JP2003231306A

JP2003231306A - 可視データ生成方法、可視データ生成装置並びにこれを備えた機能液滴吐出装置、液晶表示装置の製造方法、有機ｅｌ装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、ｐｄｐ装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機ｅｌの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法

Info

Publication number: JP2003231306A
Application number: JP2002030006A
Authority: JP
Inventors: Manabu Nagasaka; 学長坂
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2002-02-06
Filing date: 2002-02-06
Publication date: 2003-08-19

Abstract

(57)【要約】【課題】実際に機能液滴を吐出することなく、描画さ
れるイメージを確認可能な可視データ生成方法、可視デ
ータ生成装置並びにこれを備えた機能液滴吐出装置、液
晶表示装置の製造方法、有機ＥＬ装置の製造方法、電子
放出装置の製造方法、ＰＤＰ装置の製造方法、電気泳動
表示装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機
ＥＬの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方
法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体
形成方法を提供する。【解決手段】機能液滴吐出ヘッド７からワークに機能
液滴を選択的に吐出して描画するためのバイナリ化され
た描画パターンデータ８０に基づき、ビット演算により
パターンデータ６０を生成し、パターンデータ６０に基
づき、可視化プログラムにより可視化された可視データ
９０を生成するものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、機能液滴吐出ヘッ
ドからワークに機能液滴を選択的に吐出して描画するた
めのバイナリ化された描画パターンデータに基づき、可
視データを生成する可視データ生成方法、可視データ生
成装置並びにこれを備えた機能液滴吐出装置、液晶表示
装置の製造方法、有機ＥＬ装置の製造方法、電子放出装
置の製造方法、ＰＤＰ装置の製造方法、電気泳動表示装
置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機ＥＬの
製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レン
ズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法
に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、インクジェットプリンタなど、機
能液滴吐出ヘッド（印刷ヘッド）からワークに機能液滴
（インク）を選択的に吐出することで描画（印刷）を行
う機能液滴吐出装置は、バイナリ化された描画パターン
データに基づいて描画を行っていた。このバイナリ化さ
れた描画パターンデータ（バイナリデータ）は、特定の
書式になっているため、そのままダンプ出力しただけで
は、描画されるイメージの確認は不可能であった。した
がって、描画パターンデータに基づいて実際に機能液滴
を吐出することにより、描画されるイメージを確認して
いた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところが、このよう
に、実際に機能液滴を吐出することにより、描画される
イメージを確認する方法では、時間と吐出材料の無駄が
生じてしまう。また、描画された画像に問題が生じてい
たとしても、ノズルの吐出不良が原因となる場合もある
ため、正確に描画パターンデータの異常を判断すること
ができなかった。

【０００４】本発明は、実際に機能液滴を吐出すること
なく、描画されるイメージを確認可能な可視データ生成
方法、可視データ生成装置並びにこれを備えた機能液滴
吐出装置、液晶表示装置の製造方法、有機ＥＬ装置の製
造方法、電子放出装置の製造方法、ＰＤＰ装置の製造方
法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製
造方法、有機ＥＬの製造方法、スペーサ形成方法、金属
配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法およ
び光拡散体形成方法を提供することを目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明の可視データ生成
方法は、機能液滴吐出ヘッドからワークに機能液滴を選
択的に吐出して描画するためのバイナリ化された描画パ
ターンデータに基づき、可視データを生成する可視デー
タ生成方法であって、描画パターンデータに基づき、ビ
ット演算によりパターンデータを生成し、パターンデー
タに基づき、可視化プログラムにより可視化された可視
データを生成することを特徴とする。

【０００６】本発明の可視データ生成装置は、機能液滴
吐出ヘッドからワークに機能液滴を選択的に吐出して描
画するためのバイナリ化された描画パターンデータに基
づき、可視データを生成する可視データ生成装置であっ
て、描画パターンデータに基づき、ビット演算によりパ
ターンデータを生成するパターンデータ生成手段と、パ
ターンデータに基づき、可視化プログラムにより可視化
された可視データを生成する可視データ生成手段、を備
えたことを特徴とする。

【０００７】この構成によれば、機能液滴吐出ヘッドか
らワークに機能液滴を選択的に吐出して描画するための
バイナリ化された描画パターンデータに基づき、ビット
演算によりパターンデータを生成し、さらに、これに基
づいて可視化プログラムにより可視化された可視データ
を生成することができる。したがって、実際に機能液滴
吐出ヘッドから機能液滴を吐出することなく、描画され
るイメージを確認することができるため、時間と吐出材
料の無駄を省くことができる。

【０００８】本発明の他の可視データ生成方法は、複数
のノズルを有する機能液滴吐出ヘッドからワークに機能
液滴を選択的に吐出して描画するためのバイナリ化され
た描画パターンデータに基づき、可視データを生成する
可視データ生成方法であって、描画パターンデータか
ら、複数のノズルに対応する１列分の描画パターンデー
タを抽出し、１列分の描画パターンデータに基づき、ビ
ット演算により１列分のパターンデータを生成し、１列
分のパターンデータを全列分積層させることにより、全
パターンデータを生成し、全パターンデータに基づき、
可視化プログラムにより可視化された可視データを生成
することを特徴とする。

【０００９】本発明の他の可視データ生成装置は、複数
のノズルを有する機能液滴吐出ヘッドからワークに機能
液滴を選択的に吐出して描画するためのバイナリ化され
た描画パターンデータに基づき、可視データを生成する
可視データ生成装置であって、描画パターンデータか
ら、複数のノズルに対応する１列分の描画パターンデー
タを抽出する抽出手段と、１列分の描画パターンデータ
に基づき、ビット演算により１列分のパターンデータを
生成する部分パターンデータ生成手段と、１列分のパタ
ーンデータを全列分積層させることにより、全パターン
データを生成する全パターンデータ生成手段と、全パタ
ーンデータに基づき、可視化プログラムにより可視化さ
れた可視データを生成する可視データ生成手段、を備え
たことを特徴とする。

【００１０】この構成によれば、機能液滴吐出ヘッドか
らワークに機能液滴を選択的に吐出して描画するための
バイナリ化された描画パターンデータに基づき、ビット
演算によりパターンデータを生成し、さらに、これに基
づいて可視化プログラムにより可視化された可視データ
を生成することができる。したがって、実際に機能液滴
吐出ヘッドから機能液滴を吐出することなく、描画され
るイメージを確認することができるため、時間と吐出材
料の無駄を省くことができる。また、機能液滴吐出ヘッ
ドに配列された複数のノズルに対応する１列分の描画パ
ターンデータを抽出した後、１列分のパターンデータを
生成し、これを積層させることにより全パターンデータ
を生成するため、全パターンデータの生成のための演算
処理を容易に行うことができる。

【００１１】上記において、機能液滴吐出ヘッドが印刷
方向に対して所定角度の傾きを有している場合、全パタ
ーンデータに対し、所定角度に対応した回転シフト処理
を行うことでシフトパターンデータを生成し、シフトパ
ターンデータに基づき、可視データを生成することが好
ましい。

【００１２】上記において、機能液滴吐出ヘッドが印刷
方向に対して所定角度の傾きを有している場合、全パタ
ーンデータに対し、所定角度に対応した回転シフト処理
を行うことでシフトパターンデータを生成するシフトパ
ターンデータ生成手段を更に備え、可視データ生成手段
は、シフトパターンデータに基づき、可視データを生成
することが好ましい。

【００１３】この構成によれば、全パターンデータに対
して、機能液滴吐出ヘッドの印刷方向に対する所定角度
の傾きに対応した回転シフト処理を行うことで、シフト
パターンデータを生成し、これに基づいて可視データを
生成するため、生成された可視データが機能液滴吐出ヘ
ッドの傾きによって傾斜することがない。すなわち、実
際に描画される画像に近い可視データを生成することが
できる。

【００１４】これらの場合、可視化プログラムは、パタ
ーンデータをテキスト化することが好ましい。

【００１５】これらの場合、可視データ生成手段は、パ
ターンデータをテキスト化する可視化プログラムによっ
て、可視データを生成することが好ましい。

【００１６】この構成によれば、パターンデータをテキ
スト化する可視化プログラムによって、可視データを生
成するため、テキスト形式の可視データを生成すること
ができる。すなわち、空白と任意の文字の組み合わせで
画像を作成するといった文字列の処理を行う簡単なプロ
グラムによって、容易に可視データを生成することがで
きる。

【００１７】これらの場合、可視化プログラムは、パタ
ーンデータをビットマップ化することが好ましい。

【００１８】これらの場合、可視データ生成手段は、パ
ターンデータをビットマップ化する可視化プログラムに
よって、可視データを生成することが好ましい。

【００１９】この構成によれば、パターンデータをビッ
トマップ化する可視化プログラムによって、可視データ
を生成するため、ビットマップ形式の可視データを生成
することができる。すなわち、ビットマップ形式のデー
タは、コンピュータ上で扱うことができる画像形式であ
るため、拡大して細密に表示したり、縮小して全体を見
通したりする処理を容易に行うことができる。

【００２０】上記において、描画パターンデータに、ド
ットサイズを制御可能なパラメータが含まれる場合、パ
ターンデータには、パラメータに基づいてドットサイズ
情報が書き込まれ、可視データは、ドットサイズ情報に
基づいて生成されることが好ましい。

【００２１】上記において、描画パターンデータに、ド
ットサイズを制御可能なパラメータが含まれる場合、パ
ターンデータ生成手段には、パラメータに基づいてドッ
トサイズ情報を書き込む手段が含まれ、可視データ生成
手段は、ドットサイズ情報に基づいて可視データを生成
することが好ましい。

【００２２】この構成によれば、描画パターンデータが
ドットサイズを制御可能なパラメータが含まれる場合、
これに基づいてパターンデータには、ドットサイズ情報
が書き込まれ、さらにこれに基づいて可視データが生成
される。すなわち、種々のドットサイズで描画されるイ
メージを確認することができる。

【００２３】本発明の機能液滴吐出装置は、上記のいず
れかに記載の可視データ生成装置を備えたことを特徴と
する。

【００２４】この構成によれば、実際に機能液滴吐出ヘ
ッドから機能液滴を吐出することなく、描画されるイメ
ージを確認することができる機能液滴吐出装置を提供す
ることができる。

【００２５】本発明の液晶表示装置の製造方法は、上記
した機能液滴吐出装置を用い、カラーフィルタの基板上
に多数のフィルタエレメントを形成する液晶表示装置の
製造方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに各色の
フィルタ材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを基板に対
し相対的に走査し、フィルタ材料を選択的に吐出して多
数の前記フィルタエレメントを形成することを特徴とす
る。

【００２６】本発明の有機ＥＬ装置の製造方法は、上記
した機能液滴吐出装置を用い、基板上の多数の絵素ピク
セルにそれぞれＥＬ発光層を形成する有機ＥＬ装置の製
造方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに各色の発
光材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対
的に走査し、発光材料を選択的に吐出して多数のＥＬ発
光層を形成することを特徴とする。

【００２７】本発明の電子放出装置の製造方法は、上記
した機能液滴吐出装置を用い、電極上に多数の蛍光体を
形成する電子放出装置の製造方法であって、複数の機能
液滴吐出ヘッドに各色の蛍光材料を導入し、機能液滴吐
出ヘッドを電極に対し相対的に走査し、蛍光材料を選択
的に吐出して多数の蛍光体を形成することを特徴とす
る。

【００２８】本発明のＰＤＰ装置の製造方法は、上記し
た機能液滴吐出装置を用い、背面基板上の多数の凹部に
それぞれ蛍光体を形成するＰＤＰ装置の製造方法であっ
て、複数の機能液滴吐出ヘッドに各色の蛍光材料を導入
し、機能液滴吐出ヘッドを背面基板に対し相対的に走査
し、蛍光材料を選択的に吐出して多数の蛍光体を形成す
ることを特徴とする。

【００２９】本発明の電気泳動表示装置の製造方法は、
上記した機能液滴吐出装置を用い、電極上の多数の凹部
に泳動体を形成する電気泳動表示装置の製造方法であっ
て、複数の機能液滴吐出ヘッドに各色の泳動体材料を導
入し、機能液滴吐出ヘッドを電極に対し相対的に走査
し、泳動体材料を選択的に吐出して多数の泳動体を形成
することを特徴とする。

【００３０】このように、上記の機能液滴吐出装置を、
液晶表示装置の製造方法、有機ＥＬ（Electro-Luminesc
ence）装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、ＰＤ
Ｐ（Plasma Display Panel）装置の製造方法および電気
泳動表示装置の製造方法に適用することにより、各装置
に求められるフィルタ材料や発光材料等を、適切な位置
に適切な量を選択的に供給することができる。なお、機
能液滴吐出ヘッドの走査は、一般的には主走査および副
走査となるが、いわゆる１ラインを単一の機能液滴吐出
ヘッドで構成する場合には、副走査のみとなる。また、
電子放出装置は、いわゆるＦＥＤ（Field Emission Dis
play）装置を含む概念である。

【００３１】本発明のカラーフィルタの製造方法は、上
記した機能液滴吐出装置を用い、基板上に多数のフィル
タエレメントを配列して成るカラーフィルタを製造する
カラーフィルタの製造方法であって、複数の機能液滴吐
出ヘッドに各色のフィルタ材料を導入し、機能液滴吐出
ヘッドを基板に対し相対的に走査し、フィルタ材料を選
択的に吐出して多数のフィルタエレメントを形成するこ
とを特徴とする。この場合、多数のフィルタエレメント
を被覆するオーバーコート膜が形成されており、フィル
タエレメントを形成した後に、複数の機能液滴吐出ヘッ
ドに透光性のコーティング材料を導入し、機能液滴吐出
ヘッドを基板に対し相対的に走査し、コーティング材料
を選択的に吐出してオーバーコート膜を形成すること
が、好ましい。

【００３２】本発明の有機ＥＬの製造方法は、上記した
機能液滴吐出装置を用い、ＥＬ発光層を含む多数の複数
の絵素ピクセルを基板上に配列して成る有機ＥＬの製造
方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに各色の発光
材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的
に走査し、発光材料を選択的に吐出して多数のＥＬ発光
層を形成することを特徴とする。この場合、多数のＥＬ
発光層と基板との間には、ＥＬ発光層に対応して多数の
画素電極が形成されており、複数の機能液滴吐出ヘッド
に液状電極材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを基板に
対し相対的に走査し、液状電極材料を選択的に吐出して
多数の画素電極を形成することが、好ましい。この場
合、多数のＥＬ発光層を覆うように対向電極が形成され
ており、ＥＬ発光層を形成した後に、複数の機能液滴吐
出ヘッドに液状電極材料を導入し、機能液滴吐出ヘッド
を基板に対し相対的に走査し、液状電極材料を選択的に
吐出して対向電極を形成することが、好ましい。

【００３３】本発明のスペーサ形成方法は、上記した機
能液滴吐出装置を用い、２枚の基板間に微小なセルギャ
ップを構成すべく多数の粒子状のスペーサを形成するス
ペーサ形成方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに
スペーサを構成する粒子材料を導入し、機能液滴吐出ヘ
ッドを少なくとも一方の基板に対し相対的に走査し、粒
子材料を選択的に吐出して基板上にスペーサを形成する
ことを特徴とする。

【００３４】本発明の金属配線形成方法は、上記した機
能液滴吐出装置を用い、基板上に金属配線を形成する金
属配線形成方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに
液状金属材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを基板に対
し相対的に走査し、液状金属材料を選択的に吐出して金
属配線を形成することを特徴とする。

【００３５】本発明のレンズ形成方法は、上記した機能
液滴吐出装置を用い、基板上に多数のマイクロレンズを
形成するレンズ形成方法であって、複数の機能液滴吐出
ヘッドにレンズ材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを基
板に対し相対的に走査し、レンズ材料を選択的に吐出し
て多数のマイクロレンズを形成することを特徴とする。

【００３６】本発明のレジスト形成方法は、上記した機
能液滴吐出装置を用い、基板上に任意形状のレジストを
形成するレジスト形成方法であって、複数の機能液滴吐
出ヘッドにレジスト材料を導入し、機能液滴吐出ヘッド
を基板に対し相対的に走査し、レジスト材料を選択的に
吐出してレジストを形成することを特徴とする。

【００３７】本発明の光拡散体形成方法は、上記した機
能液滴吐出装置を用い、基板上に多数の光拡散体を形成
する光拡散体形成方法であって、複数の機能液滴吐出ヘ
ッドに光拡散材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを基板
に対し相対的に走査し、光拡散材料を選択的に吐出して
多数の光拡散体を形成することを特徴とする。

【００３８】このように、上記の機能液滴吐出装置を、
カラーフィルタの製造方法、有機ＥＬの製造方法、スペ
ーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レ
ジスト形成方法および光拡散体形成方法に適用すること
により、各電子デバイスや各光デバイスに求められるフ
ィルタ材料や発光材料等を、適切な位置に適切な量を選
択的に供給することができる。

【００３９】

【発明の実施の形態】以下、添付の図面を参照して、本
発明の実施形態について説明する。機能液滴吐出装置
は、その機能液滴吐出ヘッドに配列された複数のノズル
から、微小な液滴をドット状に精度良く吐出することが
できることから、機能液に特殊なインクや感光性・発光
性の樹脂等を用いることにより、各種部品の製造分野へ
の応用が期待されている。

【００４０】本実施形態の可視データ生成装置およびこ
れを備えた機能液滴吐出装置は、例えば液晶表示装置や
有機ＥＬ装置等の、いわゆるフラットディスプレイの製
造装置に適用され、その複数の機能液滴吐出ヘッドから
フィルタ材料や発光材料等の機能液を吐出して（インク
ジェット方式）、液晶表示装置におけるＲ．Ｇ．Ｂのフ
ィルタエレメントや、有機ＥＬ装置における各画素のＥ
Ｌ発光層および正孔注入層を形成するものである。そこ
で、本実施形態では、有機ＥＬ装置の製造装置等に組み
込まれる可視データ生成装置および機能液滴吐出装置に
ついて説明する。

【００４１】図１の模式図に示すように、機能液滴吐出
装置１０は、Ｘ軸テーブル２３およびこれに直交するＹ
軸テーブル２４と、Ｙ軸テーブル２４に設けたメインキ
ャリッジ２５と、メインキャリッジ２５に搭載したヘッ
ドユニット２６とを有している。詳細は後述するが、ヘ
ッドユニット２６には、サブキャリッジ４１を介して、
複数の機能液滴吐出ヘッド７が搭載されている。また、
この複数の機能液滴吐出ヘッド７に対応して、Ｘ軸テー
ブル２３の吸着テーブル２８上に基板（ワーク）Ｗがセ
ットされるようになっている。

【００４２】本実施形態の機能液滴吐出装置１０では、
機能液滴吐出ヘッド７の駆動（機能液滴の選択的吐出）
に同期して基板Ｗが移動する構成であり、機能液滴吐出
ヘッド７のいわゆる主走査は、Ｘ軸テーブル２３のＸ軸
方向への往復の両動作により行われる。また、これに対
応して、いわゆる副走査は、Ｙ軸テーブル２４により機
能液滴吐出ヘッド７のＹ軸方向への往動動作により行わ
れる。なお、上記の主走査をＸ軸方向への往動（または
復動）動作のみで行うようにしてもよい。

【００４３】ヘッドユニット２６は、サブキャリッジ４
１と、サブキャリッジ４１に搭載した複数個（１２個）
の機能液滴吐出ヘッド７とを備えている。１２個の機能
液滴吐出ヘッド７は、６個づつ左右に二分され、主走査
方向に対し所定の角度傾けて配設されている。なお、本
実施形態の機能液滴吐出ヘッド７は、ピエゾ圧電効果を
応用した精密ヘッドが使用され、微小液滴を着色層形成
領域に選択的に吐出するものである。

【００４４】また、各６個の機能液滴吐出ヘッド７は、
副走査方向に対し相互に位置ずれして配設され、１２個
の機能液滴吐出ヘッド７の全吐出ノズル３８（後述す
る）が副走査方向において連続する（一部重複）ように
なっている。すなわち、実施形態のヘッド配列は、サブ
キャリッジ４１上において、同一方向に傾けて配置した
６個の機能液滴吐出ヘッド７を２列としたものであり、
且つ各ヘッド列間において機能液滴吐出ヘッド７が相互
に１８０°回転した配置となっている。また、各機能液
滴吐出ヘッド７には、２本のノズル列３７，３７が相互
に平行に列設されており、各ノズル列３７は、等ピッチ
で並べた１８０個（図示では模式的に表している）の吐
出ノズル３８で構成されている。

【００４５】ここで、機能液滴吐出装置１０の一連の動
作を簡単に説明する。先ず、準備段階として、作業に供
する基板用のヘッドユニット２６が機能液滴吐出装置１
０に運び込まれ、これがメインキャリッジ２５にセット
される。ヘッドユニット２６がメインキャリッジ２５に
セットされると、Ｙ軸テーブル２４がヘッドユニット２
６を、図外のヘッド認識カメラの位置に移動させ、ヘッ
ド認識カメラによりヘッドユニット２６が位置認識され
る。ここで、この認識結果に基づいて、ヘッドユニット
２６がθ補正され、且つヘッドユニット２６のＸ軸方向
およびＹ軸方向の位置補正がデータ上で行われる。位置
補正後、ヘッドユニット（メインキャリッジ２５）２６
はホーム位置に戻る。

【００４６】一方、Ｘ軸テーブル２３の吸着テーブル２
８上に基板（この場合は、導入される基板毎）Ｗが導入
されると、この位置（受渡し位置）で図外の基板認識カ
メラが基板を位置認識する。ここで、この認識結果に基
づいて、基板Ｗがθ補正され、且つ基板ＷのＸ軸方向お
よびＹ軸方向の位置補正がデータ上で行われる。位置補
正後、基板（吸着テーブル２８）Ｗはホーム位置に戻
る。

【００４７】このようにして準備が完了すると、実際の
機能液滴吐出作業では、先ずＸ軸テーブル２３が駆動
し、基板Ｗを主走査方向に往復動させると共に複数の機
能液滴吐出ヘッド７を駆動して、機能液滴の基板Ｗへの
選択的な吐出動作が行われる。基板Ｗが復動した後、今
度はＹ軸テーブル２４が駆動し、ヘッドユニット２６を
１ピッチ分、副走査方向に移動させ、再度基板Ｗの主走
査方向への往復移動と機能液滴吐出ヘッド７の駆動が行
われる。そしてこれを、数回繰り返すことで、基板Ｗの
端から端まで（全領域）機能液滴吐出が行われる。

【００４８】なお、本実施形態では、ヘッドユニット２
６に対し、その吐出対象物である基板Ｗを主走査方向
（Ｘ軸方向）に移動させるようにしているが、ヘッドユ
ニット２６を主走査方向に移動させる構成であってもよ
い。また、ヘッドユニット２６を固定とし、基板Ｗを主
走査方向および副走査方向に移動させる構成であっても
よい。

【００４９】次に、図２を参照し、機能液滴吐出装置１
０の制御構成について説明する。機能液滴吐出装置１０
は、機能液滴吐出ヘッド７（圧電素子駆動インクジェッ
トヘッド）と、これを接続するためのヘッドインターフ
ェース基板１１１とを有するヘッド部１１０と、波形・
パターン記憶回路基板１２１と、これを接続するための
インターフェース基板１２２と、波形・パターン記憶回
路基板１２１にトリガパルスを伝送するトリガ基板１２
３とを有し、機能液滴吐出ヘッド７を駆動する駆動部１
２０と、直流電源１３１を有し、波形・パターン記憶回
路基板１２１に電源を供給する電源部１３０と、リニア
スケール１４１を有し、スキャンの送りを検出する送り
検出部１４０と、装置全体を制御する第１ＰＣ１５１
と、主に機能液滴吐出ヘッド７の駆動を制御する第２Ｐ
Ｃ１５２とを有する制御部１５０と、により構成されて
いる。

【００５０】ヘッド部１１０の機能液滴吐出ヘッド７
は、上記した構成であり、１ヘッド当たり１８０個のノ
ズル列が２列使用されている。ヘッドインターフェース
基板１１１は、波形・パターン記憶回路基板１２１から
送信された信号を差動信号変換し、機能液滴吐出のため
のピエゾ圧電素子を駆動するピエゾ圧電素子駆動信号
と、後述する描画パターンデータ８０を機能液滴吐出ヘ
ッド７に送る。

【００５１】駆動部１２０の波形・パターン記憶回路基
板１２１は、第２ＰＣ１５２からピエゾ圧電素子の駆動
信号を受けて駆動波形を生成する。また、リニアスケー
ル１４１からの信号に基づいて機能液滴吐出距離をカウ
ントするトリガ基板１２３により、トリガパルスが作成
され、波形・パターン記憶回路基板１２１は、このトリ
ガパルスを受けて予め第２ＰＣ１５２から送られ、格納
していた描画パターンデータ記憶領域から描画パターン
データを順次取り出す。さらに、波形・パターン記憶回
路基板１２１は、予め第２ＰＣ１５２から送られ、格納
していた波形パラメータに応じたピエゾ素子駆動波形
を、トリガパルスと同期して生成する。また、波形・パ
ターン記憶回路基板１２１は、電源部１３１の直流電源
１３１より（ヘッド駆動用として）電源が供給される。

【００５２】送り検出部１４０のリニアスケール１４１
は、０．５μｍピッチでスキャンの送りを検出し、位置
パルスをトリガ基板１２３に伝送する。また、制御部１
５０の第２ＰＣ１５２は、第１ＰＣ１５１とシリアル通
信回線（ＲＳ−２３２Ｃ）により接続され、第１ＰＣ１
５１からのコマンドを受けて機能液滴吐出ヘッド７の駆
動結果等に関するデータを返信する。また、第２ＰＣ１
５２は、後述するパターンデータ６０（描画パターンデ
ータ８０の元となるデータ）を生成し、インターフェー
ス基板１２２を介して波形・パターン記憶回路基板１２
１に転送制御信号および吐出パターンデータ６０を送る
と共に、トリガ基板１２３にトリガ制御信号および吐出
制御信号を送る。

【００５３】次に、図３のフローチャートを参照して、
機能液滴吐出ヘッド７からワークに機能液滴を選択的に
吐出して描画するための描画パターンデータ８０の生成
方法について説明する。ここでは、図１１に示すような
画像データ５０に基づいて機能液滴吐出ヘッド７の駆動
データとなるバイナリ化された描画パターンデータ８０
（図７参照）を生成するものとする。

【００５４】まず、画像データ５０に基づいて、描画パ
ターンデータ８０の配列領域を確保する（Ｓ１１）。具
体的には、図４（ａ）に示す配列の領域を確保するもの
であり、各セルは全て初期値（機能液滴不吐出に相当；
「０」にて図示）となっている。ここで、列方向はノズ
ル列（１−１８０）、行方向は吐出分解能（１μｍ単位
で設定可能）を示す。

【００５５】次に、画像データ５０に基づいて生成され
た描画イメージ情報を同図（ａ）の配列領域に書き込む
ことで、パターンデータ６０を生成する（Ｓ１２）。描
画イメージ情報とは、同図（ｂ）に示すところの、数値
０、１、２、３および９を示すものであり、これらはそ
れぞれ、「０：不吐出」「１：Ｒ（レッド）吐出」、
「２：Ｇ（グリーン）吐出」、「３：Ｂ（ブルー）吐
出」および「９：ＡＬＬ吐出（ＲＧＢ全吐出）」を指し
ている。

【００５６】なお、このパターンデータ６０における各
セルに代入される情報は、これらの色情報のみに留まら
ず、ドットサイズ（機能液滴吐出量）やドット重なり回
数（機能液滴吐出数）などに関する情報を代入するよう
にしても良い。この構成によれば、一つの配列データで
効率よく情報を保持させることができる。なお、各セル
は、８ビット（１バイト；０−２５５）の情報を保持さ
せることが可能であるが、記憶容量の許す限り、情報量
を増加させるようにしても良い。

【００５７】次に、パターンデータ６０に対し、機能液
滴吐出ヘッド７の傾きに対応した回転シフト処理を行う
ことで、シフトパターンデータ７０を生成する（Ｓ１
３）。上記の通り、機能液滴吐出ヘッド７は、印刷方向
（主走査方向）に対し所定角度の傾きを有している。す
なわち、パターンデータ６０をそのままバイナリ化し
て、駆動データとしても描画される画像は所定の角度だ
け傾いてしまう。したがって、図５に示すように、パタ
ーンデータ６０に対して回転シフト処理を行い、シフト
パターンデータ７０を生成し、これに基づいて描画パタ
ーンデータ８０を生成することで同図に示すような、所
望する描画結果が得られる。なお、機能液滴吐出ヘッド
７が、印刷方向（主走査方向）に対して傾きを有しない
場合（垂直方向である場合）、シフトパターンデータ７
０の生成を行う必要がないことは言うまでもない。

【００５８】次に、シフトパターンデータ７０をバイナ
リ出力することで描画パターンデータ８０を生成する
（Ｓ１４）。描画パターンデータ８０は、パターンデー
タ６０（シフトパターンデータ７０）に含まれる色情報
に基づいて色別にバイナリ出力される。色別の分割方法
は図６に示すとおりであり、図４（ｂ）のパターンデー
タ６０を、３つ（Ｒ吐出，Ｇ吐出，Ｂ吐出）のパターン
データ６０に分割する。なお、色の分割はこれに限ら
ず、更なる多色に分割しても良い。

【００５９】描画パターンデータ８０は、機能液滴吐出
ヘッド７を駆動可能なバイナリデータであり、その一部
（１吐出分解能分）を図７に示した。ここでは、シフト
パターンデータ７０をノズル列（１−１８０）に対応す
る１配列分毎にバイナリ化して１配列分の描画パターン
データ８１を生成し、１度ファイルにまとめて、波形・
パターン記憶回路基板１２１のＲＡＭに転送するように
している。これにより、バイナリデータの生成が容易に
なる。なお、パターンデータ６０からのシフトパターン
データ７０の生成も、１配列毎に行うようにしてもよ
い。この構成によれば、回転シフト処理の演算が複雑化
することなく容易にシフトパターンデータ７０を生成す
ることができる。

【００６０】なお、パターンデータ６０にドットサイズ
（機能液滴吐出量）に関する情報が含まれている場合
は、これに基づいて、ドットサイズを制御可能なパラメ
ータを描画パターンデータ８０に書き込む。具体的に
は、バイナリ化された描画パターンデータ８０中のＳＰ
ｘｘデータのｘｘ部分を変化させる（図７参照）。これ
により、多種のドットサイズによって構成された画像を
描画可能である。

【００６１】また、パターンデータ６０にドット重なり
回数（機能液滴吐出数）に関する情報が含まれている場
合には、ドット重なり回数情報から得られる最多重なり
回数に分割して、バイナリ出力することにより、描画パ
ターンデータ８０を生成する。例えば、図８（ａ）に示
すような、ドット重なり回数に関する情報がパターンデ
ータ６０に含まれている場合は、最多重なり回数が「３
回」であるため、同図（ｂ）に示すように、１回目吐出
用のデータ、２回目吐出用のデータ、３回目吐出用のデ
ータの分割してバイナリ出力を行う。これにより、同じ
場所に（場合によっては１回の吐出量を絞って（ドット
サイズを小さくして））複数回の吐出が可能となり、よ
り見栄えの良い階調表現を実現することができる。

【００６２】上記の要領で作成した描画パターンデータ
８０に基づき、描画（画像形成）を行うが、図９を参照
してその描画方法を簡単に説明する。なお、実際には、
上記したとおり、機能液滴吐出ヘッド７に対してワーク
（Ｘ軸テーブル２３）が移動することにより描画を行う
が、ここでは説明を容易にするため、ワーク上を機能液
滴吐出ヘッド７が移動するものとして説明する。

【００６３】機能液滴吐出ヘッド７は、長さ１インチで
１８０ノズルを有している（１８０ｄｐｉ）が、これを
数回に分割してスキャン（走査）することにより、画像
の形成を行う。同図に示した例では３回に分割してスキ
ャンしている。この場合、先ず主走査方向に機能液滴吐
出ヘッド７を駆動して描画を行い、ワークの幅分のスキ
ャンを終えると、ヘッドを元の位置に戻し、副走査方向
に１インチ分移動する。これを３回繰り返すことによ
り、画像の形成を行う。

【００６４】なお、描画方法については、種々の仕様が
考えられ、例えば、主走査方向における機能液滴吐出ヘ
ッドの戻り動作においても描画を行うようにしても良い
し、（吐出不良等を考慮して両端側の１０ノズルを不使
用にするような場合は）副走査方向において１インチ分
移動するのではなく、１回目のスキャンと２回目のスキ
ャンとが一部重なり合うように３/４インチずつ移動す
るようにしても良い。

【００６５】このように、本発明の描画パターンデータ
８０の生成方法によれば、画像データ５０に基づいて配
列領域を確保し、これに描画イメージ情報を書き込むこ
とで、パターンデータ６０を生成し、さらにこのパター
ンデータ６０をバイナリ出力することで、描画パターン
データ８０を生成することができる。すなわち、一定配
列を発生するアルゴリズムを有したプログラムにより、
直接最終形式（バイナリ形式）のデータを生成するもの
ではないため、一定配列を有するか否かに関わらず、あ
らゆるドットパターンを描画することができる。

【００６６】また、パターンデータ６０に対して、機能
液滴吐出ヘッド７の傾きに対応した回転シフト処理を行
うことで、シフトパターンデータ７０を生成し、これに
基づいて描画パターンデータ８０を生成するため、描画
されるイメージが機能液滴吐出ヘッド７の傾きによって
傾斜することがない。すなわち、元の画像データに近い
描画結果が得られる描画パターンデータを生成すること
ができる。

【００６７】次に、上記のバイナリ化された描画パター
ンデータ８０に基づいて生成される可視データ９０の生
成方法について説明する。本発明の可視データ生成方法
は、実際に機能液滴を吐出することなく、描画されるイ
メージを確認可能にするための方法であり、簡潔に言え
ば上記の描画パターンデータ生成方法と逆の手順により
生成されるものである。以下、図１０のフローチャート
を参照し、順を追って説明する。なお、可視データ９０
は、図１１の点線部を描画結果とする描画パターンデー
タに基づいて生成されるものとする。

【００６８】まず、描画パターンデータ８０から、ノズ
ル列３７に対応する１列分（１ブロック分＝１吐出分解
能分）の描画パターンデータ８１を抽出する（Ｓ２１；
図７参照）。次に、この１列分の描画パターンデータ８
１に基づき、ビット演算により１列分のパターンデータ
６１を生成する（Ｓ２２；図４（ｂ）参照）。そして、
全列分のパターンデータ（全パターンデータ）６０の生
成が終了するまで（最後の列のパターンデータ６１の生
成が終了するまで）、Ｓ２１およびＳ２２の処理を繰り
返す（Ｓ２３；積層処理）。次に、生成した全パターン
データ６０に対し、回転シフト処理を行う場合（Ｓ２
４：Ｙｅｓ）は、回転シフト処理を行い、シフトパター
ンデータ７０を生成した（Ｓ２５）後、可視化処理（テ
キスト化）を行うことにより、可視データを生成する
（Ｓ２６；図１２参照）。一方、回転シフト処理を行わ
ない場合（Ｓ２４：Ｎｏ）は、そのまま、可視化処理を
行うことにより、可視データを生成する（Ｓ２６）。こ
れにより、機能液滴吐出ヘッド７から正常に機能液滴が
吐出されるか（生成された描画パターンデータ８０に異
常がないか）の確認を行うことができる。

【００６９】なお、パターンデータ６０に対する回転シ
フト処理は、機能液滴吐出ヘッド７の傾きを考慮し、実
際に描画されるイメージに近い可視データ９０を生成す
るための処理である。すなわち、回転シフト処理を行う
ことで、図１２に示したような、所定角度を有した可視
データ９０ではなく、図１３に示すような、描画イメー
ジに近い可視データ９０を生成することができる。ここ
では、上記の描画パターンデータ８０の生成における回
転シフト処理と逆のシフトとなるため、上記の描画パタ
ーンデータ８０の生成において角度θの回転を行った場
合は、−（マイナス）θの回転処理を行う。

【００７０】また、図１２および図１３は、パターンデ
ータ６０をテキスト化した可視データ９０を、テキスト
エディタで表示したものであるが、ビットマップ化した
可視データを生成するようにしても良い。この構成によ
れば、拡大して細密に表示したり、縮小して全体を見通
したりすることが容易になると共に、より実際に描画さ
れる画像に近い可視データ９０を得ることができる。

【００７１】このように、本発明の可視データ９０の生
成方法によれば、機能液滴吐出ヘッド７からワークに機
能液滴を選択的に吐出して描画するためのバイナリ化さ
れた描画パターンデータ８０に基づき、ビット演算によ
りパターンデータ６０を生成し、さらに、これに基づい
て可視化プログラムにより可視化された可視データ９０
を生成することができる。したがって、実際に機能液滴
吐出ヘッド７から機能液滴を吐出することなく、描画さ
れるイメージを確認することができるため、時間と吐出
材料の無駄を省くことができる。

【００７２】また、機能液滴吐出ヘッド７に配列された
複数のノズル３８に対応する１列分の描画パターンデー
タを抽出した後、１列分のパターンデータ６１を生成
し、これを積層させることにより全パターンデータ６０
を生成するため、全パターンデータ６０の生成のための
演算処理を容易に行うことができる。

【００７３】また、全パターンデータ６０に対して、回
転シフト処理を行うことで、シフトパターンデータ７０
を生成し、これに基づいて可視データ９０を生成するた
め、生成された可視データ９０が機能液滴吐出ヘッド７
の傾きによって傾斜することがない。すなわち、実際に
描画される画像に近い可視データを生成することができ
る。

【００７４】また、パターンデータをテキスト化する可
視化プログラムによって、テキスト形式の可視データ９
０を生成することができる。すなわち、空白と任意の文
字の組み合わせで画像を作成するといった文字列の処理
を行う簡単なプログラムによって、容易に可視データを
生成することができる。

【００７５】ところで、本発明の機能液滴吐出装置１０
は、前述の通り、各種フラットディスプレイの製造方法
や、各種の電子デバイスおよび光デバイスの製造方法等
にも適用可能である。そこで、この機能液滴吐出装置１
０を用いた製造方法を、液晶表示装置の製造方法および
有機ＥＬ装置の製造方法を例に、説明する。

【００７６】図１４は、液晶表示装置のカラーフィルタ
の部分拡大図である。図１４（ａ）は平面図であり、図
１４（ｂ）は図１４（ａ）のＢ−Ｂ´線断面図である。
断面図各部のハッチングは一部省略している。

【００７７】図１４（ａ）に示されるように、カラーフ
ィルタ４００は、マトリクス状に並んだ画素（フィルタ
エレメント）４１２を備え、画素と画素の境目は、仕切
り４１３によって区切られている。画素４１２の１つ１
つには、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかのイ
ンク（フィルタ材料）が導入されている。この例では
赤、緑、青の配置をいわゆるデルタ配列としたが、スト
ライプ配列、モザイク配列など、その他の配置でも構わ
ない。

【００７８】図１４（ｂ）に示されるように、カラーフ
ィルタ４００は、透光性の基板４１１と、遮光性の仕切
り４１３とを備えている。仕切り４１３が形成されてい
ない（除去された）部分は、上記画素４１２を構成す
る。この画素４１２に導入された各色のインクは着色層
４２１を構成する。仕切り４１３及び着色層４２１の上
面には、オーバーコート層４２２及び電極層４２３が形
成されている。

【００７９】図１５は、本発明の実施形態によるカラー
フィルタの製造方法を説明する製造工程断面図である。
断面図各部のハッチングは一部省略している。

【００８０】膜厚０．７ｍｍ、たて３８ｃｍ、横３０ｃ
ｍの無アルカリガラスからなる透明基板４１１の表面
を、熱濃硫酸に過酸化水素水を１重量％添加した洗浄液
で洗浄し、純水でリンスした後、エア乾燥を行って清浄
表面を得る。この表面に、スパッタ法によりクロム膜を
平均０．２μｍの膜厚で形成し、金属層４１４´を得る
（図１５：Ｓ１）。

【００８１】この基板をホットプレート上で、８０℃で
５分間乾燥させた後、金属層４１４´の表面に、スピン
コートによりフォトレジスト層（図示せず）を形成す
る。この基板表面に、所要のマトリクスパターン形状を
描画したマスクフィルムを密着させ、紫外線で露光をお
こなう。次に、これを、水酸化カリウムを８重量％の割
合で含むアルカリ現像液に浸漬して、未露光の部分のフ
ォトレジストを除去し、レジスト層をパターニングす
る。続いて、露出した金属層を、塩酸を主成分とするエ
ッチング液でエッチング除去する。このようにして所定
のマトリクスパターンを有する遮光層（ブラックマトリ
クス）４１４を得ることができる（図１５：Ｓ２）。遮
光層４１４の膜厚は、およそ０．２μｍである。また、
遮光層４１４の幅は、およそ２２μｍである。

【００８２】この基板上に、さらにネガ型の透明アクリ
ル系の感光性樹脂組成物４１５´をやはりスピンコート
法で塗布する（図１５：Ｓ３）。これを１００℃で２０
分間プレベークした後、所定のマトリクスパターン形状
を描画したマスクフィルムを用いて紫外線露光を行な
う。未露光部分の樹脂を、やはりアルカリ性の現像液で
現像し、純水でリンスした後スピン乾燥する。最終乾燥
としてのアフターベークを２００℃で３０分間行い、樹
脂部を十分硬化させることにより、バンク層４１５が形
成され、遮光層４１４及びバンク層４１５からなる仕切
り４１３が形成される（図１５：Ｓ４）。このバンク層
４１５の膜厚は、平均で２．７μｍである。また、バン
ク層４１５の幅は、およそ１４μｍである。

【００８３】得られた遮光層４１４およびバンク層４１
５で区画された着色層形成領域（特にガラス基板４１１
の露出面）のインク濡れ性を改善するため、ドライエッ
チング、すなわちプラズマ処理を行なう。具体的には、
ヘリウムに酸素を２０％加えた混合ガスに高電圧を印加
し、プラズマ雰囲気でエッチングスポットに形成し、基
板を、このエッチングスポット下を通過させてエッチン
グする。

【００８４】次に、仕切り４１３で区切られて形成され
た画素４１２内に、上記Ｒ、Ｇ、Ｂの各インクをインク
ジェット方式により導入する（図１５：Ｓ５）。機能液
滴吐出ヘッド７（インクジェットヘッド）には、ピエゾ
圧電効果を応用した精密ヘッドを使用し、微小インク滴
を着色層形成領域毎に１０滴、選択的に飛ばす。駆動周
波数は１４．４ｋＨｚ、すなわち、各インク滴の吐出間
隔は６９．５μ秒に設定する。ヘッドとターゲットとの
距離は、０．３ｍｍに設定する。ヘッドよりターゲット
である着色層形成領域への飛翔速度、飛行曲がり、サテ
ライトと称される分裂迷走滴の発生防止のためには、イ
ンクの物性はもとよりヘッドのピエゾ素子を駆動する波
形（電圧を含む）が重要である。従って、あらかじめ条
件設定された波形をプログラムして、インク滴を赤、
緑、青の３色を同時に塗布して所定の配色パターンにイ
ンクを塗布する。

【００８５】インク（フィルタ材料）としては、例えば
ポリウレタン樹脂オリゴマーに無機顔料を分散させた
後、低沸点溶剤としてシクロヘキサノンおよび酢酸ブチ
ルを、高沸点溶剤としてブチルカルビトールアセテート
を加え、さらに非イオン系界面活性剤０．０１重量％を
分散剤として添加し、粘度６〜８センチポアズとしたも
のを用いる。

【００８６】次に、塗布したインクを乾燥させる。ま
ず、自然雰囲気中で３時間放置してインク層４１６のセ
ッティングを行った後、８０℃のホットプレート上で４
０分間加熱し、最後にオーブン中で２００℃で３０分間
加熱してインク層４１６の硬化処理を行って、着色層４
２１が得られる（図１５：Ｓ６）。

【００８７】上記基板に、透明アクリル樹脂塗料をスピ
ンコートして平滑面を有するオーバーコート層４２２を
形成する。さらに、この上面にＩＴＯ（Indium Tin Oxi
de）からなる電極層４２３を所要パターンで形成して、
カラーフィルタ４００とする（図１５：Ｓ７）。なお、
このオーバーコート層４２２を、機能液滴吐出ヘッド７
（インクジェットヘッド）によるインクジェット方式
で、形成するようにしてもよい。

【００８８】図１６は、本発明の製造方法により製造さ
れる電気光学装置（フラットディスプレイ）の一例であ
るカラー液晶表示装置の断面図である。断面図各部のハ
ッチングは一部省略している。

【００８９】このカラー液晶表示装置４５０は、カラー
フィルタ４００と対向基板４６６とを組み合わせ、両者
の間に液晶組成物４６５を封入することにより製造され
る。液晶表示装置４５０の一方の基板４６６の内側の面
には、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）素子（図示せず）と
画素電極４６３とがマトリクス状に形成されている。ま
た、もう一方の基板として、画素電極４６３に対向する
位置に赤、緑、青の着色層４２１が配列するようにカラ
ーフィルタ４００が設置されている。

【００９０】基板４６６とカラーフィルタ４００の対向
するそれぞれの面には、配向膜４６１、４６４が形成さ
れている。これらの配向膜４６１、４６４はラビング処
理されており、液晶分子を一定方向に配列させることが
できる。また、基板４６６およびカラーフィルタ４００
の外側の面には、偏光板４６２、４６７がそれぞれ接着
されている。また、バックライトとしては蛍光灯（図示
せず）と散乱板の組合わせが一般的に用いられており、
液晶組成物４６５をバックライト光の透過率を変化させ
る光シャッターとして機能させることにより表示を行
う。

【００９１】なお、電気光学装置は、本発明では上記の
カラー液晶表示装置に限定されず、例えば薄型のブラウ
ン管、あるいは液晶シャッター等を用いた小型テレビ、
ＥＬ表示装置、プラズマディスプレイ、ＣＲＴディスプ
レイ、ＦＥＤ（Field Emission Display）パネル等の種
々の電気光学手段を用いることができる。

【００９２】次に、図１７ないし図２９を参照して、有
機ＥＬ装置（有機ＥＬ表示装置）とその製造方法を説明
する。

【００９３】図１７ないし図２９は、有機ＥＬ素子を含
む有機ＥＬ装置の製造プロセスと共にその構造を表して
いる。この製造プロセスは、バンク部形成工程と、プラ
ズマ処理工程と、正孔注入／輸送層形成工程及び発光層
形成工程からなる発光素子形成工程と、対向電極形成工
程と、封止工程とを具備して構成されている。

【００９４】バンク部形成工程では、基板５０１に予め
形成した回路素子部５０２上及び電極５１１（画素電極
ともいう）上の所定の位置に、無機物バンク層５１２ａ
と有機物バンク層５１２ｂを積層することにより、開口
部５１２ｇを有するバンク部５１２を形成する。このよ
うに、バンク部形成工程には、電極５１１の一部に、無
機物バンク層５１２ａを形成する工程と、無機物バンク
層の上に有機物バンク層５１２ｂを形成する工程が含ま
れる。

【００９５】まず無機物バンク層５１２ａを形成する工
程では、図１７に示すように、回路素子部５０２の第２
層間絶縁膜５４４ｂ上及び画素電極５１１上に、無機物
バンク層５１２ａを形成する。無機物バンク層５１２ａ
は、例えばＣＶＤ法、コート法、スパッタ法、蒸着法等
によって第２層間絶縁膜５４４ｂ及び画素電極５１１の
全面にＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂等の無機物膜を形成する。

【００９６】次にこの無機物膜をエッチング等によりパ
ターニングして、電極５１１の電極面５１１ａの形成位
置に対応する下部開口部５１２ｃを設ける。このとき、
無機物バンク層５１２ａを電極５１１の周縁部と重なる
ように形成しておく必要がある。このように、電極５１
１の周縁部（一部）と無機物バンク層５１２ａとが重な
るように無機物バンク層５１２ａを形成することによ
り、発光層５１０ｂの発光領域を制御することができ
る。

【００９７】次に有機物バンク層５１２ｂを形成する工
程では、図１８に示すように、無機物バンク層５１２ａ
上に有機物バンク層５１２ｂを形成する。有機物バンク
層５１２ｂをフォトリソグラフィ技術等によりエッチン
グして、有機物バンク層５１２ｂの上部開口部５１２ｄ
を形成する。上部開口部５１２ｄは、電極面５１１ａ及
び下部開口部５１２ｃに対応する位置に設けられる。

【００９８】上部開口部５１２ｄは、図１８に示すよう
に、下部開口部５１２ｃより広く、電極面５１１ａより
狭く形成することが好ましい。これにより、無機物バン
ク層５１２ａの下部開口部５１２ｃを囲む第１積層部５
１２ｅが、有機物バンク層５１２ｂよりも電極５１１の
中央側に延出された形になる。このようにして、上部開
口部５１２ｄ、下部開口部５１２ｃを連通させることに
より、無機物バンク層５１２ａ及び有機物バンク層５１
２ｂを貫通する開口部５１２ｇが形成される。

【００９９】次にプラズマ処理工程では、バンク部５１
２の表面と画素電極の表面５１１ａに、親インク性を示
す領域と、撥インク性を示す領域を形成する。このプラ
ズマ処理工程は、予備加熱工程と、バンク部５１２の上
面（５１２ｆ）及び開口部５１２ｇの壁面並びに画素電
極５１１の電極面５１１ａを親インク性を有するように
加工する親インク化工程と、有機物バンク層５１２ｂの
上面５１２ｆ及び上部開口部５１２ｄの壁面を、撥イン
ク性を有するように加工する撥インク化工程と、冷却工
程とに大別される。

【０１００】まず、予備加熱工程では、バンク部５１２
を含む基板５０１を所定の温度まで加熱する。加熱は、
例えば基板５０１を載せるステージにヒータを取り付
け、このヒータで当該ステージごと基板５０１を加熱す
ることにより行う。具体的には、基板５０１の予備加熱
温度を、例えば７０〜８０℃の範囲とすることが好まし
い。

【０１０１】次に、親インク化工程では、大気雰囲気中
で酸素を処理ガスとするプラズマ処理（Ｏ₂プラズマ処
理）を行う。このＯ₂プラズマ処理により、図１９に示
すように、画素電極５１１の電極面５１１ａ、無機物バ
ンク層５１２ａの第１積層部５１２ｅ及び有機物バンク
層５１２ｂの上部開口部５１２ｄの壁面ならびに上面５
１２ｆが親インク処理される。この親インク処理によ
り、これらの各面に水酸基が導入されて親インク性が付
与される。図１９では、親インク処理された部分を一点
鎖線で示している。

【０１０２】次に、撥インク化工程では、大気雰囲気中
で４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理（ＣＦ
₄プラズマ処理）を行う。ＣＦ₄プラズマ処理により、図
２０に示すように、上部開口部５１２ｄ壁面及び有機物
バンク層の上面５１２ｆが撥インク処理される。この撥
インク処理により、これらの各面にフッ素基が導入され
て撥インク性が付与される。図２０では、撥インク性を
示す領域を二点鎖線で示している。

【０１０３】次に、冷却工程では、プラズマ処理のため
に加熱された基板５０１を室温、またはインクジェット
工程（機能液滴吐出工程）の管理温度まで冷却する。プ
ラズマ処理後の基板５０１を室温、または所定の温度
（例えばインクジェット工程を行う管理温度）まで冷却
することにより、次の正孔注入／輸送層形成工程を一定
の温度で行うことができる。

【０１０４】次に、発光素子形成工程では、画素電極５
１１上に正孔注入／輸送層及び発光層を形成することに
より発光素子を形成する。発光素子形成工程には、４つ
の工程が含まれる。即ち、正孔注入／輸送層を形成する
ための第１組成物を各前記画素電極上に吐出する第１機
能液滴吐出工程と、吐出された前記第１組成物を乾燥さ
せて前記画素電極上に正孔注入／輸送層を形成する正孔
注入／輸送層形成工程と、発光層を形成するための第２
組成物を前記正孔注入／輸送層の上に吐出する第２機能
液滴吐出工程と、吐出された前記第２組成物を乾燥させ
て前記正孔注入／輸送層上に発光層を形成する発光層形
成工程とが含まれる。

【０１０５】まず、第１機能液滴吐出工程では、インク
ジェット法（機能液滴吐出法）により、正孔注入／輸送
層形成材料を含む第１組成物を電極面５１１ａ上に吐出
する。なお、この第１機能液滴吐出工程以降は、水、酸
素の無い窒素雰囲気、アルゴン雰囲気等の不活性ガス雰
囲気で行うことが好ましい。（なお、画素電極上にのみ
正孔注入／輸送層を形成する場合は、有機物バンク層に
隣接して形成される正孔注入／輸送層は形成されない）

【０１０６】図２１に示すように、インクジェットヘッ
ド（機能液滴吐出ヘッド７）Ｈに正孔注入／輸送層形成
材料を含む第１組成物を充填し、インクジェットヘッド
Ｈの吐出ノズルを下部開口部５１２ｃ内に位置する電極
面５１１ａに対向させ、インクジェットヘッドＨと基板
５０１とを相対移動させながら、吐出ノズルから１滴当
たりの液量が制御された第１組成物滴５１０ｃを電極面
５１１ａ上に吐出する。

【０１０７】ここで用いる第１組成物としては、例え
ば、ポリエチレンジオキシチオフェン(PEDOT)等のポリ
チオフェン誘導体とポリスチレンスルホン酸(PSS)等の
混合物を、極性溶媒に溶解させた組成物を用いることが
できる。極性溶媒としては、例えば、イソプロピルアル
コール(IPA)、ノルマルブタノール、γ−ブチロラクト
ン、Ｎ−メチルピロリドン(NMP)、１，３−ジメチル−
２−イミダゾリジノン(DMI)及びその誘導体、カルビト
−ルアセテート、ブチルカルビト−ルアセテート等のグ
リコールエーテル類等を挙げることができる。なお、正
孔注入／輸送層形成材料は、Ｒ・Ｇ・Ｂの各発光層５１
０ｂに対して同じ材料を用いても良く、発光層毎に変え
ても良い。

【０１０８】図２１に示すように、吐出された第１組成
物滴５１０ｃは、親インク処理された電極面５１１ａ及
び第１積層部５１２ｅ上に広がり、下部、上部開口部５
１２ｃ、５１２ｄ内に満たされる。電極面５１１ａ上に
吐出する第１組成物量は、下部、上部開口部５１２ｃ、
５１２ｄの大きさ、形成しようとする正孔注入／輸送層
の厚さ、第１組成物中の正孔注入／輸送層形成材料の濃
度等により決定される。また、第１組成物滴５１０ｃは
１回のみならず、数回に分けて同一の電極面５１１ａ上
に吐出しても良い。

【０１０９】次に正孔注入／輸送層形成工程では、図２
２に示すように、吐出後の第１組成物を乾燥処理及び熱
処理して第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させるこ
とにより、電極面５１１ａ上に正孔注入／輸送層５１０
ａを形成する。乾燥処理を行うと、第１組成物滴５１０
ｃに含まれる極性溶媒の蒸発が、主に無機物バンク層５
１２ａ及び有機物バンク層５１２ｂに近いところで起
き、極性溶媒の蒸発に併せて正孔注入／輸送層形成材料
が濃縮されて析出する。

【０１１０】これにより図２２に示すように、乾燥処理
によって電極面５１１ａ上でも極性溶媒の蒸発が起き、
これにより電極面５１１ａ上に正孔注入／輸送層形成材
料からなる平坦部５１０ａが形成される。電極面５１１
ａ上では極性溶媒の蒸発速度がほぼ均一であるため、正
孔注入／輸送層の形成材料が電極面５１１ａ上で均一に
濃縮され、これにより均一な厚さの平坦部５１０ａが形
成される。

【０１１１】次に第２機能液滴吐出工程では、インクジ
ェット法（機能液滴吐出法）により、発光層形成材料を
含む第２組成物を正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出す
る。この第２機能液滴吐出工程では、正孔注入／輸送層
５１０ａの再溶解を防止するために、発光層形成の際に
用いる第２組成物の溶媒として、正孔注入／輸送層５１
０ａに対して不溶な非極性溶媒を用いる。

【０１１２】しかしその一方で正孔注入／輸送層５１０
ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶
媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐
出しても、正孔注入／輸送層５１０ａと発光層５１０ｂ
とを密着させることができなくなるか、あるいは発光層
５１０ｂを均一に塗布できないおそれがある。そこで、
非極性溶媒ならびに発光層形成材料に対する正孔注入／
輸送層５１０ａの表面の親和性を高めるために、発光層
を形成する前に表面改質工程を行うことが好ましい。

【０１１３】そこでまず、表面改質工程について説明す
る。表面改質工程は、発光層形成の際に用いる第１組成
物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒であ
る表面改質用溶媒を、インクジェット法（機能液滴吐出
法）、スピンコート法またはディップ法により正孔注入
／輸送層５１０ａ上に塗布した後に乾燥することにより
行う。

【０１１４】例えば、インクジェット法による塗布は、
図２３に示すように、インクジェットヘッドＨに、表面
改質用溶媒を充填し、インクジェットヘッドＨの吐出ノ
ズルを基板（すなわち、正孔注入／輸送層５１０ａが形
成された基板）に対向させ、インクジェットヘッドＨと
基板５０１とを相対移動させながら、吐出ノズルＨから
表面改質用溶媒５１０ｄを正孔注入／輸送層５１０ａ上
に吐出することにより行う。そして、図２４に示すよう
に、表面改質用溶媒５１０ｄを乾燥させる。

【０１１５】次に第２機能液滴吐出工程では、インクジ
ェット法（機能液滴吐出法）により、発光層形成材料を
含む第２組成物を正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出す
る。図２５に示すように、インクジェットヘッドＨに、
青色（Ｂ）発光層形成材料を含有する第２組成物を充填
し、インクジェットヘッドＨの吐出ノズルを下部、上部
開口部５１２ｃ、５１２ｄ内に位置する正孔注入／輸送
層５１０ａに対向させ、インクジェットヘッドＨと基板
５０１とを相対移動させながら、吐出ノズルから１滴当
たりの液量が制御された第２組成物滴５１０ｅとして吐
出し、この第２組成物滴５１０ｅを正孔注入／輸送層５
１０ａ上に吐出する。

【０１１６】発光層形成材料としては、ポリフルオレン
系高分子誘導体や、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘
導体、ポリフェニレン誘導体、ポリビニルカルバゾー
ル、ポリチオフェン誘導体、ペリレン系色素、クマリン
系色素、ローダミン系色素、あるいは上記高分子に有機
ＥＬ材料をドープして用いる事ができる。例えば、ルブ
レン、ペリレン、９，１０-ジフェニルアントラセン、
テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン
６、キナクリドン等をドープすることにより用いること
ができる。

【０１１７】非極性溶媒としては、正孔注入／輸送層５
１０ａに対して不溶なものが好ましく、例えば、シクロ
へキシルベンゼン、ジハイドロベンゾフラン、トリメチ
ルベンゼン、テトラメチルベンゼン等を用いることがで
きる。このような非極性溶媒を発光層５１０ｂの第２組
成物に用いることにより、正孔注入／輸送層５１０ａを
再溶解させることなく第２組成物を塗布できる。

【０１１８】図２５に示すように、吐出された第２組成
物５１０ｅは、正孔注入／輸送層５１０ａ上に広がって
下部、上部開口部５１２ｃ、５１２ｄ内に満たされる。
第２組成物５１０ｅは１回のみならず、数回に分けて同
一の正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出しても良い。こ
の場合、各回における第２組成物の量は同一でも良く、
各回毎に第２組成物量を変えても良い。

【０１１９】次に発光層形成工程では、第２組成物を吐
出した後に乾燥処理及び熱処理を施して、正孔注入／輸
送層５１０ａ上に発光層５１０ｂを形成する。乾燥処理
は、吐出後の第２組成物を乾燥処理することにより第２
組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発して、図２６に示す
ような青色（Ｂ）発光層５１０ｂを形成する。

【０１２０】続けて、図２７に示すように、青色（Ｂ）
発光層５１０ｂの場合と同様にして、赤色（Ｒ）発光層
５１０ｂを形成し、最後に緑色（Ｇ）発光層５１０ｂを
形成する。なお、発光層５１０ｂの形成順序は、前述の
順序に限られるものではなく、どのような順番で形成し
ても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順
番を決める事も可能である。

【０１２１】次に対向電極形成工程では、図２８に示す
ように、発光層５１０ｂ及び有機物バンク層５１２ｂの
全面に陰極５０３（対向電極）を形成する。なお，陰極
５０３は複数の材料を積層して形成しても良い。例え
ば、発光層に近い側には仕事関数が小さい材料を形成す
ることが好ましく、例えばＣａ、Ｂａ等を用いることが
可能であり、また材料によっては下層にＬｉＦ等を薄く
形成した方が良い場合もある。また、上部側（封止側）
には下部側よりも仕事関数が高いものが好ましい。これ
らの陰極（陰極層）５０３は、例えば蒸着法、スパッタ
法、ＣＶＤ法等で形成することが好ましく、特に蒸着法
で形成することが、発光層５１０ｂの熱による損傷を防
止できる点で好ましい。

【０１２２】また、フッ化リチウムは、発光層５１０ｂ
上のみに形成しても良く、更に青色（Ｂ）発光層５１０
ｂ上のみに形成しても良い。この場合、他の赤色（Ｒ）
発光層及び緑色（Ｇ）発光層５１０ｂ、５１０ｂには、
ＬｉＦからなる上部陰極層５０３ｂが接することとな
る。また陰極１２の上部には、蒸着法、スパッタ法、Ｃ
ＶＤ法等により形成したＡｌ膜、Ａｇ膜等を用いること
が好ましい。また、陰極５０３上に、酸化防止のために
ＳｉＯ₂、ＳｉＮ等の保護層を設けても良い。

【０１２３】最後に、図２９に示す封止工程では、窒
素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰囲気中で、有
機ＥＬ素子５０４上に封止用基板５０５を積層する。封
止工程は、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰
囲気で行うことが好ましい。大気中で行うと、陰極５０
３にピンホール等の欠陥が生じていた場合にこの欠陥部
分から水や酸素等が陰極５０３に侵入して陰極５０３が
酸化されるおそれがあるので好ましくない。そして最後
に、フレキシブル基板の配線に陰極５０３を接続すると
ともに、駆動ＩＣに回路素子部５０２の配線を接続する
ことにより、本実施形態の有機ＥＬ装置５００が得られ
る。

【０１２４】なお、画素電極５１１および陰極（対向電
極）５０３の形成において、インクジェットヘッドＨに
よるインクジェット方式を採用してもよい。すなわち、
液体の電極材料をインクジェットヘッドＨにそれぞれ導
入し、これをインクジェットヘッドＨから吐出して、画
素電極５１１および陰極５０３をそれぞれ形成する（乾
燥工程を含む）。

【０１２５】同様に、本実施形態の機能液滴吐出装置１
０は、電子放出装置の製造方法、ＰＤＰ装置の製造方法
および電気泳動表示装置の製造方法等に、適用すること
ができる。

【０１２６】電子放出装置の製造方法では、複数の機能
液滴吐出ヘッド７にＲ、Ｇ、Ｂ各色の各色の蛍光材料を
導入し、複数の機能液滴吐出ヘッド７を主走査および副
走査し、蛍光材料を選択的に吐出して、電極上に多数の
蛍光体を形成する。なお、電子放出装置は、ＦＥＤ（電
界放出ディスプレイ）を含む上位の概念である。

【０１２７】ＰＤＰ装置の製造方法では、複数の機能液
滴吐出ヘッド７にＲ、Ｇ、Ｂ各色の各色の蛍光材料を導
入し、複数の機能液滴吐出ヘッド７を主走査および副走
査し、蛍光材料を選択的に吐出して、背面基板上の多数
の凹部にそれそれ蛍光体を形成する。

【０１２８】電気泳動表示装置の製造方法では、複数の
機能液滴吐出ヘッド７に各色の泳動体材料を導入し、複
数の機能液滴吐出ヘッド７を主走査および副走査し、イ
ンク材料を選択的に吐出して、電極上の多数の凹部にそ
れぞれ泳動体を形成する。なお、帯電粒子と染料とから
成る泳動体は、マイクロカプセルに封入されていること
が、好ましい。

【０１２９】一方、本実施形態の機能液滴吐出装置１０
は、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成
方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法等に
も、適用可能である。

【０１３０】スペーサ形成方法は、２枚の基板間に微小
なセルギャップを構成すべく多数の粒子状のスペーサを
形成するものであり、複数の機能液滴吐出ヘッド７にス
ペーサを構成する粒子材料を導入し、複数の機能液滴吐
出ヘッド７を主走査および副走査し、粒子材料を選択的
に吐出して少なくとも一方の基板上にスペーサを形成す
る。例えば、上記の液晶表示装置や電気泳動表示装置に
おける２枚の基板間のセルギャップを構成する場合に有
用であり、その他この種の微小なギャップを必要とする
半導体製造技術に適用できることはいうまでもない。

【０１３１】金属配線形成方法では、複数の機能液滴吐
出ヘッド７に液状金属材料を導入し、複数の機能液滴吐
出ヘッド７を主走査および副走査し、液状金属材料を選
択的に吐出して、基板上に金属配線を形成する。例え
ば、上記の液晶表示装置におけるドライバと各電極とを
接続する金属配線や、上記の有機ＥＬ装置におけるＴＦ
Ｔ等と各電極とを接続する金属配線に適用することがで
きる。また、この種のフラットディスプレイの他、一般
的な半導体製造技術に適用できることはいうまでもな
い。

【０１３２】レンズ形成方法では、複数の機能液滴吐出
ヘッド７にレンズ材料を導入し、複数の機能液滴吐出ヘ
ッド７を主走査および副走査し、レンズ材料を選択的に
吐出して、透明基板上に多数のマイクロレンズを形成す
る。例えば、上記のＦＥＤ装置におけるビーム収束用の
デバイスとして適用可能である。また、各種の光デバイ
スに適用可能であることはいうまでもない。

【０１３３】レジスト形成方法では、複数の機能液滴吐
出ヘッド７にレジスト材料を導入し複数の機能液滴吐出
ヘッド７を主走査および副走査し、レジスト材料を選択
的に吐出して、基板上に任意形状のフォトレジストを形
成する。例えば、上記の各種表示装置おけるバンクの形
成は元より、半導体製造技術の主体を為すフォトリソグ
ラフィー法において、フォトレジストの塗布に広く適用
可能である。

【０１３４】光拡散体形成方法では、基板上に多数の光
拡散体を形成する光拡散体形成方法であって、複数の機
能液滴吐出ヘッド７に光拡散材料を導入し、複数の機能
液滴吐出ヘッド７を主走査および副走査し、光拡散材料
を選択的に吐出して多数の光拡散体を形成する。この場
合も、各種の光デバイスに適用可能であることはいうま
でもない。

【０１３５】

【発明の効果】以上のように、本発明の可視データ生成
方法、可視データ生成装置並びにこれを備えた機能液滴
吐出装置によれば、実際に機能液滴吐出ヘッド７から機
能液滴を吐出することなく、描画されるイメージを確認
することができるため、時間と吐出材料の無駄を省くこ
とができる、などの効果を奏する。

【０１３６】一方、本発明の液晶表示装置の製造方法、
有機ＥＬ装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、Ｐ
ＤＰ装置の製造方法および電気泳動表示装置の製造方法
によれば、各装置におけるフィルタ材料や発光材料等に
適した機能液滴吐出ヘッドを簡単に導入することができ
るため、製造効率を向上させることができる。

【０１３７】また、本発明のカラーフィルタの製造方
法、有機ＥＬの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線
形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光
拡散体形成方法によれば、各電子デバイスや各光デバイ
スにおけるフィルタ材料や発光材料等に適した機能液滴
吐出ヘッドを簡単に導入することができため、製造効率
を向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施形態に係る機能液滴吐出装置の模式図で
ある。

【図２】実施形態に係る機能液滴吐出装置の制御系の
ブロック図である。

【図３】実施形態に係る描画パターンデータ生成方法
を示すフローチャートである。

【図４】実施形態に係るパターンデータを示す図であ
る。

【図５】実施形態に係るパターンデータ、シフトパタ
ーンデータおよびこれに基づく描画結果を示す図であ
る。

【図６】実施形態に係るパターンデータの色別の分割
方法を示す図である。

【図７】実施形態に係るバイナリ化された描画パター
ンデータを示す図である。

【図８】実施形態に係るパターンデータのドット重な
り回数別の分割方法を示す図である。

【図９】実施形態に係る描画方法を示す図である。

【図１０】実施形態に係る可視データ生成方法を示す
フローチャートである。

【図１１】実施形態に係る画像データを示す図であ
る。

【図１２】実施形態に係るテキスト化された可視デー
タを示す図である。

【図１３】実施形態に係るテキスト化されたシフト可
視データを示す図である。

【図１４】実施形態のカラーフィルタの製造方法によ
り製造されるカラーフィルタの部分拡大図である。

【図１５】実施形態のカラーフィルタの製造方法を模
式的に示す製造工程断面図である。

【図１６】実施形態のカラーフィルタの製造方法によ
り製造される液晶表示装置の断面図である。

【図１７】実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法に
おけるバンク部形成工程（無機物バンク）の断面図であ
る。

【図１８】実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法に
おけるバンク部形成工程（有機物バンク）の断面図であ
る。

【図１９】実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法に
おけるプラズマ処理工程（親水化処理）の断面図であ
る。

【図２０】実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法に
おけるプラズマ処理工程（撥水化処理）の断面図であ
る。

【図２１】実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法に
おける正孔注入層形成工程（機能液滴吐出）の断面図で
ある。

【図２２】実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法に
おける正孔注入層形成工程（乾燥）の断面図である。

【図２３】実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法に
おける表面改質工程（機能液滴吐出）の断面図である。

【図２４】実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法に
おける表面改質工程（乾燥）の断面図である。

【図２５】実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法に
おけるＢ発光層形成工程（機能液滴吐出）の断面図であ
る。

【図２６】実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法に
おけるＢ発光層形成工程（乾燥）の断面図である。

【図２７】実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法に
おけるＲ・Ｇ・Ｂ発光層形成工程の断面図である。

【図２８】実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法に
おける対向電極形成工程の断面図である。

【図２９】実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法に
おける封止工程の断面図である。

【符号の説明】

７機能液滴吐出ヘッド１０機能液滴吐出装
置２３Ｘ軸テーブル２４Ｙ軸テーブル２５メインキャリッジ２６ヘッドユニッ
ト２８吸着テーブル３７ノズル列３８ノズル４１サブキャリッ
ジ５０画像データ６０パターンデー
タ７０シフトパターンデータ８０描画パターン
データ９０可視データ１１０ヘッド部１２０駆動部１３０電源部１４０送り検出部１５０制御部１５１第１ＰＣ１５２第２ＰＣ４００カラーフィルタ４１２画素４１５バンク層４１６インク層４２２オーバーコート層４６６基板５００有機ＥＬ装置５０１基板５０２回路素子部５０４有機ＥＬ素
子５１０ａ正孔注入／輸送層５１０ｂ発光層Ｗ基板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０２Ｆ 1/1339 ５００Ｈ０１Ｊ 9/02 Ｆ３Ｋ００７Ｈ０１Ｊ 9/02 9/227 Ｃ５Ｃ０２７ 9/227 Ｅ５Ｃ０２８ 11/02 Ｂ５Ｃ０４０ 11/02 Ｈ０５Ｂ 33/10 Ｈ０５Ｂ 33/10 33/14 Ａ 33/14 Ｂ４１Ｊ 3/04 １０１ＺＦターム(参考） 2C056 EA24 FB01 2C187 AC02 AC08 AF03 AG15 BF36 CD12 CD17 CD22 DB31 2H048 BA02 BA11 BA64 BB02 BB41 BB42 BB46 2H089 LA01 LA11 MA03X NA01 NA05 NA12 QA12 2H091 FA02X FA02Y FA02Z FB02 FC29 FD04 GA01 LA12 LA15 3K007 AB11 AB18 DB03 FA01 5C027 AA09 5C028 FF16 HH14 5C040 FA01 FA02 GF19 GG09 JA13 JA40 MA22 MA23 MA26 (54)【発明の名称】可視データ生成方法、可視データ生成装置並びにこれを備えた機能液滴吐出装置、液晶表示装置の製造方法、有機ＥＬ装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、ＰＤＰ装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機ＥＬの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】機能液滴吐出ヘッドからワークに機能液
滴を選択的に吐出して描画するためのバイナリ化された
描画パターンデータに基づき、可視データを生成する可
視データ生成方法であって、前記描画パターンデータに基づき、ビット演算によりパ
ターンデータを生成し、前記パターンデータに基づき、可視化プログラムにより
可視化された前記可視データを生成することを特徴とす
る可視データ生成方法。
【請求項２】複数のノズルを有する機能液滴吐出ヘッ
ドからワークに機能液滴を選択的に吐出して描画するた
めのバイナリ化された描画パターンデータに基づき、可
視データを生成する可視データ生成方法であって、前記描画パターンデータから、前記複数のノズルに対応
する１列分の描画パターンデータを抽出し、前記１列分の描画パターンデータに基づき、ビット演算
により１列分のパターンデータを生成し、前記１列分のパターンデータを全列分積層させることに
より、全パターンデータを生成し、前記全パターンデータに基づき、可視化プログラムによ
り可視化された前記可視データを生成することを特徴と
する可視データ生成方法。
【請求項３】前記機能液滴吐出ヘッドが印刷方向に対
して所定角度の傾きを有している場合、前記全パターンデータに対し、前記所定角度に対応した
回転シフト処理を行うことでシフトパターンデータを生
成し、前記シフトパターンデータに基づき、前記可視データを
生成することを特徴とする請求項２に記載の可視データ
生成方法。
【請求項４】前記可視化プログラムは、前記パターン
データをテキスト化することを特徴とする請求項１、２
または３に記載の可視データ生成方法。
【請求項５】前記可視化プログラムは、前記パターン
データをビットマップ化することを特徴とする請求項
１、２または３に記載の可視データ生成方法。
【請求項６】前記描画パターンデータに、ドットサイ
ズを制御可能なパラメータが含まれる場合、前記パターンデータには、前記パラメータに基づいてド
ットサイズ情報が書き込まれ、前記可視データは、前記ドットサイズ情報に基づいて生
成されることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか
に記載の可視データ生成方法。
【請求項７】機能液滴吐出ヘッドからワークに機能液
滴を選択的に吐出して描画するためのバイナリ化された
描画パターンデータに基づき、可視データを生成する可
視データ生成装置であって、前記描画パターンデータに基づき、ビット演算によりパ
ターンデータを生成するパターンデータ生成手段と、前記パターンデータに基づき、可視化プログラムにより
可視化された可視データを生成する可視データ生成手
段、を備えたことを特徴とする可視データ生成装置。
【請求項８】複数のノズルを有する機能液滴吐出ヘッ
ドからワークに機能液滴を選択的に吐出して描画するた
めのバイナリ化された描画パターンデータに基づき、可
視データを生成する可視データ生成装置であって、前記描画パターンデータから、前記複数のノズルに対応
する１列分の描画パターンデータを抽出する抽出手段
と、前記１列分の描画パターンデータに基づき、ビット演算
により１列分のパターンデータを生成する部分パターン
データ生成手段と、前記１列分のパターンデータを全列分積層させることに
より、全パターンデータを生成する全パターンデータ生
成手段と、前記全パターンデータに基づき、可視化プログラムによ
り可視化された前記可視データを生成する可視データ生
成手段、を備えたことを特徴とする可視データ生成装
置。
【請求項９】前記機能液滴吐出ヘッドが印刷方向に対
して所定角度の傾きを有している場合、前記全パターンデータに対し、前記所定角度に対応した
回転シフト処理を行うことでシフトパターンデータを生
成するシフトパターンデータ生成手段を更に備え、前記可視データ生成手段は、前記シフトパターンデータ
に基づき、前記可視データを生成することを特徴とする
請求項８に記載の可視データ生成装置。
【請求項１０】前記可視データ生成手段は、前記パタ
ーンデータをテキスト化する前記可視化プログラムによ
って、前記可視データを生成することを特徴とする請求
項７、８または９に記載の可視データ生成装置。
【請求項１１】前記可視データ生成手段は、前記パタ
ーンデータをビットマップ化する前記可視化プログラム
によって、前記可視データを生成することを特徴とする
請求項７、８または９に記載の可視データ生成装置。
【請求項１２】前記描画パターンデータに、ドットサ
イズを制御可能なパラメータが含まれる場合、前記パターンデータ生成手段には、前記パラメータに基
づいてドットサイズ情報を書き込む手段が含まれ、前記可視データ生成手段は、前記ドットサイズ情報に基
づいて前記可視データを生成することを特徴とする請求
項７ないし１１のいずれかに記載の可視データ生成装
置。
【請求項１３】請求項７ないし１２のいずれかに記載
の可視データ生成装置を備えたことを特徴とする機能液
滴吐出装置。
【請求項１４】請求項１３に記載の機能液滴吐出装置
を用い、カラーフィルタの基板上に多数のフィルタエレ
メントを形成する液晶表示装置の製造方法であって、複数の前記機能液滴吐出ヘッドに各色のフィルタ材料を
導入し、前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査
し、前記フィルタ材料を選択的に吐出して多数の前記フ
ィルタエレメントを形成することを特徴とする液晶表示
装置の製造方法。
【請求項１５】請求項１３に記載の機能液滴吐出装置
を用い、基板上の多数の絵素ピクセルにそれぞれＥＬ発
光層を形成する有機ＥＬ装置の製造方法であって、複数の前記機能液滴吐出ヘッドに各色の発光材料を導入
し、前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査
し、前記発光材料を選択的に吐出して多数の前記ＥＬ発
光層を形成することを特徴とする有機ＥＬ装置の製造方
法。
【請求項１６】請求項１３に記載の機能液滴吐出装置
を用い、電極上に多数の蛍光体を形成する電子放出装置
の製造方法であって、複数の前記機能液滴吐出ヘッドに各色の蛍光材料を導入
し、前記機能液滴吐出ヘッドを前記電極に対し相対的に走査
し、前記蛍光材料を選択的に吐出して多数の前記蛍光体
を形成することを特徴とする電子放出装置の製造方法。
【請求項１７】請求項１３に記載の機能液滴吐出装置
を用い、背面基板上の多数の凹部にそれぞれ蛍光体を形
成するＰＤＰ装置の製造方法であって、複数の前記機能液滴吐出ヘッドに各色の蛍光材料を導入
し、前記機能液滴吐出ヘッドを前記背面基板に対し相対的に
走査し、前記蛍光材料を選択的に吐出して多数の前記蛍
光体を形成することを特徴とするＰＤＰ装置の製造方
法。
【請求項１８】請求項１３に記載の機能液滴吐出装置
を用い、電極上の多数の凹部に泳動体を形成する電気泳
動表示装置の製造方法であって、複数の前記機能液滴吐出ヘッドに各色の泳動体材料を導
入し、前記機能液滴吐出ヘッドを前記電極に対し相対的に走査
し、前記泳動体材料を選択的に吐出して多数の前記泳動
体を形成することを特徴とする電気泳動表示装置の製造
方法。
【請求項１９】請求項１３に記載の機能液滴吐出装置
を用い、基板上に多数のフィルタエレントを配列して成
るカラーフィルタを製造するカラーフィルタの製造方法
であって、複数の前記機能液滴吐出ヘッドに各色のフィルタ材料を
導入し、前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査
し、前記フィルタ材料を選択的に吐出して多数の前記フ
ィルタエレメントを形成することを特徴とするカラーフ
ィルタの製造方法。
【請求項２０】前記多数のフィルタエレメントを被覆
するオーバーコート膜が形成されており、前記フィルタエレメントを形成した後に、複数の前記機能液滴吐出ヘッドに透光性のコーティング
材料を導入し、前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査
し、前記コーティング材料を選択的に吐出して前記オー
バーコート膜を形成することを特徴とする請求項１９に
記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項２１】請求項１３に記載の機能液滴吐出装置
を用い、ＥＬ発光層を含む多数の絵素ピクセルを基板上
に配列して成る有機ＥＬの製造方法であって、複数の前記機能液滴吐出ヘッドに各色の発光材料を導入
し、前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査
し、前記発光材料を選択的に吐出して多数の前記ＥＬ発
光層を形成することを特徴とする有機ＥＬの製造方法。
【請求項２２】多数の前記ＥＬ発光層と前記基板との
間には、前記ＥＬ発光層に対応して多数の画素電極が形
成されており、複数の前記機能液滴吐出ヘッドに液状電極材料を導入
し、前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査
し、前記液状電極材料を選択的に吐出して多数の前記画
素電極を形成することを特徴とする請求項２１に記載の
有機ＥＬの製造方法。
【請求項２３】多数の前記ＥＬ発光層を覆うように対
向電極が形成されており、前記ＥＬ発光層を形成した後に、複数の前記機能液滴吐出ヘッドに液状電極材料を導入
し、前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査
し、前記液状電極材料を選択的に吐出して前記対向電極
を形成することを特徴とする請求項２２に記載の有機Ｅ
Ｌの製造方法。
【請求項２４】請求項１３に記載の機能液滴吐出装置
を用い、２枚の基板間に微小なセルギャップを構成すべ
く多数の粒子状のスペーサを形成するスペーサ形成方法
であって、複数の前記機能液滴吐出ヘッドにスペーサを構成する粒
子材料を導入し、前記機能液滴吐出ヘッドを少なくとも一方の前記基板に
対し相対的に走査し、前記粒子材料を選択的に吐出して
前記基板上に前記スペーサを形成することを特徴とする
スペーサ形成方法。
【請求項２５】請求項１３に記載の機能液滴吐出装置
を用い、基板上に金属配線を形成する金属配線形成方法
であって、複数の前記機能液滴吐出ヘッドに液状金属材料を導入
し、前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査
し、前記液状金属材料を選択的に吐出して前記金属配線
を形成することを特徴とする金属配線形成方法。
【請求項２６】請求項１３に記載の機能液滴吐出装置
を用い、基板上に多数のマイクロレンズを形成するレン
ズ形成方法であって、複数の前記機能液滴吐出ヘッドにレンズ材料を導入し、前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査
し、前記レンズ材料を選択的に吐出して多数の前記マイ
クロレンズを形成することを特徴とするレンズ形成方
法。
【請求項２７】請求項１３に記載の機能液滴吐出装置
を用い、基板上に任意形状のレジストを形成するレジス
ト形成方法であって、複数の前記機能液滴吐出ヘッドにレジスト材料を導入
し、前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査
し、前記レジスト材料を選択的に吐出して前記レジスト
を形成することを特徴とするレジスト形成方法。
【請求項２８】請求項１３に記載の機能液滴吐出装置
を用い、基板上に多数の光拡散体を形成する光拡散体形
成方法であって、複数の前記機能液滴吐出ヘッドに光拡散材料を導入し、前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査
し、前記光拡散材料を選択的に吐出して多数の前記光拡
散体を形成することを特徴とする光拡散体形成方法。