に亀裂が生じた。寸法Lが10mm、30mm、45mmの振動制御用質量体70では、繰り返し回数が1000サイクルの時点でも異常が認められなかった。寸法Lが60mmの振動制御用質量体70では、繰り返し回数が500サイクルの時点で振動制御用質量体本体部71と連結部材72との間で0.3mm程度の位置ずれが発生していた。以上の結果から、連結部材62、72の厚み寸法Lは、5mm以上50mm以下の範囲内であるのが好ましいことがわかる。
以上に開示された実施の形態や実施例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考慮されるべきである。本発明の範囲は、以上の実施の形態や実施例ではなく、請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての修正や変形を含むものと意図される。
この発明に従った振動制御用質量体は、半導体装置、プラズマディスプレイ等のデバイスを製造するために用いられる露光装置等の移動体を有するステージ装置に組み込まれて用いられる。

Claims (3)

  1. 移動体を有するステージ装置において移動体の移動に伴う振動を制御するために用いられる振動制御用質量体であって、
    略直方体形状をした複数の部材を備え、この複数の部材の各々がタングステン合金からなり、このタングステン合金は主成分としてタングステンを80質量%以上99質量%以下含み、
    前記略直方体形状をした複数の部材が、対向する二つの部材を形成し、
    前記対向する二つの部材は、リニアガイドに取り付けられるものであり、
    前記略直方体形状をした複数の部材を組み合わせて凹部が形成され、
    前記凹部の幅は、前記略直方体形状をした部材の一辺寸法で規定され、かつ、前記対向する二つの部材の間の間隔を規定することを特徴とする、振動制御用質量体。
  2. 前記対向する二つの部材は、連結部材を介材させてリニアガイドに取り付けられている、請求項1に記載の振動制御用質量体。
  3. 前記移動体がマスクまたは基板を保持して移動するものであり、前記ステージ装置が露光装置である、請求項1に記載の振動制御用質量体。
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101837342B (zh) * 2009-03-20 2013-01-16 平湖市海特合金有限公司 用于机械振动的偏心块及其原料制备方法
US9249851B2 (en) * 2012-11-14 2016-02-02 The Boeing Company Apparatus and method for tuning a vibratory response of a rotor blade
JP6212716B2 (ja) * 2014-02-21 2017-10-18 パナソニックIpマネジメント株式会社 洗濯機
CN107077898B (zh) 2014-10-01 2019-11-12 Qsa全球有限公司 用于伽马射线照相术的防护装置
CN105154700A (zh) * 2015-09-24 2015-12-16 瑞声精密制造科技(常州)有限公司 高比重钨合金的烧结工艺
JP2019078685A (ja) 2017-10-26 2019-05-23 株式会社ブイ・テクノロジー Ledチップの検査方法、その検査装置及びledディスプレイの製造方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2957424B2 (ja) * 1993-10-08 1999-10-04 住友電気工業株式会社 耐食性タングステン基焼結合金
JPH0932880A (ja) * 1995-07-17 1997-02-04 Tokai Rubber Ind Ltd ダイナミックダンパ
JP3963410B2 (ja) * 1997-04-22 2007-08-22 キヤノン株式会社 位置決め装置およびこれを用いた露光装置
US5984233A (en) * 1997-11-26 1999-11-16 Lord Corporation Elastomeric tuned vibration absorber
JP3205987B2 (ja) * 1999-02-03 2001-09-04 三菱マテリアルシ−エムアイ株式会社 タングステン基焼結合金部品
JP2001116082A (ja) * 1999-10-15 2001-04-27 Tokai Rubber Ind Ltd 建築構造物の制振装置
JP2001193788A (ja) * 1999-12-31 2001-07-17 Inter Seiko Co Ltd ダイナミックダンパ用ウエイトの製法
JP2003193167A (ja) * 2001-12-26 2003-07-09 Toho Kinzoku Co Ltd 高密度合金
JP2004176825A (ja) * 2002-11-27 2004-06-24 Thk Co Ltd ダイナミックダンパ付運動案内装置及びテーブル装置
JP2005030486A (ja) 2003-07-11 2005-02-03 Nikon Corp 制振装置及びステージ装置並びに露光装置
JP2005098325A (ja) * 2003-09-22 2005-04-14 Sendai Nikon:Kk 制振装置及び露光装置

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