JP4192480B2 - 描画装置および描画方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、キャリッジに配設された複数の機能液滴吐出ヘッドを使用し、各機能液滴吐出ヘッドに列設されたノズル列から機能液滴を選択的に吐出することによりワーク上に描画を行う描画装置および描画方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、インクジェットプリンタなど、インクジェットヘッド（機能液滴吐出ヘッド）に同ピッチで配列されたノズル列から、インク（機能液滴）を吐出することによりドットを形成する機能液滴吐出装置では、１のインクジェットヘッドをワークに対して主走査方向および副走査方向に相対的に移動することによって、描画を行っている。この場合、各ノズルの吐出パターンデータ（描画パターンデータ）や駆動波形データは、ノズル列（ヘッド）毎に生成され、生成されたこれらのデータをヘッド駆動装置に順次送ることにより、１列分の機能液滴の吐出（描画）を行っている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、大型のプリンタ等では、機能液滴吐出ヘッドの歩留まりを考慮し、副走査方向のノズルの全並び（１ライン）を、単一の機能液滴吐出ヘッドではなく、複数の機能液滴吐出ヘッドで構成している。このため、例えば、２列のノズル列を有する機能液滴吐出ヘッドを６個並べることで１ラインが構成される場合は、パーソナルコンピュータ（以下、単に「パソコン」という）等により全部で１２列分の吐出パターンデータや駆動波形データを生成する必要がある。しかしながら、１２列分のデータを生成するには、膨大なデータ量となるため、制御処理が複雑化してしまう。したがって、パソコンから機能液滴吐出ヘッドを駆動するヘッド駆動装置へのデータの転送速度に遅れが生じ、その結果、機能液滴吐出ヘッドの移動速度（描画速度）に制約を受けていた。
【０００４】
そこで、それぞれ機能液滴吐出ヘッド毎にパソコンを使用して制御処理を行うことも考えられるが、装置構成が大型化してしまうと共に各パソコンの処理速度が微妙に異なるため、吐出タイミング（機能液滴の着弾位置）がずれてしまうことが想定される。
【０００５】
本発明は、複数の機能液滴吐出ヘッドに列設されたノズル列からワークに機能液滴を選択的に吐出することで描画を行う場合に、機能液滴の着弾位置にずれを生じることなく、且つ迅速に描画可能な描画装置および描画方法を提供することを課題としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明の描画装置は、キャリッジに配設された複数の機能液滴吐出ヘッドを使用し、各機能液滴吐出ヘッドに列設されたノズル列から機能液滴を選択的に吐出することによりワーク上に描画を行う描画装置であって、移動するキャリッジの位置検出信号に基づいて、吐出信号を生成する吐出信号生成手段と、吐出信号をトリガとして、ノズル列に対応する１配列分の吐出パターンデータと、当該１配列分の駆動波形データと、を転送する吐出データ・駆動波形データ転送手段と、転送された吐出パターンデータおよび駆動波形データに基づいて各機能液滴吐出ヘッドを駆動するヘッド駆動手段と、を備え、吐出データ・駆動波形データ転送手段は、転送された吐出パターンデータを格納するシフトレジスタと、駆動波形データの転送時に、シフトレジスタに格納されている吐出パターンデータをラッチするラッチと、ラッチの出力と、転送された駆動波形データとに基づいて、各ノズルに電圧印可するスイッチと、を有し、ｎ配列目の駆動波形データがスイッチに転送されているときに、平行して（ｎ＋１）配列目の吐出パターンデータをシフトレジスタに転送することを特徴とする。
この場合、機能液滴吐出ヘッドの移動領域内において、ワーク上に対する描画領域と非描画領域とを設定する描画領域設定手段を更に備え、吐出データ・駆動波形データ転送手段は、位置検出信号に基づいて、機能液滴吐出ヘッドが描画領域を移動中であるときに、吐出信号をトリガとして吐出パターンデータおよび駆動波形データを転送することが好ましい。
本発明の描画方法は、キャリッジに配設された複数の機能液滴吐出ヘッドを使用し、各機能液滴吐出ヘッドに列設されたノズル列から機能液滴を選択的に吐出することによりワーク上に描画を行う描画方法であって、移動するキャリッジの位置検出信号に基づいて、吐出信号を生成する吐出信号生成工程と、吐出信号をトリガとして、ノズル列に対応する１配列分の吐出パターンデータと、当該１配列分の駆動波形データとを、吐出データ・駆動波形転送ブロックを介して転送する吐出データ・駆動波形データ転送工程と、転送された吐出パターンデータおよび駆動波形データに基づいて各機能液滴吐出ヘッドを駆動するヘッド駆動工程と、を備え、吐出データ・駆動波形転送ブロックは、転送された吐出パターンデータを格納するシフトレジスタと、駆動波形データの転送時に、シフトレジスタに格納されている吐出パターンデータをラッチするラッチと、ラッチの出力と、転送された駆動波形データとに基づいて、各ノズルに電圧印可するスイッチと、を有し、吐出データ・駆動波形データ転送工程では、ｎ配列目の駆動波形データがスイッチに転送されているときに、平行して（ｎ＋１）配列目の吐出パターンデータをシフトレジスタに転送することを特徴とする。
この場合、機能液滴吐出ヘッドの移動領域内において、ワーク上に対する描画領域と非描画領域とを設定する描画領域設定工程を更に備え、吐出データ・駆動波形データ転送工程では、位置検出信号に基づいて、機能液滴吐出ヘッドが描画領域を移動中であるときに、吐出信号をトリガとして吐出パターンデータおよび駆動波形データを転送することが好ましい。
なお、以下のように構成することも可能である。
本発明の描画方法は、キャリッジに配設された複数の機能液滴吐出ヘッドを使用し、各機能液滴吐出ヘッドに列設されたノズル列から機能液滴を選択的に吐出することによりワーク上に描画を行う描画方法であって、機能液滴吐出ヘッド毎に、ビットマップ化された吐出パターンデータを記憶する吐出パターンデータ記憶工程と、移動するキャリッジを連続的に位置検出することによって位置検出信号を生成する位置検出信号生成工程と、位置検出信号を分周することにより、吐出信号を生成する吐出信号生成工程と、吐出信号をトリガとして、記憶された吐出パターンデータを転送する吐出パターンデータ転送工程と、転送された吐出パターンデータに基づいて各機能液滴吐出ヘッドを駆動するヘッド駆動工程と、を備えたことを特徴とする。
【０００７】
また、本発明の描画装置は、キャリッジに配設された複数の機能液滴吐出ヘッドを使用し、各機能液滴吐出ヘッドに列設されたノズル列から機能液滴を選択的に吐出することによりワーク上に描画を行う描画装置であって、機能液滴吐出ヘッド毎に、ビットマップ化された吐出パターンデータを記憶する吐出パターンデータ記憶手段と、移動するキャリッジを連続的に位置検出することによって位置検出信号を生成する位置検出信号生成手段と、位置検出信号を分周することにより、吐出信号を生成する吐出信号生成手段と、吐出信号をトリガとして、記憶された吐出パターンデータを転送する吐出パターンデータ転送手段と、転送された吐出パターンデータに基づいて各機能液滴吐出ヘッドを駆動するヘッド駆動手段と、を備えたことを特徴とする。
【０００８】
この構成によれば、機能液滴吐出ヘッド毎に吐出パターンデータを記憶し、吐出信号をトリガとしてこれを転送するため、機能液滴吐出ヘッドの数の増加によって機能液滴吐出ヘッドの移動速度（描画速度）に遅れを生じることがない。また、吐出信号は、複数の機能液滴吐出ヘッドが配設されたキャリッジを連続的に位置検出することによって得られる位置検出信号に基づいて生成されるため、キャリッジの移動速度の変化によって着弾位置がずれることがない。
【０００９】
この場合、機能液滴吐出ヘッドの移動領域内において、ワーク上に対する描画領域と非描画領域とを設定する描画領域設定工程を更に備え、吐出パターンデータ転送工程は、位置検出信号に基づいて、機能液滴吐出ヘッドが描画領域を移動中であるときに、吐出信号をトリガとして吐出パターンデータを転送することが好ましい。
【００１０】
また、この場合、機能液滴吐出ヘッドの移動領域内において、ワーク上に対する描画領域と非描画領域とを設定する描画領域設定手段を更に備え、吐出パターンデータ転送手段は、位置検出信号に基づいて、機能液滴吐出ヘッドが描画領域を移動中であるときに、吐出信号をトリガとして吐出パターンデータを転送することが好ましい。
【００１１】
この構成によれば、機能液滴吐出ヘッドが描画領域を移動中であるときに吐出パターンデータを転送するため、非描画領域を機能液滴吐出ヘッドが移動しているときに吐出パターンデータを転送することがない。したがって、描画領域を外れた機能液滴の吐出（オーバーヘッド）を容易に防止することができる。
【００１２】
この場合、各ノズルの駆動波形データを記憶する駆動波形データ記憶工程と、吐出信号をトリガとして、記憶された駆動波形データを転送する駆動波形データ転送工程と、を更に備え、ヘッド駆動工程は、転送された駆動波形データに基づいて各機能液滴吐出ヘッドを駆動することが好ましい。
【００１３】
また、この場合、各ノズルの駆動波形データを記憶する駆動波形データ記憶手段と、吐出信号をトリガとして、記憶された駆動波形データを転送する駆動波形データ転送手段と、を更に備え、ヘッド駆動手段は、転送された駆動波形データに基づいて各機能液滴吐出ヘッドを駆動することが好ましい。
【００１４】
この構成によれば、機能液滴吐出ヘッド毎に駆動波形データを記憶し、吐出信号をトリガとしてこれを転送するため、機能液滴吐出ヘッドの数の増加によって機能液滴吐出ヘッドの移動速度（描画速度）に遅れを生じることがない。また、吐出信号は、複数の機能液滴吐出ヘッドが配設されたキャリッジを連続的に位置検出することによって得られる位置検出信号に基づいて生成されるため、キャリッジの移動速度の変化によって着弾位置がずれることがない。さらに、キャリッジ単位で位置検出するため、各機能液滴吐出ヘッドへの駆動波形データの転送タイミングにずれが生じることなく、正確な着弾位置に機能液滴を着弾させることができる。
【００１５】
この場合、駆動波形データ転送工程は、位置検出信号に基づいて、機能液滴吐出ヘッドが描画領域を移動中であるときに、吐出信号をトリガとして駆動波形データを転送することが好ましい。
【００１６】
また、この場合、駆動波形データ転送手段は、位置検出信号に基づいて、機能液滴吐出ヘッドが描画領域を移動中であるときに、吐出信号をトリガとして駆動波形データを転送することが好ましい。
【００１７】
この構成によれば、機能液滴吐出ヘッドが描画領域を移動中であるときに駆動波形データを転送するため、非描画領域を機能液滴吐出ヘッドが移動しているときに駆動波形データを転送することがない。したがって、描画領域を外れた機能液滴の吐出（オーバーヘッド）を容易に防止することができる。
【００１８】
これらの場合、吐出パターンデータ転送工程は、１回のトリガによってノズル列に対応した１配列分の吐出パターンデータを転送し、駆動波形データ転送工程は、１配列分の吐出パターンデータの転送の後、当該１配列分の駆動波形データを転送することが好ましい。
【００１９】
また、これらの場合、吐出パターンデータ転送手段は、１回のトリガによってノズル列に対応した１配列分の吐出パターンデータを転送し、駆動波形データ転送手段は、１配列分の吐出パターンデータの転送の後、当該１配列分の駆動波形データを転送することが好ましい。
【００２０】
この構成によれば、１配列分の吐出パターンデータの転送の後、当該１配列分の駆動波形データを転送することで、転送のタイミングをずらすことができるため、吐出パターンデータと駆動波形データとのデータの重なりによる転送速度の遅れを防止することができる。したがって、機能液滴吐出ヘッドの移動速度（描画速度）に遅れが生じることがない。
【００２１】
この場合、吐出パターンデータ転送工程は、駆動波形データ転送工程により、ｎ配列目の駆動波形データが転送されているときに、平行して（ｎ＋１）配列目の吐出パターンデータを転送することが好ましい。
【００２２】
また、この場合、吐出パターンデータ転送手段は、駆動波形データ転送手段が、ｎ配列目の駆動波形データを転送しているときに、平行して（ｎ＋１）配列目の吐出パターンデータを転送することが好ましい。
【００２３】
この構成によれば、ｎ配列目の駆動波形データが転送されているときに、平行して（ｎ＋１）配列目の吐出パターンデータを転送するため、吐出パターンデータと駆動波形データとのデータの重なりによる転送速度の遅れを防止しつつ、全体として転送速度を早めることができる。すなわち、より描画速度を上げることができる。
【００２４】
これらの場合、機能液滴吐出ヘッドは、ピエゾ圧電素子を用いたピエゾ方式により機能液滴を吐出しており、ヘッド駆動工程は、駆動波形データに基づいて各ノズルのピエゾ圧電素子に電圧が印可されることにより、各機能液滴吐出ヘッドを駆動することが好ましい。
【００２５】
また、これらの場合、機能液滴吐出ヘッドは、ピエゾ圧電素子を用いたピエゾ方式により機能液滴を吐出しており、ヘッド駆動手段は、駆動波形データに基づいて各ノズルのピエゾ圧電素子に電圧が印可されることにより、各機能液滴吐出ヘッドを駆動することが好ましい。
【００２６】
この構成によれば、微少な機能液滴を高精度に吐出可能なピエゾ方式の機能液滴吐出ヘッドを使用することで、より機能液滴の着弾位置にずれを生じることなく描画することができる。
【００２７】
本発明の液晶表示装置の製造方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、カラーフィルタの基板上に多数のフィルタエレメントを形成する液晶表示装置の製造方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに各色のフィルタ材料を導入し、キャリッジを介して複数の機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、フィルタ材料を選択的に吐出して多数のフィルタエレメントを形成することを特徴とする。
【００２８】
本発明の有機ＥＬ装置の製造方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、基板上の多数の絵素ピクセルにそれぞれＥＬ発光層を形成する有機ＥＬ装置の製造方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに各色の発光材料を導入し、キャリッジを介して複数の機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、発光材料を選択的に吐出して多数のＥＬ発光層を形成することを特徴とする。
【００２９】
本発明の電子放出装置の製造方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、電極上に多数の蛍光体を形成する電子放出装置の製造方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに各色の蛍光材料を導入し、キャリッジを介して複数の機能液滴吐出ヘッドを電極に対し相対的に走査し、蛍光材料を選択的に吐出して多数の蛍光体を形成することを特徴とする。
【００３０】
本発明のＰＤＰ装置の製造方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、背面基板上の多数の凹部にそれぞれ蛍光体を形成するＰＤＰ装置の製造方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに各色の蛍光材料を導入し、キャリッジを介して複数の機能液滴吐出ヘッドを背面基板に対し相対的に走査し、蛍光材料を選択的に吐出して多数の蛍光体を形成することを特徴とする。
【００３１】
本発明の電気泳動表示装置の製造方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、電極上の多数の凹部に泳動体を形成する電気泳動表示装置の製造方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに各色の泳動体材料を導入し、キャリッジを介して複数の機能液滴吐出ヘッドを電極に対し相対的に走査し、泳動体材料を選択的に吐出して多数の泳動体を形成することを特徴とする。
【００３２】
このように、上記の機能液滴吐出装置を、液晶表示装置の製造方法、有機ＥＬ（Electro-Luminescence）装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、ＰＤＰ（Plasma Display Panel）装置の製造方法および電気泳動表示装置の製造方法に適用することにより、各装置に求められるフィルタ材料や発光材料等を、適切な位置に適切な量を選択的に供給することができる。なお、液滴吐出ヘッドの走査は、一般的には主走査および副走査となるが、いわゆる１ラインを単一の液滴吐出ヘッドで構成する場合には、副走査のみとなる。また、電子放出装置は、いわゆるＦＥＤ（Field Emission Display）装置を含む概念である。
【００３３】
本発明のカラーフィルタの製造方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、基板上に多数のフィルタエレメントを配列して成るカラーフィルタを製造するカラーフィルタの製造方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに各色のフィルタ材料を導入し、キャリッジを介して複数の機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、フィルタ材料を選択的に吐出して多数のフィルタエレメントを形成することを特徴とする。
この場合、多数のフィルタエレメントを被覆するオーバーコート膜が形成されており、フィルタエレメントを形成した後に、複数の機能液滴吐出ヘッドに透光性のコーティング材料を導入し、キャリッジを介して複数の機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、コーティング材料を選択的に吐出してオーバーコート膜を形成することが、好ましい。
【００３４】
本発明の有機ＥＬの製造方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、ＥＬ発光層を含む多数の絵素ピクセルを基板上に配列して成る有機ＥＬの製造方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに各色の発光材料を導入し、キャリッジを介して複数の機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、発光材料を選択的に吐出して多数のＥＬ発光層を形成することを特徴とする。
この場合、多数のＥＬ発光層と基板との間には、ＥＬ発光層に対応して多数の画素電極が形成されており、複数の機能液滴吐出ヘッドに液状電極材料を導入し、キャリッジを介して複数の機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、液状電極材料を選択的に吐出して多数の画素電極を形成することが、好ましい。この場合、多数のＥＬ発光層を覆うように対向電極が形成されており、ＥＬ発光層を形成した後に、複数の機能液滴吐出ヘッドに液状電極材料を導入し、キャリッジを介して複数の機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、液状電極材料を選択的に吐出して対向電極を形成することが、好ましい。
【００３５】
本発明のスペーサ形成方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、２枚の基板間に微小なセルギャップを構成すべく多数の粒子状のスペーサを形成するスペーサ形成方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドにスペーサを構成する粒子材料を導入し、キャリッジを介して複数の機能液滴吐出ヘッドを少なくとも一方の基板に対し相対的に走査し、粒子材料を選択的に吐出して基板上にスペーサを形成することを特徴とする。
【００３６】
本発明の金属配線形成方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、基板上に金属配線を形成する金属配線形成方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに液状金属材料を導入し、キャリッジを介して複数の機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、液状金属材料を選択的に吐出して金属配線を形成することを特徴とする。
【００３７】
本発明のレンズ形成方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、基板上に多数のマイクロレンズを形成するレンズ形成方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドにレンズ材料を導入し、キャリッジを介して複数の機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、レンズ材料を選択的に吐出して多数のマイクロレンズを形成することを特徴とする。
【００３８】
本発明のレジスト形成方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、基板上に任意形状のレジストを形成するレジスト形成方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドにレジスト材料を導入し、キャリッジを介して複数の機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、レジスト材料を選択的に吐出してレジストを形成することを特徴とする。
【００３９】
本発明の光拡散体形成方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、基板上に多数の光拡散体を形成する光拡散体形成方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに光拡散材料を導入し、キャリッジを介して複数の機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、光拡散材料を選択的に吐出して多数の光拡散体を形成することを特徴とする。
【００４０】
このように、上記の機能液滴吐出装置を、カラーフィルタの製造方法、有機ＥＬの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法に適用することにより、各電子デバイスや各光デバイスに求められるフィルタ材料や発光材料等を、適切な位置に適切な量を選択的に供給することができる。
【００４１】
【発明の実施の形態】
以下、添付の図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。本発明の描画装置を構成する機能液滴吐出装置は、その複数の機能液滴吐出ヘッドに列設されたノズル列から、微小な液滴をドット状に精度良く吐出することができることから、機能液に特殊なインクや感光性・発光性の樹脂等を用いることにより、各種部品の製造分野への応用が期待されている。
【００４２】
例えば、本実施形態の描画装置は、液晶表示装置や有機ＥＬ装置等の、いわゆるフラットディスプレイの製造装置に適用され、その複数の機能液滴吐出ヘッドからフィルタ材料や発光材料等の機能液を吐出して（インクジェット方式）、液晶表示装置におけるＲ（レッド）．Ｇ（グリーン）．Ｂ（ブルー）のフィルタエレメントや、有機ＥＬ装置における各画素のＥＬ発光層および正孔注入層を形成するものである。そこで、本実施形態では、液晶表示装置の製造装置等に組み込まれる描画装置を例に、その描画方法について説明する。
【００４３】
図１および図２に示すように、描画装置１を構成する機能液滴吐出装置１０は、Ｘ軸テーブル２３およびこれに直交するＹ軸テーブル２４と、Ｙ軸テーブル２４に設けたメインキャリッジ２５と、メインキャリッジ２５に搭載したヘッドユニット２６とを有している。詳細は後述するが、ヘッドユニット２６には、サブキャリッジ４１を介して、複数の機能液滴吐出ヘッド７が搭載されている。また、この複数の機能液滴吐出ヘッド７に対応して、Ｘ軸テーブル２３の吸着テーブル２８上に基板（ワーク）Ｗがセットされるようになっている。
【００４４】
本実施形態の機能液滴吐出装置１０では、機能液滴吐出ヘッド７の駆動（機能液滴の選択的吐出）に同期して基板Ｗが移動する構成であり、機能液滴吐出ヘッド７のいわゆる主走査は、Ｘ軸テーブル２３のＸ軸方向への往復の両動作により行われる。また、これに対応して、いわゆる副走査は、Ｙ軸テーブル２４により機能液滴吐出ヘッド７のＹ軸方向への往動動作により行われる。なお、上記の主走査をＸ軸方向への往動（または復動）動作のみで行うようにしてもよい。
【００４５】
ヘッドユニット２６は、サブキャリッジ４１と、サブキャリッジ４１に搭載した複数個（１２個）の機能液滴吐出ヘッド７とを備えている。１２個の機能液滴吐出ヘッド７は、６個づつ左右に二分され、主走査方向に対し所定の角度傾けて配設されている。なお、本実施形態の機能液滴吐出ヘッド７は、ピエゾ圧電効果を応用した精密ヘッドが使用され、微小液滴を着色層形成領域に選択的に吐出するものである。
【００４６】
また、各６個の機能液滴吐出ヘッド７は、副走査方向に対し相互に位置ずれして配設され、１２個の機能液滴吐出ヘッド７の全吐出ノズル３８が副走査方向において連続する（一部重複）ようになっている。すなわち、実施形態のヘッド配列は、サブキャリッジ４１上において、同一方向に傾けて配置した６個の機能液滴吐出ヘッド７を２列としている。このように、所定角度（副走査方向に対して角度θ）の傾斜状態で主走査を行うことにより、複数のノズルのノズル間ピッチを基板Ｗ上の画素ピッチに合わせることができる。また、各機能液滴吐出ヘッド７には、２本のノズル列３７，３７が相互に平行に列設されており、各ノズル列３７は、等ピッチで並べた１８０個（図示では模式的に表している）の吐出ノズル３８で構成されている。
【００４７】
もっとも、この配列パターンは一例であり、例えば、各ヘッド列における隣接する機能液滴吐出ヘッド７，７同士を９０°の角度を持って配置（隣接ヘッド同士が「ハ」字状）したり、各ヘッド列間における機能液滴吐出ヘッド７を９０°の角度を持って配置（列間ヘッド同士が「ハ」字状）したりすることは可能である。いずれにしても、１２個の機能液滴吐出ヘッド７の全吐出ノズル３８によるドットが副走査方向において連続していればよい。
【００４８】
また、各種の基板Ｗに対し機能液滴吐出ヘッド７を専用部品とすれば、機能液滴吐出ヘッド７をあえて傾けてセットする必要は無く、千鳥状や階段状に配設すれば足りる。さらにいえば、所定長さのノズル列３７（ドット列）を構成できる限り、これを単一の機能液滴吐出ヘッド７で構成してもよいし複数の機能液滴吐出ヘッド７で構成してもよい。すなわち、機能液滴吐出ヘッド７の個数や列数、さらに配列パターンは任意である。
【００４９】
ここで、描画装置１の一連の動作を簡単に説明する。先ず、準備段階として、作業に供する基板Ｗ用のヘッドユニット２６が機能液滴吐出装置１０に運び込まれ、これがメインキャリッジ２５にセットされる。ヘッドユニット２６がメインキャリッジ２５にセットされると、Ｙ軸テーブル２４がヘッドユニット２６を、図外のヘッド認識カメラの位置に移動させ、ヘッド認識カメラでヘッドアライメントマークを検出することにより、ヘッドユニット２６が位置認識される。ここで、この認識結果に基づいて、ヘッドユニット２６がθ補正され、且つヘッドユニット２６のＸ軸方向およびＹ軸方向の位置補正がデータ上で行われる。位置補正後、ヘッドユニット（メインキャリッジ２５）２６はホーム位置に戻る。
【００５０】
一方、Ｘ軸テーブル２３の吸着テーブル２８上に、マガジンから取り出した基板（この場合は、導入される基板毎）Ｗが導入されると、この位置（受渡し位置）で図外の基板認識カメラにより基板アライメントマークを検出することによって、基板Ｗを位置認識する。ここで、この認識結果に基づいて、基板Ｗがθ補正され、且つ基板ＷのＸ軸方向およびＹ軸方向の位置補正がデータ上で行われる。位置補正後、基板（吸着テーブル２８）Ｗはホーム位置に戻る。
【００５１】
このようにして準備が完了すると、実際の液滴吐出作業では、先ずＸ軸テーブル２３が駆動し、基板Ｗを主走査方向に往復動させると共に複数の機能液滴吐出ヘッド７を駆動して、機能液滴の基板Ｗへの選択的な吐出動作（画素Eの形成）が行われる。基板Ｗが復動した後、今度はＹ軸テーブル２４が駆動し、ヘッドユニット２６を１ピッチ分、副走査方向に移動させ、再度基板Ｗの主走査方向への往復移動と機能液滴吐出ヘッド７の駆動が行われる。そして、これを数回繰り返すことで、全チップ形成領域Ｃの描画が行われる。
【００５２】
以上により、チップ形成領域Ｃを構成するＲ．Ｇ．Ｂの３色のうちの例えばＲについての描画を終えると、基板Ｗを例えばＧの機能液滴を吐出する機能液滴吐出装置１０へ搬送してＧの描画を行う。そして、最終的にＢの機能液滴を吐出する機能液滴吐出装置１０へ搬送してＢの描画を行い、カラー描画された全チップ形成領域Ｃを個々に切り出すことにより、１のチップ形成領域Ｃを得ることができる。
【００５３】
一方、上記の動作に並行し、液滴吐出装置１０の機能液滴吐出ヘッド７には、エアー供給装置４２を圧力供給源として機能液供給装置４３から機能液が連続的に供給され、また吸着テーブル２８では、基板Ｗを吸着すべく、真空吸引装置１５によりエアー吸引が行われる。また、液滴吐出作業の直前には、ヘッドユニット２６が図外のクリーニングユニットおよびワイピングユニットに臨んで、機能液滴吐出ヘッド７の全吐出ノズル３８からの機能液吸引と、これに続くノズル形成面の拭取りが行われる。また、液滴吐出作業中には、適宜ヘッドユニット２６がフラッシングユニットに臨んで、フラッシングが行われる。
【００５４】
なお、本実施形態では、ヘッドユニット２６に対し、その吐出対象物である基板Ｗを主走査方向（Ｘ軸方向）に移動させるようにしているが、ヘッドユニット２６を主走査方向に移動させる構成であってもよい。また、ヘッドユニット２６を固定とし、基板Ｗを主走査方向および副走査方向に移動させる構成であってもよい。
【００５５】
次に、図３および図４を参照し、機能液滴吐出装置１０の制御構成について説明する。機能液滴吐出装置１０は、機能液滴吐出ヘッド７と、これを接続するためのヘッドインターフェース基板１１１とを有するヘッド部１１０と、波形・パターン記憶回路基板１２１と、これを接続するためのインターフェース基板１２２と、波形・パターン記憶回路基板１２１にトリガパルスを伝送するトリガ基板１２３とを有し、機能液滴吐出ヘッド７を駆動する駆動部１２０と、直流電源１３１を有し、波形・パターン記憶回路基板１２１に電源を供給する電源部１３０と、リニアスケール１４１を有し、メインキャリッジ２５（サブキャリッジ４１）を連続的に位置検出する送り検出部１４０と、装置全体を制御する第１ＰＣ１５１と、主に機能液滴吐出ヘッド７の駆動を制御する第２ＰＣ１５２とを有する制御部１５０と、により構成されている。
【００５６】
ヘッド部１１０の機能液滴吐出ヘッド７は、上記した構成であり、１ヘッド当たり１８０個のノズル列が２列使用されている。ヘッドインターフェース基板１１１は、波形・パターン記憶回路基板１２１から送信された信号を差動信号変換し、機能液滴吐出のためのピエゾ圧電素子１８４を駆動する駆動波形データおよび吐出パターンデータ（ビットマップデータ）を機能液滴吐出ヘッド７に送る。
【００５７】
駆動部１２０の波形・パターン記憶回路基板１２１は、（特に図４に示すように）吐出パターンデータ転送部１２４と、駆動波形データ転送部１２５とにより構成され、トリガ基板１２３からのトリガパルス（トリガ１信号）を受けて吐出パターンデータおよび駆動波形データを順次転送する。詳細については後述するが、トリガ基板１２３は、リニアスケール１４１からの信号に基づいて、吸着テーブル２８（基板Ｗ）に対するメインキャリッジ２５（サブキャリッジ４１）のＸ軸方向およびＹ軸方向の相対移動距離を連続的にカウントすることにより、トリガ１信号（吐出信号）を生成している。この吐出信号をトリガとして、波形・パターン記憶回路基板１２１は、予め第２ＰＣ１５２から送られ、吐出パターンデータ転送部１２４の吐出パターンメモリエリア１２７に格納していた吐出パターンデータをパラレルシリアル変換回路・カウンタ１２６を介してインターフェース基板１１１に転送する。なお、吐出パターンデータ転送部１２４と駆動波形データ転送部１２５は、物理的に一つの基板で構成されている。これにより、基板を安価で製造できると共に省スペースに配置することができる。
【００５８】
一方、パラレルシリアル変換回路・カウンタ１２６では、吐出パターンデータの転送をカウントし、ノズル列３７に対応する１配列分（ノズル１８０個分）のデータの転送を終えた後、トリガ２信号を駆動波形メモリエリア１２８に伝送する。駆動波形データ転送部１２５では、このトリガ２信号をトリガとして、駆動波形メモリエリア１２８から駆動波形データをアナログ回路ブロック１２９に送ってアナログ変換し、インターフェース基板１１１に転送する。また、波形・パターン記憶回路基板１２１は、電源部１３１の直流電源１３１より（ヘッド駆動用として）電源が供給される。
【００５９】
送り検出部１４０のリニアスケール１４１は、０．５μｍピッチでスキャンの送り（吸着テーブル２８、メインキャリッジ２５の移動）を検出し、位置検出信号をトリガ基板１２３に伝送する。また、制御部１５０の第２ＰＣ１５２は、第１ＰＣ１５１とＲＳ−２３２Ｃにより接続され、第１ＰＣ１５１からのコマンドを受けて機能液滴吐出ヘッド７の駆動結果等に関するデータを返信する。また、第２ＰＣ１５２は、吐出パターンデータおよび駆動波形データを生成し、これらのデータおよび転送制御信号をインターフェース基板１２２を介して波形・パターン記憶回路基板１２１に送ると共に、トリガ制御信号および吐出制御信号をトリガ基板１２３に送る。
【００６０】
次に、図５ないし図９を参照し、吐出パターンデータおよび駆動波形データの転送制御について、詳細に説明する。前述の通り、本発明では、リニアスケール１４１による位置検出に基づいて、各機能液滴吐出ヘッド７に吐出パターンデータおよび駆動波形データを転送するものである。図５の概略ブロック図に示すように、リニアスケール１４１による位置検出は、Ｘ軸方向（主走査方向）およびＹ軸方向（副走査方向）について行われる。Ｘ軸方向は、吸着テーブル２８のモーターおよびこれを駆動するドライバーを介して位置検出し、これをタイミングカウントすることによって位置検出信号を生成する。さらに、この位置検出信号をカウンター値メモリエリアに格納すると共に分周し、吐出信号（トリガ１信号）を生成する。
【００６１】
一方、Ｙ軸方向は、メインキャリッジ２５のモーターおよびこれを駆動するドライバーを介して位置検出し、これをタイミングカウントすることにより位置検出信号を生成する。但し、メインキャリッジ２５のＹ軸方向への移動中は吐出信号の生成は行われない（すなわち、機能液滴の吐出は行われない）。したがってこの場合、リニアスケール１４１では、Ｙ軸方向の位置検出を行わず、Ｘ軸方向の検出のみを行うように構成しても良い。この構成によれば、リニアスケール１４１の構成および検出制御を簡素化することができる。
【００６２】
生成された吐出信号は、吐出信号ブロック１７１からそれぞれトリガ１信号・トリガ２信号として吐出データ・駆動波形転送ブロック１７２に転送され、吐出パターンメモリエリア１２７および駆動波形メモリエリア１２８からのデータを機能液滴吐出ヘッド７に転送する。
【００６３】
ここで、位置検出信号に基づく、吐出パターンデータおよび駆動波形データの転送動作を図６のタイミングチャートを参照して説明する。まず、リニアスケール１４１による位置検出によって生成された位置検出信号をｎ倍（図示の例では１２倍）に分周することにより吐出信号（トリガ１信号）を生成する。そして、この吐出信号のたち下がりエッジをトリガとしてノズル列３７の１配列分（ノズル１８０個分）の吐出パターンデータ（例えば１８０ビット）の転送を行い、その後、トリガ２信号を生成する。すなわち、図示の例では、トリガ１信号の立ち上がり後、位置検出信号の１１回目の立ち上がりエッジの入力により、トリガ２信号のトリガが発生する。そして、そのトリガ２信号のたち下がりエッジをトリガとして駆動波形データを転送する。なお、駆動波形データの転送は、次のトリガ２信号のたち下がりエッジの入力までに終了されている。
【００６４】
以上の通り、図示点線部が、吐出パターンデータおよび駆動波形データの一連の転送動作となる。このように、ノズル列３７の１配列分の吐出パターンデータの転送の後、当該１配列分の駆動波形データを転送することで、転送のタイミングをずらすことができるため、データの重なりによる転送速度の遅れを防止することができる。したがって、（吐出パターンデータおよび駆動波形データの転送時間分の制約は受けるものの）吸着テーブル２８の移動速度（描画速度）に遅れが生じることがない。
【００６５】
また、これに平行して、駆動波形データの転送中に、トリガ１信号が入力されて、次のノズル列３７の吐出パターンデータが転送される。すなわち、ｎ配列目の駆動波形データが転送されているときに、平行して（ｎ＋１）配列目の吐出パターンデータが転送されることになる。そして、以上の転送動作を繰り返すことにより、順次吐出パターンデータおよび駆動波形データが転送されることになる。このように、駆動波形データの転送に平行して次配列の吐出パターンデータを転送することで、吐出パターンデータと駆動波形データとのデータの重なりによる転送速度の遅れを防止しつつ、全体として転送速度を早めることができる。すなわち、より描画速度を上げることができる。
【００６６】
ところで、本発明では、予め設定されたワークＷ上に対する描画領域（ワーク領域）外への機能液滴の吐出、すなわちオーバーヘッドを防止するため、描画領域に相当する描画領域信号を生成し、これと吐出間隔パルスとのアンド出力により、吐出信号を生成している。図７（ａ）に示すように、リニアスケール１４１の位置検出により生成された位置検出信号を分周することにより、吐出間隔パルスを生成する（吐出間隔用カウンタ１７６；同図（ｂ）参照）。一方、予め設定しておいた描画領域に関するデータを第２ＰＣ１５２から伝送し、これと位置検出信号により描画領域信号を生成する（描画領域用カウンタ１７５）。
【００６７】
そして、同図（ｂ）に示すように、これら吐出間隔パルスと描画領域信号とをアンド出力することによって、吐出信号を出力し、吐出信号ブロック１７１によりトリガ１信号、トリガ２信号が生成される。このように、吐出間隔パルスと描画領域信号とのアンド出力により、吐出パターンデータおよび駆動波形データを転送するため、非描画領域をメインキャリッジ２５（各機能液滴吐出ヘッド７）が移動しているときにこれらのデータを転送することがない。したがって、描画領域を外れた機能液滴の吐出（オーバーヘッド）を容易に防止することができる。なお、描画領域信号は、メインキャリッジ２５単位で（すなわち、全機能液滴吐出ヘッド７同一として）生成しても良いし、メインキャリッジ２５（サブキャリッジ４１）上の各ヘッド７の位置を考慮して、各全機能液滴吐出ヘッド７毎に異なる描画領域信号を生成しても良い。
【００６８】
以上の通り、全ての機能液滴吐出ヘッド７における吐出パターンデータおよび駆動波形データの転送制御は、全て第２ＰＣ１５２によって行われる（図５参照）。すなわち、図８に示すように、リニアスケール１４１による吸着テーブル２８およびメインキャリッジ２５の位置検出に基づき、吐出信号ブロック１７１にて生成されるトリガ１信号およびトリガ２信号は、各機能液滴吐出ヘッド７毎に備えられた吐出データ・駆動波形転送ブロック１７２（波形・パターン記憶回路基板１２１）を介して、各機能液滴吐出ヘッド７に転送される。
【００６９】
そして、図９に示すように、各吐出データ・駆動波形転送ブロック１７２では、パラレル変換された吐出パターンデータを、シフトレジスタ１８１により演算処理し、これをラッチ１８２で、トリガ２信号と同一のタイミングで出力されるラッチ信号によりラッチした後、ノズル３８毎に備えられたアナログスイッチ１８３をＯＮ・ＯＦＦする。すなわち、機能液滴を吐出するノズル３８はＯＮ状態（導通状態）となる。その後、アナログ変換された駆動波形データに基づき、ＯＮ状態のアナログスイッチ１８３を介してピエゾ圧電素子１８４への電圧印可を行う。このように、微少な機能液滴を高精度に吐出可能な（ピエゾ圧電素子１８４を用いた）ピエゾ方式の機能液滴吐出ヘッド７を使用することで、より着弾位置にずれを生じることなく描画することができる。
【００７０】
なお、シフトレジスタ１８１は、吐出パターンデータをラッチ１８２に送った後は、次の吐出パターンデータを受け取り可能な状態となる。したがって、駆動波形データの転送中であっても、次の吐出パターンデータを受け取ることができる（図６参照）。また、駆動波形データの転送は、次のトリガ２信号の入力までに終了されている。これにより、駆動波形データの転送中に、次の吐出パターンデータがラッチされることがないため、ノズル３８の吐出不良や損傷を防ぐことができる。
【００７１】
上述の通り、本発明の描画方法および描画装置によれば、機能液滴吐出ヘッド７毎に備えられた吐出データ・駆動波形転送ブロック１７２を介して、吐出パターンデータおよび駆動波形データを転送するため、機能液滴吐出ヘッド７の数によってメインキャリッジ２５の移動速度（描画速度）に制約を受けることがない。また、吐出信号は、複数の機能液滴吐出ヘッド７が配設されたメインキャリッジ２５（サブキャリッジ４１）を連続的に位置検出することによって得られる位置検出信号に基づいて生成されるため、メインキャリッジ２５の移動速度の変化によって着弾位置がずれることがない。さらに、これら複数の機能液滴吐出ヘッド７におけるデータの転送制御は、複数のパソコン（ＣＰＵ）ではなく全て第２ＰＣ１５２のみで行われているため、各ＣＰＵの処理速度の違いによる転送タイミングのずれを防止することができると共に、装置構成を簡素化することができる。
【００７２】
なお、上記の実施形態では、吐出パターンデータと駆動波形データとは、いずれも波形・パターン記憶回路基板１２１に記憶され、吐出信号をトリガとして順次転送されるものとしたが、それぞれ別の基板に記憶されるように構成しても良い。この構成によれば、各基板の回路を単純化することができる。
【００７３】
また、上記の実施形態では、ｎ配列目の駆動波形データを転送しているときに、平行して（ｎ＋１）配列目の吐出パターンデータを転送するものとしたが、ｎ配列目の駆動波形データを転送した後、（ｎ＋１）配列目の吐出パターンデータを転送するように構成しても良い。この構成によれば、描画速度は遅くなるものの、駆動波形データによるピエゾ圧電素子１８４への電圧印可中に次の吐出パターンデータが転送されるなどのトラブルの発生をより防止することができる。
【００７４】
また、上記の実施形態では、複数の機能液滴吐出ヘッド７を用いた場合を例に挙げたが、単一の機能液滴吐出ヘッド７を用いた場合にも、本発明が適用できることは言うまでもない。
【００７５】
ところで、本発明の描画装置１および機能液滴吐出装置１０は、前述の通り、各種フラットディスプレイの製造方法や、各種の電子デバイスおよび光デバイスの製造方法等にも適用可能である。そこで、この描画装置１および機能液滴吐出装置１０を用いた製造方法を、液晶表示装置の製造方法および有機ＥＬ装置の製造方法を例に、説明する。
【００７６】
図１０は、液晶表示装置のカラーフィルタの部分拡大図である。図１０（ａ）は平面図であり、図１０（ｂ）は図１０（ａ）のＢ−Ｂ´線断面図である。断面図各部のハッチングは一部省略している。
【００７７】
図１０（ａ）に示されるように、カラーフィルタ４００は、マトリクス状に並んだ画素（フィルタエレメント）４１２を備え、画素と画素の境目は、仕切り４１３によって区切られている。画素４１２の１つ１つには、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかのインク（フィルタ材料）が導入されている。この例では赤、緑、青の配置をいわゆるデルタ配列としたが、ストライプ配列、モザイク配列など、その他の配置でも構わない。
【００７８】
図１０（ｂ）に示されるように、カラーフィルタ４００は、透光性の基板４１１と、遮光性の仕切り４１３とを備えている。仕切り４１３が形成されていない（除去された）部分は、上記画素４１２を構成する。この画素４１２に導入された各色のインクは着色層４２１を構成する。仕切り４１３及び着色層４２１の上面には、オーバーコート層４２２及び電極層４２３が形成されている。
【００７９】
図１１は、本発明の実施形態によるカラーフィルタの製造方法を説明する製造工程断面図である。断面図各部のハッチングは一部省略している。
【００８０】
膜厚０．７ｍｍ、たて３８ｃｍ、横３０ｃｍの無アルカリガラスからなる透明基板４１１の表面を、熱濃硫酸に過酸化水素水を１重量％添加した洗浄液で洗浄し、純水でリンスした後、エア乾燥を行って清浄表面を得る。この表面に、スパッタ法によりクロム膜を平均０．２μｍの膜厚で形成し、金属層４１４´を得る（図１１：Ｓ１）。
【００８１】
この基板をホットプレート上で、８０℃で５分間乾燥させた後、金属層４１４´の表面に、スピンコートによりフォトレジスト層（図示せず）を形成する。この基板表面に、所要のマトリクスパターン形状を描画したマスクフィルムを密着させ、紫外線で露光をおこなう。次に、これを、水酸化カリウムを８重量％の割合で含むアルカリ現像液に浸漬して、未露光の部分のフォトレジストを除去し、レジスト層をパターニングする。続いて、露出した金属層を、塩酸を主成分とするエッチング液でエッチング除去する。このようにして所定のマトリクスパターンを有する遮光層（ブラックマトリクス）４１４を得ることができる（図１１：Ｓ２）。遮光層４１４の膜厚は、およそ０．２μｍである。また、遮光層４１４の幅は、およそ２２μｍである。
【００８２】
この基板上に、さらにネガ型の透明アクリル系の感光性樹脂組成物４１５´をやはりスピンコート法で塗布する（図１１：Ｓ３）。これを１００℃で２０分間プレベークした後、所定のマトリクスパターン形状を描画したマスクフィルムを用いて紫外線露光を行なう。未露光部分の樹脂を、やはりアルカリ性の現像液で現像し、純水でリンスした後スピン乾燥する。最終乾燥としてのアフターベークを２００℃で３０分間行い、樹脂部を十分硬化させることにより、バンク層４１５が形成され、遮光層４１４及びバンク層４１５からなる仕切り４１３が形成される（図１１：Ｓ４）。このバンク層４１５の膜厚は、平均で２．７μｍである。また、バンク層４１５の幅は、およそ１４μｍである。
【００８３】
得られた遮光層４１４およびバンク層４１５で区画された着色層形成領域（特にガラス基板４１１の露出面）のインク濡れ性を改善するため、ドライエッチング、すなわちプラズマ処理を行なう。具体的には、ヘリウムに酸素を２０％加えた混合ガスに高電圧を印加し、プラズマ雰囲気でエッチングスポットに形成し、基板を、このエッチングスポット下を通過させてエッチングする。
【００８４】
次に、仕切り４１３で区切られて形成された画素４１２内に、上記Ｒ、Ｇ、Ｂの各インクをインクジェット方式により導入する（図１１：Ｓ５）。機能液滴吐出ヘッド７（インクジェットヘッド）には、ピエゾ圧電効果を応用した精密ヘッドを使用し、微小インク滴を着色層形成領域毎に１０滴、選択的に飛ばす。駆動周波数は１４．４ｋＨｚ、すなわち、各インク滴の吐出間隔は６９．５μ秒に設定する。ヘッドとターゲットとの距離は、０．３ｍｍに設定する。ヘッドよりターゲットである着色層形成領域への飛翔速度、飛行曲がり、サテライトと称される分裂迷走滴の発生防止のためには、インクの物性はもとよりヘッドのピエゾ圧電素子１８４を駆動する波形（電圧を含む）が重要である。従って、あらかじめ条件設定された波形をプログラムして、赤、緑、青の３色を同時に塗布することにより所定の配色パターンにインクを塗布する。
【００８５】
インク（フィルタ材料）としては、例えばポリウレタン樹脂オリゴマーに無機顔料を分散させた後、低沸点溶剤としてシクロヘキサノンおよび酢酸ブチルを、高沸点溶剤としてブチルカルビトールアセテートを加え、さらに非イオン系界面活性剤０．０１重量％を分散剤として添加し、粘度６〜８センチポアズとしたものを用いる。
【００８６】
次に、塗布したインクを乾燥させる。まず、自然雰囲気中で３時間放置してインク層４１６のセッティングを行った後、８０℃のホットプレート上で４０分間加熱し、最後にオーブン中で２００℃で３０分間加熱してインク層４１６の硬化処理を行って、着色層４２１が得られる（図１１：Ｓ６）。
【００８７】
上記基板に、透明アクリル樹脂塗料をスピンコートして平滑面を有するオーバーコート層４２２を形成する。さらに、この上面にＩＴＯ（Indium Tin Oxide）からなる電極層４２３を所要パターンで形成して、カラーフィルタ４００とする（図１１：Ｓ７）。なお、このオーバーコート層４２２を、機能液滴吐出ヘッド７（インクジェットヘッド）によるインクジェット方式で、形成するようにしてもよい。
【００８８】
図１２は、本発明の製造方法により製造される電気光学装置（フラットディスプレイ）の一例であるカラー液晶表示装置の断面図である。断面図各部のハッチングは一部省略している。
【００８９】
このカラー液晶表示装置４５０は、カラーフィルタ４００と対向基板４６６とを組み合わせ、両者の間に液晶組成物４６５を封入することにより製造される。液晶表示装置４５０の一方の基板４６６の内側の面には、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）素子（図示せず）と画素電極４６３とがマトリクス状に形成されている。また、もう一方の基板として、画素電極４６３に対向する位置に赤、緑、青の着色層４２１が配列するようにカラーフィルタ４００が設置されている。
【００９０】
基板４６６とカラーフィルタ４００の対向するそれぞれの面には、配向膜４６１、４６４が形成されている。これらの配向膜４６１、４６４はラビング処理されており、液晶分子を一定方向に配列させることができる。また、基板４６６およびカラーフィルタ４００の外側の面には、偏光板４６２、４６７がそれぞれ接着されている。また、バックライトとしては蛍光灯（図示せず）と散乱板の組合わせが一般的に用いられており、液晶組成物４６５をバックライト光の透過率を変化させる光シャッターとして機能させることにより表示を行う。
【００９１】
なお、電気光学装置は、本発明では上記のカラー液晶表示装置に限定されず、例えば薄型のブラウン管、あるいは液晶シャッター等を用いた小型テレビ、ＥＬ表示装置、プラズマディスプレイ、ＣＲＴディスプレイ、ＦＥＤ（Field Emission Display）パネル等の種々の電気光学手段を用いることができる。
【００９２】
次に、図１３ないし図２５を参照して、有機ＥＬ装置（有機ＥＬ表示装置）とその製造方法を説明する。
【００９３】
図１３ないし図２５は、有機ＥＬ素子を含む有機ＥＬ装置の製造プロセスと共にその構造を表している。この製造プロセスは、バンク部形成工程と、プラズマ処理工程と、正孔注入／輸送層形成工程及び発光層形成工程からなる発光素子形成工程と、対向電極形成工程と、封止工程とを具備して構成されている。
【００９４】
バンク部形成工程では、基板５０１に予め形成した回路素子部５０２上及び電極５１１（画素電極ともいう）上の所定の位置に、無機物バンク層５１２ａと有機物バンク層５１２ｂを積層することにより、開口部５１２ｇを有するバンク部５１２を形成する。このように、バンク部形成工程には、電極５１１の一部に、無機物バンク層５１２ａを形成する工程と、無機物バンク層の上に有機物バンク層５１２ｂを形成する工程が含まれる。
【００９５】
まず無機物バンク層５１２ａを形成する工程では、図１３に示すように、回路素子部５０２の第２層間絶縁膜５４４ｂ上及び画素電極５１１上に、無機物バンク層５１２ａを形成する。無機物バンク層５１２ａを、例えばＣＶＤ法、コート法、スパッタ法、蒸着法等によって第２層間絶縁膜５４４ｂ及び画素電極５１１の全面にＳｉＯ2、ＴｉＯ2等の無機物膜を形成する。
【００９６】
次にこの無機物膜をエッチング等によりパターニングして、電極５１１の電極面５１１ａの形成位置に対応する下部開口部５１２ｃを設ける。このとき、無機物バンク層５１２ａを電極５１１の周縁部と重なるように形成しておく必要がある。このように、電極５１１の周縁部（一部）と無機物バンク層５１２ａとが重なるように無機物バンク層５１２ａを形成することにより、発光層５１０ｂの発光領域を制御することができる。
【００９７】
次に有機物バンク層５１２ｂを形成する工程では、図１４に示すように、無機物バンク層５１２ａ上に有機物バンク層５１２ｂを形成する。有機物バンク層５１２ｂをフォトリソグラフィ技術等によりエッチングして、有機物バンク層５１２ｂの上部開口部５１２ｄを形成する。上部開口部５１２ｄは、電極面５１１ａ及び下部開口部５１２ｃに対応する位置に設けられる。
【００９８】
上部開口部５１２ｄは、図１４に示すように、下部開口部５１２ｃより広く、電極面５１１ａより狭く形成することが好ましい。これにより、無機物バンク層５１２ａの下部開口部５１２ｃを囲む第１積層部５１２ｅが、有機物バンク層５１２ｂよりも電極５１１の中央側に延出された形になる。このようにして、上部開口部５１２ｄ、下部開口部５１２ｃを連通させることにより、無機物バンク層５１２ａ及び有機物バンク層５１２ｂを貫通する開口部５１２ｇが形成される。
【００９９】
次にプラズマ処理工程では、バンク部５１２の表面と画素電極の表面５１１ａに、親インク性を示す領域と、撥インク性を示す領域を形成する。このプラズマ処理工程は、予備加熱工程と、バンク部５１２の上面（５１２ｆ）及び開口部５１２ｇの壁面並びに画素電極５１１の電極面５１１ａを親インク性を有するように加工する親インク化工程と、有機物バンク層５１２ｂの上面５１２ｆ及び上部開口部５１２ｄの壁面を、撥インク性を有するように加工する撥インク化工程と、冷却工程とに大別される。
【０１００】
まず、予備加熱工程では、バンク部５１２を含む基板５０１を所定の温度まで加熱する。加熱は、例えば基板５０１を載せるステージにヒータを取り付け、このヒータで当該ステージごと基板５０１を加熱することにより行う。具体的には、基板５０１の予備加熱温度を、例えば７０〜８０℃の範囲とすることが好ましい。
【０１０１】
次に、親インク化工程では、大気雰囲気中で酸素を処理ガスとするプラズマ処理（Ｏ2プラズマ処理）を行う。このＯ2プラズマ処理により、図１５に示すように、画素電極５１１の電極面５１１ａ、無機物バンク層５１２ａの第１積層部５１２ｅ及び有機物バンク層５１２ｂの上部開口部５１２ｄの壁面ならびに上面５１２ｆが親インク処理される。この親インク処理により、これらの各面に水酸基が導入されて親インク性が付与される。図１５では、親インク処理された部分を二点鎖線で示している。
【０１０２】
次に、撥インク化工程では、大気雰囲気中で４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理（ＣＦ4プラズマ処理）を行う。ＣＦ4プラズマ処理により、図１６に示すように、上部開口部５１２ｄ壁面及び有機物バンク層の上面５１２ｆが撥インク処理される。この撥インク処理により、これらの各面にフッ素基が導入されて撥インク性が付与される。図１６では、撥インク性を示す領域を二点鎖線で示している。
【０１０３】
次に、冷却工程では、プラズマ処理のために加熱された基板５０１を室温、またはインクジェット工程（機能液滴吐出工程）の管理温度まで冷却する。プラズマ処理後の基板５０１を室温、または所定の温度（例えばインクジェット工程を行う管理温度）まで冷却することにより、次の正孔注入／輸送層形成工程を一定の温度で行うことができる。
【０１０４】
次に、発光素子形成工程では、画素電極５１１上に正孔注入／輸送層及び発光層を形成することにより発光素子を形成する。発光素子形成工程には、４つの工程が含まれる。即ち、正孔注入／輸送層を形成するための第１組成物を各画素電極上に吐出する第１機能液滴吐出工程と、吐出された第１組成物を乾燥させて画素電極上に正孔注入／輸送層を形成する正孔注入／輸送層形成工程と、発光層を形成するための第２組成物を正孔注入／輸送層の上に吐出する第２機能液滴吐出工程と、吐出された第２組成物を乾燥させて正孔注入／輸送層上に発光層を形成する発光層形成工程とが含まれる。
【０１０５】
まず、第１機能液滴吐出工程では、インクジェット法（機能液滴吐出法）により、正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を電極面５１１ａ上に吐出する。なお、この第１機能液滴吐出工程以降は、水、酸素の無い窒素雰囲気、アルゴン雰囲気等の不活性ガス雰囲気で行うことが好ましい。（なお、画素電極上にのみ正孔注入／輸送層を形成する場合は、有機物バンク層に隣接して形成される正孔注入／輸送層は形成されない）
【０１０６】
図１７に示すように、インクジェットヘッド（機能液滴吐出ヘッド７）Ｈに正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を充填し、インクジェットヘッドＨの吐出ノズルを下部開口部５１２ｃ内に位置する電極面５１１ａに対向させ、インクジェットヘッドＨと基板５０１とを相対移動させながら、吐出ノズルから１滴当たりの液量が制御された第１組成物滴５１０ｃを電極面５１１ａ上に吐出する。
【０１０７】
ここで用いる第１組成物としては、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン(PEDOT)等のポリチオフェン誘導体とポリスチレンスルホン酸(PSS)等の混合物を、極性溶媒に溶解させた組成物を用いることができる。極性溶媒としては、例えば、イソプロピルアルコール(IPA)、ノルマルブタノール、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチルピロリドン(NMP)、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン(DMI)及びその誘導体、カルビト−ルアセテート、ブチルカルビト−ルアセテート等のグリコールエーテル類等を挙げることができる。なお、正孔注入／輸送層形成材料は、Ｒ・Ｇ・Ｂの各発光層５１０ｂに対して同じ材料を用いても良く、発光層毎に変えても良い。
【０１０８】
図１７に示すように、吐出された第１組成物滴５１０ｃは、親インク処理された電極面５１１ａ及び第１積層部５１２ｅ上に広がり、下部、上部開口部５１２ｃ、５１２ｄ内に満たされる。電極面５１１ａ上に吐出する第１組成物量は、下部、上部開口部５１２ｃ、５１２ｄの大きさ、形成しようとする正孔注入／輸送層の厚さ、第１組成物中の正孔注入／輸送層形成材料の濃度等により決定される。また、第１組成物滴５１０ｃは１回のみならず、数回に分けて同一の電極面５１１ａ上に吐出しても良い。
【０１０９】
次に正孔注入／輸送層形成工程では、図１８に示すように、吐出後の第１組成物を乾燥処理及び熱処理して第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させることにより、電極面５１１ａ上に正孔注入／輸送層５１０ａを形成する。乾燥処理を行うと、第１組成物滴５１０ｃに含まれる極性溶媒の蒸発が、主に無機物バンク層５１２ａ及び有機物バンク層５１２ｂに近いところで起き、極性溶媒の蒸発に併せて正孔注入／輸送層形成材料が濃縮されて析出する。
【０１１０】
これにより図１８に示すように、乾燥処理によって電極面５１１ａ上でも極性溶媒の蒸発が起き、これにより電極面５１１ａ上に正孔注入／輸送層形成材料からなる平坦部５１０ａが形成される。電極面５１１ａ上では極性溶媒の蒸発速度がほぼ均一であるため、正孔注入／輸送層の形成材料が電極面５１１ａ上で均一に濃縮され、これにより均一な厚さの平坦部５１０ａが形成される。
【０１１１】
次に第２機能液滴吐出工程では、インクジェット法（機能液滴吐出法）により、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出する。この第２機能液滴吐出工程では、正孔注入／輸送層５１０ａの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第２組成物の溶媒として、正孔注入／輸送層５１０ａに対して不溶な非極性溶媒を用いる。
【０１１２】
しかしその一方で正孔注入／輸送層５１０ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出しても、正孔注入／輸送層５１０ａと発光層５１０ｂとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層５１０ｂを均一に塗布できないおそれがある。そこで、非極性溶媒ならびに発光層形成材料に対する正孔注入／輸送層５１０ａの表面の親和性を高めるために、発光層を形成する前に表面改質工程を行うことが好ましい。
【０１１３】
そこでまず、表面改質工程について説明する。表面改質工程は、発光層形成の際に用いる第１組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒である表面改質用溶媒を、インクジェット法（機能液滴吐出法）、スピンコート法またはディップ法により正孔注入／輸送層５１０ａ上に塗布した後に乾燥することにより行う。
【０１１４】
例えば、インクジェット法による塗布は、図１９に示すように、インクジェットヘッドＨに、表面改質用溶媒を充填し、インクジェットヘッドＨの吐出ノズルを基板（すなわち、正孔注入／輸送層５１０ａが形成された基板）に対向させ、インクジェットヘッドＨと基板５０１とを相対移動させながら、吐出ノズルＨから表面改質用溶媒５１０ｄを正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出することにより行う。そして、図２０に示すように、表面改質用溶媒５１０ｄを乾燥させる。
【０１１５】
次に第２機能液滴吐出工程では、インクジェット法（機能液滴吐出法）により、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出する。図２１に示すように、インクジェットヘッドＨに、青色（Ｂ）発光層形成材料を含有する第２組成物を充填し、インクジェットヘッドＨの吐出ノズルを下部、上部開口部５１２ｃ、５１２ｄ内に位置する正孔注入／輸送層５１０ａに対向させ、インクジェットヘッドＨと基板５０１とを相対移動させながら、吐出ノズルから１滴当たりの液量が制御された第２組成物滴５１０ｅとして吐出し、この第２組成物滴５１０ｅを正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出する。
【０１１６】
発光層形成材料としては、ポリフルオレン系高分子誘導体や、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリチオフェン誘導体、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素、あるいは上記高分子に有機ＥＬ材料をドープして用いる事ができる。例えば、ルブレン、ペリレン、９，１０-ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等をドープすることにより用いることができる。
【０１１７】
非極性溶媒としては、正孔注入／輸送層５１０ａに対して不溶なものが好ましく、例えば、シクロへキシルベンゼン、ジハイドロベンゾフラン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン等を用いることができる。このような非極性溶媒を発光層５１０ｂの第２組成物に用いることにより、正孔注入／輸送層５１０ａを再溶解させることなく第２組成物を塗布できる。
【０１１８】
図２１に示すように、吐出された第２組成物５１０ｅは、正孔注入／輸送層５１０ａ上に広がって下部、上部開口部５１２ｃ、５１２ｄ内に満たされる。第２組成物５１０ｅは１回のみならず、数回に分けて同一の正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出しても良い。この場合、各回における第２組成物の量は同一でも良く、各回毎に第２組成物量を変えても良い。
【０１１９】
次に発光層形成工程では、第２組成物を吐出した後に乾燥処理及び熱処理を施して、正孔注入／輸送層５１０ａ上に発光層５１０ｂを形成する。乾燥処理は、吐出後の第２組成物を乾燥処理することにより第２組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発して、図２２に示すような青色（Ｂ）発光層５１０ｂを形成する。
【０１２０】
続けて、図２３に示すように、青色（Ｂ）発光層５１０ｂの場合と同様にして、赤色（Ｒ）発光層５１０ｂを形成し、最後に緑色（Ｇ）発光層５１０ｂを形成する。なお、発光層５１０ｂの形成順序は、前述の順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決める事も可能である。
【０１２１】
次に対向電極形成工程では、図２４に示すように、発光層５１０ｂ及び有機物バンク層５１２ｂの全面に陰極５０３（対向電極）を形成する。なお，陰極５０３は複数の材料を積層して形成しても良い。例えば、発光層に近い側には仕事関数が小さい材料を形成することが好ましく、例えばＣａ、Ｂａ等を用いることが可能であり、また材料によっては下層にＬｉＦ等を薄く形成した方が良い場合もある。また、上部側（封止側）には下部側よりも仕事関数が高いものが好ましい。これらの陰極（陰極層）５０３は、例えば蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等で形成することが好ましく、特に蒸着法で形成することが、発光層５１０ｂの熱による損傷を防止できる点で好ましい。
【０１２２】
また、フッ化リチウムは、発光層５１０ｂ上のみに形成しても良く、更に青色（Ｂ）発光層５１０ｂ上のみに形成しても良い。この場合、他の赤色（Ｒ）発光層及び緑色（Ｇ）発光層５１０ｂ、５１０ｂには、ＬｉＦからなる上部陰極層５０３ｂが接することとなる。また陰極１２の上部には、蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等により形成したＡｌ膜、Ａｇ膜等を用いることが好ましい。また、陰極５０３上に、酸化防止のためにＳｉＯ2、ＳｉＮ等の保護層を設けても良い。
【０１２３】
最後に、図２５に示す封止工程では、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰囲気中で、有機ＥＬ素子５０４上に封止用基板５０５を積層する。封止工程は、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰囲気で行うことが好ましい。大気中で行うと、陰極５０３にピンホール等の欠陥が生じていた場合にこの欠陥部分から水や酸素等が陰極５０３に侵入して陰極５０３が酸化されるおそれがあるので好ましくない。そして最後に、フレキシブル基板の配線に陰極５０３を接続するとともに、駆動ＩＣに回路素子部５０２の配線を接続することにより、本実施形態の有機ＥＬ装置５００が得られる。
【０１２４】
なお、画素電極５１１および陰極（対向電極）５０３の形成において、インクジェットヘッドＨによるインクジェット方式を採用してもよい。すなわち、液体の電極材料をインクジェットヘッドＨにそれぞれ導入し、これをインクジェットヘッドＨから吐出して、画素電極５１１および陰極５０３をそれぞれ形成する（乾燥工程を含む）。
【０１２５】
同様に、本実施形態の機能液滴吐出装置１０は、電子放出装置の製造方法、ＰＤＰ装置の製造方法および電気泳動表示装置の製造方法等に、適用することができる。
【０１２６】
電子放出装置の製造方法では、複数の機能液滴吐出ヘッド７にＲ、Ｇ、Ｂ各色の蛍光材料を導入し、複数の機能液滴吐出ヘッド７を主走査および副走査し、蛍光材料を選択的に吐出して、電極上に多数の蛍光体を形成する。なお、電子放出装置は、ＦＥＤ（電界放出ディスプレイ）を含む上位の概念である。
【０１２７】
ＰＤＰ装置の製造方法では、複数の機能液滴吐出ヘッド７にＲ、Ｇ、Ｂ各色の蛍光材料を導入し、複数の機能液滴吐出ヘッド７を主走査および副走査し、蛍光材料を選択的に吐出して、背面基板上の多数の凹部にそれぞれ蛍光体を形成する。
【０１２８】
電気泳動表示装置の製造方法では、複数の機能液滴吐出ヘッド７に各色の泳動体材料を導入し、複数の機能液滴吐出ヘッド７を主走査および副走査し、インク材料を選択的に吐出して、電極上の多数の凹部にそれぞれ泳動体を形成する。なお、帯電粒子と染料とから成る泳動体は、マイクロカプセルに封入されていることが、好ましい。
【０１２９】
一方、本実施形態の機能液滴吐出装置１０は、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法等にも、適用可能である。
【０１３０】
スペーサ形成方法は、２枚の基板間に微小なセルギャップを構成すべく多数の粒子状のスペーサを形成するものであり、複数の機能液滴吐出ヘッド７にスペーサを構成する粒子材料を導入し、複数の機能液滴吐出ヘッド７を主走査および副走査し、粒子材料を選択的に吐出して少なくとも一方の基板上にスペーサを形成する。例えば、上記の液晶表示装置や電気泳動表示装置における２枚の基板間のセルギャップを構成する場合に有用であり、その他この種の微小なギャップを必要とする半導体製造技術に適用できることはいうまでもない。
【０１３１】
金属配線形成方法では、複数の機能液滴吐出ヘッド７に液状金属材料を導入し、複数の機能液滴吐出ヘッド７を主走査および副走査し、液状金属材料を選択的に吐出して、基板上に金属配線を形成する。例えば、上記の液晶表示装置におけるドライバと各電極とを接続する金属配線や、上記の有機ＥＬ装置におけるＴＦＴ等と各電極とを接続する金属配線に適用することができる。また、この種のフラットディスプレイの他、一般的な半導体製造技術に適用できることはいうまでもない。
【０１３２】
レンズ形成方法では、複数の機能液滴吐出ヘッド７にレンズ材料を導入し、複数の機能液滴吐出ヘッド７を主走査および副走査し、レンズ材料を選択的に吐出して、透明基板上に多数のマイクロレンズを形成する。例えば、上記のＦＥＤ装置におけるビーム収束用のデバイスとして適用可能である。また、各種の光デバイスに適用可能であることはいうまでもない。
【０１３３】
レジスト形成方法では、複数の機能液滴吐出ヘッド７にレジスト材料を導入し複数の機能液滴吐出ヘッド７を主走査および副走査し、レジスト材料を選択的に吐出して、基板上に任意形状のフォトレジストを形成する。例えば、上記の各種表示装置おけるバンクの形成は元より、半導体製造技術の主体を為すフォトリソグラフィー法において、フォトレジストの塗布に広く適用可能である。
【０１３４】
光拡散体形成方法では、基板上に多数の光拡散体を形成する光拡散体形成方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッド７に光拡散材料を導入し、複数の機能液滴吐出ヘッド７を主走査および副走査し、光拡散材料を選択的に吐出して多数の光拡散体を形成する。この場合も、各種の光デバイスに適用可能であることはいうまでもない。
【０１３５】
【発明の効果】
以上のように、本発明の描画方法および描画装置によれば、機能液滴吐出ヘッド毎に記憶された吐出パターンデータおよび駆動波形データを順次転送するため、機能液滴吐出ヘッドの数によって描画速度に制約を受けることがない。また、吐出信号は、複数の機能液滴吐出ヘッドが配設されたキャリッジを連続的に位置検出することによって得られる位置検出信号に基づいて生成されるため、キャリッジの移動速度の変化によって着弾位置がずれることがない。
【０１３６】
一方、本発明の液晶表示装置の製造方法、有機ＥＬ装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、ＰＤＰ装置の製造方法および電気泳動表示装置の製造方法によれば、各装置におけるフィルタ材料や発光材料等に適した機能液滴吐出ヘッドを簡単に導入することができるため、製造効率を向上させることができる。
【０１３７】
また、本発明のカラーフィルタの製造方法、有機ＥＬの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法によれば、各電子デバイスや各光デバイスにおけるフィルタ材料や発光材料等に適した機能液滴吐出ヘッドを簡単に導入することができため、製造効率を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 実施形態に係る描画装置の模式図である。
【図２】 実施形態に係る機能液滴吐出ヘッドと基板の模式図である。
【図３】 実施形態に係る機能液滴吐出装置の制御系のブロック図である。
【図４】 波形・パターン記憶回路基板を詳細に示した制御系のブロック図である。
【図５】 実施形態に係るデータの転送制御を概略的に示した概略ブロック図である。
【図６】 実施形態に係るデータの転送動作を示すタイミングチャートである。
【図７】 実施形態に係る描画領域信号の生成制御を概略的に示した概略ブロック図並びにタイミングチャートである。
【図８】 実施形態に係る複数の機能液滴吐出ヘッドへのデータの転送制御を概略的に示した概略ブロック図である。
【図９】 実施形態に係る吐出データ・駆動波形転送ブロックを示す模式図である。
【図１０】 実施形態のカラーフィルタの製造方法により製造されるカラーフィルタの部分拡大図である。
【図１１】 実施形態のカラーフィルタの製造方法を模式的に示す製造工程断面図である。
【図１２】 実施形態のカラーフィルタの製造方法により製造される液晶表示装置の断面図である。
【図１３】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法におけるバンク部形成工程（無機物バンク）の断面図である。
【図１４】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法におけるバンク部形成工程（有機物バンク）の断面図である。
【図１５】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法におけるプラズマ処理工程（親水化処理）の断面図である。
【図１６】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法におけるプラズマ処理工程（撥水化処理）の断面図である。
【図１７】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法における正孔注入層形成工程（機能液滴吐出）の断面図である。
【図１８】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法における正孔注入層形成工程（乾燥）の断面図である。
【図１９】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法における表面改質工程（機能液滴吐出）の断面図である。
【図２０】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法における表面改質工程（乾燥）の断面図である。
【図２１】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法におけるＢ発光層形成工程（機能液滴吐出）の断面図である。
【図２２】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法におけるＢ発光層形成工程（乾燥）の断面図である。
【図２３】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法におけるＲ・Ｇ・Ｂ発光層形成工程の断面図である。
【図２４】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法における対向電極形成工程の断面図である。
【図２５】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法における封止工程の断面図である。
【符号の説明】
１ 描画装置 ７ 機能液滴吐出ヘッド
１０ 機能液滴吐出装置 １５ 真空吸引装置
２３ Ｘ軸テーブル ２４ Ｙ軸テーブル
２５ メインキャリッジ ２６ ヘッドユニット
２８ 吸着テーブル ３７ ノズル列
３８ ノズル ４１ サブキャリッジ
４２ エアー供給装置 ４３ 機能液供給装置
１１０ ヘッド部 １２０ 駆動部
１２１ 波形・パターン記憶回路基板 １２３ トリガ基板
１２４ 吐出パターンデータ転送部 １２５ 駆動波形データ転送部
１３０ 電源部 １４０ 送り検出部
１４１ リニアスケール １５０ 制御部
１５２ 第２ＰＣ １７１ 吐出信号ブロック
１７２ 吐出データ・駆動波形転送ブロック
１７５ 描画領域用カウンタ １７６ 吐出間隔用カウンタ
１８１ シフトレジスタ １８２ ラッチ
１８３ アナログスイッチ １８４ ピエゾ圧電素子
４００ カラーフィルタ ４１２ 画素
４１５ バンク層 ４１６ インク層
４２２ オーバーコート層 ４６６ 基板
５００ 有機ＥＬ装置 ５０１ 基板
５０２ 回路素子部 ５０４ 有機ＥＬ素子
５１０ａ 正孔注入／輸送層 ５１０ｂ 発光層
Ｃ チップ形成領域 Ｗ 基板
【発明の属する技術分野】
本発明は、キャリッジに配設された複数の機能液滴吐出ヘッドを使用し、各機能液滴吐出ヘッドに列設されたノズル列から機能液滴を選択的に吐出することによりワーク上に描画を行う描画装置および描画方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、インクジェットプリンタなど、インクジェットヘッド（機能液滴吐出ヘッド）に同ピッチで配列されたノズル列から、インク（機能液滴）を吐出することによりドットを形成する機能液滴吐出装置では、１のインクジェットヘッドをワークに対して主走査方向および副走査方向に相対的に移動することによって、描画を行っている。この場合、各ノズルの吐出パターンデータ（描画パターンデータ）や駆動波形データは、ノズル列（ヘッド）毎に生成され、生成されたこれらのデータをヘッド駆動装置に順次送ることにより、１列分の機能液滴の吐出（描画）を行っている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、大型のプリンタ等では、機能液滴吐出ヘッドの歩留まりを考慮し、副走査方向のノズルの全並び（１ライン）を、単一の機能液滴吐出ヘッドではなく、複数の機能液滴吐出ヘッドで構成している。このため、例えば、２列のノズル列を有する機能液滴吐出ヘッドを６個並べることで１ラインが構成される場合は、パーソナルコンピュータ（以下、単に「パソコン」という）等により全部で１２列分の吐出パターンデータや駆動波形データを生成する必要がある。しかしながら、１２列分のデータを生成するには、膨大なデータ量となるため、制御処理が複雑化してしまう。したがって、パソコンから機能液滴吐出ヘッドを駆動するヘッド駆動装置へのデータの転送速度に遅れが生じ、その結果、機能液滴吐出ヘッドの移動速度（描画速度）に制約を受けていた。
【０００４】
そこで、それぞれ機能液滴吐出ヘッド毎にパソコンを使用して制御処理を行うことも考えられるが、装置構成が大型化してしまうと共に各パソコンの処理速度が微妙に異なるため、吐出タイミング（機能液滴の着弾位置）がずれてしまうことが想定される。
【０００５】
本発明は、複数の機能液滴吐出ヘッドに列設されたノズル列からワークに機能液滴を選択的に吐出することで描画を行う場合に、機能液滴の着弾位置にずれを生じることなく、且つ迅速に描画可能な描画装置および描画方法を提供することを課題としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明の描画装置は、キャリッジに配設された複数の機能液滴吐出ヘッドを使用し、各機能液滴吐出ヘッドに列設されたノズル列から機能液滴を選択的に吐出することによりワーク上に描画を行う描画装置であって、移動するキャリッジの位置検出信号に基づいて、吐出信号を生成する吐出信号生成手段と、吐出信号をトリガとして、ノズル列に対応する１配列分の吐出パターンデータと、当該１配列分の駆動波形データと、を転送する吐出データ・駆動波形データ転送手段と、転送された吐出パターンデータおよび駆動波形データに基づいて各機能液滴吐出ヘッドを駆動するヘッド駆動手段と、を備え、吐出データ・駆動波形データ転送手段は、転送された吐出パターンデータを格納するシフトレジスタと、駆動波形データの転送時に、シフトレジスタに格納されている吐出パターンデータをラッチするラッチと、ラッチの出力と、転送された駆動波形データとに基づいて、各ノズルに電圧印可するスイッチと、を有し、ｎ配列目の駆動波形データがスイッチに転送されているときに、平行して（ｎ＋１）配列目の吐出パターンデータをシフトレジスタに転送することを特徴とする。
この場合、機能液滴吐出ヘッドの移動領域内において、ワーク上に対する描画領域と非描画領域とを設定する描画領域設定手段を更に備え、吐出データ・駆動波形データ転送手段は、位置検出信号に基づいて、機能液滴吐出ヘッドが描画領域を移動中であるときに、吐出信号をトリガとして吐出パターンデータおよび駆動波形データを転送することが好ましい。
本発明の描画方法は、キャリッジに配設された複数の機能液滴吐出ヘッドを使用し、各機能液滴吐出ヘッドに列設されたノズル列から機能液滴を選択的に吐出することによりワーク上に描画を行う描画方法であって、移動するキャリッジの位置検出信号に基づいて、吐出信号を生成する吐出信号生成工程と、吐出信号をトリガとして、ノズル列に対応する１配列分の吐出パターンデータと、当該１配列分の駆動波形データとを、吐出データ・駆動波形転送ブロックを介して転送する吐出データ・駆動波形データ転送工程と、転送された吐出パターンデータおよび駆動波形データに基づいて各機能液滴吐出ヘッドを駆動するヘッド駆動工程と、を備え、吐出データ・駆動波形転送ブロックは、転送された吐出パターンデータを格納するシフトレジスタと、駆動波形データの転送時に、シフトレジスタに格納されている吐出パターンデータをラッチするラッチと、ラッチの出力と、転送された駆動波形データとに基づいて、各ノズルに電圧印可するスイッチと、を有し、吐出データ・駆動波形データ転送工程では、ｎ配列目の駆動波形データがスイッチに転送されているときに、平行して（ｎ＋１）配列目の吐出パターンデータをシフトレジスタに転送することを特徴とする。
この場合、機能液滴吐出ヘッドの移動領域内において、ワーク上に対する描画領域と非描画領域とを設定する描画領域設定工程を更に備え、吐出データ・駆動波形データ転送工程では、位置検出信号に基づいて、機能液滴吐出ヘッドが描画領域を移動中であるときに、吐出信号をトリガとして吐出パターンデータおよび駆動波形データを転送することが好ましい。
なお、以下のように構成することも可能である。
本発明の描画方法は、キャリッジに配設された複数の機能液滴吐出ヘッドを使用し、各機能液滴吐出ヘッドに列設されたノズル列から機能液滴を選択的に吐出することによりワーク上に描画を行う描画方法であって、機能液滴吐出ヘッド毎に、ビットマップ化された吐出パターンデータを記憶する吐出パターンデータ記憶工程と、移動するキャリッジを連続的に位置検出することによって位置検出信号を生成する位置検出信号生成工程と、位置検出信号を分周することにより、吐出信号を生成する吐出信号生成工程と、吐出信号をトリガとして、記憶された吐出パターンデータを転送する吐出パターンデータ転送工程と、転送された吐出パターンデータに基づいて各機能液滴吐出ヘッドを駆動するヘッド駆動工程と、を備えたことを特徴とする。
【０００７】
また、本発明の描画装置は、キャリッジに配設された複数の機能液滴吐出ヘッドを使用し、各機能液滴吐出ヘッドに列設されたノズル列から機能液滴を選択的に吐出することによりワーク上に描画を行う描画装置であって、機能液滴吐出ヘッド毎に、ビットマップ化された吐出パターンデータを記憶する吐出パターンデータ記憶手段と、移動するキャリッジを連続的に位置検出することによって位置検出信号を生成する位置検出信号生成手段と、位置検出信号を分周することにより、吐出信号を生成する吐出信号生成手段と、吐出信号をトリガとして、記憶された吐出パターンデータを転送する吐出パターンデータ転送手段と、転送された吐出パターンデータに基づいて各機能液滴吐出ヘッドを駆動するヘッド駆動手段と、を備えたことを特徴とする。
【０００８】
この構成によれば、機能液滴吐出ヘッド毎に吐出パターンデータを記憶し、吐出信号をトリガとしてこれを転送するため、機能液滴吐出ヘッドの数の増加によって機能液滴吐出ヘッドの移動速度（描画速度）に遅れを生じることがない。また、吐出信号は、複数の機能液滴吐出ヘッドが配設されたキャリッジを連続的に位置検出することによって得られる位置検出信号に基づいて生成されるため、キャリッジの移動速度の変化によって着弾位置がずれることがない。
【０００９】
この場合、機能液滴吐出ヘッドの移動領域内において、ワーク上に対する描画領域と非描画領域とを設定する描画領域設定工程を更に備え、吐出パターンデータ転送工程は、位置検出信号に基づいて、機能液滴吐出ヘッドが描画領域を移動中であるときに、吐出信号をトリガとして吐出パターンデータを転送することが好ましい。
【００１０】
また、この場合、機能液滴吐出ヘッドの移動領域内において、ワーク上に対する描画領域と非描画領域とを設定する描画領域設定手段を更に備え、吐出パターンデータ転送手段は、位置検出信号に基づいて、機能液滴吐出ヘッドが描画領域を移動中であるときに、吐出信号をトリガとして吐出パターンデータを転送することが好ましい。
【００１１】
この構成によれば、機能液滴吐出ヘッドが描画領域を移動中であるときに吐出パターンデータを転送するため、非描画領域を機能液滴吐出ヘッドが移動しているときに吐出パターンデータを転送することがない。したがって、描画領域を外れた機能液滴の吐出（オーバーヘッド）を容易に防止することができる。
【００１２】
この場合、各ノズルの駆動波形データを記憶する駆動波形データ記憶工程と、吐出信号をトリガとして、記憶された駆動波形データを転送する駆動波形データ転送工程と、を更に備え、ヘッド駆動工程は、転送された駆動波形データに基づいて各機能液滴吐出ヘッドを駆動することが好ましい。
【００１３】
また、この場合、各ノズルの駆動波形データを記憶する駆動波形データ記憶手段と、吐出信号をトリガとして、記憶された駆動波形データを転送する駆動波形データ転送手段と、を更に備え、ヘッド駆動手段は、転送された駆動波形データに基づいて各機能液滴吐出ヘッドを駆動することが好ましい。
【００１４】
この構成によれば、機能液滴吐出ヘッド毎に駆動波形データを記憶し、吐出信号をトリガとしてこれを転送するため、機能液滴吐出ヘッドの数の増加によって機能液滴吐出ヘッドの移動速度（描画速度）に遅れを生じることがない。また、吐出信号は、複数の機能液滴吐出ヘッドが配設されたキャリッジを連続的に位置検出することによって得られる位置検出信号に基づいて生成されるため、キャリッジの移動速度の変化によって着弾位置がずれることがない。さらに、キャリッジ単位で位置検出するため、各機能液滴吐出ヘッドへの駆動波形データの転送タイミングにずれが生じることなく、正確な着弾位置に機能液滴を着弾させることができる。
【００１５】
この場合、駆動波形データ転送工程は、位置検出信号に基づいて、機能液滴吐出ヘッドが描画領域を移動中であるときに、吐出信号をトリガとして駆動波形データを転送することが好ましい。
【００１６】
また、この場合、駆動波形データ転送手段は、位置検出信号に基づいて、機能液滴吐出ヘッドが描画領域を移動中であるときに、吐出信号をトリガとして駆動波形データを転送することが好ましい。
【００１７】
この構成によれば、機能液滴吐出ヘッドが描画領域を移動中であるときに駆動波形データを転送するため、非描画領域を機能液滴吐出ヘッドが移動しているときに駆動波形データを転送することがない。したがって、描画領域を外れた機能液滴の吐出（オーバーヘッド）を容易に防止することができる。
【００１８】
これらの場合、吐出パターンデータ転送工程は、１回のトリガによってノズル列に対応した１配列分の吐出パターンデータを転送し、駆動波形データ転送工程は、１配列分の吐出パターンデータの転送の後、当該１配列分の駆動波形データを転送することが好ましい。
【００１９】
また、これらの場合、吐出パターンデータ転送手段は、１回のトリガによってノズル列に対応した１配列分の吐出パターンデータを転送し、駆動波形データ転送手段は、１配列分の吐出パターンデータの転送の後、当該１配列分の駆動波形データを転送することが好ましい。
【００２０】
この構成によれば、１配列分の吐出パターンデータの転送の後、当該１配列分の駆動波形データを転送することで、転送のタイミングをずらすことができるため、吐出パターンデータと駆動波形データとのデータの重なりによる転送速度の遅れを防止することができる。したがって、機能液滴吐出ヘッドの移動速度（描画速度）に遅れが生じることがない。
【００２１】
この場合、吐出パターンデータ転送工程は、駆動波形データ転送工程により、ｎ配列目の駆動波形データが転送されているときに、平行して（ｎ＋１）配列目の吐出パターンデータを転送することが好ましい。
【００２２】
また、この場合、吐出パターンデータ転送手段は、駆動波形データ転送手段が、ｎ配列目の駆動波形データを転送しているときに、平行して（ｎ＋１）配列目の吐出パターンデータを転送することが好ましい。
【００２３】
この構成によれば、ｎ配列目の駆動波形データが転送されているときに、平行して（ｎ＋１）配列目の吐出パターンデータを転送するため、吐出パターンデータと駆動波形データとのデータの重なりによる転送速度の遅れを防止しつつ、全体として転送速度を早めることができる。すなわち、より描画速度を上げることができる。
【００２４】
これらの場合、機能液滴吐出ヘッドは、ピエゾ圧電素子を用いたピエゾ方式により機能液滴を吐出しており、ヘッド駆動工程は、駆動波形データに基づいて各ノズルのピエゾ圧電素子に電圧が印可されることにより、各機能液滴吐出ヘッドを駆動することが好ましい。
【００２５】
また、これらの場合、機能液滴吐出ヘッドは、ピエゾ圧電素子を用いたピエゾ方式により機能液滴を吐出しており、ヘッド駆動手段は、駆動波形データに基づいて各ノズルのピエゾ圧電素子に電圧が印可されることにより、各機能液滴吐出ヘッドを駆動することが好ましい。
【００２６】
この構成によれば、微少な機能液滴を高精度に吐出可能なピエゾ方式の機能液滴吐出ヘッドを使用することで、より機能液滴の着弾位置にずれを生じることなく描画することができる。
【００２７】
本発明の液晶表示装置の製造方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、カラーフィルタの基板上に多数のフィルタエレメントを形成する液晶表示装置の製造方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに各色のフィルタ材料を導入し、キャリッジを介して複数の機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、フィルタ材料を選択的に吐出して多数のフィルタエレメントを形成することを特徴とする。
【００２８】
本発明の有機ＥＬ装置の製造方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、基板上の多数の絵素ピクセルにそれぞれＥＬ発光層を形成する有機ＥＬ装置の製造方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに各色の発光材料を導入し、キャリッジを介して複数の機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、発光材料を選択的に吐出して多数のＥＬ発光層を形成することを特徴とする。
【００２９】
本発明の電子放出装置の製造方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、電極上に多数の蛍光体を形成する電子放出装置の製造方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに各色の蛍光材料を導入し、キャリッジを介して複数の機能液滴吐出ヘッドを電極に対し相対的に走査し、蛍光材料を選択的に吐出して多数の蛍光体を形成することを特徴とする。
【００３０】
本発明のＰＤＰ装置の製造方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、背面基板上の多数の凹部にそれぞれ蛍光体を形成するＰＤＰ装置の製造方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに各色の蛍光材料を導入し、キャリッジを介して複数の機能液滴吐出ヘッドを背面基板に対し相対的に走査し、蛍光材料を選択的に吐出して多数の蛍光体を形成することを特徴とする。
【００３１】
本発明の電気泳動表示装置の製造方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、電極上の多数の凹部に泳動体を形成する電気泳動表示装置の製造方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに各色の泳動体材料を導入し、キャリッジを介して複数の機能液滴吐出ヘッドを電極に対し相対的に走査し、泳動体材料を選択的に吐出して多数の泳動体を形成することを特徴とする。
【００３２】
このように、上記の機能液滴吐出装置を、液晶表示装置の製造方法、有機ＥＬ（Electro-Luminescence）装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、ＰＤＰ（Plasma Display Panel）装置の製造方法および電気泳動表示装置の製造方法に適用することにより、各装置に求められるフィルタ材料や発光材料等を、適切な位置に適切な量を選択的に供給することができる。なお、液滴吐出ヘッドの走査は、一般的には主走査および副走査となるが、いわゆる１ラインを単一の液滴吐出ヘッドで構成する場合には、副走査のみとなる。また、電子放出装置は、いわゆるＦＥＤ（Field Emission Display）装置を含む概念である。
【００３３】
本発明のカラーフィルタの製造方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、基板上に多数のフィルタエレメントを配列して成るカラーフィルタを製造するカラーフィルタの製造方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに各色のフィルタ材料を導入し、キャリッジを介して複数の機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、フィルタ材料を選択的に吐出して多数のフィルタエレメントを形成することを特徴とする。
この場合、多数のフィルタエレメントを被覆するオーバーコート膜が形成されており、フィルタエレメントを形成した後に、複数の機能液滴吐出ヘッドに透光性のコーティング材料を導入し、キャリッジを介して複数の機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、コーティング材料を選択的に吐出してオーバーコート膜を形成することが、好ましい。
【００３４】
本発明の有機ＥＬの製造方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、ＥＬ発光層を含む多数の絵素ピクセルを基板上に配列して成る有機ＥＬの製造方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに各色の発光材料を導入し、キャリッジを介して複数の機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、発光材料を選択的に吐出して多数のＥＬ発光層を形成することを特徴とする。
この場合、多数のＥＬ発光層と基板との間には、ＥＬ発光層に対応して多数の画素電極が形成されており、複数の機能液滴吐出ヘッドに液状電極材料を導入し、キャリッジを介して複数の機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、液状電極材料を選択的に吐出して多数の画素電極を形成することが、好ましい。この場合、多数のＥＬ発光層を覆うように対向電極が形成されており、ＥＬ発光層を形成した後に、複数の機能液滴吐出ヘッドに液状電極材料を導入し、キャリッジを介して複数の機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、液状電極材料を選択的に吐出して対向電極を形成することが、好ましい。
【００３５】
本発明のスペーサ形成方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、２枚の基板間に微小なセルギャップを構成すべく多数の粒子状のスペーサを形成するスペーサ形成方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドにスペーサを構成する粒子材料を導入し、キャリッジを介して複数の機能液滴吐出ヘッドを少なくとも一方の基板に対し相対的に走査し、粒子材料を選択的に吐出して基板上にスペーサを形成することを特徴とする。
【００３６】
本発明の金属配線形成方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、基板上に金属配線を形成する金属配線形成方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに液状金属材料を導入し、キャリッジを介して複数の機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、液状金属材料を選択的に吐出して金属配線を形成することを特徴とする。
【００３７】
本発明のレンズ形成方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、基板上に多数のマイクロレンズを形成するレンズ形成方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドにレンズ材料を導入し、キャリッジを介して複数の機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、レンズ材料を選択的に吐出して多数のマイクロレンズを形成することを特徴とする。
【００３８】
本発明のレジスト形成方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、基板上に任意形状のレジストを形成するレジスト形成方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドにレジスト材料を導入し、キャリッジを介して複数の機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、レジスト材料を選択的に吐出してレジストを形成することを特徴とする。
【００３９】
本発明の光拡散体形成方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、基板上に多数の光拡散体を形成する光拡散体形成方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに光拡散材料を導入し、キャリッジを介して複数の機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、光拡散材料を選択的に吐出して多数の光拡散体を形成することを特徴とする。
【００４０】
このように、上記の機能液滴吐出装置を、カラーフィルタの製造方法、有機ＥＬの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法に適用することにより、各電子デバイスや各光デバイスに求められるフィルタ材料や発光材料等を、適切な位置に適切な量を選択的に供給することができる。
【００４１】
【発明の実施の形態】
以下、添付の図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。本発明の描画装置を構成する機能液滴吐出装置は、その複数の機能液滴吐出ヘッドに列設されたノズル列から、微小な液滴をドット状に精度良く吐出することができることから、機能液に特殊なインクや感光性・発光性の樹脂等を用いることにより、各種部品の製造分野への応用が期待されている。
【００４２】
例えば、本実施形態の描画装置は、液晶表示装置や有機ＥＬ装置等の、いわゆるフラットディスプレイの製造装置に適用され、その複数の機能液滴吐出ヘッドからフィルタ材料や発光材料等の機能液を吐出して（インクジェット方式）、液晶表示装置におけるＲ（レッド）．Ｇ（グリーン）．Ｂ（ブルー）のフィルタエレメントや、有機ＥＬ装置における各画素のＥＬ発光層および正孔注入層を形成するものである。そこで、本実施形態では、液晶表示装置の製造装置等に組み込まれる描画装置を例に、その描画方法について説明する。
【００４３】
図１および図２に示すように、描画装置１を構成する機能液滴吐出装置１０は、Ｘ軸テーブル２３およびこれに直交するＹ軸テーブル２４と、Ｙ軸テーブル２４に設けたメインキャリッジ２５と、メインキャリッジ２５に搭載したヘッドユニット２６とを有している。詳細は後述するが、ヘッドユニット２６には、サブキャリッジ４１を介して、複数の機能液滴吐出ヘッド７が搭載されている。また、この複数の機能液滴吐出ヘッド７に対応して、Ｘ軸テーブル２３の吸着テーブル２８上に基板（ワーク）Ｗがセットされるようになっている。
【００４４】
本実施形態の機能液滴吐出装置１０では、機能液滴吐出ヘッド７の駆動（機能液滴の選択的吐出）に同期して基板Ｗが移動する構成であり、機能液滴吐出ヘッド７のいわゆる主走査は、Ｘ軸テーブル２３のＸ軸方向への往復の両動作により行われる。また、これに対応して、いわゆる副走査は、Ｙ軸テーブル２４により機能液滴吐出ヘッド７のＹ軸方向への往動動作により行われる。なお、上記の主走査をＸ軸方向への往動（または復動）動作のみで行うようにしてもよい。
【００４５】
ヘッドユニット２６は、サブキャリッジ４１と、サブキャリッジ４１に搭載した複数個（１２個）の機能液滴吐出ヘッド７とを備えている。１２個の機能液滴吐出ヘッド７は、６個づつ左右に二分され、主走査方向に対し所定の角度傾けて配設されている。なお、本実施形態の機能液滴吐出ヘッド７は、ピエゾ圧電効果を応用した精密ヘッドが使用され、微小液滴を着色層形成領域に選択的に吐出するものである。
【００４６】
また、各６個の機能液滴吐出ヘッド７は、副走査方向に対し相互に位置ずれして配設され、１２個の機能液滴吐出ヘッド７の全吐出ノズル３８が副走査方向において連続する（一部重複）ようになっている。すなわち、実施形態のヘッド配列は、サブキャリッジ４１上において、同一方向に傾けて配置した６個の機能液滴吐出ヘッド７を２列としている。このように、所定角度（副走査方向に対して角度θ）の傾斜状態で主走査を行うことにより、複数のノズルのノズル間ピッチを基板Ｗ上の画素ピッチに合わせることができる。また、各機能液滴吐出ヘッド７には、２本のノズル列３７，３７が相互に平行に列設されており、各ノズル列３７は、等ピッチで並べた１８０個（図示では模式的に表している）の吐出ノズル３８で構成されている。
【００４７】
もっとも、この配列パターンは一例であり、例えば、各ヘッド列における隣接する機能液滴吐出ヘッド７，７同士を９０°の角度を持って配置（隣接ヘッド同士が「ハ」字状）したり、各ヘッド列間における機能液滴吐出ヘッド７を９０°の角度を持って配置（列間ヘッド同士が「ハ」字状）したりすることは可能である。いずれにしても、１２個の機能液滴吐出ヘッド７の全吐出ノズル３８によるドットが副走査方向において連続していればよい。
【００４８】
また、各種の基板Ｗに対し機能液滴吐出ヘッド７を専用部品とすれば、機能液滴吐出ヘッド７をあえて傾けてセットする必要は無く、千鳥状や階段状に配設すれば足りる。さらにいえば、所定長さのノズル列３７（ドット列）を構成できる限り、これを単一の機能液滴吐出ヘッド７で構成してもよいし複数の機能液滴吐出ヘッド７で構成してもよい。すなわち、機能液滴吐出ヘッド７の個数や列数、さらに配列パターンは任意である。
【００４９】
ここで、描画装置１の一連の動作を簡単に説明する。先ず、準備段階として、作業に供する基板Ｗ用のヘッドユニット２６が機能液滴吐出装置１０に運び込まれ、これがメインキャリッジ２５にセットされる。ヘッドユニット２６がメインキャリッジ２５にセットされると、Ｙ軸テーブル２４がヘッドユニット２６を、図外のヘッド認識カメラの位置に移動させ、ヘッド認識カメラでヘッドアライメントマークを検出することにより、ヘッドユニット２６が位置認識される。ここで、この認識結果に基づいて、ヘッドユニット２６がθ補正され、且つヘッドユニット２６のＸ軸方向およびＹ軸方向の位置補正がデータ上で行われる。位置補正後、ヘッドユニット（メインキャリッジ２５）２６はホーム位置に戻る。
【００５０】
一方、Ｘ軸テーブル２３の吸着テーブル２８上に、マガジンから取り出した基板（この場合は、導入される基板毎）Ｗが導入されると、この位置（受渡し位置）で図外の基板認識カメラにより基板アライメントマークを検出することによって、基板Ｗを位置認識する。ここで、この認識結果に基づいて、基板Ｗがθ補正され、且つ基板ＷのＸ軸方向およびＹ軸方向の位置補正がデータ上で行われる。位置補正後、基板（吸着テーブル２８）Ｗはホーム位置に戻る。
【００５１】
このようにして準備が完了すると、実際の液滴吐出作業では、先ずＸ軸テーブル２３が駆動し、基板Ｗを主走査方向に往復動させると共に複数の機能液滴吐出ヘッド７を駆動して、機能液滴の基板Ｗへの選択的な吐出動作（画素Eの形成）が行われる。基板Ｗが復動した後、今度はＹ軸テーブル２４が駆動し、ヘッドユニット２６を１ピッチ分、副走査方向に移動させ、再度基板Ｗの主走査方向への往復移動と機能液滴吐出ヘッド７の駆動が行われる。そして、これを数回繰り返すことで、全チップ形成領域Ｃの描画が行われる。
【００５２】
以上により、チップ形成領域Ｃを構成するＲ．Ｇ．Ｂの３色のうちの例えばＲについての描画を終えると、基板Ｗを例えばＧの機能液滴を吐出する機能液滴吐出装置１０へ搬送してＧの描画を行う。そして、最終的にＢの機能液滴を吐出する機能液滴吐出装置１０へ搬送してＢの描画を行い、カラー描画された全チップ形成領域Ｃを個々に切り出すことにより、１のチップ形成領域Ｃを得ることができる。
【００５３】
一方、上記の動作に並行し、液滴吐出装置１０の機能液滴吐出ヘッド７には、エアー供給装置４２を圧力供給源として機能液供給装置４３から機能液が連続的に供給され、また吸着テーブル２８では、基板Ｗを吸着すべく、真空吸引装置１５によりエアー吸引が行われる。また、液滴吐出作業の直前には、ヘッドユニット２６が図外のクリーニングユニットおよびワイピングユニットに臨んで、機能液滴吐出ヘッド７の全吐出ノズル３８からの機能液吸引と、これに続くノズル形成面の拭取りが行われる。また、液滴吐出作業中には、適宜ヘッドユニット２６がフラッシングユニットに臨んで、フラッシングが行われる。
【００５４】
なお、本実施形態では、ヘッドユニット２６に対し、その吐出対象物である基板Ｗを主走査方向（Ｘ軸方向）に移動させるようにしているが、ヘッドユニット２６を主走査方向に移動させる構成であってもよい。また、ヘッドユニット２６を固定とし、基板Ｗを主走査方向および副走査方向に移動させる構成であってもよい。
【００５５】
次に、図３および図４を参照し、機能液滴吐出装置１０の制御構成について説明する。機能液滴吐出装置１０は、機能液滴吐出ヘッド７と、これを接続するためのヘッドインターフェース基板１１１とを有するヘッド部１１０と、波形・パターン記憶回路基板１２１と、これを接続するためのインターフェース基板１２２と、波形・パターン記憶回路基板１２１にトリガパルスを伝送するトリガ基板１２３とを有し、機能液滴吐出ヘッド７を駆動する駆動部１２０と、直流電源１３１を有し、波形・パターン記憶回路基板１２１に電源を供給する電源部１３０と、リニアスケール１４１を有し、メインキャリッジ２５（サブキャリッジ４１）を連続的に位置検出する送り検出部１４０と、装置全体を制御する第１ＰＣ１５１と、主に機能液滴吐出ヘッド７の駆動を制御する第２ＰＣ１５２とを有する制御部１５０と、により構成されている。
【００５６】
ヘッド部１１０の機能液滴吐出ヘッド７は、上記した構成であり、１ヘッド当たり１８０個のノズル列が２列使用されている。ヘッドインターフェース基板１１１は、波形・パターン記憶回路基板１２１から送信された信号を差動信号変換し、機能液滴吐出のためのピエゾ圧電素子１８４を駆動する駆動波形データおよび吐出パターンデータ（ビットマップデータ）を機能液滴吐出ヘッド７に送る。
【００５７】
駆動部１２０の波形・パターン記憶回路基板１２１は、（特に図４に示すように）吐出パターンデータ転送部１２４と、駆動波形データ転送部１２５とにより構成され、トリガ基板１２３からのトリガパルス（トリガ１信号）を受けて吐出パターンデータおよび駆動波形データを順次転送する。詳細については後述するが、トリガ基板１２３は、リニアスケール１４１からの信号に基づいて、吸着テーブル２８（基板Ｗ）に対するメインキャリッジ２５（サブキャリッジ４１）のＸ軸方向およびＹ軸方向の相対移動距離を連続的にカウントすることにより、トリガ１信号（吐出信号）を生成している。この吐出信号をトリガとして、波形・パターン記憶回路基板１２１は、予め第２ＰＣ１５２から送られ、吐出パターンデータ転送部１２４の吐出パターンメモリエリア１２７に格納していた吐出パターンデータをパラレルシリアル変換回路・カウンタ１２６を介してインターフェース基板１１１に転送する。なお、吐出パターンデータ転送部１２４と駆動波形データ転送部１２５は、物理的に一つの基板で構成されている。これにより、基板を安価で製造できると共に省スペースに配置することができる。
【００５８】
一方、パラレルシリアル変換回路・カウンタ１２６では、吐出パターンデータの転送をカウントし、ノズル列３７に対応する１配列分（ノズル１８０個分）のデータの転送を終えた後、トリガ２信号を駆動波形メモリエリア１２８に伝送する。駆動波形データ転送部１２５では、このトリガ２信号をトリガとして、駆動波形メモリエリア１２８から駆動波形データをアナログ回路ブロック１２９に送ってアナログ変換し、インターフェース基板１１１に転送する。また、波形・パターン記憶回路基板１２１は、電源部１３１の直流電源１３１より（ヘッド駆動用として）電源が供給される。
【００５９】
送り検出部１４０のリニアスケール１４１は、０．５μｍピッチでスキャンの送り（吸着テーブル２８、メインキャリッジ２５の移動）を検出し、位置検出信号をトリガ基板１２３に伝送する。また、制御部１５０の第２ＰＣ１５２は、第１ＰＣ１５１とＲＳ−２３２Ｃにより接続され、第１ＰＣ１５１からのコマンドを受けて機能液滴吐出ヘッド７の駆動結果等に関するデータを返信する。また、第２ＰＣ１５２は、吐出パターンデータおよび駆動波形データを生成し、これらのデータおよび転送制御信号をインターフェース基板１２２を介して波形・パターン記憶回路基板１２１に送ると共に、トリガ制御信号および吐出制御信号をトリガ基板１２３に送る。
【００６０】
次に、図５ないし図９を参照し、吐出パターンデータおよび駆動波形データの転送制御について、詳細に説明する。前述の通り、本発明では、リニアスケール１４１による位置検出に基づいて、各機能液滴吐出ヘッド７に吐出パターンデータおよび駆動波形データを転送するものである。図５の概略ブロック図に示すように、リニアスケール１４１による位置検出は、Ｘ軸方向（主走査方向）およびＹ軸方向（副走査方向）について行われる。Ｘ軸方向は、吸着テーブル２８のモーターおよびこれを駆動するドライバーを介して位置検出し、これをタイミングカウントすることによって位置検出信号を生成する。さらに、この位置検出信号をカウンター値メモリエリアに格納すると共に分周し、吐出信号（トリガ１信号）を生成する。
【００６１】
一方、Ｙ軸方向は、メインキャリッジ２５のモーターおよびこれを駆動するドライバーを介して位置検出し、これをタイミングカウントすることにより位置検出信号を生成する。但し、メインキャリッジ２５のＹ軸方向への移動中は吐出信号の生成は行われない（すなわち、機能液滴の吐出は行われない）。したがってこの場合、リニアスケール１４１では、Ｙ軸方向の位置検出を行わず、Ｘ軸方向の検出のみを行うように構成しても良い。この構成によれば、リニアスケール１４１の構成および検出制御を簡素化することができる。
【００６２】
生成された吐出信号は、吐出信号ブロック１７１からそれぞれトリガ１信号・トリガ２信号として吐出データ・駆動波形転送ブロック１７２に転送され、吐出パターンメモリエリア１２７および駆動波形メモリエリア１２８からのデータを機能液滴吐出ヘッド７に転送する。
【００６３】
ここで、位置検出信号に基づく、吐出パターンデータおよび駆動波形データの転送動作を図６のタイミングチャートを参照して説明する。まず、リニアスケール１４１による位置検出によって生成された位置検出信号をｎ倍（図示の例では１２倍）に分周することにより吐出信号（トリガ１信号）を生成する。そして、この吐出信号のたち下がりエッジをトリガとしてノズル列３７の１配列分（ノズル１８０個分）の吐出パターンデータ（例えば１８０ビット）の転送を行い、その後、トリガ２信号を生成する。すなわち、図示の例では、トリガ１信号の立ち上がり後、位置検出信号の１１回目の立ち上がりエッジの入力により、トリガ２信号のトリガが発生する。そして、そのトリガ２信号のたち下がりエッジをトリガとして駆動波形データを転送する。なお、駆動波形データの転送は、次のトリガ２信号のたち下がりエッジの入力までに終了されている。
【００６４】
以上の通り、図示点線部が、吐出パターンデータおよび駆動波形データの一連の転送動作となる。このように、ノズル列３７の１配列分の吐出パターンデータの転送の後、当該１配列分の駆動波形データを転送することで、転送のタイミングをずらすことができるため、データの重なりによる転送速度の遅れを防止することができる。したがって、（吐出パターンデータおよび駆動波形データの転送時間分の制約は受けるものの）吸着テーブル２８の移動速度（描画速度）に遅れが生じることがない。
【００６５】
また、これに平行して、駆動波形データの転送中に、トリガ１信号が入力されて、次のノズル列３７の吐出パターンデータが転送される。すなわち、ｎ配列目の駆動波形データが転送されているときに、平行して（ｎ＋１）配列目の吐出パターンデータが転送されることになる。そして、以上の転送動作を繰り返すことにより、順次吐出パターンデータおよび駆動波形データが転送されることになる。このように、駆動波形データの転送に平行して次配列の吐出パターンデータを転送することで、吐出パターンデータと駆動波形データとのデータの重なりによる転送速度の遅れを防止しつつ、全体として転送速度を早めることができる。すなわち、より描画速度を上げることができる。
【００６６】
ところで、本発明では、予め設定されたワークＷ上に対する描画領域（ワーク領域）外への機能液滴の吐出、すなわちオーバーヘッドを防止するため、描画領域に相当する描画領域信号を生成し、これと吐出間隔パルスとのアンド出力により、吐出信号を生成している。図７（ａ）に示すように、リニアスケール１４１の位置検出により生成された位置検出信号を分周することにより、吐出間隔パルスを生成する（吐出間隔用カウンタ１７６；同図（ｂ）参照）。一方、予め設定しておいた描画領域に関するデータを第２ＰＣ１５２から伝送し、これと位置検出信号により描画領域信号を生成する（描画領域用カウンタ１７５）。
【００６７】
そして、同図（ｂ）に示すように、これら吐出間隔パルスと描画領域信号とをアンド出力することによって、吐出信号を出力し、吐出信号ブロック１７１によりトリガ１信号、トリガ２信号が生成される。このように、吐出間隔パルスと描画領域信号とのアンド出力により、吐出パターンデータおよび駆動波形データを転送するため、非描画領域をメインキャリッジ２５（各機能液滴吐出ヘッド７）が移動しているときにこれらのデータを転送することがない。したがって、描画領域を外れた機能液滴の吐出（オーバーヘッド）を容易に防止することができる。なお、描画領域信号は、メインキャリッジ２５単位で（すなわち、全機能液滴吐出ヘッド７同一として）生成しても良いし、メインキャリッジ２５（サブキャリッジ４１）上の各ヘッド７の位置を考慮して、各全機能液滴吐出ヘッド７毎に異なる描画領域信号を生成しても良い。
【００６８】
以上の通り、全ての機能液滴吐出ヘッド７における吐出パターンデータおよび駆動波形データの転送制御は、全て第２ＰＣ１５２によって行われる（図５参照）。すなわち、図８に示すように、リニアスケール１４１による吸着テーブル２８およびメインキャリッジ２５の位置検出に基づき、吐出信号ブロック１７１にて生成されるトリガ１信号およびトリガ２信号は、各機能液滴吐出ヘッド７毎に備えられた吐出データ・駆動波形転送ブロック１７２（波形・パターン記憶回路基板１２１）を介して、各機能液滴吐出ヘッド７に転送される。
【００６９】
そして、図９に示すように、各吐出データ・駆動波形転送ブロック１７２では、パラレル変換された吐出パターンデータを、シフトレジスタ１８１により演算処理し、これをラッチ１８２で、トリガ２信号と同一のタイミングで出力されるラッチ信号によりラッチした後、ノズル３８毎に備えられたアナログスイッチ１８３をＯＮ・ＯＦＦする。すなわち、機能液滴を吐出するノズル３８はＯＮ状態（導通状態）となる。その後、アナログ変換された駆動波形データに基づき、ＯＮ状態のアナログスイッチ１８３を介してピエゾ圧電素子１８４への電圧印可を行う。このように、微少な機能液滴を高精度に吐出可能な（ピエゾ圧電素子１８４を用いた）ピエゾ方式の機能液滴吐出ヘッド７を使用することで、より着弾位置にずれを生じることなく描画することができる。
【００７０】
なお、シフトレジスタ１８１は、吐出パターンデータをラッチ１８２に送った後は、次の吐出パターンデータを受け取り可能な状態となる。したがって、駆動波形データの転送中であっても、次の吐出パターンデータを受け取ることができる（図６参照）。また、駆動波形データの転送は、次のトリガ２信号の入力までに終了されている。これにより、駆動波形データの転送中に、次の吐出パターンデータがラッチされることがないため、ノズル３８の吐出不良や損傷を防ぐことができる。
【００７１】
上述の通り、本発明の描画方法および描画装置によれば、機能液滴吐出ヘッド７毎に備えられた吐出データ・駆動波形転送ブロック１７２を介して、吐出パターンデータおよび駆動波形データを転送するため、機能液滴吐出ヘッド７の数によってメインキャリッジ２５の移動速度（描画速度）に制約を受けることがない。また、吐出信号は、複数の機能液滴吐出ヘッド７が配設されたメインキャリッジ２５（サブキャリッジ４１）を連続的に位置検出することによって得られる位置検出信号に基づいて生成されるため、メインキャリッジ２５の移動速度の変化によって着弾位置がずれることがない。さらに、これら複数の機能液滴吐出ヘッド７におけるデータの転送制御は、複数のパソコン（ＣＰＵ）ではなく全て第２ＰＣ１５２のみで行われているため、各ＣＰＵの処理速度の違いによる転送タイミングのずれを防止することができると共に、装置構成を簡素化することができる。
【００７２】
なお、上記の実施形態では、吐出パターンデータと駆動波形データとは、いずれも波形・パターン記憶回路基板１２１に記憶され、吐出信号をトリガとして順次転送されるものとしたが、それぞれ別の基板に記憶されるように構成しても良い。この構成によれば、各基板の回路を単純化することができる。
【００７３】
また、上記の実施形態では、ｎ配列目の駆動波形データを転送しているときに、平行して（ｎ＋１）配列目の吐出パターンデータを転送するものとしたが、ｎ配列目の駆動波形データを転送した後、（ｎ＋１）配列目の吐出パターンデータを転送するように構成しても良い。この構成によれば、描画速度は遅くなるものの、駆動波形データによるピエゾ圧電素子１８４への電圧印可中に次の吐出パターンデータが転送されるなどのトラブルの発生をより防止することができる。
【００７４】
また、上記の実施形態では、複数の機能液滴吐出ヘッド７を用いた場合を例に挙げたが、単一の機能液滴吐出ヘッド７を用いた場合にも、本発明が適用できることは言うまでもない。
【００７５】
ところで、本発明の描画装置１および機能液滴吐出装置１０は、前述の通り、各種フラットディスプレイの製造方法や、各種の電子デバイスおよび光デバイスの製造方法等にも適用可能である。そこで、この描画装置１および機能液滴吐出装置１０を用いた製造方法を、液晶表示装置の製造方法および有機ＥＬ装置の製造方法を例に、説明する。
【００７６】
図１０は、液晶表示装置のカラーフィルタの部分拡大図である。図１０（ａ）は平面図であり、図１０（ｂ）は図１０（ａ）のＢ−Ｂ´線断面図である。断面図各部のハッチングは一部省略している。
【００７７】
図１０（ａ）に示されるように、カラーフィルタ４００は、マトリクス状に並んだ画素（フィルタエレメント）４１２を備え、画素と画素の境目は、仕切り４１３によって区切られている。画素４１２の１つ１つには、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかのインク（フィルタ材料）が導入されている。この例では赤、緑、青の配置をいわゆるデルタ配列としたが、ストライプ配列、モザイク配列など、その他の配置でも構わない。
【００７８】
図１０（ｂ）に示されるように、カラーフィルタ４００は、透光性の基板４１１と、遮光性の仕切り４１３とを備えている。仕切り４１３が形成されていない（除去された）部分は、上記画素４１２を構成する。この画素４１２に導入された各色のインクは着色層４２１を構成する。仕切り４１３及び着色層４２１の上面には、オーバーコート層４２２及び電極層４２３が形成されている。
【００７９】
図１１は、本発明の実施形態によるカラーフィルタの製造方法を説明する製造工程断面図である。断面図各部のハッチングは一部省略している。
【００８０】
膜厚０．７ｍｍ、たて３８ｃｍ、横３０ｃｍの無アルカリガラスからなる透明基板４１１の表面を、熱濃硫酸に過酸化水素水を１重量％添加した洗浄液で洗浄し、純水でリンスした後、エア乾燥を行って清浄表面を得る。この表面に、スパッタ法によりクロム膜を平均０．２μｍの膜厚で形成し、金属層４１４´を得る（図１１：Ｓ１）。
【００８１】
この基板をホットプレート上で、８０℃で５分間乾燥させた後、金属層４１４´の表面に、スピンコートによりフォトレジスト層（図示せず）を形成する。この基板表面に、所要のマトリクスパターン形状を描画したマスクフィルムを密着させ、紫外線で露光をおこなう。次に、これを、水酸化カリウムを８重量％の割合で含むアルカリ現像液に浸漬して、未露光の部分のフォトレジストを除去し、レジスト層をパターニングする。続いて、露出した金属層を、塩酸を主成分とするエッチング液でエッチング除去する。このようにして所定のマトリクスパターンを有する遮光層（ブラックマトリクス）４１４を得ることができる（図１１：Ｓ２）。遮光層４１４の膜厚は、およそ０．２μｍである。また、遮光層４１４の幅は、およそ２２μｍである。
【００８２】
この基板上に、さらにネガ型の透明アクリル系の感光性樹脂組成物４１５´をやはりスピンコート法で塗布する（図１１：Ｓ３）。これを１００℃で２０分間プレベークした後、所定のマトリクスパターン形状を描画したマスクフィルムを用いて紫外線露光を行なう。未露光部分の樹脂を、やはりアルカリ性の現像液で現像し、純水でリンスした後スピン乾燥する。最終乾燥としてのアフターベークを２００℃で３０分間行い、樹脂部を十分硬化させることにより、バンク層４１５が形成され、遮光層４１４及びバンク層４１５からなる仕切り４１３が形成される（図１１：Ｓ４）。このバンク層４１５の膜厚は、平均で２．７μｍである。また、バンク層４１５の幅は、およそ１４μｍである。
【００８３】
得られた遮光層４１４およびバンク層４１５で区画された着色層形成領域（特にガラス基板４１１の露出面）のインク濡れ性を改善するため、ドライエッチング、すなわちプラズマ処理を行なう。具体的には、ヘリウムに酸素を２０％加えた混合ガスに高電圧を印加し、プラズマ雰囲気でエッチングスポットに形成し、基板を、このエッチングスポット下を通過させてエッチングする。
【００８４】
次に、仕切り４１３で区切られて形成された画素４１２内に、上記Ｒ、Ｇ、Ｂの各インクをインクジェット方式により導入する（図１１：Ｓ５）。機能液滴吐出ヘッド７（インクジェットヘッド）には、ピエゾ圧電効果を応用した精密ヘッドを使用し、微小インク滴を着色層形成領域毎に１０滴、選択的に飛ばす。駆動周波数は１４．４ｋＨｚ、すなわち、各インク滴の吐出間隔は６９．５μ秒に設定する。ヘッドとターゲットとの距離は、０．３ｍｍに設定する。ヘッドよりターゲットである着色層形成領域への飛翔速度、飛行曲がり、サテライトと称される分裂迷走滴の発生防止のためには、インクの物性はもとよりヘッドのピエゾ圧電素子１８４を駆動する波形（電圧を含む）が重要である。従って、あらかじめ条件設定された波形をプログラムして、赤、緑、青の３色を同時に塗布することにより所定の配色パターンにインクを塗布する。
【００８５】
インク（フィルタ材料）としては、例えばポリウレタン樹脂オリゴマーに無機顔料を分散させた後、低沸点溶剤としてシクロヘキサノンおよび酢酸ブチルを、高沸点溶剤としてブチルカルビトールアセテートを加え、さらに非イオン系界面活性剤０．０１重量％を分散剤として添加し、粘度６〜８センチポアズとしたものを用いる。
【００８６】
次に、塗布したインクを乾燥させる。まず、自然雰囲気中で３時間放置してインク層４１６のセッティングを行った後、８０℃のホットプレート上で４０分間加熱し、最後にオーブン中で２００℃で３０分間加熱してインク層４１６の硬化処理を行って、着色層４２１が得られる（図１１：Ｓ６）。
【００８７】
上記基板に、透明アクリル樹脂塗料をスピンコートして平滑面を有するオーバーコート層４２２を形成する。さらに、この上面にＩＴＯ（Indium Tin Oxide）からなる電極層４２３を所要パターンで形成して、カラーフィルタ４００とする（図１１：Ｓ７）。なお、このオーバーコート層４２２を、機能液滴吐出ヘッド７（インクジェットヘッド）によるインクジェット方式で、形成するようにしてもよい。
【００８８】
図１２は、本発明の製造方法により製造される電気光学装置（フラットディスプレイ）の一例であるカラー液晶表示装置の断面図である。断面図各部のハッチングは一部省略している。
【００８９】
このカラー液晶表示装置４５０は、カラーフィルタ４００と対向基板４６６とを組み合わせ、両者の間に液晶組成物４６５を封入することにより製造される。液晶表示装置４５０の一方の基板４６６の内側の面には、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）素子（図示せず）と画素電極４６３とがマトリクス状に形成されている。また、もう一方の基板として、画素電極４６３に対向する位置に赤、緑、青の着色層４２１が配列するようにカラーフィルタ４００が設置されている。
【００９０】
基板４６６とカラーフィルタ４００の対向するそれぞれの面には、配向膜４６１、４６４が形成されている。これらの配向膜４６１、４６４はラビング処理されており、液晶分子を一定方向に配列させることができる。また、基板４６６およびカラーフィルタ４００の外側の面には、偏光板４６２、４６７がそれぞれ接着されている。また、バックライトとしては蛍光灯（図示せず）と散乱板の組合わせが一般的に用いられており、液晶組成物４６５をバックライト光の透過率を変化させる光シャッターとして機能させることにより表示を行う。
【００９１】
なお、電気光学装置は、本発明では上記のカラー液晶表示装置に限定されず、例えば薄型のブラウン管、あるいは液晶シャッター等を用いた小型テレビ、ＥＬ表示装置、プラズマディスプレイ、ＣＲＴディスプレイ、ＦＥＤ（Field Emission Display）パネル等の種々の電気光学手段を用いることができる。
【００９２】
次に、図１３ないし図２５を参照して、有機ＥＬ装置（有機ＥＬ表示装置）とその製造方法を説明する。
【００９３】
図１３ないし図２５は、有機ＥＬ素子を含む有機ＥＬ装置の製造プロセスと共にその構造を表している。この製造プロセスは、バンク部形成工程と、プラズマ処理工程と、正孔注入／輸送層形成工程及び発光層形成工程からなる発光素子形成工程と、対向電極形成工程と、封止工程とを具備して構成されている。
【００９４】
バンク部形成工程では、基板５０１に予め形成した回路素子部５０２上及び電極５１１（画素電極ともいう）上の所定の位置に、無機物バンク層５１２ａと有機物バンク層５１２ｂを積層することにより、開口部５１２ｇを有するバンク部５１２を形成する。このように、バンク部形成工程には、電極５１１の一部に、無機物バンク層５１２ａを形成する工程と、無機物バンク層の上に有機物バンク層５１２ｂを形成する工程が含まれる。
【００９５】
まず無機物バンク層５１２ａを形成する工程では、図１３に示すように、回路素子部５０２の第２層間絶縁膜５４４ｂ上及び画素電極５１１上に、無機物バンク層５１２ａを形成する。無機物バンク層５１２ａを、例えばＣＶＤ法、コート法、スパッタ法、蒸着法等によって第２層間絶縁膜５４４ｂ及び画素電極５１１の全面にＳｉＯ2、ＴｉＯ2等の無機物膜を形成する。
【００９６】
次にこの無機物膜をエッチング等によりパターニングして、電極５１１の電極面５１１ａの形成位置に対応する下部開口部５１２ｃを設ける。このとき、無機物バンク層５１２ａを電極５１１の周縁部と重なるように形成しておく必要がある。このように、電極５１１の周縁部（一部）と無機物バンク層５１２ａとが重なるように無機物バンク層５１２ａを形成することにより、発光層５１０ｂの発光領域を制御することができる。
【００９７】
次に有機物バンク層５１２ｂを形成する工程では、図１４に示すように、無機物バンク層５１２ａ上に有機物バンク層５１２ｂを形成する。有機物バンク層５１２ｂをフォトリソグラフィ技術等によりエッチングして、有機物バンク層５１２ｂの上部開口部５１２ｄを形成する。上部開口部５１２ｄは、電極面５１１ａ及び下部開口部５１２ｃに対応する位置に設けられる。
【００９８】
上部開口部５１２ｄは、図１４に示すように、下部開口部５１２ｃより広く、電極面５１１ａより狭く形成することが好ましい。これにより、無機物バンク層５１２ａの下部開口部５１２ｃを囲む第１積層部５１２ｅが、有機物バンク層５１２ｂよりも電極５１１の中央側に延出された形になる。このようにして、上部開口部５１２ｄ、下部開口部５１２ｃを連通させることにより、無機物バンク層５１２ａ及び有機物バンク層５１２ｂを貫通する開口部５１２ｇが形成される。
【００９９】
次にプラズマ処理工程では、バンク部５１２の表面と画素電極の表面５１１ａに、親インク性を示す領域と、撥インク性を示す領域を形成する。このプラズマ処理工程は、予備加熱工程と、バンク部５１２の上面（５１２ｆ）及び開口部５１２ｇの壁面並びに画素電極５１１の電極面５１１ａを親インク性を有するように加工する親インク化工程と、有機物バンク層５１２ｂの上面５１２ｆ及び上部開口部５１２ｄの壁面を、撥インク性を有するように加工する撥インク化工程と、冷却工程とに大別される。
【０１００】
まず、予備加熱工程では、バンク部５１２を含む基板５０１を所定の温度まで加熱する。加熱は、例えば基板５０１を載せるステージにヒータを取り付け、このヒータで当該ステージごと基板５０１を加熱することにより行う。具体的には、基板５０１の予備加熱温度を、例えば７０〜８０℃の範囲とすることが好ましい。
【０１０１】
次に、親インク化工程では、大気雰囲気中で酸素を処理ガスとするプラズマ処理（Ｏ2プラズマ処理）を行う。このＯ2プラズマ処理により、図１５に示すように、画素電極５１１の電極面５１１ａ、無機物バンク層５１２ａの第１積層部５１２ｅ及び有機物バンク層５１２ｂの上部開口部５１２ｄの壁面ならびに上面５１２ｆが親インク処理される。この親インク処理により、これらの各面に水酸基が導入されて親インク性が付与される。図１５では、親インク処理された部分を二点鎖線で示している。
【０１０２】
次に、撥インク化工程では、大気雰囲気中で４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理（ＣＦ4プラズマ処理）を行う。ＣＦ4プラズマ処理により、図１６に示すように、上部開口部５１２ｄ壁面及び有機物バンク層の上面５１２ｆが撥インク処理される。この撥インク処理により、これらの各面にフッ素基が導入されて撥インク性が付与される。図１６では、撥インク性を示す領域を二点鎖線で示している。
【０１０３】
次に、冷却工程では、プラズマ処理のために加熱された基板５０１を室温、またはインクジェット工程（機能液滴吐出工程）の管理温度まで冷却する。プラズマ処理後の基板５０１を室温、または所定の温度（例えばインクジェット工程を行う管理温度）まで冷却することにより、次の正孔注入／輸送層形成工程を一定の温度で行うことができる。
【０１０４】
次に、発光素子形成工程では、画素電極５１１上に正孔注入／輸送層及び発光層を形成することにより発光素子を形成する。発光素子形成工程には、４つの工程が含まれる。即ち、正孔注入／輸送層を形成するための第１組成物を各画素電極上に吐出する第１機能液滴吐出工程と、吐出された第１組成物を乾燥させて画素電極上に正孔注入／輸送層を形成する正孔注入／輸送層形成工程と、発光層を形成するための第２組成物を正孔注入／輸送層の上に吐出する第２機能液滴吐出工程と、吐出された第２組成物を乾燥させて正孔注入／輸送層上に発光層を形成する発光層形成工程とが含まれる。
【０１０５】
まず、第１機能液滴吐出工程では、インクジェット法（機能液滴吐出法）により、正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を電極面５１１ａ上に吐出する。なお、この第１機能液滴吐出工程以降は、水、酸素の無い窒素雰囲気、アルゴン雰囲気等の不活性ガス雰囲気で行うことが好ましい。（なお、画素電極上にのみ正孔注入／輸送層を形成する場合は、有機物バンク層に隣接して形成される正孔注入／輸送層は形成されない）
【０１０６】
図１７に示すように、インクジェットヘッド（機能液滴吐出ヘッド７）Ｈに正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を充填し、インクジェットヘッドＨの吐出ノズルを下部開口部５１２ｃ内に位置する電極面５１１ａに対向させ、インクジェットヘッドＨと基板５０１とを相対移動させながら、吐出ノズルから１滴当たりの液量が制御された第１組成物滴５１０ｃを電極面５１１ａ上に吐出する。
【０１０７】
ここで用いる第１組成物としては、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン(PEDOT)等のポリチオフェン誘導体とポリスチレンスルホン酸(PSS)等の混合物を、極性溶媒に溶解させた組成物を用いることができる。極性溶媒としては、例えば、イソプロピルアルコール(IPA)、ノルマルブタノール、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチルピロリドン(NMP)、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン(DMI)及びその誘導体、カルビト−ルアセテート、ブチルカルビト−ルアセテート等のグリコールエーテル類等を挙げることができる。なお、正孔注入／輸送層形成材料は、Ｒ・Ｇ・Ｂの各発光層５１０ｂに対して同じ材料を用いても良く、発光層毎に変えても良い。
【０１０８】
図１７に示すように、吐出された第１組成物滴５１０ｃは、親インク処理された電極面５１１ａ及び第１積層部５１２ｅ上に広がり、下部、上部開口部５１２ｃ、５１２ｄ内に満たされる。電極面５１１ａ上に吐出する第１組成物量は、下部、上部開口部５１２ｃ、５１２ｄの大きさ、形成しようとする正孔注入／輸送層の厚さ、第１組成物中の正孔注入／輸送層形成材料の濃度等により決定される。また、第１組成物滴５１０ｃは１回のみならず、数回に分けて同一の電極面５１１ａ上に吐出しても良い。
【０１０９】
次に正孔注入／輸送層形成工程では、図１８に示すように、吐出後の第１組成物を乾燥処理及び熱処理して第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させることにより、電極面５１１ａ上に正孔注入／輸送層５１０ａを形成する。乾燥処理を行うと、第１組成物滴５１０ｃに含まれる極性溶媒の蒸発が、主に無機物バンク層５１２ａ及び有機物バンク層５１２ｂに近いところで起き、極性溶媒の蒸発に併せて正孔注入／輸送層形成材料が濃縮されて析出する。
【０１１０】
これにより図１８に示すように、乾燥処理によって電極面５１１ａ上でも極性溶媒の蒸発が起き、これにより電極面５１１ａ上に正孔注入／輸送層形成材料からなる平坦部５１０ａが形成される。電極面５１１ａ上では極性溶媒の蒸発速度がほぼ均一であるため、正孔注入／輸送層の形成材料が電極面５１１ａ上で均一に濃縮され、これにより均一な厚さの平坦部５１０ａが形成される。
【０１１１】
次に第２機能液滴吐出工程では、インクジェット法（機能液滴吐出法）により、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出する。この第２機能液滴吐出工程では、正孔注入／輸送層５１０ａの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第２組成物の溶媒として、正孔注入／輸送層５１０ａに対して不溶な非極性溶媒を用いる。
【０１１２】
しかしその一方で正孔注入／輸送層５１０ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出しても、正孔注入／輸送層５１０ａと発光層５１０ｂとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層５１０ｂを均一に塗布できないおそれがある。そこで、非極性溶媒ならびに発光層形成材料に対する正孔注入／輸送層５１０ａの表面の親和性を高めるために、発光層を形成する前に表面改質工程を行うことが好ましい。
【０１１３】
そこでまず、表面改質工程について説明する。表面改質工程は、発光層形成の際に用いる第１組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒である表面改質用溶媒を、インクジェット法（機能液滴吐出法）、スピンコート法またはディップ法により正孔注入／輸送層５１０ａ上に塗布した後に乾燥することにより行う。
【０１１４】
例えば、インクジェット法による塗布は、図１９に示すように、インクジェットヘッドＨに、表面改質用溶媒を充填し、インクジェットヘッドＨの吐出ノズルを基板（すなわち、正孔注入／輸送層５１０ａが形成された基板）に対向させ、インクジェットヘッドＨと基板５０１とを相対移動させながら、吐出ノズルＨから表面改質用溶媒５１０ｄを正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出することにより行う。そして、図２０に示すように、表面改質用溶媒５１０ｄを乾燥させる。
【０１１５】
次に第２機能液滴吐出工程では、インクジェット法（機能液滴吐出法）により、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出する。図２１に示すように、インクジェットヘッドＨに、青色（Ｂ）発光層形成材料を含有する第２組成物を充填し、インクジェットヘッドＨの吐出ノズルを下部、上部開口部５１２ｃ、５１２ｄ内に位置する正孔注入／輸送層５１０ａに対向させ、インクジェットヘッドＨと基板５０１とを相対移動させながら、吐出ノズルから１滴当たりの液量が制御された第２組成物滴５１０ｅとして吐出し、この第２組成物滴５１０ｅを正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出する。
【０１１６】
発光層形成材料としては、ポリフルオレン系高分子誘導体や、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリチオフェン誘導体、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素、あるいは上記高分子に有機ＥＬ材料をドープして用いる事ができる。例えば、ルブレン、ペリレン、９，１０-ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等をドープすることにより用いることができる。
【０１１７】
非極性溶媒としては、正孔注入／輸送層５１０ａに対して不溶なものが好ましく、例えば、シクロへキシルベンゼン、ジハイドロベンゾフラン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン等を用いることができる。このような非極性溶媒を発光層５１０ｂの第２組成物に用いることにより、正孔注入／輸送層５１０ａを再溶解させることなく第２組成物を塗布できる。
【０１１８】
図２１に示すように、吐出された第２組成物５１０ｅは、正孔注入／輸送層５１０ａ上に広がって下部、上部開口部５１２ｃ、５１２ｄ内に満たされる。第２組成物５１０ｅは１回のみならず、数回に分けて同一の正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出しても良い。この場合、各回における第２組成物の量は同一でも良く、各回毎に第２組成物量を変えても良い。
【０１１９】
次に発光層形成工程では、第２組成物を吐出した後に乾燥処理及び熱処理を施して、正孔注入／輸送層５１０ａ上に発光層５１０ｂを形成する。乾燥処理は、吐出後の第２組成物を乾燥処理することにより第２組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発して、図２２に示すような青色（Ｂ）発光層５１０ｂを形成する。
【０１２０】
続けて、図２３に示すように、青色（Ｂ）発光層５１０ｂの場合と同様にして、赤色（Ｒ）発光層５１０ｂを形成し、最後に緑色（Ｇ）発光層５１０ｂを形成する。なお、発光層５１０ｂの形成順序は、前述の順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決める事も可能である。
【０１２１】
次に対向電極形成工程では、図２４に示すように、発光層５１０ｂ及び有機物バンク層５１２ｂの全面に陰極５０３（対向電極）を形成する。なお，陰極５０３は複数の材料を積層して形成しても良い。例えば、発光層に近い側には仕事関数が小さい材料を形成することが好ましく、例えばＣａ、Ｂａ等を用いることが可能であり、また材料によっては下層にＬｉＦ等を薄く形成した方が良い場合もある。また、上部側（封止側）には下部側よりも仕事関数が高いものが好ましい。これらの陰極（陰極層）５０３は、例えば蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等で形成することが好ましく、特に蒸着法で形成することが、発光層５１０ｂの熱による損傷を防止できる点で好ましい。
【０１２２】
また、フッ化リチウムは、発光層５１０ｂ上のみに形成しても良く、更に青色（Ｂ）発光層５１０ｂ上のみに形成しても良い。この場合、他の赤色（Ｒ）発光層及び緑色（Ｇ）発光層５１０ｂ、５１０ｂには、ＬｉＦからなる上部陰極層５０３ｂが接することとなる。また陰極１２の上部には、蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等により形成したＡｌ膜、Ａｇ膜等を用いることが好ましい。また、陰極５０３上に、酸化防止のためにＳｉＯ2、ＳｉＮ等の保護層を設けても良い。
【０１２３】
最後に、図２５に示す封止工程では、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰囲気中で、有機ＥＬ素子５０４上に封止用基板５０５を積層する。封止工程は、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰囲気で行うことが好ましい。大気中で行うと、陰極５０３にピンホール等の欠陥が生じていた場合にこの欠陥部分から水や酸素等が陰極５０３に侵入して陰極５０３が酸化されるおそれがあるので好ましくない。そして最後に、フレキシブル基板の配線に陰極５０３を接続するとともに、駆動ＩＣに回路素子部５０２の配線を接続することにより、本実施形態の有機ＥＬ装置５００が得られる。
【０１２４】
なお、画素電極５１１および陰極（対向電極）５０３の形成において、インクジェットヘッドＨによるインクジェット方式を採用してもよい。すなわち、液体の電極材料をインクジェットヘッドＨにそれぞれ導入し、これをインクジェットヘッドＨから吐出して、画素電極５１１および陰極５０３をそれぞれ形成する（乾燥工程を含む）。
【０１２５】
同様に、本実施形態の機能液滴吐出装置１０は、電子放出装置の製造方法、ＰＤＰ装置の製造方法および電気泳動表示装置の製造方法等に、適用することができる。
【０１２６】
電子放出装置の製造方法では、複数の機能液滴吐出ヘッド７にＲ、Ｇ、Ｂ各色の蛍光材料を導入し、複数の機能液滴吐出ヘッド７を主走査および副走査し、蛍光材料を選択的に吐出して、電極上に多数の蛍光体を形成する。なお、電子放出装置は、ＦＥＤ（電界放出ディスプレイ）を含む上位の概念である。
【０１２７】
ＰＤＰ装置の製造方法では、複数の機能液滴吐出ヘッド７にＲ、Ｇ、Ｂ各色の蛍光材料を導入し、複数の機能液滴吐出ヘッド７を主走査および副走査し、蛍光材料を選択的に吐出して、背面基板上の多数の凹部にそれぞれ蛍光体を形成する。
【０１２８】
電気泳動表示装置の製造方法では、複数の機能液滴吐出ヘッド７に各色の泳動体材料を導入し、複数の機能液滴吐出ヘッド７を主走査および副走査し、インク材料を選択的に吐出して、電極上の多数の凹部にそれぞれ泳動体を形成する。なお、帯電粒子と染料とから成る泳動体は、マイクロカプセルに封入されていることが、好ましい。
【０１２９】
一方、本実施形態の機能液滴吐出装置１０は、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法等にも、適用可能である。
【０１３０】
スペーサ形成方法は、２枚の基板間に微小なセルギャップを構成すべく多数の粒子状のスペーサを形成するものであり、複数の機能液滴吐出ヘッド７にスペーサを構成する粒子材料を導入し、複数の機能液滴吐出ヘッド７を主走査および副走査し、粒子材料を選択的に吐出して少なくとも一方の基板上にスペーサを形成する。例えば、上記の液晶表示装置や電気泳動表示装置における２枚の基板間のセルギャップを構成する場合に有用であり、その他この種の微小なギャップを必要とする半導体製造技術に適用できることはいうまでもない。
【０１３１】
金属配線形成方法では、複数の機能液滴吐出ヘッド７に液状金属材料を導入し、複数の機能液滴吐出ヘッド７を主走査および副走査し、液状金属材料を選択的に吐出して、基板上に金属配線を形成する。例えば、上記の液晶表示装置におけるドライバと各電極とを接続する金属配線や、上記の有機ＥＬ装置におけるＴＦＴ等と各電極とを接続する金属配線に適用することができる。また、この種のフラットディスプレイの他、一般的な半導体製造技術に適用できることはいうまでもない。
【０１３２】
レンズ形成方法では、複数の機能液滴吐出ヘッド７にレンズ材料を導入し、複数の機能液滴吐出ヘッド７を主走査および副走査し、レンズ材料を選択的に吐出して、透明基板上に多数のマイクロレンズを形成する。例えば、上記のＦＥＤ装置におけるビーム収束用のデバイスとして適用可能である。また、各種の光デバイスに適用可能であることはいうまでもない。
【０１３３】
レジスト形成方法では、複数の機能液滴吐出ヘッド７にレジスト材料を導入し複数の機能液滴吐出ヘッド７を主走査および副走査し、レジスト材料を選択的に吐出して、基板上に任意形状のフォトレジストを形成する。例えば、上記の各種表示装置おけるバンクの形成は元より、半導体製造技術の主体を為すフォトリソグラフィー法において、フォトレジストの塗布に広く適用可能である。
【０１３４】
光拡散体形成方法では、基板上に多数の光拡散体を形成する光拡散体形成方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッド７に光拡散材料を導入し、複数の機能液滴吐出ヘッド７を主走査および副走査し、光拡散材料を選択的に吐出して多数の光拡散体を形成する。この場合も、各種の光デバイスに適用可能であることはいうまでもない。
【０１３５】
【発明の効果】
以上のように、本発明の描画方法および描画装置によれば、機能液滴吐出ヘッド毎に記憶された吐出パターンデータおよび駆動波形データを順次転送するため、機能液滴吐出ヘッドの数によって描画速度に制約を受けることがない。また、吐出信号は、複数の機能液滴吐出ヘッドが配設されたキャリッジを連続的に位置検出することによって得られる位置検出信号に基づいて生成されるため、キャリッジの移動速度の変化によって着弾位置がずれることがない。
【０１３６】
一方、本発明の液晶表示装置の製造方法、有機ＥＬ装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、ＰＤＰ装置の製造方法および電気泳動表示装置の製造方法によれば、各装置におけるフィルタ材料や発光材料等に適した機能液滴吐出ヘッドを簡単に導入することができるため、製造効率を向上させることができる。
【０１３７】
また、本発明のカラーフィルタの製造方法、有機ＥＬの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法によれば、各電子デバイスや各光デバイスにおけるフィルタ材料や発光材料等に適した機能液滴吐出ヘッドを簡単に導入することができため、製造効率を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 実施形態に係る描画装置の模式図である。
【図２】 実施形態に係る機能液滴吐出ヘッドと基板の模式図である。
【図３】 実施形態に係る機能液滴吐出装置の制御系のブロック図である。
【図４】 波形・パターン記憶回路基板を詳細に示した制御系のブロック図である。
【図５】 実施形態に係るデータの転送制御を概略的に示した概略ブロック図である。
【図６】 実施形態に係るデータの転送動作を示すタイミングチャートである。
【図７】 実施形態に係る描画領域信号の生成制御を概略的に示した概略ブロック図並びにタイミングチャートである。
【図８】 実施形態に係る複数の機能液滴吐出ヘッドへのデータの転送制御を概略的に示した概略ブロック図である。
【図９】 実施形態に係る吐出データ・駆動波形転送ブロックを示す模式図である。
【図１０】 実施形態のカラーフィルタの製造方法により製造されるカラーフィルタの部分拡大図である。
【図１１】 実施形態のカラーフィルタの製造方法を模式的に示す製造工程断面図である。
【図１２】 実施形態のカラーフィルタの製造方法により製造される液晶表示装置の断面図である。
【図１３】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法におけるバンク部形成工程（無機物バンク）の断面図である。
【図１４】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法におけるバンク部形成工程（有機物バンク）の断面図である。
【図１５】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法におけるプラズマ処理工程（親水化処理）の断面図である。
【図１６】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法におけるプラズマ処理工程（撥水化処理）の断面図である。
【図１７】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法における正孔注入層形成工程（機能液滴吐出）の断面図である。
【図１８】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法における正孔注入層形成工程（乾燥）の断面図である。
【図１９】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法における表面改質工程（機能液滴吐出）の断面図である。
【図２０】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法における表面改質工程（乾燥）の断面図である。
【図２１】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法におけるＢ発光層形成工程（機能液滴吐出）の断面図である。
【図２２】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法におけるＢ発光層形成工程（乾燥）の断面図である。
【図２３】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法におけるＲ・Ｇ・Ｂ発光層形成工程の断面図である。
【図２４】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法における対向電極形成工程の断面図である。
【図２５】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法における封止工程の断面図である。
【符号の説明】
１ 描画装置 ７ 機能液滴吐出ヘッド
１０ 機能液滴吐出装置 １５ 真空吸引装置
２３ Ｘ軸テーブル ２４ Ｙ軸テーブル
２５ メインキャリッジ ２６ ヘッドユニット
２８ 吸着テーブル ３７ ノズル列
３８ ノズル ４１ サブキャリッジ
４２ エアー供給装置 ４３ 機能液供給装置
１１０ ヘッド部 １２０ 駆動部
１２１ 波形・パターン記憶回路基板 １２３ トリガ基板
１２４ 吐出パターンデータ転送部 １２５ 駆動波形データ転送部
１３０ 電源部 １４０ 送り検出部
１４１ リニアスケール １５０ 制御部
１５２ 第２ＰＣ １７１ 吐出信号ブロック
１７２ 吐出データ・駆動波形転送ブロック
１７５ 描画領域用カウンタ １７６ 吐出間隔用カウンタ
１８１ シフトレジスタ １８２ ラッチ
１８３ アナログスイッチ １８４ ピエゾ圧電素子
４００ カラーフィルタ ４１２ 画素
４１５ バンク層 ４１６ インク層
４２２ オーバーコート層 ４６６ 基板
５００ 有機ＥＬ装置 ５０１ 基板
５０２ 回路素子部 ５０４ 有機ＥＬ素子
５１０ａ 正孔注入／輸送層 ５１０ｂ 発光層
Ｃ チップ形成領域 Ｗ 基板
Claims (4)
- キャリッジに配設された複数の機能液滴吐出ヘッドを使用し、各機能液滴吐出ヘッドに列設されたノズル列から機能液滴を選択的に吐出することによりワーク上に描画を行う描画装置であって、
移動する前記キャリッジの位置検出信号に基づいて、吐出信号を生成する吐出信号生成手段と、
前記吐出信号をトリガとして、前記ノズル列に対応する１配列分の吐出パターンデータと、当該１配列分の駆動波形データと、を転送する吐出データ・駆動波形データ転送手段と、
転送された前記吐出パターンデータおよび前記駆動波形データに基づいて各機能液滴吐出ヘッドを駆動するヘッド駆動手段と、を備え、
前記吐出データ・駆動波形データ転送手段は、
転送された前記吐出パターンデータを格納するシフトレジスタと、
前記駆動波形データの転送時に、前記シフトレジスタに格納されている前記吐出パターンデータをラッチするラッチと、
前記ラッチの出力と、転送された前記駆動波形データとに基づいて、前記各ノズルに電圧印可するスイッチと、を有し、
前記ｎ配列目の駆動波形データが前記スイッチに転送されているときに、平行して（ｎ＋１）配列目の前記吐出パターンデータを前記シフトレジスタに転送することを特徴とする描画装置。 - 前記機能液滴吐出ヘッドの移動領域内において、前記ワーク上に対する描画領域と非描画領域とを設定する描画領域設定手段を更に備え、
前記吐出データ・駆動波形データ転送手段は、前記位置検出信号に基づいて、前記機能液滴吐出ヘッドが前記描画領域を移動中であるときに、前記吐出信号をトリガとして前記吐出パターンデータおよび前記駆動波形データを転送することを特徴とする請求項１に記載の描画装置。 - キャリッジに配設された複数の機能液滴吐出ヘッドを使用し、各機能液滴吐出ヘッドに列設されたノズル列から機能液滴を選択的に吐出することによりワーク上に描画を行う描画方法であって、
移動する前記キャリッジの位置検出信号に基づいて、吐出信号を生成する吐出信号生成工程と、
前記吐出信号をトリガとして、前記ノズル列に対応する１配列分の吐出パターンデータと、当該１配列分の駆動波形データとを、吐出データ・駆動波形転送ブロックを介して転送する吐出データ・駆動波形データ転送工程と、
転送された前記吐出パターンデータおよび前記駆動波形データに基づいて各機能液滴吐出ヘッドを駆動するヘッド駆動工程と、を備え、
前記吐出データ・駆動波形転送ブロックは、
転送された前記吐出パターンデータを格納するシフトレジスタと、
前記駆動波形データの転送時に、前記シフトレジスタに格納されている前記吐出パターンデータをラッチするラッチと、
前記ラッチの出力と、転送された前記駆動波形データとに基づいて、前記各ノズルに電圧印可するスイッチと、を有し、
前記吐出データ・駆動波形データ転送工程では、
前記ｎ配列目の駆動波形データが前記スイッチに転送されているときに、平行して（ｎ＋１）配列目の前記吐出パターンデータを前記シフトレジスタに転送することを特徴とする描画方法。 - 前記機能液滴吐出ヘッドの移動領域内において、前記ワーク上に対する描画領域と非描画領域とを設定する描画領域設定工程を更に備え、
前記吐出データ・駆動波形データ転送工程では、前記位置検出信号に基づいて、前記機能液滴吐出ヘッドが前記描画領域を移動中であるときに、前記吐出信号をトリガとして前記吐出パターンデータおよび前記駆動波形データを転送することを特徴とする請求項３に記載の描画方法。
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