JP3864796B2 - 描画パターンデータ生成方法、描画パターンデータ生成装置並びにこれを備えた機能液滴吐出装置、液晶表示装置の製造方法、有機ｅｌ装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、ｐｄｐ装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機ｅｌの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法 - Google Patents
描画パターンデータ生成方法、描画パターンデータ生成装置並びにこれを備えた機能液滴吐出装置、液晶表示装置の製造方法、有機ｅｌ装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、ｐｄｐ装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機ｅｌの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法 Download PDFInfo
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、画像データに基づき、機能液滴吐出ヘッドからワークに機能液滴を選択的に吐出して描画するための描画パターンデータ生成方法、描画パターンデータ生成装置並びにこれを備えた機能液滴吐出装置、液晶表示装置の製造方法、有機ＥＬ装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、ＰＤＰ装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機ＥＬの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、インクジェットプリンタなど、画像データに基づき、機能液滴吐出ヘッド（印刷ヘッド）からワークに機能液滴（インク）を選択的に吐出することで描画（印刷）を行う機能液滴吐出装置は、モザイク配列、ストライプ配列、デルタ配列など規則的な一定配列を有するドットパターンに基づいて描画を行っていた。このため、機能液滴吐出ヘッドを駆動するための描画パターンデータは、一定配列を発生するアルゴリズムを有したプログラムにより、直接最終形式（ヘッド駆動装置が受信可能なバイナリ形式）のデータを生成していた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、このようなプログラムにより描画パターンデータを生成する方法では、一定配列を有しないドットパターンを描画することができなかった。
【０００４】
本発明は、一定配列を有しないドットパターンも描画可能な描画パターンデータを生成する描画パターンデータ生成方法、描画パターンデータ生成装置並びにこれを備えた機能液滴吐出装置、液晶表示装置の製造方法、有機ＥＬ装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、ＰＤＰ装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機ＥＬの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法を提供することを課題としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明の描画パターンデータ生成方法は、画像データに基づき、複数のノズルを有する機能液滴吐出ヘッドからワークに機能液滴を選択的に吐出して描画するための描画パターンデータを生成する描画パターンデータ生成方法であって、画像データに基づいて、複数のノズルに対応する１配列分のセル数と機能液滴吐出ヘッドの吐出分解能に対応するセル数とをそれぞれ列・行方向に配列したマトリクスから成る、描画パターンデータの配列領域を確保し、画像データに基づいて生成された、色情報、ドットサイズ情報、ドット重なり回数情報のうち、少なくとも２以上の情報を含む描画イメージ情報を、配列領域の対応する各セルに書き込むことで、１配列分のパターンデータを生成し、１配列分のパターンデータをバイナリ出力することで描画パターンデータを生成することを特徴とする。
【０００６】
本発明の描画パターンデータ生成装置は、画像データに基づき、複数のノズルを有する機能液滴吐出ヘッドからワークに機能液滴を選択的に吐出して描画するための描画パターンデータを生成する描画パターンデータ生成装置であって、画像データに基づいて、複数のノズルに対応する１配列分のセル数と機能液滴吐出ヘッドの吐出分解能に対応するセル数とをそれぞれ列・行方向に配列したマトリクスから成る、描画パターンデータの配列領域を確保する配列領域確保手段と、画像データに基づいて生成された、色情報、ドットサイズ情報、ドット重なり回数情報のうち、少なくとも２以上の情報を含む描画イメージ情報を、配列領域の対応する各セルに書き込むことで、１配列分のパターンデータを生成するパターンデータ生成手段と、１配列分のパターンデータをバイナリ出力することで描画パターンデータを生成する描画パターンデータ生成手段と、を備えたことを特徴とする。
【０００７】
この構成によれば、画像データに基づいて配列領域を確保し、これに描画イメージ情報を書き込むことで、パターンデータを生成し、さらにこのパターンデータをバイナリ出力することで、機能液滴吐出ヘッドからワークに機能液滴を選択的に吐出して描画するための、バイナリ化された描画パターンデータを生成することができる。すなわち、一定配列を発生するアルゴリズムを有したプログラムにより、直接最終形式（バイナリ形式）のデータを生成するものではないため、一定配列を有するか否かに関わらず、あらゆるドットパターンを描画することができる。
【０００８】
上記において、機能液滴吐出ヘッドが印刷方向に対して所定角度の傾きを有している場合、パターンデータに対し、所定角度に対応した回転シフト処理を行うことで、シフトパターンデータを生成し、シフトパターンデータをバイナリ出力することで描画パターンデータを生成することが好ましい。
【０００９】
上記において、機能液滴吐出ヘッドが印刷方向に対して所定角度の傾きを有している場合、パターンデータに対し、所定角度に対応した回転シフト処理を行うことで、シフトパターンデータを生成するシフトパターン生成手段を更に備え、描画パターンデータ生成手段は、シフトパターンデータをバイナリ出力することで描画パターンデータを生成することが好ましい。
【００１０】
この構成によれば、パターンデータに対して、機能液滴吐出ヘッドの印刷方向に対する所定角度の傾きに対応した回転シフト処理を行うことで、シフトパターンデータを生成し、これをバイナリ出力することで描画パターンデータを生成するため、描画されるイメージが機能液滴吐出ヘッドの傾きによって傾斜することがない。すなわち、元の画像データに近い描画結果が得られる描画パターンデータを生成することができる。
【００１１】
この場合、パターンデータを、複数のノズルに対応した１配列毎に回転シフト処理を行うことで１配列毎のシフトパターンデータを生成し、１配列毎のシフトパターンデータをバイナリ出力することで描画パターンデータを生成することが好ましい。
【００１２】
この場合、シフトパターンデータ生成手段は、パターンデータを、複数のノズルに対応した１配列毎に回転シフト処理を行うことで１配列毎のシフトパターンデータを生成し、描画パターンデータ生成手段は、１配列毎のシフトパターンデータをバイナリ出力することで描画パターンデータを生成することが好ましい。
【００１３】
この構成によれば、パターンデータを、機能液滴吐出ヘッドに配列された複数のノズルに対応した１配列毎に回転シフト処理を行うことで１配列毎のシフトパターンデータを生成し、これをバイナリ出力することで描画パターンデータを生成するため、回転シフト処理（演算処理）が複雑化することなく、容易に行うことができる。
【００１４】
上記において、描画イメージ情報が色情報を有する場合、パターンデータには、色情報が書き込まれ、色情報に基づき、描画パターンデータは、色別にバイナリ出力されることが好ましい。
【００１５】
上記において、描画イメージ情報が色情報を有する場合、パターンデータ生成手段には、色情報を書き込む手段が含まれ、描画パターンデータ生成手段は、色情報に基づき、描画パターンデータを、色別にバイナリ出力することが好ましい。
【００１６】
この構成によれば、描画イメージ情報が色情報を有する場合、すなわち、画像データがカラーである場合、パターンデータには、この色情報が書き込まれるため、１のパターンデータで、吐出または不吐出に関するデータだけでなく、色に関する情報（データ）も保持することができる。すなわち、１のパターンデータに多値の情報を効率よく保持させることができる。また、描画パターンデータは、色別にバイナリ出力されるため、機能液滴吐出ヘッドからカラーの機能液滴を効率よく吐出させることができる。
【００１７】
上記において、描画イメージ情報がドットサイズ情報を有する場合、パターンデータには、ドットサイズ情報が書き込まれ、ドットサイズ情報に基づき、描画パターンデータには、ドットサイズを制御可能なパラメータが書き込まれることが好ましい。
【００１８】
上記において、描画イメージ情報がドットサイズ情報を有する場合、パターンデータ生成手段には、ドットサイズ情報を書き込む手段が含まれ、描画パターンデータ生成手段は、ドットサイズ情報に基づき、ドットサイズを制御可能なパラメータを描画パターンデータに書き込むことが好ましい。
【００１９】
この構成によれば、描画イメージ情報がドットサイズ情報を有する場合、パターンデータには、このドットサイズ情報が書き込まれるため、１のパターンデータで、吐出または不吐出に関するデータだけでなく、ドットサイズに関する情報（データ）も保持することができる。すなわち、１のパターンデータに多値の情報を効率よく保持させることができる。また、ドットサイズ情報に基づき、描画パターンデータには、ドットサイズを制御可能なパラメータが書き込まれるため、機能液滴吐出ヘッドから様々な量の機能液滴を吐出させることができる。
【００２０】
上記において、描画イメージ情報がドット重なり回数情報を有する場合、パターンデータには、ドット重なり回数情報が書き込まれ、描画パターンデータは、ドット重なり回数情報から得られる最多重なり回数に分割して、バイナリ出力されることが好ましい。
【００２１】
上記において、描画イメージ情報がドット重なり回数情報を有する場合、パターンデータ生成手段には、ドット重なり回数情報を書き込む手段が含まれ、描画パターンデータ生成手段は、ドット重なり回数情報から得られる最多重なり回数に分割して、描画パターンデータをバイナリ出力することが好ましい。
【００２２】
この構成によれば、描画イメージ情報がドット重なり回数情報を有する場合、すなわち、パターンデータには、このドット重なり回数情報が書き込まれるため、１のパターンデータで、吐出または不吐出に関するデータだけでなく、ドットの重なり回数に関する情報（データ）も保持することができる。すなわち、１のパターンデータに多値の情報を効率よく保持させることができる。また、描画パターンデータは、ドット重なり回数情報から得られる最多重なり回数に分割して、バイナリ出力されるため、機能液滴吐出ヘッドから機能液滴を効率よく吐出させることができる。
【００２３】
本発明の機能液滴吐出装置は、上記のいずれかに記載の描画パターンデータ生成装置を備えたことを特徴とする。
【００２４】
この構成によれば、一定配列を有するか否かに関わらず、あらゆるドットパターンを描画可能な機能液滴吐出装置を提供することができる。
【００２５】
本発明の液晶表示装置の製造方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、カラーフィルタの基板上に多数のフィルタエレメントを形成する液晶表示装置の製造方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに各色のフィルタ材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、フィルタ材料を選択的に吐出して多数の前記フィルタエレメントを形成することを特徴とする。
【００２６】
本発明の有機ＥＬ装置の製造方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、基板上の多数の絵素ピクセルにそれぞれＥＬ発光層を形成する有機ＥＬ装置の製造方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに各色の発光材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、発光材料を選択的に吐出して多数のＥＬ発光層を形成することを特徴とする。
【００２７】
本発明の電子放出装置の製造方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、電極上に多数の蛍光体を形成する電子放出装置の製造方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに各色の蛍光材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを電極に対し相対的に走査し、蛍光材料を選択的に吐出して多数の蛍光体を形成することを特徴とする。
【００２８】
本発明のＰＤＰ装置の製造方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、背面基板上の多数の凹部にそれぞれ蛍光体を形成するＰＤＰ装置の製造方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに各色の蛍光材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを背面基板に対し相対的に走査し、蛍光材料を選択的に吐出して多数の蛍光体を形成することを特徴とする。
【００２９】
本発明の電気泳動表示装置の製造方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、電極上の多数の凹部に泳動体を形成する電気泳動表示装置の製造方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに各色の泳動体材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを電極に対し相対的に走査し、泳動体材料を選択的に吐出して多数の泳動体を形成することを特徴とする。
【００３０】
このように、上記の機能液滴吐出装置を、液晶表示装置の製造方法、有機ＥＬ（Electro-Luminescence）装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、ＰＤＰ（Plasma Display Panel）装置の製造方法および電気泳動表示装置の製造方法に適用することにより、各装置に求められるフィルタ材料や発光材料等を、適切な位置に適切な量を選択的に供給することができる。なお、液滴吐出ヘッドの走査は、一般的には主走査および副走査となるが、いわゆる１ラインを単一の液滴吐出ヘッドで構成する場合には、副走査のみとなる。また、電子放出装置は、いわゆるＦＥＤ（Field Emission Display）装置を含む概念である。
【００３１】
本発明のカラーフィルタの製造方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、基板上に多数のフィルタエレメントを配列して成るカラーフィルタを製造するカラーフィルタの製造方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに各色のフィルタ材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、フィルタ材料を選択的に吐出して多数のフィルタエレメントを形成することを特徴とする。
この場合、多数のフィルタエレメントを被覆するオーバーコート膜が形成されており、フィルタエレメントを形成した後に、複数の機能液滴吐出ヘッドに透光性のコーティング材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、コーティング材料を選択的に吐出してオーバーコート膜を形成することが、好ましい。
【００３２】
本発明の有機ＥＬの製造方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、ＥＬ発光層を含む多数の複数の絵素ピクセルを基板上に配列して成る有機ＥＬの製造方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに各色の発光材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、発光材料を選択的に吐出して多数のＥＬ発光層を形成することを特徴とする。
この場合、多数のＥＬ発光層と基板との間には、ＥＬ発光層に対応して多数の画素電極が形成されており、複数の機能液滴吐出ヘッドに液状電極材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、液状電極材料を選択的に吐出して多数の画素電極を形成することが、好ましい。
この場合、多数のＥＬ発光層を覆うように対向電極が形成されており、ＥＬ発光層を形成した後に、複数の機能液滴吐出ヘッドに液状電極材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、液状電極材料を選択的に吐出して対向電極を形成することが、好ましい。
【００３３】
本発明のスペーサ形成方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、２枚の基板間に微小なセルギャップを構成すべく多数の粒子状のスペーサを形成するスペーサ形成方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドにスペーサを構成する粒子材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを少なくとも一方の基板に対し相対的に走査し、粒子材料を選択的に吐出して基板上にスペーサを形成することを特徴とする。
【００３４】
本発明の金属配線形成方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、基板上に金属配線を形成する金属配線形成方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに液状金属材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、液状金属材料を選択的に吐出して金属配線を形成することを特徴とする。
【００３５】
本発明のレンズ形成方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、基板上に多数のマイクロレンズを形成するレンズ形成方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドにレンズ材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、レンズ材料を選択的に吐出して多数のマイクロレンズを形成することを特徴とする。
【００３６】
本発明のレジスト形成方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、基板上に任意形状のレジストを形成するレジスト形成方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドにレジスト材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、レジスト材料を選択的に吐出してレジストを形成することを特徴とする。
【００３７】
本発明の光拡散体形成方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、基板上に多数の光拡散体を形成する光拡散体形成方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに光拡散材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、光拡散材料を選択的に吐出して多数の光拡散体を形成することを特徴とする。
【００３８】
このように、上記の機能液滴吐出装置を、カラーフィルタの製造方法、有機ＥＬの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法に適用することにより、各電子デバイスや各光デバイスに求められるフィルタ材料や発光材料等を、適切な位置に適切な量を選択的に供給することができる。
【００３９】
【発明の実施の形態】
以下、添付の図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。機能液滴吐出装置は、その機能液滴吐出ヘッドに配列された複数のノズルから、微小な液滴をドット状に精度良く吐出することができることから、機能液に特殊なインクや感光性・発光性の樹脂等を用いることにより、各種部品の製造分野への応用が期待されている。
【００４０】
本実施形態の描画パターンデータ生成装置およびこれを備えた機能液滴吐出装置は、例えば液晶表示装置や有機ＥＬ装置等の、いわゆるフラットディスプレイの製造装置に適用され、その複数の機能液滴吐出ヘッドからフィルタ材料や発光材料等の機能液を吐出して（インクジェット方式）、液晶表示装置におけるＲ．Ｇ．Ｂのフィルタエレメントや、有機ＥＬ装置における各画素のＥＬ発光層および正孔注入層を形成するものである。そこで、本実施形態では、有機ＥＬ装置の製造装置等に組み込まれる描画パターンデータ生成装置および機能液滴吐出装置について説明する。
【００４１】
図１の模式図に示すように、機能液滴吐出装置１０は、Ｘ軸テーブル２３およびこれに直交するＹ軸テーブル２４と、Ｙ軸テーブル２４に設けたメインキャリッジ２５と、メインキャリッジ２５に搭載したヘッドユニット２６とを有している。詳細は後述するが、ヘッドユニット２６には、サブキャリッジ４１を介して、複数の機能液滴吐出ヘッド７が搭載されている。また、この複数の機能液滴吐出ヘッド７に対応して、Ｘ軸テーブル２３の吸着テーブル２８上に基板（ワーク）Ｗがセットされるようになっている。
【００４２】
本実施形態の機能液滴吐出装置１０では、機能液滴吐出ヘッド７の駆動（機能液滴の選択的吐出）に同期して基板Ｗが移動する構成であり、機能液滴吐出ヘッド７のいわゆる主走査は、Ｘ軸テーブル２３のＸ軸方向への往復の両動作により行われる。また、これに対応して、いわゆる副走査は、Ｙ軸テーブル２４により機能液滴吐出ヘッド７のＹ軸方向への往動動作により行われる。なお、上記の主走査をＸ軸方向への往動（または復動）動作のみで行うようにしてもよい。
【００４３】
ヘッドユニット２６は、サブキャリッジ４１と、サブキャリッジ４１に搭載した複数個（１２個）の機能液滴吐出ヘッド７とを備えている。１２個の機能液滴吐出ヘッド７は、６個づつ左右に二分され、主走査方向に対し所定の角度傾けて配設されている。なお、本実施形態の機能液滴吐出ヘッド７は、ピエゾ圧電効果を応用した精密ヘッドが使用され、微小液滴を着色層形成領域に選択的に吐出するものである。
【００４４】
また、各６個の機能液滴吐出ヘッド７は、副走査方向に対し相互に位置ずれして配設され、１２個の機能液滴吐出ヘッド７の全吐出ノズル３８（後述する）が副走査方向において連続する（一部重複）ようになっている。すなわち、実施形態のヘッド配列は、サブキャリッジ４１上において、同一方向に傾けて配置した６個の機能液滴吐出ヘッド７を２列としたものであり、且つ各ヘッド列間において機能液滴吐出ヘッド７が相互に１８０°回転した配置となっている。また、各機能液滴吐出ヘッド７には、２本のノズル列３７，３７が相互に平行に列設されており、各ノズル列３７は、等ピッチで並べた１８０個（図示では模式的に表している）の吐出ノズル３８で構成されている。
【００４５】
ここで、機能液滴吐出装置１０の一連の動作を簡単に説明する。先ず、準備段階として、作業に供する基板用のヘッドユニット２６が機能液滴吐出装置１０に運び込まれ、これがメインキャリッジ２５にセットされる。ヘッドユニット２６がメインキャリッジ２５にセットされると、Ｙ軸テーブル２４がヘッドユニット２６を、図外のヘッド認識カメラの位置に移動させ、ヘッド認識カメラによりヘッドユニット２６が位置認識される。ここで、この認識結果に基づいて、ヘッドユニット２６がθ補正され、且つヘッドユニット２６のＸ軸方向およびＹ軸方向の位置補正がデータ上で行われる。位置補正後、ヘッドユニット（メインキャリッジ２５）２６はホーム位置に戻る。
【００４６】
一方、Ｘ軸テーブル２３の吸着テーブル２８上に基板（この場合は、導入される基板毎）Ｗが導入されると、この位置（受渡し位置）で図外の基板認識カメラが基板を位置認識する。ここで、この認識結果に基づいて、基板Ｗがθ補正され、且つ基板ＷのＸ軸方向およびＹ軸方向の位置補正がデータ上で行われる。位置補正後、基板（吸着テーブル２８）Ｗはホーム位置に戻る。
【００４７】
このようにして準備が完了すると、実際の機能液滴吐出作業では、先ずＸ軸テーブル２３が駆動し、基板Ｗを主走査方向に往復動させると共に複数の機能液滴吐出ヘッド７を駆動して、機能液滴の基板Ｗへの選択的な吐出動作が行われる。基板Ｗが復動した後、今度はＹ軸テーブル２４が駆動し、ヘッドユニット２６を１ピッチ分、副走査方向に移動させ、再度基板Ｗの主走査方向への往復移動と機能液滴吐出ヘッド７の駆動が行われる。そしてこれを、数回繰り返すことで、基板Ｗの端から端まで（全領域）機能液滴吐出が行われる。
【００４８】
なお、本実施形態では、ヘッドユニット２６に対し、その吐出対象物である基板Ｗを主走査方向（Ｘ軸方向）に移動させるようにしているが、ヘッドユニット２６を主走査方向に移動させる構成であってもよい。また、ヘッドユニット２６を固定とし、基板Ｗを主走査方向および副走査方向に移動させる構成であってもよい。
【００４９】
次に、図２を参照し、機能液滴吐出装置１０の制御構成について説明する。機能液滴吐出装置１０は、機能液滴吐出ヘッド７（圧電素子駆動インクジェットヘッド）と、これを接続するためのヘッドインターフェース基板１１１とを有するヘッド部１１０と、波形・パターン記憶回路基板１２１と、これを接続するためのインターフェース基板１２２と、波形・パターン記憶回路基板１２１にトリガパルスを伝送するトリガ基板１２３とを有し、機能液滴吐出ヘッド７を駆動する駆動部１２０と、直流電源１３１を有し、波形・パターン記憶回路基板１２１に電源を供給する電源部１３０と、リニアスケール１４１を有し、スキャンの送りを検出する送り検出部１４０と、装置全体を制御する第１ＰＣ１５１と、主に機能液滴吐出ヘッド７の駆動を制御する第２ＰＣ１５２とを有する制御部１５０と、により構成されている。
【００５０】
ヘッド部１１０の機能液滴吐出ヘッド７は、上記した構成であり、１ヘッド当たり１８０個のノズル列が２列使用されている。ヘッドインターフェース基板１１１は、波形・パターン記憶回路基板１２１から送信された信号を差動信号変換し、機能液滴吐出のためのピエゾ圧電素子を駆動するピエゾ圧電素子駆動信号と、後述する描画パターンデータ８０を機能液滴吐出ヘッド７に送る。
【００５１】
駆動部１２０の波形・パターン記憶回路基板１２１は、第２ＰＣ１５２からピエゾ圧電素子の駆動信号を受けて駆動波形を生成する。また、リニアスケール１４１からの信号に基づいて機能液滴吐出距離をカウントするトリガ基板１２３により、トリガパルスが作成され、波形・パターン記憶回路基板１２１は、このトリガパルスを受けて予め第２ＰＣ１５２から送られ、格納していた描画パターンデータ記憶領域から描画パターンデータを順次取り出す。さらに、波形・パターン記憶回路基板１２１は、予め第２ＰＣ１５２から送られ、格納していた波形パラメータに応じたピエゾ素子駆動波形を、トリガパルスと同期して生成する。また、波形・パターン記憶回路基板１２１は、電源部１３１の直流電源１３１より（ヘッド駆動用として）電源が供給される。
【００５２】
送り検出部１４０のリニアスケール１４１は、０．５μｍピッチでスキャンの送りを検出し、位置パルスをトリガ基板１２３に伝送する。また、制御部１５０の第２ＰＣ１５２は、第１ＰＣ１５１とシリアル通信回線（ＲＳ−２３２Ｃ）により接続され、第１ＰＣ１５１からのコマンドを受けて機能液滴吐出ヘッド７の駆動結果等に関するデータを返信する。また、第２ＰＣ１５２は、後述するパターンデータ６０（描画パターンデータ８０の元となるデータ）を生成し、インターフェース基板１２２を介して波形・パターン記憶回路基板１２１に転送制御信号および吐出パターンデータ６０を送ると共に、トリガ基板１２３にトリガ制御信号および吐出制御信号を送る。
【００５３】
次に、図３のフローチャートを参照して、機能液滴吐出ヘッド７からワークに機能液滴を選択的に吐出して描画するための描画パターンデータ８０の生成方法について説明する。ここでは、図１１に示すような画像データ５０に基づいて機能液滴吐出ヘッド７の駆動データとなるバイナリ化された描画パターンデータ８０（図７参照）を生成するものとする。
【００５４】
まず、画像データ５０に基づいて、描画パターンデータ８０の配列領域を確保する（Ｓ１１）。具体的には、図４（ａ）に示す配列の領域を確保するものであり、各セルは全て初期値（機能液滴不吐出に相当；「０」にて図示）となっている。ここで、列方向はノズル列（１−１８０）、行方向は吐出分解能（１μｍ単位で設定可能）を示す。
【００５５】
次に、画像データ５０に基づいて生成された描画イメージ情報を同図（ａ）の配列領域に書き込むことで、パターンデータ６０を生成する（Ｓ１２）。描画イメージ情報とは、同図（ｂ）に示すところの、数値０、１、２、３および９を示すものであり、これらはそれぞれ、「０：不吐出」「１：Ｒ（レッド）吐出」、「２：Ｇ（グリーン）吐出」、「３：Ｂ（ブルー）吐出」および「９：ＡＬＬ吐出（ＲＧＢ全吐出）」を指している。
【００５６】
なお、このパターンデータ６０における各セルに代入される情報は、これらの色情報のみに留まらず、ドットサイズ（機能液滴吐出量）やドット重なり回数（機能液滴吐出数）などに関する情報を代入するようにしても良い。この構成によれば、一つの配列データで効率よく情報を保持させることができる。なお、各セルは、８ビット（１バイト；０−２５５）の情報を保持させることが可能であるが、記憶容量の許す限り、情報量を増加させるようにしても良い。
【００５７】
次に、パターンデータ６０に対し、機能液滴吐出ヘッド７の傾きに対応した回転シフト処理を行うことで、シフトパターンデータ７０を生成する（Ｓ１３）。上記の通り、機能液滴吐出ヘッド７は、印刷方向（主走査方向）に対し所定角度の傾きを有している。すなわち、パターンデータ６０をそのままバイナリ化して、駆動データとしても描画される画像は所定の角度だけ傾いてしまう。したがって、図５に示すように、パターンデータ６０に対して回転シフト処理を行い、シフトパターンデータ７０を生成し、これに基づいて描画パターンデータ８０を生成することで同図に示すような、所望する描画結果が得られる。なお、機能液滴吐出ヘッド７が、印刷方向（主走査方向）に対して傾きを有しない場合（垂直方向である場合）、シフトパターンデータ７０の生成を行う必要がないことは言うまでもない。
【００５８】
次に、シフトパターンデータ７０をバイナリ出力することで描画パターンデータ８０を生成する（Ｓ１４）。描画パターンデータ８０は、パターンデータ６０（シフトパターンデータ７０）に含まれる色情報に基づいて色別にバイナリ出力される。色別の分割方法は図６に示すとおりであり、図４（ｂ）のパターンデータ６０を、３つ（Ｒ吐出，Ｇ吐出，Ｂ吐出）のパターンデータ６０に分割する。なお、色の分割はこれに限らず、更なる多色に分割しても良い。
【００５９】
描画パターンデータ８０は、機能液滴吐出ヘッド７を駆動可能なバイナリデータであり、その一部（１吐出分解能分）を図７に示した。ここでは、シフトパターンデータ７０をノズル列（１−１８０）に対応する１配列分毎にバイナリ化して１配列分の描画パターンデータ８１を生成し、１度ファイルにまとめて、波形・パターン記憶回路基板１２１のＲＡＭに転送するようにしている。これにより、バイナリデータの生成が容易になる。なお、パターンデータ６０からのシフトパターンデータ７０の生成も、１配列毎に行うようにしてもよい。この構成によれば、回転シフト処理の演算が複雑化することなく容易にシフトパターンデータ７０を生成することができる。
【００６０】
なお、パターンデータ６０にドットサイズ（機能液滴吐出量）に関する情報が含まれている場合は、これに基づいて、ドットサイズを制御可能なパラメータを描画パターンデータ８０に書き込む。具体的には、バイナリ化された描画パターンデータ８０中のＳＰｘｘデータのｘｘ部分を変化させる（図７参照）。これにより、多種のドットサイズによって構成された画像を描画可能である。
【００６１】
また、パターンデータ６０にドット重なり回数（機能液滴吐出数）に関する情報が含まれている場合には、ドット重なり回数情報から得られる最多重なり回数に分割して、バイナリ出力することにより、描画パターンデータ８０を生成する。例えば、図８（ａ）に示すような、ドット重なり回数に関する情報がパターンデータ６０に含まれている場合は、最多重なり回数が「３回」であるため、同図（ｂ）に示すように、１回目吐出用のデータ、２回目吐出用のデータ、３回目吐出用のデータの分割してバイナリ出力を行う。これにより、同じ場所に（場合によっては１回の吐出量を絞って（ドットサイズを小さくして））複数回の吐出が可能となり、より見栄えの良い階調表現を実現することができる。
【００６２】
上記の要領で作成した描画パターンデータ８０に基づき、描画（画像形成）を行うが、図９を参照してその描画方法を簡単に説明する。なお、実際には、上記したとおり、機能液滴吐出ヘッド７に対してワーク（Ｘ軸テーブル２３）が移動することにより描画を行うが、ここでは説明を容易にするため、ワーク上を機能液滴吐出ヘッド７が移動するものとして説明する。
【００６３】
機能液滴吐出ヘッド７は、長さ１インチで１８０ノズルを有している（１８０ｄｐｉ）が、これを数回に分割してスキャン（走査）することにより、画像の形成を行う。同図に示した例では３回に分割してスキャンしている。この場合、先ず主走査方向に機能液滴吐出ヘッド７を駆動して描画を行い、ワークの幅分のスキャンを終えると、ヘッドを元の位置に戻し、副走査方向に１インチ分移動する。これを３回繰り返すことにより、画像の形成を行う。
【００６４】
なお、描画方法については、種々の仕様が考えられ、例えば、主走査方向における機能液滴吐出ヘッドの戻り動作においても描画を行うようにしても良いし、（吐出不良等を考慮して両端側の１０ノズルを不使用にするような場合は）副走査方向において１インチ分移動するのではなく、１回目のスキャンと２回目のスキャンとが一部重なり合うように３/４インチずつ移動するようにしても良い。
【００６５】
このように、本発明の描画パターンデータ８０の生成方法によれば、画像データ５０に基づいて配列領域を確保し、これに描画イメージ情報を書き込むことで、パターンデータ６０を生成し、さらにこのパターンデータ６０をバイナリ出力することで、描画パターンデータ８０を生成することができる。すなわち、一定配列を発生するアルゴリズムを有したプログラムにより、直接最終形式（バイナリ形式）のデータを生成するものではないため、一定配列を有するか否かに関わらず、あらゆるドットパターンを描画することができる。
【００６６】
また、パターンデータ６０に対して、機能液滴吐出ヘッド７の傾きに対応した回転シフト処理を行うことで、シフトパターンデータ７０を生成し、これに基づいて描画パターンデータ８０を生成するため、描画されるイメージが機能液滴吐出ヘッド７の傾きによって傾斜することがない。すなわち、元の画像データに近い描画結果が得られる描画パターンデータを生成することができる。
【００６７】
次に、上記のバイナリ化された描画パターンデータ８０に基づいて生成される可視データ９０の生成方法について説明する。本発明の可視データ生成方法は、実際に機能液滴を吐出することなく、描画されるイメージを確認可能にするための方法であり、簡潔に言えば上記の描画パターンデータ生成方法と逆の手順により生成されるものである。以下、図１０のフローチャートを参照し、順を追って説明する。なお、可視データ９０は、図１１の点線部を描画結果とする描画パターンデータに基づいて生成されるものとする。
【００６８】
まず、描画パターンデータ８０から、ノズル列３７に対応する１列分（１ブロック分＝１吐出分解能分）の描画パターンデータ８１を抽出する（Ｓ２１；図７参照）。次に、この１列分の描画パターンデータ８１に基づき、ビット演算により１列分のパターンデータ６１を生成する（Ｓ２２；図４（ｂ）参照）。そして、全列分のパターンデータ（全パターンデータ）６０の生成が終了するまで（最後の列のパターンデータ６１の生成が終了するまで）、Ｓ２１およびＳ２２の処理を繰り返す（Ｓ２３；積層処理）。次に、生成した全パターンデータ６０に対し、回転シフト処理を行う場合（Ｓ２４：Ｙｅｓ）は、回転シフト処理を行い、シフトパターンデータ７０を生成した（Ｓ２５）後、可視化処理（テキスト化）を行うことにより、可視データを生成する（Ｓ２６；図１２参照）。一方、回転シフト処理を行わない場合（Ｓ２４：Ｎｏ）は、そのまま、可視化処理を行うことにより、可視データを生成する（Ｓ２６）。これにより、機能液滴吐出ヘッド７から正常に機能液滴が吐出されるか（生成された描画パターンデータ８０に異常がないか）の確認を行うことができる。
【００６９】
なお、パターンデータ６０に対する回転シフト処理は、機能液滴吐出ヘッド７の傾きを考慮し、実際に描画されるイメージに近い可視データ９０を生成するための処理である。すなわち、回転シフト処理を行うことで、図１２に示したような、所定角度を有した可視データ９０ではなく、図１３に示すような、描画イメージに近い可視データ９０を生成することができる。ここでは、上記の描画パターンデータ８０の生成における回転シフト処理と逆のシフトとなるため、上記の描画パターンデータ８０の生成において角度θの回転を行った場合は、−（マイナス）θの回転処理を行う。
【００７０】
また、図１２および図１３は、パターンデータ６０をテキスト化した可視データ９０を、テキストエディタで表示したものであるが、ビットマップ化した可視データを生成するようにしても良い。この構成によれば、拡大して細密に表示したり、縮小して全体を見通したりすることが容易になると共に、より実際に描画される画像に近い可視データ９０を得ることができる。
【００７１】
このように、本発明の可視データ９０の生成方法によれば、機能液滴吐出ヘッド７からワークに機能液滴を選択的に吐出して描画するためのバイナリ化された描画パターンデータ８０に基づき、ビット演算によりパターンデータ６０を生成し、さらに、これに基づいて可視化プログラムにより可視化された可視データ９０を生成することができる。したがって、実際に機能液滴吐出ヘッド７から機能液滴を吐出することなく、描画されるイメージを確認することができるため、時間と吐出材料の無駄を省くことができる。
【００７２】
また、機能液滴吐出ヘッド７に配列された複数のノズル３８に対応する１列分の描画パターンデータを抽出した後、１列分のパターンデータ６１を生成し、これを積層させることにより全パターンデータ６０を生成するため、全パターンデータ６０の生成のための演算処理を容易に行うことができる。
【００７３】
また、全パターンデータ６０に対して、回転シフト処理を行うことで、シフトパターンデータ７０を生成し、これに基づいて可視データ９０を生成するため、生成された可視データ９０が機能液滴吐出ヘッド７の傾きによって傾斜することがない。すなわち、実際に描画される画像に近い可視データを生成することができる。
【００７４】
また、パターンデータをテキスト化する可視化プログラムによって、テキスト形式の可視データ９０を生成することができる。すなわち、空白と任意の文字の組み合わせで画像を作成するといった文字列の処理を行う簡単なプログラムによって、容易に可視データを生成することができる。
【００７５】
ところで、本発明の機能液滴吐出装置１０は、前述の通り、各種フラットディスプレイの製造方法や、各種の電子デバイスおよび光デバイスの製造方法等にも適用可能である。そこで、この機能液滴吐出装置１０を用いた製造方法を、液晶表示装置の製造方法および有機ＥＬ装置の製造方法を例に、説明する。
【００７６】
図１４は、液晶表示装置のカラーフィルタの部分拡大図である。図１４（ａ）は平面図であり、図１４（ｂ）は図１４（ａ）のＢ−Ｂ´線断面図である。断面図各部のハッチングは一部省略している。
【００７７】
図１４（ａ）に示されるように、カラーフィルタ４００は、マトリクス状に並んだ画素（フィルタエレメント）４１２を備え、画素と画素の境目は、仕切り４１３によって区切られている。画素４１２の１つ１つには、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかのインク（フィルタ材料）が導入されている。この例では赤、緑、青の配置をいわゆるデルタ配列としたが、ストライプ配列、モザイク配列など、その他の配置でも構わない。
【００７８】
図１４（ｂ）に示されるように、カラーフィルタ４００は、透光性の基板４１１と、遮光性の仕切り４１３とを備えている。仕切り４１３が形成されていない（除去された）部分は、上記画素４１２を構成する。この画素４１２に導入された各色のインクは着色層４２１を構成する。仕切り４１３及び着色層４２１の上面には、オーバーコート層４２２及び電極層４２３が形成されている。
【００７９】
図１５は、本発明の実施形態によるカラーフィルタの製造方法を説明する製造工程断面図である。断面図各部のハッチングは一部省略している。
【００８０】
膜厚０．７ｍｍ、たて３８ｃｍ、横３０ｃｍの無アルカリガラスからなる透明基板４１１の表面を、熱濃硫酸に過酸化水素水を１重量％添加した洗浄液で洗浄し、純水でリンスした後、エア乾燥を行って清浄表面を得る。この表面に、スパッタ法によりクロム膜を平均０．２μｍの膜厚で形成し、金属層４１４´を得る（図１５：Ｓ１）。
【００８１】
この基板をホットプレート上で、８０℃で５分間乾燥させた後、金属層４１４´の表面に、スピンコートによりフォトレジスト層（図示せず）を形成する。この基板表面に、所要のマトリクスパターン形状を描画したマスクフィルムを密着させ、紫外線で露光をおこなう。次に、これを、水酸化カリウムを８重量％の割合で含むアルカリ現像液に浸漬して、未露光の部分のフォトレジストを除去し、レジスト層をパターニングする。続いて、露出した金属層を、塩酸を主成分とするエッチング液でエッチング除去する。このようにして所定のマトリクスパターンを有する遮光層（ブラックマトリクス）４１４を得ることができる（図１５：Ｓ２）。遮光層４１４の膜厚は、およそ０．２μｍである。また、遮光層４１４の幅は、およそ２２μｍである。
【００８２】
この基板上に、さらにネガ型の透明アクリル系の感光性樹脂組成物４１５´をやはりスピンコート法で塗布する（図１５：Ｓ３）。これを１００℃で２０分間プレベークした後、所定のマトリクスパターン形状を描画したマスクフィルムを用いて紫外線露光を行なう。未露光部分の樹脂を、やはりアルカリ性の現像液で現像し、純水でリンスした後スピン乾燥する。最終乾燥としてのアフターベークを２００℃で３０分間行い、樹脂部を十分硬化させることにより、バンク層４１５が形成され、遮光層４１４及びバンク層４１５からなる仕切り４１３が形成される（図１５：Ｓ４）。このバンク層４１５の膜厚は、平均で２．７μｍである。また、バンク層４１５の幅は、およそ１４μｍである。
【００８３】
得られた遮光層４１４およびバンク層４１５で区画された着色層形成領域（特にガラス基板４１１の露出面）のインク濡れ性を改善するため、ドライエッチング、すなわちプラズマ処理を行なう。具体的には、ヘリウムに酸素を２０％加えた混合ガスに高電圧を印加し、プラズマ雰囲気でエッチングスポットに形成し、基板を、このエッチングスポット下を通過させてエッチングする。
【００８４】
次に、仕切り４１３で区切られて形成された画素４１２内に、上記Ｒ、Ｇ、Ｂの各インクをインクジェット方式により導入する（図１５：Ｓ５）。機能液滴吐出ヘッド７（インクジェットヘッド）には、ピエゾ圧電効果を応用した精密ヘッドを使用し、微小インク滴を着色層形成領域毎に１０滴、選択的に飛ばす。駆動周波数は１４．４ｋＨｚ、すなわち、各インク滴の吐出間隔は６９．５μ秒に設定する。ヘッドとターゲットとの距離は、０．３ｍｍに設定する。ヘッドよりターゲットである着色層形成領域への飛翔速度、飛行曲がり、サテライトと称される分裂迷走滴の発生防止のためには、インクの物性はもとよりヘッドのピエゾ素子を駆動する波形（電圧を含む）が重要である。従って、あらかじめ条件設定された波形をプログラムして、インク滴を赤、緑、青の３色を同時に塗布して所定の配色パターンにインクを塗布する。
【００８５】
インク（フィルタ材料）としては、例えばポリウレタン樹脂オリゴマーに無機顔料を分散させた後、低沸点溶剤としてシクロヘキサノンおよび酢酸ブチルを、高沸点溶剤としてブチルカルビトールアセテートを加え、さらに非イオン系界面活性剤０．０１重量％を分散剤として添加し、粘度６〜８センチポアズとしたものを用いる。
【００８６】
次に、塗布したインクを乾燥させる。まず、自然雰囲気中で３時間放置してインク層４１６のセッティングを行った後、８０℃のホットプレート上で４０分間加熱し、最後にオーブン中で２００℃で３０分間加熱してインク層４１６の硬化処理を行って、着色層４２１が得られる（図１５：Ｓ６）。
【００８７】
上記基板に、透明アクリル樹脂塗料をスピンコートして平滑面を有するオーバーコート層４２２を形成する。さらに、この上面にＩＴＯ（Indium Tin Oxide）からなる電極層４２３を所要パターンで形成して、カラーフィルタ４００とする（図１５：Ｓ７）。なお、このオーバーコート層４２２を、機能液滴吐出ヘッド７（インクジェットヘッド）によるインクジェット方式で、形成するようにしてもよい。
【００８８】
図１６は、本発明の製造方法により製造される電気光学装置（フラットディスプレイ）の一例であるカラー液晶表示装置の断面図である。断面図各部のハッチングは一部省略している。
【００８９】
このカラー液晶表示装置４５０は、カラーフィルタ４００と対向基板４６６とを組み合わせ、両者の間に液晶組成物４６５を封入することにより製造される。液晶表示装置４５０の一方の基板４６６の内側の面には、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）素子（図示せず）と画素電極４６３とがマトリクス状に形成されている。また、もう一方の基板として、画素電極４６３に対向する位置に赤、緑、青の着色層４２１が配列するようにカラーフィルタ４００が設置されている。
【００９０】
基板４６６とカラーフィルタ４００の対向するそれぞれの面には、配向膜４６１、４６４が形成されている。これらの配向膜４６１、４６４はラビング処理されており、液晶分子を一定方向に配列させることができる。また、基板４６６およびカラーフィルタ４００の外側の面には、偏光板４６２、４６７がそれぞれ接着されている。また、バックライトとしては蛍光灯（図示せず）と散乱板の組合わせが一般的に用いられており、液晶組成物４６５をバックライト光の透過率を変化させる光シャッターとして機能させることにより表示を行う。
【００９１】
なお、電気光学装置は、本発明では上記のカラー液晶表示装置に限定されず、例えば薄型のブラウン管、あるいは液晶シャッター等を用いた小型テレビ、ＥＬ表示装置、プラズマディスプレイ、ＣＲＴディスプレイ、ＦＥＤ（Field Emission Display）パネル等の種々の電気光学手段を用いることができる。
【００９２】
次に、図１７ないし図２９を参照して、有機ＥＬ装置（有機ＥＬ表示装置）とその製造方法を説明する。
【００９３】
図１７ないし図２９は、有機ＥＬ素子を含む有機ＥＬ装置の製造プロセスと共にその構造を表している。この製造プロセスは、バンク部形成工程と、プラズマ処理工程と、正孔注入／輸送層形成工程及び発光層形成工程からなる発光素子形成工程と、対向電極形成工程と、封止工程とを具備して構成されている。
【００９４】
バンク部形成工程では、基板５０１に予め形成した回路素子部５０２上及び電極５１１（画素電極ともいう）上の所定の位置に、無機物バンク層５１２ａと有機物バンク層５１２ｂを積層することにより、開口部５１２ｇを有するバンク部５１２を形成する。このように、バンク部形成工程には、電極５１１の一部に、無機物バンク層５１２ａを形成する工程と、無機物バンク層の上に有機物バンク層５１２ｂを形成する工程が含まれる。
【００９５】
まず無機物バンク層５１２ａを形成する工程では、図１７に示すように、回路素子部５０２の第２層間絶縁膜５４４ｂ上及び画素電極５１１上に、無機物バンク層５１２ａを形成する。無機物バンク層５１２ａは、例えばＣＶＤ法、コート法、スパッタ法、蒸着法等によって第２層間絶縁膜５４４ｂ及び画素電極５１１の全面にＳｉＯ2、ＴｉＯ2等の無機物膜を形成する。
【００９６】
次にこの無機物膜をエッチング等によりパターニングして、電極５１１の電極面５１１ａの形成位置に対応する下部開口部５１２ｃを設ける。このとき、無機物バンク層５１２ａを電極５１１の周縁部と重なるように形成しておく必要がある。このように、電極５１１の周縁部（一部）と無機物バンク層５１２ａとが重なるように無機物バンク層５１２ａを形成することにより、発光層５１０ｂの発光領域を制御することができる。
【００９７】
次に有機物バンク層５１２ｂを形成する工程では、図１８に示すように、無機物バンク層５１２ａ上に有機物バンク層５１２ｂを形成する。有機物バンク層５１２ｂをフォトリソグラフィ技術等によりエッチングして、有機物バンク層５１２ｂの上部開口部５１２ｄを形成する。上部開口部５１２ｄは、電極面５１１ａ及び下部開口部５１２ｃに対応する位置に設けられる。
【００９８】
上部開口部５１２ｄは、図１８に示すように、下部開口部５１２ｃより広く、電極面５１１ａより狭く形成することが好ましい。これにより、無機物バンク層５１２ａの下部開口部５１２ｃを囲む第１積層部５１２ｅが、有機物バンク層５１２ｂよりも電極５１１の中央側に延出された形になる。このようにして、上部開口部５１２ｄ、下部開口部５１２ｃを連通させることにより、無機物バンク層５１２ａ及び有機物バンク層５１２ｂを貫通する開口部５１２ｇが形成される。
【００９９】
次にプラズマ処理工程では、バンク部５１２の表面と画素電極の表面５１１ａに、親インク性を示す領域と、撥インク性を示す領域を形成する。このプラズマ処理工程は、予備加熱工程と、バンク部５１２の上面（５１２ｆ）及び開口部５１２ｇの壁面並びに画素電極５１１の電極面５１１ａを親インク性を有するように加工する親インク化工程と、有機物バンク層５１２ｂの上面５１２ｆ及び上部開口部５１２ｄの壁面を、撥インク性を有するように加工する撥インク化工程と、冷却工程とに大別される。
【０１００】
まず、予備加熱工程では、バンク部５１２を含む基板５０１を所定の温度まで加熱する。加熱は、例えば基板５０１を載せるステージにヒータを取り付け、このヒータで当該ステージごと基板５０１を加熱することにより行う。具体的には、基板５０１の予備加熱温度を、例えば７０〜８０℃の範囲とすることが好ましい。
【０１０１】
次に、親インク化工程では、大気雰囲気中で酸素を処理ガスとするプラズマ処理（Ｏ2プラズマ処理）を行う。このＯ2プラズマ処理により、図１９に示すように、画素電極５１１の電極面５１１ａ、無機物バンク層５１２ａの第１積層部５１２ｅ及び有機物バンク層５１２ｂの上部開口部５１２ｄの壁面ならびに上面５１２ｆが親インク処理される。この親インク処理により、これらの各面に水酸基が導入されて親インク性が付与される。図１９では、親インク処理された部分を一点鎖線で示している。
【０１０２】
次に、撥インク化工程では、大気雰囲気中で４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理（ＣＦ4プラズマ処理）を行う。ＣＦ4プラズマ処理により、図２０に示すように、上部開口部５１２ｄ壁面及び有機物バンク層の上面５１２ｆが撥インク処理される。この撥インク処理により、これらの各面にフッ素基が導入されて撥インク性が付与される。図２０では、撥インク性を示す領域を二点鎖線で示している。
【０１０３】
次に、冷却工程では、プラズマ処理のために加熱された基板５０１を室温、またはインクジェット工程（機能液滴吐出工程）の管理温度まで冷却する。プラズマ処理後の基板５０１を室温、または所定の温度（例えばインクジェット工程を行う管理温度）まで冷却することにより、次の正孔注入／輸送層形成工程を一定の温度で行うことができる。
【０１０４】
次に、発光素子形成工程では、画素電極５１１上に正孔注入／輸送層及び発光層を形成することにより発光素子を形成する。発光素子形成工程には、４つの工程が含まれる。即ち、正孔注入／輸送層を形成するための第１組成物を各前記画素電極上に吐出する第１機能液滴吐出工程と、吐出された前記第１組成物を乾燥させて前記画素電極上に正孔注入／輸送層を形成する正孔注入／輸送層形成工程と、発光層を形成するための第２組成物を前記正孔注入／輸送層の上に吐出する第２機能液滴吐出工程と、吐出された前記第２組成物を乾燥させて前記正孔注入／輸送層上に発光層を形成する発光層形成工程とが含まれる。
【０１０５】
まず、第１機能液滴吐出工程では、インクジェット法（機能液滴吐出法）により、正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を電極面５１１ａ上に吐出する。なお、この第１機能液滴吐出工程以降は、水、酸素の無い窒素雰囲気、アルゴン雰囲気等の不活性ガス雰囲気で行うことが好ましい。（なお、画素電極上にのみ正孔注入／輸送層を形成する場合は、有機物バンク層に隣接して形成される正孔注入／輸送層は形成されない）
【０１０６】
図２１に示すように、インクジェットヘッド（機能液滴吐出ヘッド７）Ｈに正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を充填し、インクジェットヘッドＨの吐出ノズルを下部開口部５１２ｃ内に位置する電極面５１１ａに対向させ、インクジェットヘッドＨと基板５０１とを相対移動させながら、吐出ノズルから１滴当たりの液量が制御された第１組成物滴５１０ｃを電極面５１１ａ上に吐出する。
【０１０７】
ここで用いる第１組成物としては、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン(PEDOT)等のポリチオフェン誘導体とポリスチレンスルホン酸(PSS)等の混合物を、極性溶媒に溶解させた組成物を用いることができる。極性溶媒としては、例えば、イソプロピルアルコール(IPA)、ノルマルブタノール、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチルピロリドン(NMP)、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン(DMI)及びその誘導体、カルビト−ルアセテート、ブチルカルビト−ルアセテート等のグリコールエーテル類等を挙げることができる。なお、正孔注入／輸送層形成材料は、Ｒ・Ｇ・Ｂの各発光層５１０ｂに対して同じ材料を用いても良く、発光層毎に変えても良い。
【０１０８】
図２１に示すように、吐出された第１組成物滴５１０ｃは、親インク処理された電極面５１１ａ及び第１積層部５１２ｅ上に広がり、下部、上部開口部５１２ｃ、５１２ｄ内に満たされる。電極面５１１ａ上に吐出する第１組成物量は、下部、上部開口部５１２ｃ、５１２ｄの大きさ、形成しようとする正孔注入／輸送層の厚さ、第１組成物中の正孔注入／輸送層形成材料の濃度等により決定される。また、第１組成物滴５１０ｃは１回のみならず、数回に分けて同一の電極面５１１ａ上に吐出しても良い。
【０１０９】
次に正孔注入／輸送層形成工程では、図２２に示すように、吐出後の第１組成物を乾燥処理及び熱処理して第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させることにより、電極面５１１ａ上に正孔注入／輸送層５１０ａを形成する。乾燥処理を行うと、第１組成物滴５１０ｃに含まれる極性溶媒の蒸発が、主に無機物バンク層５１２ａ及び有機物バンク層５１２ｂに近いところで起き、極性溶媒の蒸発に併せて正孔注入／輸送層形成材料が濃縮されて析出する。
【０１１０】
これにより図２２に示すように、乾燥処理によって電極面５１１ａ上でも極性溶媒の蒸発が起き、これにより電極面５１１ａ上に正孔注入／輸送層形成材料からなる平坦部５１０ａが形成される。電極面５１１ａ上では極性溶媒の蒸発速度がほぼ均一であるため、正孔注入／輸送層の形成材料が電極面５１１ａ上で均一に濃縮され、これにより均一な厚さの平坦部５１０ａが形成される。
【０１１１】
次に第２機能液滴吐出工程では、インクジェット法（機能液滴吐出法）により、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出する。この第２機能液滴吐出工程では、正孔注入／輸送層５１０ａの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第２組成物の溶媒として、正孔注入／輸送層５１０ａに対して不溶な非極性溶媒を用いる。
【０１１２】
しかしその一方で正孔注入／輸送層５１０ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出しても、正孔注入／輸送層５１０ａと発光層５１０ｂとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層５１０ｂを均一に塗布できないおそれがある。そこで、非極性溶媒ならびに発光層形成材料に対する正孔注入／輸送層５１０ａの表面の親和性を高めるために、発光層を形成する前に表面改質工程を行うことが好ましい。
【０１１３】
そこでまず、表面改質工程について説明する。表面改質工程は、発光層形成の際に用いる第１組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒である表面改質用溶媒を、インクジェット法（機能液滴吐出法）、スピンコート法またはディップ法により正孔注入／輸送層５１０ａ上に塗布した後に乾燥することにより行う。
【０１１４】
例えば、インクジェット法による塗布は、図２３に示すように、インクジェットヘッドＨに、表面改質用溶媒を充填し、インクジェットヘッドＨの吐出ノズルを基板（すなわち、正孔注入／輸送層５１０ａが形成された基板）に対向させ、インクジェットヘッドＨと基板５０１とを相対移動させながら、吐出ノズルＨから表面改質用溶媒５１０ｄを正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出することにより行う。そして、図２４に示すように、表面改質用溶媒５１０ｄを乾燥させる。
【０１１５】
次に第２機能液滴吐出工程では、インクジェット法（機能液滴吐出法）により、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出する。図２５に示すように、インクジェットヘッドＨに、青色（Ｂ）発光層形成材料を含有する第２組成物を充填し、インクジェットヘッドＨの吐出ノズルを下部、上部開口部５１２ｃ、５１２ｄ内に位置する正孔注入／輸送層５１０ａに対向させ、インクジェットヘッドＨと基板５０１とを相対移動させながら、吐出ノズルから１滴当たりの液量が制御された第２組成物滴５１０ｅとして吐出し、この第２組成物滴５１０ｅを正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出する。
【０１１６】
発光層形成材料としては、ポリフルオレン系高分子誘導体や、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリチオフェン誘導体、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素、あるいは上記高分子に有機ＥＬ材料をドープして用いる事ができる。例えば、ルブレン、ペリレン、９，１０-ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等をドープすることにより用いることができる。
【０１１７】
非極性溶媒としては、正孔注入／輸送層５１０ａに対して不溶なものが好ましく、例えば、シクロへキシルベンゼン、ジハイドロベンゾフラン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン等を用いることができる。このような非極性溶媒を発光層５１０ｂの第２組成物に用いることにより、正孔注入／輸送層５１０ａを再溶解させることなく第２組成物を塗布できる。
【０１１８】
図２５に示すように、吐出された第２組成物５１０ｅは、正孔注入／輸送層５１０ａ上に広がって下部、上部開口部５１２ｃ、５１２ｄ内に満たされる。第２組成物５１０ｅは１回のみならず、数回に分けて同一の正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出しても良い。この場合、各回における第２組成物の量は同一でも良く、各回毎に第２組成物量を変えても良い。
【０１１９】
次に発光層形成工程では、第２組成物を吐出した後に乾燥処理及び熱処理を施して、正孔注入／輸送層５１０ａ上に発光層５１０ｂを形成する。乾燥処理は、吐出後の第２組成物を乾燥処理することにより第２組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発して、図２６に示すような青色（Ｂ）発光層５１０ｂを形成する。
【０１２０】
続けて、図２７に示すように、青色（Ｂ）発光層５１０ｂの場合と同様にして、赤色（Ｒ）発光層５１０ｂを形成し、最後に緑色（Ｇ）発光層５１０ｂを形成する。なお、発光層５１０ｂの形成順序は、前述の順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決める事も可能である。
【０１２１】
次に対向電極形成工程では、図２８に示すように、発光層５１０ｂ及び有機物バンク層５１２ｂの全面に陰極５０３（対向電極）を形成する。なお，陰極５０３は複数の材料を積層して形成しても良い。例えば、発光層に近い側には仕事関数が小さい材料を形成することが好ましく、例えばＣａ、Ｂａ等を用いることが可能であり、また材料によっては下層にＬｉＦ等を薄く形成した方が良い場合もある。また、上部側（封止側）には下部側よりも仕事関数が高いものが好ましい。これらの陰極（陰極層）５０３は、例えば蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等で形成することが好ましく、特に蒸着法で形成することが、発光層５１０ｂの熱による損傷を防止できる点で好ましい。
【０１２２】
また、フッ化リチウムは、発光層５１０ｂ上のみに形成しても良く、更に青色（Ｂ）発光層５１０ｂ上のみに形成しても良い。この場合、他の赤色（Ｒ）発光層及び緑色（Ｇ）発光層５１０ｂ、５１０ｂには、ＬｉＦからなる上部陰極層５０３ｂが接することとなる。また陰極１２の上部には、蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等により形成したＡｌ膜、Ａｇ膜等を用いることが好ましい。また、陰極５０３上に、酸化防止のためにＳｉＯ2、ＳｉＮ等の保護層を設けても良い。
【０１２３】
最後に、図２９に示す封止工程では、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰囲気中で、有機ＥＬ素子５０４上に封止用基板５０５を積層する。封止工程は、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰囲気で行うことが好ましい。大気中で行うと、陰極５０３にピンホール等の欠陥が生じていた場合にこの欠陥部分から水や酸素等が陰極５０３に侵入して陰極５０３が酸化されるおそれがあるので好ましくない。そして最後に、フレキシブル基板の配線に陰極５０３を接続するとともに、駆動ＩＣに回路素子部５０２の配線を接続することにより、本実施形態の有機ＥＬ装置５００が得られる。
【０１２４】
なお、画素電極５１１および陰極（対向電極）５０３の形成において、インクジェットヘッドＨによるインクジェット方式を採用してもよい。すなわち、液体の電極材料をインクジェットヘッドＨにそれぞれ導入し、これをインクジェットヘッドＨから吐出して、画素電極５１１および陰極５０３をそれぞれ形成する（乾燥工程を含む）。
【０１２５】
同様に、本実施形態の機能液滴吐出装置１０は、電子放出装置の製造方法、ＰＤＰ装置の製造方法および電気泳動表示装置の製造方法等に、適用することができる。
【０１２６】
電子放出装置の製造方法では、複数の機能液滴吐出ヘッド７にＲ、Ｇ、Ｂ各色の各色の蛍光材料を導入し、複数の機能液滴吐出ヘッド７を主走査および副走査し、蛍光材料を選択的に吐出して、電極上に多数の蛍光体を形成する。なお、電子放出装置は、ＦＥＤ（電界放出ディスプレイ）を含む上位の概念である。
【０１２７】
ＰＤＰ装置の製造方法では、複数の機能液滴吐出ヘッド７にＲ、Ｇ、Ｂ各色の各色の蛍光材料を導入し、複数の機能液滴吐出ヘッド７を主走査および副走査し、蛍光材料を選択的に吐出して、背面基板上の多数の凹部にそれそれ蛍光体を形成する。
【０１２８】
電気泳動表示装置の製造方法では、複数の機能液滴吐出ヘッド７に各色の泳動体材料を導入し、複数の機能液滴吐出ヘッド７を主走査および副走査し、インク材料を選択的に吐出して、電極上の多数の凹部にそれぞれ泳動体を形成する。なお、帯電粒子と染料とから成る泳動体は、マイクロカプセルに封入されていることが、好ましい。
【０１２９】
一方、本実施形態の機能液滴吐出装置１０は、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法等にも、適用可能である。
【０１３０】
スペーサ形成方法は、２枚の基板間に微小なセルギャップを構成すべく多数の粒子状のスペーサを形成するものであり、複数の機能液滴吐出ヘッド７にスペーサを構成する粒子材料を導入し、複数の機能液滴吐出ヘッド７を主走査および副走査し、粒子材料を選択的に吐出して少なくとも一方の基板上にスペーサを形成する。例えば、上記の液晶表示装置や電気泳動表示装置における２枚の基板間のセルギャップを構成する場合に有用であり、その他この種の微小なギャップを必要とする半導体製造技術に適用できることはいうまでもない。
【０１３１】
金属配線形成方法では、複数の機能液滴吐出ヘッド７に液状金属材料を導入し、複数の機能液滴吐出ヘッド７を主走査および副走査し、液状金属材料を選択的に吐出して、基板上に金属配線を形成する。例えば、上記の液晶表示装置におけるドライバと各電極とを接続する金属配線や、上記の有機ＥＬ装置におけるＴＦＴ等と各電極とを接続する金属配線に適用することができる。また、この種のフラットディスプレイの他、一般的な半導体製造技術に適用できることはいうまでもない。
【０１３２】
レンズ形成方法では、複数の機能液滴吐出ヘッド７にレンズ材料を導入し、複数の機能液滴吐出ヘッド７を主走査および副走査し、レンズ材料を選択的に吐出して、透明基板上に多数のマイクロレンズを形成する。例えば、上記のＦＥＤ装置におけるビーム収束用のデバイスとして適用可能である。また、各種の光デバイスに適用可能であることはいうまでもない。
【０１３３】
レジスト形成方法では、複数の機能液滴吐出ヘッド７にレジスト材料を導入し複数の機能液滴吐出ヘッド７を主走査および副走査し、レジスト材料を選択的に吐出して、基板上に任意形状のフォトレジストを形成する。例えば、上記の各種表示装置おけるバンクの形成は元より、半導体製造技術の主体を為すフォトリソグラフィー法において、フォトレジストの塗布に広く適用可能である。
【０１３４】
光拡散体形成方法では、基板上に多数の光拡散体を形成する光拡散体形成方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッド７に光拡散材料を導入し、複数の機能液滴吐出ヘッド７を主走査および副走査し、光拡散材料を選択的に吐出して多数の光拡散体を形成する。この場合も、各種の光デバイスに適用可能であることはいうまでもない。
【０１３５】
【発明の効果】
以上のように、本発明の描画パターンデータ生成方法、描画パターンデータ生成装置並びにこれを備えた機能液滴吐出装置によれば、一定配列を発生するアルゴリズムを有したプログラムにより、直接最終形式（バイナリ形式）のデータを生成するものではないため、一定配列を有するドットパターンはもちろん、一定配列を有しないドットパターンも描画することができる、などの効果を奏する。
【０１３６】
一方、本発明の液晶表示装置の製造方法、有機ＥＬ装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、ＰＤＰ装置の製造方法および電気泳動表示装置の製造方法によれば、各装置におけるフィルタ材料や発光材料等に適した機能液滴吐出ヘッドを簡単に導入することができるため、製造効率を向上させることができる。
【０１３７】
また、本発明のカラーフィルタの製造方法、有機ＥＬの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法によれば、各電子デバイスや各光デバイスにおけるフィルタ材料や発光材料等に適した機能液滴吐出ヘッドを簡単に導入することができため、製造効率を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 実施形態に係る機能液滴吐出装置の模式図である。
【図２】 実施形態に係る機能液滴吐出装置の制御系のブロック図である。
【図３】 実施形態に係る描画パターンデータ生成方法を示すフローチャートである。
【図４】 実施形態に係るパターンデータを示す図である。
【図５】 実施形態に係るパターンデータ、シフトパターンデータおよびこれに基づく描画結果を示す図である。
【図６】 実施形態に係るパターンデータの色別の分割方法を示す図である。
【図７】 実施形態に係るバイナリ化された描画パターンデータを示す図である。
【図８】 実施形態に係るパターンデータのドット重なり回数別の分割方法を示す図である。
【図９】 実施形態に係る描画方法を示す図である。
【図１０】 実施形態に係る可視データ生成方法を示すフローチャートである。
【図１１】 実施形態に係る画像データを示す図である。
【図１２】 実施形態に係るテキスト化された可視データを示す図である。
【図１３】 実施形態に係るテキスト化されたシフト可視データを示す図である。
【図１４】 実施形態のカラーフィルタの製造方法により製造されるカラーフィルタの部分拡大図である。
【図１５】 実施形態のカラーフィルタの製造方法を模式的に示す製造工程断面図である。
【図１６】 実施形態のカラーフィルタの製造方法により製造される液晶表示装置の断面図である。
【図１７】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法におけるバンク部形成工程（無機物バンク）の断面図である。
【図１８】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法におけるバンク部形成工程（有機物バンク）の断面図である。
【図１９】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法におけるプラズマ処理工程（親水化処理）の断面図である。
【図２０】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法におけるプラズマ処理工程（撥水化処理）の断面図である。
【図２１】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法における正孔注入層形成工程（機能液滴吐出）の断面図である。
【図２２】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法における正孔注入層形成工程（乾燥）の断面図である。
【図２３】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法における表面改質工程（機能液滴吐出）の断面図である。
【図２４】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法における表面改質工程（乾燥）の断面図である。
【図２５】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法におけるＢ発光層形成工程（機能液滴吐出）の断面図である。
【図２６】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法におけるＢ発光層形成工程（乾燥）の断面図である。
【図２７】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法におけるＲ・Ｇ・Ｂ発光層形成工程の断面図である。
【図２８】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法における対向電極形成工程の断面図である。
【図２９】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法における封止工程の断面図である。
【符号の説明】
７ 機能液滴吐出ヘッド １０ 機能液滴吐出装置
２３ Ｘ軸テーブル ２４ Ｙ軸テーブル
２５ メインキャリッジ ２６ ヘッドユニット
２８ 吸着テーブル ３７ ノズル列
３８ ノズル ４１ サブキャリッジ
５０ 画像データ ６０ パターンデータ
７０ シフトパターンデータ ８０ 描画パターンデータ
９０ 可視データ １１０ ヘッド部
１２０ 駆動部 １３０ 電源部
１４０ 送り検出部 １５０ 制御部
１５１ 第１ＰＣ １５２ 第２ＰＣ
４００ カラーフィルタ ４１２ 画素
４１５ バンク層 ４１６ インク層
４２２ オーバーコート層 ４６６ 基板
５００ 有機ＥＬ装置 ５０１ 基板
５０２ 回路素子部 ５０４ 有機ＥＬ素子
５１０ａ 正孔注入／輸送層 ５１０ｂ 発光層
Ｗ 基板
【発明の属する技術分野】
本発明は、画像データに基づき、機能液滴吐出ヘッドからワークに機能液滴を選択的に吐出して描画するための描画パターンデータ生成方法、描画パターンデータ生成装置並びにこれを備えた機能液滴吐出装置、液晶表示装置の製造方法、有機ＥＬ装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、ＰＤＰ装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機ＥＬの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、インクジェットプリンタなど、画像データに基づき、機能液滴吐出ヘッド（印刷ヘッド）からワークに機能液滴（インク）を選択的に吐出することで描画（印刷）を行う機能液滴吐出装置は、モザイク配列、ストライプ配列、デルタ配列など規則的な一定配列を有するドットパターンに基づいて描画を行っていた。このため、機能液滴吐出ヘッドを駆動するための描画パターンデータは、一定配列を発生するアルゴリズムを有したプログラムにより、直接最終形式（ヘッド駆動装置が受信可能なバイナリ形式）のデータを生成していた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、このようなプログラムにより描画パターンデータを生成する方法では、一定配列を有しないドットパターンを描画することができなかった。
【０００４】
本発明は、一定配列を有しないドットパターンも描画可能な描画パターンデータを生成する描画パターンデータ生成方法、描画パターンデータ生成装置並びにこれを備えた機能液滴吐出装置、液晶表示装置の製造方法、有機ＥＬ装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、ＰＤＰ装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機ＥＬの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法を提供することを課題としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明の描画パターンデータ生成方法は、画像データに基づき、複数のノズルを有する機能液滴吐出ヘッドからワークに機能液滴を選択的に吐出して描画するための描画パターンデータを生成する描画パターンデータ生成方法であって、画像データに基づいて、複数のノズルに対応する１配列分のセル数と機能液滴吐出ヘッドの吐出分解能に対応するセル数とをそれぞれ列・行方向に配列したマトリクスから成る、描画パターンデータの配列領域を確保し、画像データに基づいて生成された、色情報、ドットサイズ情報、ドット重なり回数情報のうち、少なくとも２以上の情報を含む描画イメージ情報を、配列領域の対応する各セルに書き込むことで、１配列分のパターンデータを生成し、１配列分のパターンデータをバイナリ出力することで描画パターンデータを生成することを特徴とする。
【０００６】
本発明の描画パターンデータ生成装置は、画像データに基づき、複数のノズルを有する機能液滴吐出ヘッドからワークに機能液滴を選択的に吐出して描画するための描画パターンデータを生成する描画パターンデータ生成装置であって、画像データに基づいて、複数のノズルに対応する１配列分のセル数と機能液滴吐出ヘッドの吐出分解能に対応するセル数とをそれぞれ列・行方向に配列したマトリクスから成る、描画パターンデータの配列領域を確保する配列領域確保手段と、画像データに基づいて生成された、色情報、ドットサイズ情報、ドット重なり回数情報のうち、少なくとも２以上の情報を含む描画イメージ情報を、配列領域の対応する各セルに書き込むことで、１配列分のパターンデータを生成するパターンデータ生成手段と、１配列分のパターンデータをバイナリ出力することで描画パターンデータを生成する描画パターンデータ生成手段と、を備えたことを特徴とする。
【０００７】
この構成によれば、画像データに基づいて配列領域を確保し、これに描画イメージ情報を書き込むことで、パターンデータを生成し、さらにこのパターンデータをバイナリ出力することで、機能液滴吐出ヘッドからワークに機能液滴を選択的に吐出して描画するための、バイナリ化された描画パターンデータを生成することができる。すなわち、一定配列を発生するアルゴリズムを有したプログラムにより、直接最終形式（バイナリ形式）のデータを生成するものではないため、一定配列を有するか否かに関わらず、あらゆるドットパターンを描画することができる。
【０００８】
上記において、機能液滴吐出ヘッドが印刷方向に対して所定角度の傾きを有している場合、パターンデータに対し、所定角度に対応した回転シフト処理を行うことで、シフトパターンデータを生成し、シフトパターンデータをバイナリ出力することで描画パターンデータを生成することが好ましい。
【０００９】
上記において、機能液滴吐出ヘッドが印刷方向に対して所定角度の傾きを有している場合、パターンデータに対し、所定角度に対応した回転シフト処理を行うことで、シフトパターンデータを生成するシフトパターン生成手段を更に備え、描画パターンデータ生成手段は、シフトパターンデータをバイナリ出力することで描画パターンデータを生成することが好ましい。
【００１０】
この構成によれば、パターンデータに対して、機能液滴吐出ヘッドの印刷方向に対する所定角度の傾きに対応した回転シフト処理を行うことで、シフトパターンデータを生成し、これをバイナリ出力することで描画パターンデータを生成するため、描画されるイメージが機能液滴吐出ヘッドの傾きによって傾斜することがない。すなわち、元の画像データに近い描画結果が得られる描画パターンデータを生成することができる。
【００１１】
この場合、パターンデータを、複数のノズルに対応した１配列毎に回転シフト処理を行うことで１配列毎のシフトパターンデータを生成し、１配列毎のシフトパターンデータをバイナリ出力することで描画パターンデータを生成することが好ましい。
【００１２】
この場合、シフトパターンデータ生成手段は、パターンデータを、複数のノズルに対応した１配列毎に回転シフト処理を行うことで１配列毎のシフトパターンデータを生成し、描画パターンデータ生成手段は、１配列毎のシフトパターンデータをバイナリ出力することで描画パターンデータを生成することが好ましい。
【００１３】
この構成によれば、パターンデータを、機能液滴吐出ヘッドに配列された複数のノズルに対応した１配列毎に回転シフト処理を行うことで１配列毎のシフトパターンデータを生成し、これをバイナリ出力することで描画パターンデータを生成するため、回転シフト処理（演算処理）が複雑化することなく、容易に行うことができる。
【００１４】
上記において、描画イメージ情報が色情報を有する場合、パターンデータには、色情報が書き込まれ、色情報に基づき、描画パターンデータは、色別にバイナリ出力されることが好ましい。
【００１５】
上記において、描画イメージ情報が色情報を有する場合、パターンデータ生成手段には、色情報を書き込む手段が含まれ、描画パターンデータ生成手段は、色情報に基づき、描画パターンデータを、色別にバイナリ出力することが好ましい。
【００１６】
この構成によれば、描画イメージ情報が色情報を有する場合、すなわち、画像データがカラーである場合、パターンデータには、この色情報が書き込まれるため、１のパターンデータで、吐出または不吐出に関するデータだけでなく、色に関する情報（データ）も保持することができる。すなわち、１のパターンデータに多値の情報を効率よく保持させることができる。また、描画パターンデータは、色別にバイナリ出力されるため、機能液滴吐出ヘッドからカラーの機能液滴を効率よく吐出させることができる。
【００１７】
上記において、描画イメージ情報がドットサイズ情報を有する場合、パターンデータには、ドットサイズ情報が書き込まれ、ドットサイズ情報に基づき、描画パターンデータには、ドットサイズを制御可能なパラメータが書き込まれることが好ましい。
【００１８】
上記において、描画イメージ情報がドットサイズ情報を有する場合、パターンデータ生成手段には、ドットサイズ情報を書き込む手段が含まれ、描画パターンデータ生成手段は、ドットサイズ情報に基づき、ドットサイズを制御可能なパラメータを描画パターンデータに書き込むことが好ましい。
【００１９】
この構成によれば、描画イメージ情報がドットサイズ情報を有する場合、パターンデータには、このドットサイズ情報が書き込まれるため、１のパターンデータで、吐出または不吐出に関するデータだけでなく、ドットサイズに関する情報（データ）も保持することができる。すなわち、１のパターンデータに多値の情報を効率よく保持させることができる。また、ドットサイズ情報に基づき、描画パターンデータには、ドットサイズを制御可能なパラメータが書き込まれるため、機能液滴吐出ヘッドから様々な量の機能液滴を吐出させることができる。
【００２０】
上記において、描画イメージ情報がドット重なり回数情報を有する場合、パターンデータには、ドット重なり回数情報が書き込まれ、描画パターンデータは、ドット重なり回数情報から得られる最多重なり回数に分割して、バイナリ出力されることが好ましい。
【００２１】
上記において、描画イメージ情報がドット重なり回数情報を有する場合、パターンデータ生成手段には、ドット重なり回数情報を書き込む手段が含まれ、描画パターンデータ生成手段は、ドット重なり回数情報から得られる最多重なり回数に分割して、描画パターンデータをバイナリ出力することが好ましい。
【００２２】
この構成によれば、描画イメージ情報がドット重なり回数情報を有する場合、すなわち、パターンデータには、このドット重なり回数情報が書き込まれるため、１のパターンデータで、吐出または不吐出に関するデータだけでなく、ドットの重なり回数に関する情報（データ）も保持することができる。すなわち、１のパターンデータに多値の情報を効率よく保持させることができる。また、描画パターンデータは、ドット重なり回数情報から得られる最多重なり回数に分割して、バイナリ出力されるため、機能液滴吐出ヘッドから機能液滴を効率よく吐出させることができる。
【００２３】
本発明の機能液滴吐出装置は、上記のいずれかに記載の描画パターンデータ生成装置を備えたことを特徴とする。
【００２４】
この構成によれば、一定配列を有するか否かに関わらず、あらゆるドットパターンを描画可能な機能液滴吐出装置を提供することができる。
【００２５】
本発明の液晶表示装置の製造方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、カラーフィルタの基板上に多数のフィルタエレメントを形成する液晶表示装置の製造方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに各色のフィルタ材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、フィルタ材料を選択的に吐出して多数の前記フィルタエレメントを形成することを特徴とする。
【００２６】
本発明の有機ＥＬ装置の製造方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、基板上の多数の絵素ピクセルにそれぞれＥＬ発光層を形成する有機ＥＬ装置の製造方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに各色の発光材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、発光材料を選択的に吐出して多数のＥＬ発光層を形成することを特徴とする。
【００２７】
本発明の電子放出装置の製造方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、電極上に多数の蛍光体を形成する電子放出装置の製造方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに各色の蛍光材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを電極に対し相対的に走査し、蛍光材料を選択的に吐出して多数の蛍光体を形成することを特徴とする。
【００２８】
本発明のＰＤＰ装置の製造方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、背面基板上の多数の凹部にそれぞれ蛍光体を形成するＰＤＰ装置の製造方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに各色の蛍光材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを背面基板に対し相対的に走査し、蛍光材料を選択的に吐出して多数の蛍光体を形成することを特徴とする。
【００２９】
本発明の電気泳動表示装置の製造方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、電極上の多数の凹部に泳動体を形成する電気泳動表示装置の製造方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに各色の泳動体材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを電極に対し相対的に走査し、泳動体材料を選択的に吐出して多数の泳動体を形成することを特徴とする。
【００３０】
このように、上記の機能液滴吐出装置を、液晶表示装置の製造方法、有機ＥＬ（Electro-Luminescence）装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、ＰＤＰ（Plasma Display Panel）装置の製造方法および電気泳動表示装置の製造方法に適用することにより、各装置に求められるフィルタ材料や発光材料等を、適切な位置に適切な量を選択的に供給することができる。なお、液滴吐出ヘッドの走査は、一般的には主走査および副走査となるが、いわゆる１ラインを単一の液滴吐出ヘッドで構成する場合には、副走査のみとなる。また、電子放出装置は、いわゆるＦＥＤ（Field Emission Display）装置を含む概念である。
【００３１】
本発明のカラーフィルタの製造方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、基板上に多数のフィルタエレメントを配列して成るカラーフィルタを製造するカラーフィルタの製造方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに各色のフィルタ材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、フィルタ材料を選択的に吐出して多数のフィルタエレメントを形成することを特徴とする。
この場合、多数のフィルタエレメントを被覆するオーバーコート膜が形成されており、フィルタエレメントを形成した後に、複数の機能液滴吐出ヘッドに透光性のコーティング材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、コーティング材料を選択的に吐出してオーバーコート膜を形成することが、好ましい。
【００３２】
本発明の有機ＥＬの製造方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、ＥＬ発光層を含む多数の複数の絵素ピクセルを基板上に配列して成る有機ＥＬの製造方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに各色の発光材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、発光材料を選択的に吐出して多数のＥＬ発光層を形成することを特徴とする。
この場合、多数のＥＬ発光層と基板との間には、ＥＬ発光層に対応して多数の画素電極が形成されており、複数の機能液滴吐出ヘッドに液状電極材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、液状電極材料を選択的に吐出して多数の画素電極を形成することが、好ましい。
この場合、多数のＥＬ発光層を覆うように対向電極が形成されており、ＥＬ発光層を形成した後に、複数の機能液滴吐出ヘッドに液状電極材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、液状電極材料を選択的に吐出して対向電極を形成することが、好ましい。
【００３３】
本発明のスペーサ形成方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、２枚の基板間に微小なセルギャップを構成すべく多数の粒子状のスペーサを形成するスペーサ形成方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドにスペーサを構成する粒子材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを少なくとも一方の基板に対し相対的に走査し、粒子材料を選択的に吐出して基板上にスペーサを形成することを特徴とする。
【００３４】
本発明の金属配線形成方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、基板上に金属配線を形成する金属配線形成方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに液状金属材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、液状金属材料を選択的に吐出して金属配線を形成することを特徴とする。
【００３５】
本発明のレンズ形成方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、基板上に多数のマイクロレンズを形成するレンズ形成方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドにレンズ材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、レンズ材料を選択的に吐出して多数のマイクロレンズを形成することを特徴とする。
【００３６】
本発明のレジスト形成方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、基板上に任意形状のレジストを形成するレジスト形成方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドにレジスト材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、レジスト材料を選択的に吐出してレジストを形成することを特徴とする。
【００３７】
本発明の光拡散体形成方法は、上記した機能液滴吐出装置を用い、基板上に多数の光拡散体を形成する光拡散体形成方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッドに光拡散材料を導入し、機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、光拡散材料を選択的に吐出して多数の光拡散体を形成することを特徴とする。
【００３８】
このように、上記の機能液滴吐出装置を、カラーフィルタの製造方法、有機ＥＬの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法に適用することにより、各電子デバイスや各光デバイスに求められるフィルタ材料や発光材料等を、適切な位置に適切な量を選択的に供給することができる。
【００３９】
【発明の実施の形態】
以下、添付の図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。機能液滴吐出装置は、その機能液滴吐出ヘッドに配列された複数のノズルから、微小な液滴をドット状に精度良く吐出することができることから、機能液に特殊なインクや感光性・発光性の樹脂等を用いることにより、各種部品の製造分野への応用が期待されている。
【００４０】
本実施形態の描画パターンデータ生成装置およびこれを備えた機能液滴吐出装置は、例えば液晶表示装置や有機ＥＬ装置等の、いわゆるフラットディスプレイの製造装置に適用され、その複数の機能液滴吐出ヘッドからフィルタ材料や発光材料等の機能液を吐出して（インクジェット方式）、液晶表示装置におけるＲ．Ｇ．Ｂのフィルタエレメントや、有機ＥＬ装置における各画素のＥＬ発光層および正孔注入層を形成するものである。そこで、本実施形態では、有機ＥＬ装置の製造装置等に組み込まれる描画パターンデータ生成装置および機能液滴吐出装置について説明する。
【００４１】
図１の模式図に示すように、機能液滴吐出装置１０は、Ｘ軸テーブル２３およびこれに直交するＹ軸テーブル２４と、Ｙ軸テーブル２４に設けたメインキャリッジ２５と、メインキャリッジ２５に搭載したヘッドユニット２６とを有している。詳細は後述するが、ヘッドユニット２６には、サブキャリッジ４１を介して、複数の機能液滴吐出ヘッド７が搭載されている。また、この複数の機能液滴吐出ヘッド７に対応して、Ｘ軸テーブル２３の吸着テーブル２８上に基板（ワーク）Ｗがセットされるようになっている。
【００４２】
本実施形態の機能液滴吐出装置１０では、機能液滴吐出ヘッド７の駆動（機能液滴の選択的吐出）に同期して基板Ｗが移動する構成であり、機能液滴吐出ヘッド７のいわゆる主走査は、Ｘ軸テーブル２３のＸ軸方向への往復の両動作により行われる。また、これに対応して、いわゆる副走査は、Ｙ軸テーブル２４により機能液滴吐出ヘッド７のＹ軸方向への往動動作により行われる。なお、上記の主走査をＸ軸方向への往動（または復動）動作のみで行うようにしてもよい。
【００４３】
ヘッドユニット２６は、サブキャリッジ４１と、サブキャリッジ４１に搭載した複数個（１２個）の機能液滴吐出ヘッド７とを備えている。１２個の機能液滴吐出ヘッド７は、６個づつ左右に二分され、主走査方向に対し所定の角度傾けて配設されている。なお、本実施形態の機能液滴吐出ヘッド７は、ピエゾ圧電効果を応用した精密ヘッドが使用され、微小液滴を着色層形成領域に選択的に吐出するものである。
【００４４】
また、各６個の機能液滴吐出ヘッド７は、副走査方向に対し相互に位置ずれして配設され、１２個の機能液滴吐出ヘッド７の全吐出ノズル３８（後述する）が副走査方向において連続する（一部重複）ようになっている。すなわち、実施形態のヘッド配列は、サブキャリッジ４１上において、同一方向に傾けて配置した６個の機能液滴吐出ヘッド７を２列としたものであり、且つ各ヘッド列間において機能液滴吐出ヘッド７が相互に１８０°回転した配置となっている。また、各機能液滴吐出ヘッド７には、２本のノズル列３７，３７が相互に平行に列設されており、各ノズル列３７は、等ピッチで並べた１８０個（図示では模式的に表している）の吐出ノズル３８で構成されている。
【００４５】
ここで、機能液滴吐出装置１０の一連の動作を簡単に説明する。先ず、準備段階として、作業に供する基板用のヘッドユニット２６が機能液滴吐出装置１０に運び込まれ、これがメインキャリッジ２５にセットされる。ヘッドユニット２６がメインキャリッジ２５にセットされると、Ｙ軸テーブル２４がヘッドユニット２６を、図外のヘッド認識カメラの位置に移動させ、ヘッド認識カメラによりヘッドユニット２６が位置認識される。ここで、この認識結果に基づいて、ヘッドユニット２６がθ補正され、且つヘッドユニット２６のＸ軸方向およびＹ軸方向の位置補正がデータ上で行われる。位置補正後、ヘッドユニット（メインキャリッジ２５）２６はホーム位置に戻る。
【００４６】
一方、Ｘ軸テーブル２３の吸着テーブル２８上に基板（この場合は、導入される基板毎）Ｗが導入されると、この位置（受渡し位置）で図外の基板認識カメラが基板を位置認識する。ここで、この認識結果に基づいて、基板Ｗがθ補正され、且つ基板ＷのＸ軸方向およびＹ軸方向の位置補正がデータ上で行われる。位置補正後、基板（吸着テーブル２８）Ｗはホーム位置に戻る。
【００４７】
このようにして準備が完了すると、実際の機能液滴吐出作業では、先ずＸ軸テーブル２３が駆動し、基板Ｗを主走査方向に往復動させると共に複数の機能液滴吐出ヘッド７を駆動して、機能液滴の基板Ｗへの選択的な吐出動作が行われる。基板Ｗが復動した後、今度はＹ軸テーブル２４が駆動し、ヘッドユニット２６を１ピッチ分、副走査方向に移動させ、再度基板Ｗの主走査方向への往復移動と機能液滴吐出ヘッド７の駆動が行われる。そしてこれを、数回繰り返すことで、基板Ｗの端から端まで（全領域）機能液滴吐出が行われる。
【００４８】
なお、本実施形態では、ヘッドユニット２６に対し、その吐出対象物である基板Ｗを主走査方向（Ｘ軸方向）に移動させるようにしているが、ヘッドユニット２６を主走査方向に移動させる構成であってもよい。また、ヘッドユニット２６を固定とし、基板Ｗを主走査方向および副走査方向に移動させる構成であってもよい。
【００４９】
次に、図２を参照し、機能液滴吐出装置１０の制御構成について説明する。機能液滴吐出装置１０は、機能液滴吐出ヘッド７（圧電素子駆動インクジェットヘッド）と、これを接続するためのヘッドインターフェース基板１１１とを有するヘッド部１１０と、波形・パターン記憶回路基板１２１と、これを接続するためのインターフェース基板１２２と、波形・パターン記憶回路基板１２１にトリガパルスを伝送するトリガ基板１２３とを有し、機能液滴吐出ヘッド７を駆動する駆動部１２０と、直流電源１３１を有し、波形・パターン記憶回路基板１２１に電源を供給する電源部１３０と、リニアスケール１４１を有し、スキャンの送りを検出する送り検出部１４０と、装置全体を制御する第１ＰＣ１５１と、主に機能液滴吐出ヘッド７の駆動を制御する第２ＰＣ１５２とを有する制御部１５０と、により構成されている。
【００５０】
ヘッド部１１０の機能液滴吐出ヘッド７は、上記した構成であり、１ヘッド当たり１８０個のノズル列が２列使用されている。ヘッドインターフェース基板１１１は、波形・パターン記憶回路基板１２１から送信された信号を差動信号変換し、機能液滴吐出のためのピエゾ圧電素子を駆動するピエゾ圧電素子駆動信号と、後述する描画パターンデータ８０を機能液滴吐出ヘッド７に送る。
【００５１】
駆動部１２０の波形・パターン記憶回路基板１２１は、第２ＰＣ１５２からピエゾ圧電素子の駆動信号を受けて駆動波形を生成する。また、リニアスケール１４１からの信号に基づいて機能液滴吐出距離をカウントするトリガ基板１２３により、トリガパルスが作成され、波形・パターン記憶回路基板１２１は、このトリガパルスを受けて予め第２ＰＣ１５２から送られ、格納していた描画パターンデータ記憶領域から描画パターンデータを順次取り出す。さらに、波形・パターン記憶回路基板１２１は、予め第２ＰＣ１５２から送られ、格納していた波形パラメータに応じたピエゾ素子駆動波形を、トリガパルスと同期して生成する。また、波形・パターン記憶回路基板１２１は、電源部１３１の直流電源１３１より（ヘッド駆動用として）電源が供給される。
【００５２】
送り検出部１４０のリニアスケール１４１は、０．５μｍピッチでスキャンの送りを検出し、位置パルスをトリガ基板１２３に伝送する。また、制御部１５０の第２ＰＣ１５２は、第１ＰＣ１５１とシリアル通信回線（ＲＳ−２３２Ｃ）により接続され、第１ＰＣ１５１からのコマンドを受けて機能液滴吐出ヘッド７の駆動結果等に関するデータを返信する。また、第２ＰＣ１５２は、後述するパターンデータ６０（描画パターンデータ８０の元となるデータ）を生成し、インターフェース基板１２２を介して波形・パターン記憶回路基板１２１に転送制御信号および吐出パターンデータ６０を送ると共に、トリガ基板１２３にトリガ制御信号および吐出制御信号を送る。
【００５３】
次に、図３のフローチャートを参照して、機能液滴吐出ヘッド７からワークに機能液滴を選択的に吐出して描画するための描画パターンデータ８０の生成方法について説明する。ここでは、図１１に示すような画像データ５０に基づいて機能液滴吐出ヘッド７の駆動データとなるバイナリ化された描画パターンデータ８０（図７参照）を生成するものとする。
【００５４】
まず、画像データ５０に基づいて、描画パターンデータ８０の配列領域を確保する（Ｓ１１）。具体的には、図４（ａ）に示す配列の領域を確保するものであり、各セルは全て初期値（機能液滴不吐出に相当；「０」にて図示）となっている。ここで、列方向はノズル列（１−１８０）、行方向は吐出分解能（１μｍ単位で設定可能）を示す。
【００５５】
次に、画像データ５０に基づいて生成された描画イメージ情報を同図（ａ）の配列領域に書き込むことで、パターンデータ６０を生成する（Ｓ１２）。描画イメージ情報とは、同図（ｂ）に示すところの、数値０、１、２、３および９を示すものであり、これらはそれぞれ、「０：不吐出」「１：Ｒ（レッド）吐出」、「２：Ｇ（グリーン）吐出」、「３：Ｂ（ブルー）吐出」および「９：ＡＬＬ吐出（ＲＧＢ全吐出）」を指している。
【００５６】
なお、このパターンデータ６０における各セルに代入される情報は、これらの色情報のみに留まらず、ドットサイズ（機能液滴吐出量）やドット重なり回数（機能液滴吐出数）などに関する情報を代入するようにしても良い。この構成によれば、一つの配列データで効率よく情報を保持させることができる。なお、各セルは、８ビット（１バイト；０−２５５）の情報を保持させることが可能であるが、記憶容量の許す限り、情報量を増加させるようにしても良い。
【００５７】
次に、パターンデータ６０に対し、機能液滴吐出ヘッド７の傾きに対応した回転シフト処理を行うことで、シフトパターンデータ７０を生成する（Ｓ１３）。上記の通り、機能液滴吐出ヘッド７は、印刷方向（主走査方向）に対し所定角度の傾きを有している。すなわち、パターンデータ６０をそのままバイナリ化して、駆動データとしても描画される画像は所定の角度だけ傾いてしまう。したがって、図５に示すように、パターンデータ６０に対して回転シフト処理を行い、シフトパターンデータ７０を生成し、これに基づいて描画パターンデータ８０を生成することで同図に示すような、所望する描画結果が得られる。なお、機能液滴吐出ヘッド７が、印刷方向（主走査方向）に対して傾きを有しない場合（垂直方向である場合）、シフトパターンデータ７０の生成を行う必要がないことは言うまでもない。
【００５８】
次に、シフトパターンデータ７０をバイナリ出力することで描画パターンデータ８０を生成する（Ｓ１４）。描画パターンデータ８０は、パターンデータ６０（シフトパターンデータ７０）に含まれる色情報に基づいて色別にバイナリ出力される。色別の分割方法は図６に示すとおりであり、図４（ｂ）のパターンデータ６０を、３つ（Ｒ吐出，Ｇ吐出，Ｂ吐出）のパターンデータ６０に分割する。なお、色の分割はこれに限らず、更なる多色に分割しても良い。
【００５９】
描画パターンデータ８０は、機能液滴吐出ヘッド７を駆動可能なバイナリデータであり、その一部（１吐出分解能分）を図７に示した。ここでは、シフトパターンデータ７０をノズル列（１−１８０）に対応する１配列分毎にバイナリ化して１配列分の描画パターンデータ８１を生成し、１度ファイルにまとめて、波形・パターン記憶回路基板１２１のＲＡＭに転送するようにしている。これにより、バイナリデータの生成が容易になる。なお、パターンデータ６０からのシフトパターンデータ７０の生成も、１配列毎に行うようにしてもよい。この構成によれば、回転シフト処理の演算が複雑化することなく容易にシフトパターンデータ７０を生成することができる。
【００６０】
なお、パターンデータ６０にドットサイズ（機能液滴吐出量）に関する情報が含まれている場合は、これに基づいて、ドットサイズを制御可能なパラメータを描画パターンデータ８０に書き込む。具体的には、バイナリ化された描画パターンデータ８０中のＳＰｘｘデータのｘｘ部分を変化させる（図７参照）。これにより、多種のドットサイズによって構成された画像を描画可能である。
【００６１】
また、パターンデータ６０にドット重なり回数（機能液滴吐出数）に関する情報が含まれている場合には、ドット重なり回数情報から得られる最多重なり回数に分割して、バイナリ出力することにより、描画パターンデータ８０を生成する。例えば、図８（ａ）に示すような、ドット重なり回数に関する情報がパターンデータ６０に含まれている場合は、最多重なり回数が「３回」であるため、同図（ｂ）に示すように、１回目吐出用のデータ、２回目吐出用のデータ、３回目吐出用のデータの分割してバイナリ出力を行う。これにより、同じ場所に（場合によっては１回の吐出量を絞って（ドットサイズを小さくして））複数回の吐出が可能となり、より見栄えの良い階調表現を実現することができる。
【００６２】
上記の要領で作成した描画パターンデータ８０に基づき、描画（画像形成）を行うが、図９を参照してその描画方法を簡単に説明する。なお、実際には、上記したとおり、機能液滴吐出ヘッド７に対してワーク（Ｘ軸テーブル２３）が移動することにより描画を行うが、ここでは説明を容易にするため、ワーク上を機能液滴吐出ヘッド７が移動するものとして説明する。
【００６３】
機能液滴吐出ヘッド７は、長さ１インチで１８０ノズルを有している（１８０ｄｐｉ）が、これを数回に分割してスキャン（走査）することにより、画像の形成を行う。同図に示した例では３回に分割してスキャンしている。この場合、先ず主走査方向に機能液滴吐出ヘッド７を駆動して描画を行い、ワークの幅分のスキャンを終えると、ヘッドを元の位置に戻し、副走査方向に１インチ分移動する。これを３回繰り返すことにより、画像の形成を行う。
【００６４】
なお、描画方法については、種々の仕様が考えられ、例えば、主走査方向における機能液滴吐出ヘッドの戻り動作においても描画を行うようにしても良いし、（吐出不良等を考慮して両端側の１０ノズルを不使用にするような場合は）副走査方向において１インチ分移動するのではなく、１回目のスキャンと２回目のスキャンとが一部重なり合うように３/４インチずつ移動するようにしても良い。
【００６５】
このように、本発明の描画パターンデータ８０の生成方法によれば、画像データ５０に基づいて配列領域を確保し、これに描画イメージ情報を書き込むことで、パターンデータ６０を生成し、さらにこのパターンデータ６０をバイナリ出力することで、描画パターンデータ８０を生成することができる。すなわち、一定配列を発生するアルゴリズムを有したプログラムにより、直接最終形式（バイナリ形式）のデータを生成するものではないため、一定配列を有するか否かに関わらず、あらゆるドットパターンを描画することができる。
【００６６】
また、パターンデータ６０に対して、機能液滴吐出ヘッド７の傾きに対応した回転シフト処理を行うことで、シフトパターンデータ７０を生成し、これに基づいて描画パターンデータ８０を生成するため、描画されるイメージが機能液滴吐出ヘッド７の傾きによって傾斜することがない。すなわち、元の画像データに近い描画結果が得られる描画パターンデータを生成することができる。
【００６７】
次に、上記のバイナリ化された描画パターンデータ８０に基づいて生成される可視データ９０の生成方法について説明する。本発明の可視データ生成方法は、実際に機能液滴を吐出することなく、描画されるイメージを確認可能にするための方法であり、簡潔に言えば上記の描画パターンデータ生成方法と逆の手順により生成されるものである。以下、図１０のフローチャートを参照し、順を追って説明する。なお、可視データ９０は、図１１の点線部を描画結果とする描画パターンデータに基づいて生成されるものとする。
【００６８】
まず、描画パターンデータ８０から、ノズル列３７に対応する１列分（１ブロック分＝１吐出分解能分）の描画パターンデータ８１を抽出する（Ｓ２１；図７参照）。次に、この１列分の描画パターンデータ８１に基づき、ビット演算により１列分のパターンデータ６１を生成する（Ｓ２２；図４（ｂ）参照）。そして、全列分のパターンデータ（全パターンデータ）６０の生成が終了するまで（最後の列のパターンデータ６１の生成が終了するまで）、Ｓ２１およびＳ２２の処理を繰り返す（Ｓ２３；積層処理）。次に、生成した全パターンデータ６０に対し、回転シフト処理を行う場合（Ｓ２４：Ｙｅｓ）は、回転シフト処理を行い、シフトパターンデータ７０を生成した（Ｓ２５）後、可視化処理（テキスト化）を行うことにより、可視データを生成する（Ｓ２６；図１２参照）。一方、回転シフト処理を行わない場合（Ｓ２４：Ｎｏ）は、そのまま、可視化処理を行うことにより、可視データを生成する（Ｓ２６）。これにより、機能液滴吐出ヘッド７から正常に機能液滴が吐出されるか（生成された描画パターンデータ８０に異常がないか）の確認を行うことができる。
【００６９】
なお、パターンデータ６０に対する回転シフト処理は、機能液滴吐出ヘッド７の傾きを考慮し、実際に描画されるイメージに近い可視データ９０を生成するための処理である。すなわち、回転シフト処理を行うことで、図１２に示したような、所定角度を有した可視データ９０ではなく、図１３に示すような、描画イメージに近い可視データ９０を生成することができる。ここでは、上記の描画パターンデータ８０の生成における回転シフト処理と逆のシフトとなるため、上記の描画パターンデータ８０の生成において角度θの回転を行った場合は、−（マイナス）θの回転処理を行う。
【００７０】
また、図１２および図１３は、パターンデータ６０をテキスト化した可視データ９０を、テキストエディタで表示したものであるが、ビットマップ化した可視データを生成するようにしても良い。この構成によれば、拡大して細密に表示したり、縮小して全体を見通したりすることが容易になると共に、より実際に描画される画像に近い可視データ９０を得ることができる。
【００７１】
このように、本発明の可視データ９０の生成方法によれば、機能液滴吐出ヘッド７からワークに機能液滴を選択的に吐出して描画するためのバイナリ化された描画パターンデータ８０に基づき、ビット演算によりパターンデータ６０を生成し、さらに、これに基づいて可視化プログラムにより可視化された可視データ９０を生成することができる。したがって、実際に機能液滴吐出ヘッド７から機能液滴を吐出することなく、描画されるイメージを確認することができるため、時間と吐出材料の無駄を省くことができる。
【００７２】
また、機能液滴吐出ヘッド７に配列された複数のノズル３８に対応する１列分の描画パターンデータを抽出した後、１列分のパターンデータ６１を生成し、これを積層させることにより全パターンデータ６０を生成するため、全パターンデータ６０の生成のための演算処理を容易に行うことができる。
【００７３】
また、全パターンデータ６０に対して、回転シフト処理を行うことで、シフトパターンデータ７０を生成し、これに基づいて可視データ９０を生成するため、生成された可視データ９０が機能液滴吐出ヘッド７の傾きによって傾斜することがない。すなわち、実際に描画される画像に近い可視データを生成することができる。
【００７４】
また、パターンデータをテキスト化する可視化プログラムによって、テキスト形式の可視データ９０を生成することができる。すなわち、空白と任意の文字の組み合わせで画像を作成するといった文字列の処理を行う簡単なプログラムによって、容易に可視データを生成することができる。
【００７５】
ところで、本発明の機能液滴吐出装置１０は、前述の通り、各種フラットディスプレイの製造方法や、各種の電子デバイスおよび光デバイスの製造方法等にも適用可能である。そこで、この機能液滴吐出装置１０を用いた製造方法を、液晶表示装置の製造方法および有機ＥＬ装置の製造方法を例に、説明する。
【００７６】
図１４は、液晶表示装置のカラーフィルタの部分拡大図である。図１４（ａ）は平面図であり、図１４（ｂ）は図１４（ａ）のＢ−Ｂ´線断面図である。断面図各部のハッチングは一部省略している。
【００７７】
図１４（ａ）に示されるように、カラーフィルタ４００は、マトリクス状に並んだ画素（フィルタエレメント）４１２を備え、画素と画素の境目は、仕切り４１３によって区切られている。画素４１２の１つ１つには、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかのインク（フィルタ材料）が導入されている。この例では赤、緑、青の配置をいわゆるデルタ配列としたが、ストライプ配列、モザイク配列など、その他の配置でも構わない。
【００７８】
図１４（ｂ）に示されるように、カラーフィルタ４００は、透光性の基板４１１と、遮光性の仕切り４１３とを備えている。仕切り４１３が形成されていない（除去された）部分は、上記画素４１２を構成する。この画素４１２に導入された各色のインクは着色層４２１を構成する。仕切り４１３及び着色層４２１の上面には、オーバーコート層４２２及び電極層４２３が形成されている。
【００７９】
図１５は、本発明の実施形態によるカラーフィルタの製造方法を説明する製造工程断面図である。断面図各部のハッチングは一部省略している。
【００８０】
膜厚０．７ｍｍ、たて３８ｃｍ、横３０ｃｍの無アルカリガラスからなる透明基板４１１の表面を、熱濃硫酸に過酸化水素水を１重量％添加した洗浄液で洗浄し、純水でリンスした後、エア乾燥を行って清浄表面を得る。この表面に、スパッタ法によりクロム膜を平均０．２μｍの膜厚で形成し、金属層４１４´を得る（図１５：Ｓ１）。
【００８１】
この基板をホットプレート上で、８０℃で５分間乾燥させた後、金属層４１４´の表面に、スピンコートによりフォトレジスト層（図示せず）を形成する。この基板表面に、所要のマトリクスパターン形状を描画したマスクフィルムを密着させ、紫外線で露光をおこなう。次に、これを、水酸化カリウムを８重量％の割合で含むアルカリ現像液に浸漬して、未露光の部分のフォトレジストを除去し、レジスト層をパターニングする。続いて、露出した金属層を、塩酸を主成分とするエッチング液でエッチング除去する。このようにして所定のマトリクスパターンを有する遮光層（ブラックマトリクス）４１４を得ることができる（図１５：Ｓ２）。遮光層４１４の膜厚は、およそ０．２μｍである。また、遮光層４１４の幅は、およそ２２μｍである。
【００８２】
この基板上に、さらにネガ型の透明アクリル系の感光性樹脂組成物４１５´をやはりスピンコート法で塗布する（図１５：Ｓ３）。これを１００℃で２０分間プレベークした後、所定のマトリクスパターン形状を描画したマスクフィルムを用いて紫外線露光を行なう。未露光部分の樹脂を、やはりアルカリ性の現像液で現像し、純水でリンスした後スピン乾燥する。最終乾燥としてのアフターベークを２００℃で３０分間行い、樹脂部を十分硬化させることにより、バンク層４１５が形成され、遮光層４１４及びバンク層４１５からなる仕切り４１３が形成される（図１５：Ｓ４）。このバンク層４１５の膜厚は、平均で２．７μｍである。また、バンク層４１５の幅は、およそ１４μｍである。
【００８３】
得られた遮光層４１４およびバンク層４１５で区画された着色層形成領域（特にガラス基板４１１の露出面）のインク濡れ性を改善するため、ドライエッチング、すなわちプラズマ処理を行なう。具体的には、ヘリウムに酸素を２０％加えた混合ガスに高電圧を印加し、プラズマ雰囲気でエッチングスポットに形成し、基板を、このエッチングスポット下を通過させてエッチングする。
【００８４】
次に、仕切り４１３で区切られて形成された画素４１２内に、上記Ｒ、Ｇ、Ｂの各インクをインクジェット方式により導入する（図１５：Ｓ５）。機能液滴吐出ヘッド７（インクジェットヘッド）には、ピエゾ圧電効果を応用した精密ヘッドを使用し、微小インク滴を着色層形成領域毎に１０滴、選択的に飛ばす。駆動周波数は１４．４ｋＨｚ、すなわち、各インク滴の吐出間隔は６９．５μ秒に設定する。ヘッドとターゲットとの距離は、０．３ｍｍに設定する。ヘッドよりターゲットである着色層形成領域への飛翔速度、飛行曲がり、サテライトと称される分裂迷走滴の発生防止のためには、インクの物性はもとよりヘッドのピエゾ素子を駆動する波形（電圧を含む）が重要である。従って、あらかじめ条件設定された波形をプログラムして、インク滴を赤、緑、青の３色を同時に塗布して所定の配色パターンにインクを塗布する。
【００８５】
インク（フィルタ材料）としては、例えばポリウレタン樹脂オリゴマーに無機顔料を分散させた後、低沸点溶剤としてシクロヘキサノンおよび酢酸ブチルを、高沸点溶剤としてブチルカルビトールアセテートを加え、さらに非イオン系界面活性剤０．０１重量％を分散剤として添加し、粘度６〜８センチポアズとしたものを用いる。
【００８６】
次に、塗布したインクを乾燥させる。まず、自然雰囲気中で３時間放置してインク層４１６のセッティングを行った後、８０℃のホットプレート上で４０分間加熱し、最後にオーブン中で２００℃で３０分間加熱してインク層４１６の硬化処理を行って、着色層４２１が得られる（図１５：Ｓ６）。
【００８７】
上記基板に、透明アクリル樹脂塗料をスピンコートして平滑面を有するオーバーコート層４２２を形成する。さらに、この上面にＩＴＯ（Indium Tin Oxide）からなる電極層４２３を所要パターンで形成して、カラーフィルタ４００とする（図１５：Ｓ７）。なお、このオーバーコート層４２２を、機能液滴吐出ヘッド７（インクジェットヘッド）によるインクジェット方式で、形成するようにしてもよい。
【００８８】
図１６は、本発明の製造方法により製造される電気光学装置（フラットディスプレイ）の一例であるカラー液晶表示装置の断面図である。断面図各部のハッチングは一部省略している。
【００８９】
このカラー液晶表示装置４５０は、カラーフィルタ４００と対向基板４６６とを組み合わせ、両者の間に液晶組成物４６５を封入することにより製造される。液晶表示装置４５０の一方の基板４６６の内側の面には、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）素子（図示せず）と画素電極４６３とがマトリクス状に形成されている。また、もう一方の基板として、画素電極４６３に対向する位置に赤、緑、青の着色層４２１が配列するようにカラーフィルタ４００が設置されている。
【００９０】
基板４６６とカラーフィルタ４００の対向するそれぞれの面には、配向膜４６１、４６４が形成されている。これらの配向膜４６１、４６４はラビング処理されており、液晶分子を一定方向に配列させることができる。また、基板４６６およびカラーフィルタ４００の外側の面には、偏光板４６２、４６７がそれぞれ接着されている。また、バックライトとしては蛍光灯（図示せず）と散乱板の組合わせが一般的に用いられており、液晶組成物４６５をバックライト光の透過率を変化させる光シャッターとして機能させることにより表示を行う。
【００９１】
なお、電気光学装置は、本発明では上記のカラー液晶表示装置に限定されず、例えば薄型のブラウン管、あるいは液晶シャッター等を用いた小型テレビ、ＥＬ表示装置、プラズマディスプレイ、ＣＲＴディスプレイ、ＦＥＤ（Field Emission Display）パネル等の種々の電気光学手段を用いることができる。
【００９２】
次に、図１７ないし図２９を参照して、有機ＥＬ装置（有機ＥＬ表示装置）とその製造方法を説明する。
【００９３】
図１７ないし図２９は、有機ＥＬ素子を含む有機ＥＬ装置の製造プロセスと共にその構造を表している。この製造プロセスは、バンク部形成工程と、プラズマ処理工程と、正孔注入／輸送層形成工程及び発光層形成工程からなる発光素子形成工程と、対向電極形成工程と、封止工程とを具備して構成されている。
【００９４】
バンク部形成工程では、基板５０１に予め形成した回路素子部５０２上及び電極５１１（画素電極ともいう）上の所定の位置に、無機物バンク層５１２ａと有機物バンク層５１２ｂを積層することにより、開口部５１２ｇを有するバンク部５１２を形成する。このように、バンク部形成工程には、電極５１１の一部に、無機物バンク層５１２ａを形成する工程と、無機物バンク層の上に有機物バンク層５１２ｂを形成する工程が含まれる。
【００９５】
まず無機物バンク層５１２ａを形成する工程では、図１７に示すように、回路素子部５０２の第２層間絶縁膜５４４ｂ上及び画素電極５１１上に、無機物バンク層５１２ａを形成する。無機物バンク層５１２ａは、例えばＣＶＤ法、コート法、スパッタ法、蒸着法等によって第２層間絶縁膜５４４ｂ及び画素電極５１１の全面にＳｉＯ2、ＴｉＯ2等の無機物膜を形成する。
【００９６】
次にこの無機物膜をエッチング等によりパターニングして、電極５１１の電極面５１１ａの形成位置に対応する下部開口部５１２ｃを設ける。このとき、無機物バンク層５１２ａを電極５１１の周縁部と重なるように形成しておく必要がある。このように、電極５１１の周縁部（一部）と無機物バンク層５１２ａとが重なるように無機物バンク層５１２ａを形成することにより、発光層５１０ｂの発光領域を制御することができる。
【００９７】
次に有機物バンク層５１２ｂを形成する工程では、図１８に示すように、無機物バンク層５１２ａ上に有機物バンク層５１２ｂを形成する。有機物バンク層５１２ｂをフォトリソグラフィ技術等によりエッチングして、有機物バンク層５１２ｂの上部開口部５１２ｄを形成する。上部開口部５１２ｄは、電極面５１１ａ及び下部開口部５１２ｃに対応する位置に設けられる。
【００９８】
上部開口部５１２ｄは、図１８に示すように、下部開口部５１２ｃより広く、電極面５１１ａより狭く形成することが好ましい。これにより、無機物バンク層５１２ａの下部開口部５１２ｃを囲む第１積層部５１２ｅが、有機物バンク層５１２ｂよりも電極５１１の中央側に延出された形になる。このようにして、上部開口部５１２ｄ、下部開口部５１２ｃを連通させることにより、無機物バンク層５１２ａ及び有機物バンク層５１２ｂを貫通する開口部５１２ｇが形成される。
【００９９】
次にプラズマ処理工程では、バンク部５１２の表面と画素電極の表面５１１ａに、親インク性を示す領域と、撥インク性を示す領域を形成する。このプラズマ処理工程は、予備加熱工程と、バンク部５１２の上面（５１２ｆ）及び開口部５１２ｇの壁面並びに画素電極５１１の電極面５１１ａを親インク性を有するように加工する親インク化工程と、有機物バンク層５１２ｂの上面５１２ｆ及び上部開口部５１２ｄの壁面を、撥インク性を有するように加工する撥インク化工程と、冷却工程とに大別される。
【０１００】
まず、予備加熱工程では、バンク部５１２を含む基板５０１を所定の温度まで加熱する。加熱は、例えば基板５０１を載せるステージにヒータを取り付け、このヒータで当該ステージごと基板５０１を加熱することにより行う。具体的には、基板５０１の予備加熱温度を、例えば７０〜８０℃の範囲とすることが好ましい。
【０１０１】
次に、親インク化工程では、大気雰囲気中で酸素を処理ガスとするプラズマ処理（Ｏ2プラズマ処理）を行う。このＯ2プラズマ処理により、図１９に示すように、画素電極５１１の電極面５１１ａ、無機物バンク層５１２ａの第１積層部５１２ｅ及び有機物バンク層５１２ｂの上部開口部５１２ｄの壁面ならびに上面５１２ｆが親インク処理される。この親インク処理により、これらの各面に水酸基が導入されて親インク性が付与される。図１９では、親インク処理された部分を一点鎖線で示している。
【０１０２】
次に、撥インク化工程では、大気雰囲気中で４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理（ＣＦ4プラズマ処理）を行う。ＣＦ4プラズマ処理により、図２０に示すように、上部開口部５１２ｄ壁面及び有機物バンク層の上面５１２ｆが撥インク処理される。この撥インク処理により、これらの各面にフッ素基が導入されて撥インク性が付与される。図２０では、撥インク性を示す領域を二点鎖線で示している。
【０１０３】
次に、冷却工程では、プラズマ処理のために加熱された基板５０１を室温、またはインクジェット工程（機能液滴吐出工程）の管理温度まで冷却する。プラズマ処理後の基板５０１を室温、または所定の温度（例えばインクジェット工程を行う管理温度）まで冷却することにより、次の正孔注入／輸送層形成工程を一定の温度で行うことができる。
【０１０４】
次に、発光素子形成工程では、画素電極５１１上に正孔注入／輸送層及び発光層を形成することにより発光素子を形成する。発光素子形成工程には、４つの工程が含まれる。即ち、正孔注入／輸送層を形成するための第１組成物を各前記画素電極上に吐出する第１機能液滴吐出工程と、吐出された前記第１組成物を乾燥させて前記画素電極上に正孔注入／輸送層を形成する正孔注入／輸送層形成工程と、発光層を形成するための第２組成物を前記正孔注入／輸送層の上に吐出する第２機能液滴吐出工程と、吐出された前記第２組成物を乾燥させて前記正孔注入／輸送層上に発光層を形成する発光層形成工程とが含まれる。
【０１０５】
まず、第１機能液滴吐出工程では、インクジェット法（機能液滴吐出法）により、正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を電極面５１１ａ上に吐出する。なお、この第１機能液滴吐出工程以降は、水、酸素の無い窒素雰囲気、アルゴン雰囲気等の不活性ガス雰囲気で行うことが好ましい。（なお、画素電極上にのみ正孔注入／輸送層を形成する場合は、有機物バンク層に隣接して形成される正孔注入／輸送層は形成されない）
【０１０６】
図２１に示すように、インクジェットヘッド（機能液滴吐出ヘッド７）Ｈに正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を充填し、インクジェットヘッドＨの吐出ノズルを下部開口部５１２ｃ内に位置する電極面５１１ａに対向させ、インクジェットヘッドＨと基板５０１とを相対移動させながら、吐出ノズルから１滴当たりの液量が制御された第１組成物滴５１０ｃを電極面５１１ａ上に吐出する。
【０１０７】
ここで用いる第１組成物としては、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン(PEDOT)等のポリチオフェン誘導体とポリスチレンスルホン酸(PSS)等の混合物を、極性溶媒に溶解させた組成物を用いることができる。極性溶媒としては、例えば、イソプロピルアルコール(IPA)、ノルマルブタノール、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチルピロリドン(NMP)、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン(DMI)及びその誘導体、カルビト−ルアセテート、ブチルカルビト−ルアセテート等のグリコールエーテル類等を挙げることができる。なお、正孔注入／輸送層形成材料は、Ｒ・Ｇ・Ｂの各発光層５１０ｂに対して同じ材料を用いても良く、発光層毎に変えても良い。
【０１０８】
図２１に示すように、吐出された第１組成物滴５１０ｃは、親インク処理された電極面５１１ａ及び第１積層部５１２ｅ上に広がり、下部、上部開口部５１２ｃ、５１２ｄ内に満たされる。電極面５１１ａ上に吐出する第１組成物量は、下部、上部開口部５１２ｃ、５１２ｄの大きさ、形成しようとする正孔注入／輸送層の厚さ、第１組成物中の正孔注入／輸送層形成材料の濃度等により決定される。また、第１組成物滴５１０ｃは１回のみならず、数回に分けて同一の電極面５１１ａ上に吐出しても良い。
【０１０９】
次に正孔注入／輸送層形成工程では、図２２に示すように、吐出後の第１組成物を乾燥処理及び熱処理して第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させることにより、電極面５１１ａ上に正孔注入／輸送層５１０ａを形成する。乾燥処理を行うと、第１組成物滴５１０ｃに含まれる極性溶媒の蒸発が、主に無機物バンク層５１２ａ及び有機物バンク層５１２ｂに近いところで起き、極性溶媒の蒸発に併せて正孔注入／輸送層形成材料が濃縮されて析出する。
【０１１０】
これにより図２２に示すように、乾燥処理によって電極面５１１ａ上でも極性溶媒の蒸発が起き、これにより電極面５１１ａ上に正孔注入／輸送層形成材料からなる平坦部５１０ａが形成される。電極面５１１ａ上では極性溶媒の蒸発速度がほぼ均一であるため、正孔注入／輸送層の形成材料が電極面５１１ａ上で均一に濃縮され、これにより均一な厚さの平坦部５１０ａが形成される。
【０１１１】
次に第２機能液滴吐出工程では、インクジェット法（機能液滴吐出法）により、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出する。この第２機能液滴吐出工程では、正孔注入／輸送層５１０ａの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第２組成物の溶媒として、正孔注入／輸送層５１０ａに対して不溶な非極性溶媒を用いる。
【０１１２】
しかしその一方で正孔注入／輸送層５１０ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出しても、正孔注入／輸送層５１０ａと発光層５１０ｂとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層５１０ｂを均一に塗布できないおそれがある。そこで、非極性溶媒ならびに発光層形成材料に対する正孔注入／輸送層５１０ａの表面の親和性を高めるために、発光層を形成する前に表面改質工程を行うことが好ましい。
【０１１３】
そこでまず、表面改質工程について説明する。表面改質工程は、発光層形成の際に用いる第１組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒である表面改質用溶媒を、インクジェット法（機能液滴吐出法）、スピンコート法またはディップ法により正孔注入／輸送層５１０ａ上に塗布した後に乾燥することにより行う。
【０１１４】
例えば、インクジェット法による塗布は、図２３に示すように、インクジェットヘッドＨに、表面改質用溶媒を充填し、インクジェットヘッドＨの吐出ノズルを基板（すなわち、正孔注入／輸送層５１０ａが形成された基板）に対向させ、インクジェットヘッドＨと基板５０１とを相対移動させながら、吐出ノズルＨから表面改質用溶媒５１０ｄを正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出することにより行う。そして、図２４に示すように、表面改質用溶媒５１０ｄを乾燥させる。
【０１１５】
次に第２機能液滴吐出工程では、インクジェット法（機能液滴吐出法）により、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出する。図２５に示すように、インクジェットヘッドＨに、青色（Ｂ）発光層形成材料を含有する第２組成物を充填し、インクジェットヘッドＨの吐出ノズルを下部、上部開口部５１２ｃ、５１２ｄ内に位置する正孔注入／輸送層５１０ａに対向させ、インクジェットヘッドＨと基板５０１とを相対移動させながら、吐出ノズルから１滴当たりの液量が制御された第２組成物滴５１０ｅとして吐出し、この第２組成物滴５１０ｅを正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出する。
【０１１６】
発光層形成材料としては、ポリフルオレン系高分子誘導体や、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリチオフェン誘導体、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素、あるいは上記高分子に有機ＥＬ材料をドープして用いる事ができる。例えば、ルブレン、ペリレン、９，１０-ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等をドープすることにより用いることができる。
【０１１７】
非極性溶媒としては、正孔注入／輸送層５１０ａに対して不溶なものが好ましく、例えば、シクロへキシルベンゼン、ジハイドロベンゾフラン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン等を用いることができる。このような非極性溶媒を発光層５１０ｂの第２組成物に用いることにより、正孔注入／輸送層５１０ａを再溶解させることなく第２組成物を塗布できる。
【０１１８】
図２５に示すように、吐出された第２組成物５１０ｅは、正孔注入／輸送層５１０ａ上に広がって下部、上部開口部５１２ｃ、５１２ｄ内に満たされる。第２組成物５１０ｅは１回のみならず、数回に分けて同一の正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出しても良い。この場合、各回における第２組成物の量は同一でも良く、各回毎に第２組成物量を変えても良い。
【０１１９】
次に発光層形成工程では、第２組成物を吐出した後に乾燥処理及び熱処理を施して、正孔注入／輸送層５１０ａ上に発光層５１０ｂを形成する。乾燥処理は、吐出後の第２組成物を乾燥処理することにより第２組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発して、図２６に示すような青色（Ｂ）発光層５１０ｂを形成する。
【０１２０】
続けて、図２７に示すように、青色（Ｂ）発光層５１０ｂの場合と同様にして、赤色（Ｒ）発光層５１０ｂを形成し、最後に緑色（Ｇ）発光層５１０ｂを形成する。なお、発光層５１０ｂの形成順序は、前述の順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決める事も可能である。
【０１２１】
次に対向電極形成工程では、図２８に示すように、発光層５１０ｂ及び有機物バンク層５１２ｂの全面に陰極５０３（対向電極）を形成する。なお，陰極５０３は複数の材料を積層して形成しても良い。例えば、発光層に近い側には仕事関数が小さい材料を形成することが好ましく、例えばＣａ、Ｂａ等を用いることが可能であり、また材料によっては下層にＬｉＦ等を薄く形成した方が良い場合もある。また、上部側（封止側）には下部側よりも仕事関数が高いものが好ましい。これらの陰極（陰極層）５０３は、例えば蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等で形成することが好ましく、特に蒸着法で形成することが、発光層５１０ｂの熱による損傷を防止できる点で好ましい。
【０１２２】
また、フッ化リチウムは、発光層５１０ｂ上のみに形成しても良く、更に青色（Ｂ）発光層５１０ｂ上のみに形成しても良い。この場合、他の赤色（Ｒ）発光層及び緑色（Ｇ）発光層５１０ｂ、５１０ｂには、ＬｉＦからなる上部陰極層５０３ｂが接することとなる。また陰極１２の上部には、蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等により形成したＡｌ膜、Ａｇ膜等を用いることが好ましい。また、陰極５０３上に、酸化防止のためにＳｉＯ2、ＳｉＮ等の保護層を設けても良い。
【０１２３】
最後に、図２９に示す封止工程では、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰囲気中で、有機ＥＬ素子５０４上に封止用基板５０５を積層する。封止工程は、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰囲気で行うことが好ましい。大気中で行うと、陰極５０３にピンホール等の欠陥が生じていた場合にこの欠陥部分から水や酸素等が陰極５０３に侵入して陰極５０３が酸化されるおそれがあるので好ましくない。そして最後に、フレキシブル基板の配線に陰極５０３を接続するとともに、駆動ＩＣに回路素子部５０２の配線を接続することにより、本実施形態の有機ＥＬ装置５００が得られる。
【０１２４】
なお、画素電極５１１および陰極（対向電極）５０３の形成において、インクジェットヘッドＨによるインクジェット方式を採用してもよい。すなわち、液体の電極材料をインクジェットヘッドＨにそれぞれ導入し、これをインクジェットヘッドＨから吐出して、画素電極５１１および陰極５０３をそれぞれ形成する（乾燥工程を含む）。
【０１２５】
同様に、本実施形態の機能液滴吐出装置１０は、電子放出装置の製造方法、ＰＤＰ装置の製造方法および電気泳動表示装置の製造方法等に、適用することができる。
【０１２６】
電子放出装置の製造方法では、複数の機能液滴吐出ヘッド７にＲ、Ｇ、Ｂ各色の各色の蛍光材料を導入し、複数の機能液滴吐出ヘッド７を主走査および副走査し、蛍光材料を選択的に吐出して、電極上に多数の蛍光体を形成する。なお、電子放出装置は、ＦＥＤ（電界放出ディスプレイ）を含む上位の概念である。
【０１２７】
ＰＤＰ装置の製造方法では、複数の機能液滴吐出ヘッド７にＲ、Ｇ、Ｂ各色の各色の蛍光材料を導入し、複数の機能液滴吐出ヘッド７を主走査および副走査し、蛍光材料を選択的に吐出して、背面基板上の多数の凹部にそれそれ蛍光体を形成する。
【０１２８】
電気泳動表示装置の製造方法では、複数の機能液滴吐出ヘッド７に各色の泳動体材料を導入し、複数の機能液滴吐出ヘッド７を主走査および副走査し、インク材料を選択的に吐出して、電極上の多数の凹部にそれぞれ泳動体を形成する。なお、帯電粒子と染料とから成る泳動体は、マイクロカプセルに封入されていることが、好ましい。
【０１２９】
一方、本実施形態の機能液滴吐出装置１０は、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法等にも、適用可能である。
【０１３０】
スペーサ形成方法は、２枚の基板間に微小なセルギャップを構成すべく多数の粒子状のスペーサを形成するものであり、複数の機能液滴吐出ヘッド７にスペーサを構成する粒子材料を導入し、複数の機能液滴吐出ヘッド７を主走査および副走査し、粒子材料を選択的に吐出して少なくとも一方の基板上にスペーサを形成する。例えば、上記の液晶表示装置や電気泳動表示装置における２枚の基板間のセルギャップを構成する場合に有用であり、その他この種の微小なギャップを必要とする半導体製造技術に適用できることはいうまでもない。
【０１３１】
金属配線形成方法では、複数の機能液滴吐出ヘッド７に液状金属材料を導入し、複数の機能液滴吐出ヘッド７を主走査および副走査し、液状金属材料を選択的に吐出して、基板上に金属配線を形成する。例えば、上記の液晶表示装置におけるドライバと各電極とを接続する金属配線や、上記の有機ＥＬ装置におけるＴＦＴ等と各電極とを接続する金属配線に適用することができる。また、この種のフラットディスプレイの他、一般的な半導体製造技術に適用できることはいうまでもない。
【０１３２】
レンズ形成方法では、複数の機能液滴吐出ヘッド７にレンズ材料を導入し、複数の機能液滴吐出ヘッド７を主走査および副走査し、レンズ材料を選択的に吐出して、透明基板上に多数のマイクロレンズを形成する。例えば、上記のＦＥＤ装置におけるビーム収束用のデバイスとして適用可能である。また、各種の光デバイスに適用可能であることはいうまでもない。
【０１３３】
レジスト形成方法では、複数の機能液滴吐出ヘッド７にレジスト材料を導入し複数の機能液滴吐出ヘッド７を主走査および副走査し、レジスト材料を選択的に吐出して、基板上に任意形状のフォトレジストを形成する。例えば、上記の各種表示装置おけるバンクの形成は元より、半導体製造技術の主体を為すフォトリソグラフィー法において、フォトレジストの塗布に広く適用可能である。
【０１３４】
光拡散体形成方法では、基板上に多数の光拡散体を形成する光拡散体形成方法であって、複数の機能液滴吐出ヘッド７に光拡散材料を導入し、複数の機能液滴吐出ヘッド７を主走査および副走査し、光拡散材料を選択的に吐出して多数の光拡散体を形成する。この場合も、各種の光デバイスに適用可能であることはいうまでもない。
【０１３５】
【発明の効果】
以上のように、本発明の描画パターンデータ生成方法、描画パターンデータ生成装置並びにこれを備えた機能液滴吐出装置によれば、一定配列を発生するアルゴリズムを有したプログラムにより、直接最終形式（バイナリ形式）のデータを生成するものではないため、一定配列を有するドットパターンはもちろん、一定配列を有しないドットパターンも描画することができる、などの効果を奏する。
【０１３６】
一方、本発明の液晶表示装置の製造方法、有機ＥＬ装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、ＰＤＰ装置の製造方法および電気泳動表示装置の製造方法によれば、各装置におけるフィルタ材料や発光材料等に適した機能液滴吐出ヘッドを簡単に導入することができるため、製造効率を向上させることができる。
【０１３７】
また、本発明のカラーフィルタの製造方法、有機ＥＬの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法によれば、各電子デバイスや各光デバイスにおけるフィルタ材料や発光材料等に適した機能液滴吐出ヘッドを簡単に導入することができため、製造効率を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 実施形態に係る機能液滴吐出装置の模式図である。
【図２】 実施形態に係る機能液滴吐出装置の制御系のブロック図である。
【図３】 実施形態に係る描画パターンデータ生成方法を示すフローチャートである。
【図４】 実施形態に係るパターンデータを示す図である。
【図５】 実施形態に係るパターンデータ、シフトパターンデータおよびこれに基づく描画結果を示す図である。
【図６】 実施形態に係るパターンデータの色別の分割方法を示す図である。
【図７】 実施形態に係るバイナリ化された描画パターンデータを示す図である。
【図８】 実施形態に係るパターンデータのドット重なり回数別の分割方法を示す図である。
【図９】 実施形態に係る描画方法を示す図である。
【図１０】 実施形態に係る可視データ生成方法を示すフローチャートである。
【図１１】 実施形態に係る画像データを示す図である。
【図１２】 実施形態に係るテキスト化された可視データを示す図である。
【図１３】 実施形態に係るテキスト化されたシフト可視データを示す図である。
【図１４】 実施形態のカラーフィルタの製造方法により製造されるカラーフィルタの部分拡大図である。
【図１５】 実施形態のカラーフィルタの製造方法を模式的に示す製造工程断面図である。
【図１６】 実施形態のカラーフィルタの製造方法により製造される液晶表示装置の断面図である。
【図１７】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法におけるバンク部形成工程（無機物バンク）の断面図である。
【図１８】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法におけるバンク部形成工程（有機物バンク）の断面図である。
【図１９】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法におけるプラズマ処理工程（親水化処理）の断面図である。
【図２０】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法におけるプラズマ処理工程（撥水化処理）の断面図である。
【図２１】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法における正孔注入層形成工程（機能液滴吐出）の断面図である。
【図２２】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法における正孔注入層形成工程（乾燥）の断面図である。
【図２３】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法における表面改質工程（機能液滴吐出）の断面図である。
【図２４】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法における表面改質工程（乾燥）の断面図である。
【図２５】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法におけるＢ発光層形成工程（機能液滴吐出）の断面図である。
【図２６】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法におけるＢ発光層形成工程（乾燥）の断面図である。
【図２７】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法におけるＲ・Ｇ・Ｂ発光層形成工程の断面図である。
【図２８】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法における対向電極形成工程の断面図である。
【図２９】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法における封止工程の断面図である。
【符号の説明】
７ 機能液滴吐出ヘッド １０ 機能液滴吐出装置
２３ Ｘ軸テーブル ２４ Ｙ軸テーブル
２５ メインキャリッジ ２６ ヘッドユニット
２８ 吸着テーブル ３７ ノズル列
３８ ノズル ４１ サブキャリッジ
５０ 画像データ ６０ パターンデータ
７０ シフトパターンデータ ８０ 描画パターンデータ
９０ 可視データ １１０ ヘッド部
１２０ 駆動部 １３０ 電源部
１４０ 送り検出部 １５０ 制御部
１５１ 第１ＰＣ １５２ 第２ＰＣ
４００ カラーフィルタ ４１２ 画素
４１５ バンク層 ４１６ インク層
４２２ オーバーコート層 ４６６ 基板
５００ 有機ＥＬ装置 ５０１ 基板
５０２ 回路素子部 ５０４ 有機ＥＬ素子
５１０ａ 正孔注入／輸送層 ５１０ｂ 発光層
Ｗ 基板
Claims (28)
- 画像データに基づき、複数のノズルを有する機能液滴吐出ヘッドからワークに機能液滴を選択的に吐出して描画するための描画パターンデータを生成する描画パターンデータ生成方法であって、
前記画像データに基づいて、前記複数のノズルに対応する１配列分のセル数と前記機能液滴吐出ヘッドの吐出分解能に対応するセル数とをそれぞれ列・行方向に配列したマトリクスから成る、前記描画パターンデータの配列領域を確保し、
前記画像データに基づいて生成された、色情報、ドットサイズ情報、ドット重なり回数情報のうち、少なくとも２以上の情報を含む描画イメージ情報を、前記配列領域の対応する各セルに書き込むことで、前記１配列分のパターンデータを生成し、
前記１配列分のパターンデータをバイナリ出力することで前記描画パターンデータを生成することを特徴とする描画パターンデータ生成方法。 - 前記機能液滴吐出ヘッドが印刷方向に対して所定角度の傾きを有している場合、
前記パターンデータに対し、前記所定角度に対応した回転シフト処理を行うことで、シフトパターンデータを生成し、
前記シフトパターンデータをバイナリ出力することで前記描画パターンデータを生成することを特徴とする請求項１に記載の描画パターンデータ生成方法。 - 前記パターンデータを、前記複数のノズルに対応した１配列毎に前記回転シフト処理を行うことで１配列毎のシフトパターンデータを生成し、
前記１配列毎のシフトパターンデータをバイナリ出力することで前記描画パターンデータを生成することを特徴とする請求項２に記載の描画パターンデータ生成方法。 - 前記描画イメージ情報が色情報を有する場合、
前記パターンデータには、前記色情報が書き込まれ、
前記色情報に基づき、前記描画パターンデータは、色別にバイナリ出力されることを特徴とする請求項１、２または３に記載の描画パターンデータ生成方法。 - 前記描画イメージ情報がドットサイズ情報を有する場合、
前記パターンデータには、前記ドットサイズ情報が書き込まれ、
前記ドットサイズ情報に基づき、前記描画パターンデータには、ドットサイズを制御可能なパラメータが書き込まれることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の描画パターンデータ生成方法。 - 前記描画イメージ情報がドット重なり回数情報を有する場合、
前記パターンデータには、前記ドット重なり回数情報が書き込まれ、
前記描画パターンデータは、前記ドット重なり回数情報から得られる最多重なり回数に分割して、バイナリ出力されることを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載の描画パターンデータ生成方法。 - 画像データに基づき、複数のノズルを有する機能液滴吐出ヘッドからワークに機能液滴を選択的に吐出して描画するための描画パターンデータを生成する描画パターンデータ生成装置であって、
前記画像データに基づいて、前記複数のノズルに対応する１配列分のセル数と前記機能液滴吐出ヘッドの吐出分解能に対応するセル数とをそれぞれ列・行方向に配列したマトリクスから成る、前記描画パターンデータの配列領域を確保する配列領域確保手段と、
前記画像データに基づいて生成された、色情報、ドットサイズ情報、ドット重なり回数情報のうち、少なくとも２以上の情報を含む描画イメージ情報を、前記配列領域の対応する各セルに書き込むことで、前記１配列分のパターンデータを生成するパターンデータ生成手段と、
前記１配列分のパターンデータをバイナリ出力することで前記描画パターンデータを生成する描画パターンデータ生成手段と、
を備えたことを特徴とする描画パターンデータ生成装置。 - 前記機能液滴吐出ヘッドが印刷方向に対して所定角度の傾きを有している場合、
前記パターンデータに対し、前記所定角度に対応した回転シフト処理を行うことで、シフトパターンデータを生成するシフトパターン生成手段を更に備え、
前記描画パターンデータ生成手段は、前記シフトパターンデータをバイナリ出力することで前記描画パターンデータを生成することを特徴とする請求項７に記載の描画パターンデータ生成装置。 - 前記シフトパターンデータ生成手段は、前記パターンデータを、前記複数のノズルに対応した１配列毎に前記回転シフト処理を行うことで１配列毎のシフトパターンデータを生成し、
前記描画パターンデータ生成手段は、前記１配列毎のシフトパターンデータをバイナリ出力することで前記描画パターンデータを生成することを特徴とする請求項８に記載の描画パターンデータ生成装置。 - 前記描画イメージ情報が色情報を有する場合、
前記パターンデータ生成手段には、前記色情報を書き込む手段が含まれ、
前記描画パターンデータ生成手段は、前記色情報に基づき、前記描画パターンデータを、色別にバイナリ出力することを特徴とする請求項７、８または９に記載の描画パターンデータ生成装置。 - 前記描画イメージ情報がドットサイズ情報を有する場合、
前記パターンデータ生成手段には、前記ドットサイズ情報を書き込む手段が含まれ、
前記描画パターンデータ生成手段は、前記ドットサイズ情報に基づき、ドットサイズを制御可能なパラメータを前記描画パターンデータに書き込むことを特徴とする請求項７ないし１０のいずれかに記載の描画パターンデータ生成装置。 - 前記描画イメージ情報がドット重なり回数情報を有する場合、
前記パターンデータ生成手段には、前記ドット重なり回数情報を書き込む手段が含まれ、
前記描画パターンデータ生成手段は、前記ドット重なり回数情報から得られる最多重なり回数に分割して、前記描画パターンデータをバイナリ出力することを特徴とする請求項７ないし１１のいずれかに記載の描画パターンデータ生成装置。 - 請求項７ないし１２のいずれかに記載の描画パターンデータ生成装置を備えたことを特徴とする機能液滴吐出装置。
- 請求項１３に記載の機能液滴吐出装置を用い、カラーフィルタの基板上に多数のフィルタエレメントを形成する液晶表示装置の製造方法であって、
複数の前記機能液滴吐出ヘッドに各色のフィルタ材料を導入し、
前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査し、前記フィルタ材料を選択的に吐出して多数の前記フィルタエレメントを形成することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 請求項１３に記載の機能液滴吐出装置を用い、基板上の多数の絵素ピクセルにそれぞれＥＬ発光層を形成する有機ＥＬ装置の製造方法であって、
複数の前記機能液滴吐出ヘッドに各色の発光材料を導入し、
前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査し、前記発光材料を選択的に吐出して多数の前記ＥＬ発光層を形成することを特徴とする有機ＥＬ装置の製造方法。 - 請求項１３に記載の機能液滴吐出装置を用い、電極上に多数の蛍光体を形成する電子放出装置の製造方法であって、
複数の前記機能液滴吐出ヘッドに各色の蛍光材料を導入し、
前記機能液滴吐出ヘッドを前記電極に対し相対的に走査し、前記蛍光材料を選択的に吐出して多数の前記蛍光体を形成することを特徴とする電子放出装置の製造方法。 - 請求項１３に記載の機能液滴吐出装置を用い、背面基板上の多数の凹部にそれぞれ蛍光体を形成するＰＤＰ装置の製造方法であって、
複数の前記機能液滴吐出ヘッドに各色の蛍光材料を導入し、
前記機能液滴吐出ヘッドを前記背面基板に対し相対的に走査し、前記蛍光材料を選択的に吐出して多数の前記蛍光体を形成することを特徴とするＰＤＰ装置の製造方法。 - 請求項１３に記載の機能液滴吐出装置を用い、電極上の多数の凹部に泳動体を形成する電気泳動表示装置の製造方法であって、
複数の前記機能液滴吐出ヘッドに各色の泳動体材料を導入し、
前記機能液滴吐出ヘッドを前記電極に対し相対的に走査し、前記泳動体材料を選択的に吐出して多数の前記泳動体を形成することを特徴とする電気泳動表示装置の製造方法。 - 請求項１３に記載の機能液滴吐出装置を用い、基板上に多数のフィルタエレメントを配列して成るカラーフィルタを製造するカラーフィルタの製造方法であって、
複数の前記機能液滴吐出ヘッドに各色のフィルタ材料を導入し、
前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査し、前記フィルタ材料を選択的に吐出して多数の前記フィルタエレメントを形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。 - 前記多数のフィルタエレメントを被覆するオーバーコート膜が形成されており、
前記フィルタエレメントを形成した後に、
複数の前記機能液滴吐出ヘッドに透光性のコーティング材料を導入し、
前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査し、前記コーティング材料を選択的に吐出して前記オーバーコート膜を形成することを特徴とする請求項１９に記載のカラーフィルタの製造方法。 - 請求項１３に記載の機能液滴吐出装置を用い、ＥＬ発光層を含む多数の絵素ピクセルを基板上に配列して成る有機ＥＬの製造方法であって、
複数の前記機能液滴吐出ヘッドに各色の発光材料を導入し、
前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査し、前記発光材料を選択的に吐出して多数の前記ＥＬ発光層を形成することを特徴とする有機ＥＬの製造方法。 - 多数の前記ＥＬ発光層と前記基板との間には、前記ＥＬ発光層に対応して多数の画素電極が形成されており、
複数の前記機能液滴吐出ヘッドに液状電極材料を導入し、
前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査し、前記液状電極材料を選択的に吐出して多数の前記画素電極を形成することを特徴とする請求項２１に記載の有機ＥＬの製造方法。 - 多数の前記ＥＬ発光層を覆うように対向電極が形成されており、
前記ＥＬ発光層を形成した後に、
複数の前記機能液滴吐出ヘッドに液状電極材料を導入し、
前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査し、前記液状電極材料を選択的に吐出して前記対向電極を形成することを特徴とする請求項２２に記載の有機ＥＬの製造方法。 - 請求項１３に記載の機能液滴吐出装置を用い、２枚の基板間に微小なセルギャップを構成すべく多数の粒子状のスペーサを形成するスペーサ形成方法であって、
複数の前記機能液滴吐出ヘッドにスペーサを構成する粒子材料を導入し、
前記機能液滴吐出ヘッドを少なくとも一方の前記基板に対し相対的に走査し、前記粒子材料を選択的に吐出して前記基板上に前記スペーサを形成することを特徴とするスペーサ形成方法。 - 請求項１３に記載の機能液滴吐出装置を用い、基板上に金属配線を形成する金属配線形成方法であって、
複数の前記機能液滴吐出ヘッドに液状金属材料を導入し、
前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査し、前記液状金属材料を選択的に吐出して前記金属配線を形成することを特徴とする金属配線形成方法。 - 請求項１３に記載の機能液滴吐出装置を用い、基板上に多数のマイクロレンズを形成するレンズ形成方法であって、
複数の前記機能液滴吐出ヘッドにレンズ材料を導入し、
前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査し、前記レンズ材料を選択的に吐出して多数の前記マイクロレンズを形成することを特徴とするレンズ形成方法。 - 請求項１３に記載の機能液滴吐出装置を用い、基板上に任意形状のレジストを形成するレジスト形成方法であって、
複数の前記機能液滴吐出ヘッドにレジスト材料を導入し、
前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査し、前記レジスト材料を選択的に吐出して前記レジストを形成することを特徴とするレジスト形成方法。 - 請求項１３に記載の機能液滴吐出装置を用い、基板上に多数の光拡散体を形成する光拡散体形成方法であって、
複数の前記機能液滴吐出ヘッドに光拡散材料を導入し、
前記機能液滴吐出ヘッドを前記基板に対し相対的に走査し、前記光拡散材料を選択的に吐出して多数の前記光拡散体を形成することを特徴とする光拡散体形成方法。
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