JP2014013685A - 機能液の吐出方法、有機ｅｌ素子の製造方法、カラーフィルターの製造方法、有機ｅｌ装置、電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】異常ノズルを回避して、微細な機能層形成領域に所定量の機能液を確実且つ安定的に吐出可能な機能液の吐出方法、これを用いた有機ＥＬ素子の製造方法、カラーフィルターの製造方法、有機ＥＬ装置、電子機器を提供すること。
【解決手段】本適用例の機能液の吐出方法は、複数のノズル５２を有する吐出ヘッドを用い、ｍ回の主走査のうち少なくとも１回の主走査で少なくとも２つのノズル５２（Ｎ１，Ｎ５）が機能層形成領域Ａに掛かるように吐出ヘッドを副走査方向に相対移動させる副走査を行って、ｍ回の主走査ごとに異なる１つのノズル５２から機能液を吐出し、ｍ回の主走査の吐出を行わせるべきノズルに１つの異常ノズルが含まれるとき、異常ノズルからの吐出を止めて、少なくとも２つのノズル５２（Ｎ１，Ｎ５）が機能層形成領域Ａに掛かる主走査（１パス）において少なくとも２つのノズル５２（Ｎ１，Ｎ５）から機能液を液滴Ｄとして吐出する。
【選択図】図７

Description

本発明は、機能液の吐出方法、有機ＥＬ（Electro Luminescence）素子の製造方法、カラーフィルターの製造方法、有機ＥＬ装置、電子機器に関する。

インクをノズルから液滴として吐出して、文字や画像などを紙などの媒体に印刷するインクジェット法（液滴吐出法）が工業的に活用されている。例えば、液晶パネルに用いられるカラーフィルターの着色層、有機ＥＬ素子の発光層、半導体素子、金属配線などの形成に用いられている。
インクジェット法（液滴吐出法）では、インクジェットヘッドの複数のノズルのいずれかにおいて、例えば目詰まりが生じてインクが吐出されなかったり、吐出されても所定の位置に着弾しなかったり、あるいは所定量のインクが吐出されなかったりすることがある。このような不具合が生ずるノズルは一般的に異常ノズルと呼ばれ、工業的な利用にあたっては、不良の発生や生産性の低下を招く要因の１つになるので、いかにして異常ノズルを避けて吐出をするかが重要な課題となる。

例えば、特許文献１には、複数のノズルを主ノズルと予備ノズルとを設け、主ノズルのどれかに異常が発生した場合に予備ノズルを代わりに駆動するインクジェット記録装置が開示されている。また、主ノズルにおけるノズル列の両端側に予備ノズルを設けたり、主ノズルと予備ノズルとを交互に設ける例が示されている。
また、例えば、特許文献２には、ノズル列の延長上にリザーブノズル（予備ノズル）が位置し、欠陥ノズル（異常ノズル）が描画するラインにリザーブノズル（予備ノズル）が位置するように印刷媒体に対してインクジェットヘッドの位置を変える副走査を行う吐出方法が示されている。

特開昭６０−１０４３３５号公報 特開２００１−１１３７０２号公報

しかしながら、上記特許文献１，２において、異常ノズルの発生度合いを考慮して予備ノズル数を増やせば１つのインクジェットヘッドで描画可能な描画幅が狭まり、生産性が低下するという課題がある。また、同じ駆動条件でインクジェットヘッドの各ノズルからインクを吐出させても、ノズルによって吐出されるインク量（液滴の量）が必ずしも一定とならないことがある。それゆえに、予備ノズルを含めた使用ノズルから所定の領域に吐出されるインクの総量を安定化させる必要があるという課題がある。

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。

［適用例１］本適用例に係る機能液の吐出方法は、複数のノズルを有する吐出ヘッドを用い、主走査方向から見て前記主走査方向と交差する副走査方向に前記複数のノズルを配列させ、機能層形成領域に対して前記吐出ヘッドを前記主走査方向に相対移動させる主走査の間に、前記吐出ヘッドから機能層形成材料を含む機能液を前記機能層形成領域に吐出する機能液の吐出方法であって、ｍ回の主走査のうち少なくとも１回の主走査で少なくとも２つのノズルが前記機能層形成領域に掛かるように前記吐出ヘッドを前記副走査方向に相対移動させる副走査を行って、ｍ回の主走査ごとに異なる１つのノズルから前記機能液を吐出し、前記ｍ回の主走査の吐出を行わせるべきノズルに１つの異常ノズルが含まれるとき、前記異常ノズルからの吐出を止めて、前記少なくとも２つのノズルが前記機能層形成領域に掛かる主走査において前記少なくとも２つのノズルから前記機能液の吐出を行うことを特徴とする。なお、ｍは正の整数である。

本適用例によれば、異常ノズルが発生したとしても、ｍ回の主走査のうち少なくとも１回は少なくとも２つのノズルが機能層形成領域に掛かるように主走査されるため、当該少なくとも２つのノズルのうちの１つを予備ノズルとして使用して機能液を吐出することができる。つまり、吐出ヘッドにおける複数のノズルのうち特定なノズルを予備ノズルとして設定しないので、吐出ヘッドの描画幅が小さくならずに済む。また、ｍ回の主走査ごとに異なる１つのノズルから機能液を吐出する。したがって、同一ノズルを用いて吐出する場合に比べて、ノズルから吐出される機能液の吐出量のばらつきに起因して、機能層形成領域に吐出される機能液の総量がばらつくことを抑制できる。ゆえに、高い生産性と安定した吐出量とを実現可能な機能液の吐出方法を提供できる。

［適用例２］本適用例に係る他の機能液の吐出方法は、複数のノズルを有する吐出ヘッドを用い、主走査方向から見て前記主走査方向と交差する副走査方向に前記複数のノズルを配列させ、機能層形成領域に対して前記吐出ヘッドを前記主走査方向に相対移動させる主走査の間に、前記吐出ヘッドから機能層形成材料を含む機能液を前記機能層形成領域に吐出する機能液の吐出方法であって、ｍ回の主走査のうち少なくとも１回の主走査で少なくとも２つのノズルが前記機能層形成領域に掛かるように前記吐出ヘッドを前記副走査方向に相対移動させる副走査を行って、ｍ回の主走査ごとに異なる１つのノズルから前記機能液を吐出し、前記ｍ回の主走査の吐出を行わせるべきノズルに１つの異常ノズルが含まれるとき、前記異常ノズルからの吐出を止めて、前記少なくとも２つのノズルが前記機能層形成領域に掛かる主走査を追加して、追加された主走査において前記少なくとも２つのノズルうちの１つのノズルから前記機能液の吐出を行うことを特徴とする。なお、ｍは正の整数である。

本適用例によれば、異常ノズルが発生したとしても、ｍ回の主走査のうち少なくとも１回は少なくとも２つのノズルが機能層形成領域に掛かるように主走査されるため、当該少なくとも２つのノズルのうちの１つを予備ノズルとして使用して機能液を吐出することができる。つまり、吐出ヘッドにおける複数のノズルのうち特定なノズルを予備ノズルとして設定しないので、吐出ヘッドの描画幅が小さくならずに済む。また、上記少なくとも２つのノズルのうち１つを予備ノズルとして用いたとしても、ｍ回の主走査ごとに１つのノズルから機能液を吐出する。つまり、１回の主走査で２つ以上のノズルを使って吐出する場合に比べて、吐出されるノズルの数つまり使用ノズル数が制限されているので、主走査ごとに使用ノズル数が変動することに起因する吐出量のばらつきを抑制できる。ゆえに、高い生産性と安定した吐出量とを実現可能な機能液の吐出方法を提供できる。

［適用例３］上記適用例の機能液の吐出方法において、前記ｍ回の主走査の吐出を行わせるべきノズルに２つ以上の異常ノズルが含まれるとき、前記ｍ回の主走査において前記機能層形成領域に掛かる前記異常ノズルの数が１つとなるように、前記吐出ヘッドを副走査することが好ましい。
この方法によれば、２つ以上の異常ノズルが発生したとしても、機能液を吐出する主走査を止めなくて済むので、高い生産性を実現できる。

［適用例４］上記適用例の機能液の吐出方法において、前記主走査方向から見て前記副走査方向に隣り合うノズルの配置ピッチをＰｎとするとき、前記ｍ回の主走査における吐出を行わせるべきノズルの配置ピッチがＰｎ／ｍとなるように、前記吐出ヘッドを副走査することが好ましい。
この方法によれば、ノズルの配置ピッチに対してｍ倍の密度で機能液を機能層形成領域に着弾させることができる。つまり、機能層形成領域の副走査方向における長さがノズルの配置ピッチより小さくても機能層形成領域に機能液を確実に着弾させることができる。

［適用例５］上記適用例の機能液の吐出方法において、前記副走査方向に前記機能層形成領域の長手方向が向くように前記機能層形成領域を前記吐出ヘッドに対して相対的に配置させ、前記機能層形成領域に掛かる前記少なくとも２つのノズルのうち、前記機能層形成領域の前記副走査方向における端部に近い方のノズルを予備ノズルとし、前記端部から遠い方のノズルを前記吐出を行わせる前記１つのノズルとすることが好ましい。
この方法によれば、主走査によって機能層形成領域に掛かる少なくとも２つのノズルのうち、機能層形成領域の副走査方向の端部から遠い方のノズルを使って機能液が吐出されるので、機能液を安定的に機能層形成領域に着弾させることができる。

［適用例６］上記適用例の機能液の吐出方法において、所定量の前記機能液を液滴として、少なくとも前記ｍ回の主走査に分けて前記機能層形成領域に前記吐出ヘッドから吐出することが好ましい。
この方法によれば、所定量の機能液を安定的に機能層形成領域に吐出することができる。

［適用例７］本適用例に係る有機ＥＬ素子の製造方法は、基板上の機能層形成領域に発光層を含む機能層を有する有機ＥＬ素子の製造方法であって、上記適用例に記載の機能液の吐出方法を用い、機能層形成材料を含む機能液を前記機能層形成領域に吐出する工程と、吐出された前記機能液を固化して前記機能層のうちの少なくとも１層を形成する工程と、を備えたことを特徴とする。
本適用例によれば、高い生産性を有して機能液が機能層形成領域に安定的に吐出されるので、膜厚むらが少ない機能層が形成され、安定した発光特性を有する有機ＥＬ素子を製造することができる。

［適用例８］上記適用例の有機ＥＬ素子の製造方法において、発光層形成材料を含む前記機能液を前記機能層形成領域に吐出して、前記機能層のうち前記発光層を形成することを特徴とする。
この方法によれば、高い生産性を有して機能液が機能層形成領域に安定的に吐出されるので、膜厚むらが少ない発光層が形成され、安定した発光特性を有する有機ＥＬ素子を製造することができる。

［適用例９］本適用例のカラーフィルターの製造方法は、基板上の着色層形成領域に着色層を有するカラーフィルターの製造方法であって、上記適用例に記載の機能液の吐出方法を用い、着色層形成材料を含む機能液を前記着色層形成領域に吐出する工程と、吐出された前記機能液を固化して前記着色層を形成する工程と、を備えたことを特徴とする。
本適用例によれば、高い生産性を有して機能液が機能層形成領域に安定的に吐出されるので、膜厚むらが少ない着色層が形成され、安定した光学特性を有するカラーフィルターを製造することができる。

［適用例１０］本適用例に係る有機ＥＬ装置は、上記適用例に記載の有機ＥＬ素子の製造方法を用いて製造された有機ＥＬ素子を備えたことを特徴とする。
本適用例によれば、輝度むらが少ない安定した発光品質を有する有機ＥＬ装置を提供することができる。

［適用例１１］本適用例に係る電子機器は、上記適用例に記載の有機ＥＬ装置を備えたことを特徴とする。
本適用例によれば、安定した発光品質を有する有機ＥＬ装置を備えているので、見栄えのよい電子機器を提供することができる。

吐出装置の構成を示す概略斜視図。 吐出ヘッドの構造を示す概略図であり、（ａ）は斜視図、（ｂ）はノズルの配置状態を示す平面図。 ヘッドユニットにおける吐出ヘッドの配置を示す概略平面図。 吐出装置の制御系を示すブロック図。 駆動波形を示すタイミングチャート。 （ａ）〜（ｈ）は従来例の機能液の吐出方法を説明する図。 （ａ）〜（ｈ）は実施例１の機能液の吐出方法を説明する図。 （ａ）〜（ｇ）は実施例２の機能液の吐出方法を説明する図。 （ａ）〜（ｈ）は実施例３の機能液の吐出方法を説明する図。 有機ＥＬ装置を示す概略正面図。 有機ＥＬ装置の要部概略断面図。 有機ＥＬ装置の製造方法を示すフローチャート。 （ａ）〜（ｄ）は有機ＥＬ素子の製造方法を示す概略断面図。 （ｅ）〜（ｈ）は有機ＥＬ素子の製造方法を示す概略断面図。 （ａ）はカラーフィルター基板の構成を示す概略平面図、（ｂ）はカラーフィルター基板の構造を示す概略断面図。

以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。なお、使用する図面は、説明する部分が認識可能な状態となるように、適宜拡大または縮小して表示している。

（第１実施形態）
＜機能液の吐出装置＞
まず、機能層形成材料を含む機能液を液滴として被吐出物に吐出可能な吐出装置について、図１〜図５を参照して説明する。図１は吐出装置の構成を示す概略斜視図である。

図１に示すように、吐出装置１０は、被吐出物である平板状のワークＷを主走査方向（Ｙ軸方向）に移動させるワーク移動機構２０と、ヘッドユニット９を主走査方向に直交する副走査方向（Ｘ軸方向）に移動させるヘッド移動機構３０とを備えている。

ワーク移動機構２０は、一対のガイドレール２１と、一対のガイドレール２１に沿って移動する移動台２２と、移動台２２上に回転機構６を介して配設されたワークＷを載置するステージ５とを備えている。
移動台２２は、ガイドレール２１の内部に設けられたエアスライダーとリニアモーター（図示省略）により主走査方向（Ｙ軸方向）に移動する。移動台２２には、タイミング信号生成部としてのエンコーダー１２（図４参照）が設けられている。
エンコーダー１２は、移動台２２の主走査方向（Ｙ軸方向）への相対移動に伴って、ガイドレール２１に並設されたリニアスケール（図示省略）の目盛を読み取って、タイミング信号としてのエンコーダパルスを生成する。なお、エンコーダー１２の配設は、これに限らず、例えば、移動台２２を回転軸に沿って主走査方向（Ｙ軸方向）に相対移動するよう構成し、回転軸を回転させる駆動部を設けた場合には、エンコーダー１２を駆動部に設けてもよい。駆動部としては、サーボモーターなどが挙げられる。
ステージ５はワークＷを吸着固定可能であると共に、回転機構６によってワークＷ内の基準軸を正確に主走査方向（Ｙ軸方向）、副走査方向（Ｘ軸方向）に合わせることが可能となっている。
また、ワークＷ上において機能液が吐出される機能層形成領域の配置に応じて、ワークＷを例えば９０度旋回させることも可能である。

ヘッド移動機構３０は、一対のガイドレール３１と、一対のガイドレール３１に沿って移動する移動台３２とを備えている。移動台３２には、回転機構７を介して吊設されたキャリッジ８が設けられている。
キャリッジ８には、複数の吐出ヘッド５０（図２参照）が搭載されたヘッドユニット９が取り付けられている。
また、吐出ヘッド５０に機能液を供給するための機能液供給機構（図示省略）と、複数の吐出ヘッド５０の電気的な駆動制御を行うためのヘッドドライバー４８（図４参照）とが設けられている。
移動台３２がキャリッジ８を副走査方向（Ｘ軸方向）に移動させてヘッドユニット９をワークＷに対して対向配置する。

吐出装置１０は、上記構成の他にも、ヘッドユニット９に搭載された複数の吐出ヘッド５０のノズル目詰まり解消、ノズル面の異物や汚れの除去などのメンテナンスを行うメンテナンス機構６０（図４参照）が、複数の吐出ヘッド５０を臨む位置に配設されている。
また、吐出ヘッド５０ごとに吐出された機能液を受けて、その重量を計測する電子天秤などの計測器を有する重量計測機構を備えている。そして、これらの構成を統括的に制御する制御部４０を備えている。なお、図１では、メンテナンス機構６０及び重量計測機構は、図示を省略した。

図２は吐出ヘッドの構造を示す概略図である。同図（ａ）は斜視図、同図（ｂ）はノズルの配置状態を示す平面図である。

図２（ａ）に示すように、吐出ヘッド５０は、所謂２連のものであり、２連の接続針５４を有する機能液の導入部５３と、導入部５３に積層されたヘッド基板５５と、ヘッド基板５５上に配置され内部に機能液のヘッド内流路が形成されたヘッド本体５６とを備えている。接続針５４は、前述した機能液供給機構（図示省略）に配管を経由して接続され、機能液をヘッド内流路に供給する。ヘッド基板５５には、フレキシブルフラットケーブル（図示省略）を介してヘッドドライバー４８（図４参照）に接続される２連のコネクター５８が設けられている。

ヘッド本体５６は、駆動手段としての圧電素子で構成されたキャビティを有する加圧部５７と、ノズル面５１ａに２つのノズル列５２ａ，５２ｂが相互に平行に形成されたノズルプレート５１とを有している。

図２（ｂ）に示すように、２つのノズル列５２ａ，５２ｂは、それぞれ複数（１８０個）のノズル５２が配置ピッチＰ１でほぼ等間隔に並べられており、互いに配置ピッチＰ１の半分のピッチＰ２ずれた状態でノズル面５１ａに配設されている。本実施形態において、配置ピッチＰ１は、例えばおよそ１４１μｍである。よって、２つのノズル列５２ａ，５２ｂからなるノズル列５２ｃは、ノズル列５２ｃに直交する方向から見ると３６０個のノズル５２がおよそ７０．５μｍのノズルピッチで配列した状態となっている。また、ノズル５２の径は、およそ２７μｍである。

吐出ヘッド５０は、ヘッドドライバー４８から電気信号としての駆動信号が圧電素子に印加されると加圧部５７のキャビティの体積変動が起こり、これによるポンプ作用でキャビティに充填された機能液が加圧され、ノズル５２から機能液を液滴として吐出することができる。

吐出ヘッド５０における駆動手段は、圧電素子に限らない。アクチュエーターとしての振動板を静電吸着により変位させる電気機械変換素子や、機能液を加熱してノズル５２から液滴として吐出させる電気熱変換素子（サーマル方式）でもよい。

図３は、ヘッドユニットにおける吐出ヘッドの配置を示す概略平面図である。詳しくは、ワークＷに対向する側から見た図である。

図３に示すように、ヘッドユニット９は、複数の吐出ヘッド５０が配設されるヘッドプレート９ａを備えている。ヘッドプレート９ａには、３つの吐出ヘッド５０からなるヘッド群５０Ａと、同じく３つの吐出ヘッド５０からなるヘッド群５０Ｂの合計６個の吐出ヘッド５０が搭載されている。本実施形態では、ヘッド群５０ＡのヘッドＲ１（吐出ヘッド５０）とヘッド群５０ＢのヘッドＲ２（吐出ヘッド５０）とは同種の機能液を吐出する。他のヘッドＧ１とヘッドＧ２、ヘッドＢ１とヘッドＢ２においても同様である。すなわち、３種の異なる機能液を吐出可能な構成となっている。

１つの吐出ヘッド５０によって描画可能な描画幅をＬ₀とし、これをノズル列５２ｃの有効長とする。前述したように、ノズル列５２ｃは、３６０個のノズル５２から構成されている。

例えば、図３に示すように、ノズル列５２ｃの延在方向が主走査方向（Ｙ軸方向）と直交する副走査方向（Ｘ軸方向）に合致するように、ヘッドユニット９を移動台３２（図１参照）に対して配置したとき、ヘッドＲ１とヘッドＲ２は、主走査方向（Ｙ軸方向）から見て隣り合うノズル列５２ｃが副走査方向（Ｘ軸方向）に１ノズルピッチを置いて連続するように主走査方向（Ｙ軸方向）に並列して配設されている。したがって、同種の機能液を吐出するヘッドＲ１とヘッドＲ２の有効な描画幅Ｌ₁は、描画幅Ｌ₀の２倍となっている。ヘッドＧ１とヘッドＧ２、ヘッドＢ１とヘッドＢ２においても同様に主走査方向（Ｙ軸方向）に並列して配置されている。ノズル列５２ｃは、３６０個のノズル５２が実質的に７０．５μｍのノズルピッチで配置されているので、描画幅Ｌ₀は、７０．５×（３６０−１）≒２５３１０μｍである。つまり、３６０ｄｐｉ（dot per inch）で液滴を吐出可能である。

例えば、ノズル列５２ｃの延在方向が主走査方向（Ｙ軸方向）に対して９０度未満の角度で交差するように回転機構７によってキャリッジ８を回転させて、ヘッドユニット９を移動台３２（図１参照）に対して配置すれば、主走査方向（Ｙ軸方向）から見たときのヘッドＲ１とヘッドＲ２の有効な描画幅は、上記描画幅Ｌ₁よりも小さくなる。その一方で、主走査方向から見たときのノズル列５２ｃにおけるノズル５２の副走査方向（Ｘ軸方向）における実質的なノズルピッチは、前述した７０．５μｍよりも小さくなる。つまり、ノズル列５２ｃの延在方向が主走査方向（Ｙ軸方向）と交差するようにヘッドユニット９を配置すれば、３６０ｄｐｉよりも小さい間隔で液滴を吐出可能である。

なお、吐出ヘッド５０に設けられるノズル列５２ｃは、２連に限らず、１連でもよい。また、ヘッドユニット９における吐出ヘッド５０の配置は、これに限定されるものではない。

次に吐出装置１０の制御系について説明する。図４は、吐出装置の制御系を示すブロック図である。図４に示すように、吐出装置１０の制御系は、吐出ヘッド５０、ワーク移動機構２０、ヘッド移動機構３０、メンテナンス機構６０などを駆動する各種ドライバーを有する駆動部４６と、駆動部４６を含め吐出装置１０を統括的に制御する制御部４０とを備えている。

駆動部４６は、ワーク移動機構２０及びヘッド移動機構３０の各リニアモーターをそれぞれ駆動制御する移動用ドライバー４７と、吐出ヘッド５０を駆動制御するヘッドドライバー４８と、メンテナンス機構６０を駆動制御するメンテナンス用ドライバー４９とを備えている。この他にも重量計測機構を駆動制御する重量計測用ドライバーなどを備えているが図示を省略した。

制御部４０は、ＣＰＵ４１と、ＲＯＭ４２と、ＲＡＭ４３と、制御用インターフェイスであるＰ−ＣＯＮ４４とを備え、これらは互いにバス４５を介して接続されている。Ｐ−ＣＯＮ４４には、上位コンピューター１１が接続されている。ＲＯＭ４２は、ＣＰＵ４１で処理する制御プログラムなどを記憶する制御プログラム領域と、描画動作や機能回復処理などを行うための制御データなどを記憶する制御データ領域とを有している。

ＲＡＭ４３は、ワークＷに描画を行うための描画データを記憶する描画データ記憶部、ワークＷ及び吐出ヘッド５０（実際には、ノズル列５２ｃ）の位置データを記憶する位置データ記憶部などの各種記憶部を有し、制御処理のための各種作業領域として使用される。Ｐ−ＣＯＮ４４には、駆動部４６の各種ドライバーなどが接続されており、ＣＰＵ４１の機能を補うと共に、周辺回路とのインターフェイス信号を取り扱うための論理回路が構成されて組み込まれている。このため、Ｐ−ＣＯＮ４４は、上位コンピューター１１からの各種指令などをそのままあるいは加工してバス４５に送り込むと共に、ＣＰＵ４１と連動して、ＣＰＵ４１などからバス４５に送り込まれたデータや制御信号を、そのままあるいは加工して駆動部４６に出力する。

そして、ＣＰＵ４１は、ＲＯＭ４２内の制御プログラムに基づいて、Ｐ−ＣＯＮ４４を介して各種検出信号、各種指令、各種データなどを取得し、ＲＡＭ４３内の各種データなどを処理した後、Ｐ−ＣＯＮ４４を介して駆動部４６などに各種の制御信号を出力することにより、吐出装置１０全体を制御している。例えば、ＣＰＵ４１は、吐出ヘッド５０、ワーク移動機構２０及びヘッド移動機構３０を制御して、ヘッドユニット９とワークＷとを対向配置させる。そして、ヘッドユニット９とワークＷとの相対移動に同期して、ヘッドユニット９に搭載された各吐出ヘッド５０の複数のノズル５２からワークＷに機能液を液滴として吐出するようにヘッドドライバー４８に制御信号を送出する。本実施形態では、Ｙ軸方向へのワークＷの移動に同期して機能液を吐出することを本発明における主走査と呼び、主走査に対してＸ軸方向にヘッドユニット９（つまり複数の吐出ヘッド５０）を移動させることを副走査と呼ぶ。本実施形態の吐出装置１０は、主走査と副走査とを組み合わせて複数回繰り返すことにより機能液を吐出描画することができる。主走査は、吐出ヘッド５０に対して一方向へのワークＷの移動に限らず、ワークＷを往復させて行うこともできる。

エンコーダー１２は、ヘッドドライバー４８に電気的に接続され、主走査に伴ってエンコーダパルスを生成する。主走査では、所定の移動速度で移動台２２を移動させるので、エンコーダパルスが周期的に発生する。

例えば、主走査における移動台２２の移動速度を２００ｍｍ／ｓｅｃ、吐出ヘッド５０を駆動する駆動周波数（言い換えれば、連続して液滴を吐出する場合の吐出タイミング）を２０ｋＨｚとすると、主走査方向（Ｙ軸方向）における液滴の吐出分解能は、移動速度を駆動周波数で除することにより得られるので、１０μｍとなる。すなわち、主走査方向（Ｙ軸方向）において１０μｍのピッチで液滴をワークＷ上に配置することが可能である。実際の液滴の吐出タイミングは、周期的に発生するエンコーダパルスをカウントして生成されるラッチ信号に基づいている。

上位コンピューター１１は、制御プログラムや制御データなどの制御情報を吐出装置１０に送出する。また、ワークＷ上の機能層形成領域ごとに所定量の機能液を液滴として配置する吐出制御データとしての配置情報を生成する配置情報生成部の機能を有している。配置情報は、機能層形成領域における液滴の吐出位置（言い換えれば、ワークＷとノズル５２との相対位置）、液滴の配置数（言い換えれば、ノズル５２ごとの吐出数）、主走査における複数のノズル５２のＯＮ／ＯＦＦ、吐出タイミングなどの情報を、例えば、ビットマップとして表したものである。

上位コンピューター１１は、上記配置情報を生成するだけでなく、ＲＡＭ４３に一旦格納された上記配置情報を修正することも可能である。例えば、複数のノズル５２のいずれかに機能液を吐出することができないノズル５２、吐出しても着弾位置がずれてしまうノズル５２、液滴の吐出量が不安定なノズル５２などの不具合があるノズル５２を異常ノズルとして上位コンピューター１１に入力すれば、上記配置情報を予め用意された吐出プログラムによって修正することもできる。

図５は駆動波形を示すタイミングチャートである。図５に示すように、複数のノズル５２に対応して配設された駆動手段としての圧電素子には、ラッチ信号ＬＡＴのタイミングでラッチされたノズル５２ごとのＯＮ／ＯＦＦデータ（吐出データ）に従い、３つの駆動波形ＰＬ１，ＰＬ２，ＰＬ３のうちから１つが選択されて供給される。そして、駆動波形が供給されるタイミングで、ノズル５２から液滴が吐出される。なお、各駆動波形は、圧電素子に供給されることで規定量の液滴が吐出されるように設計されている。

駆動波形の選択は、駆動波形の供給タイミングを規定する制御信号ＣＨ１〜ＣＨ３により行われる。すなわち、制御信号ＣＨ１によって第１系統のタイミングの駆動波形ＰＬ１が、制御信号ＣＨ２によって第２系統のタイミングの駆動波形ＰＬ２が、制御信号ＣＨ３によって第３系統のタイミングの駆動波形ＰＬ３がそれぞれ選択される。

本実施形態では、機能層形成領域に掛かる隣り合うノズル５２に対応する圧電素子に、駆動波形の供給タイミングの系統（ラッチ信号ＬＡＴを基準とした相対的な序列）を個々に対応づけることにより、吐出タイミングの重複が起こりえないように駆動波形を印加することが可能である。このような駆動波形の駆動手段（圧電素子）に対する印加の方法を時分割駆動という。時分割駆動により、少なくとも電気的なクロストークが好適に低減され、クロストークに起因するノズル５２間の吐出特性（液滴の吐出量や吐出速度など）のバラツキが相対的に緩和される。

また、各系統のタイミングは周期的となっているため、吐出条件が各吐出タイミング間で一様となり、液滴の吐出量を主走査方向に対して安定化させることができる。
また、ラッチ信号ＬＡＴの１周期内（１ラッチ内）において、３つの駆動波形ＰＬ１，ＰＬ２，ＰＬ３が発生するので、同一の圧電素子に１ラッチ内で３つの駆動波形ＰＬ１，ＰＬ２，ＰＬ３を印加すれば、同一ノズル５２から吐出タイミングを変えて３滴の液滴を吐出することができる。
さらに、１ラッチ内の３つの駆動波形ＰＬ１，ＰＬ２，ＰＬ３をそれぞれ別の圧電素子に印加すれば、３つのノズル５２から液滴を異なる吐出タイミングで吐出することができる。すなわち、３つのノズル５２が時分割駆動される。
また、駆動波形ＰＬ１，ＰＬ２，ＰＬ３において、振幅の幅（実質的には中間電位との間の電位差すなわち駆動電圧）や波形の勾配などをそれぞれ変えることによって、ノズル５２から吐出される液滴の吐出量を異ならせることが可能である。言い換えれば、同一ノズル５２の圧電素子に異なる形状の駆動波形ＰＬ１，ＰＬ２，ＰＬ３のうち１つを選択して印加すれば液滴の吐出量の補正が可能である。
以降、ノズル５２の圧電素子に駆動波形を印加することを、ノズル５２に駆動波形を印加すると表現する。

前述したように吐出装置１０において、吐出分解能をおよそ１０μｍとすると、３つの駆動波形ＰＬ１，ＰＬ２，ＰＬ３を連続的に使用するノズル５２に印加したときには、吐出タイミングを変えて主走査方向におよそ３．３μｍの最小ピッチで液滴を吐出することが可能である。すなわち、時分割駆動における実質的な吐出分解能は、３．３μｍとなる。

吐出ヘッド５０におけるノズル５２（圧電素子）の駆動は、前述したように時分割駆動されているので、隣り合うノズル間で吐出タイミングが重複することに伴う電気的なクロストークは低減されている。ところが、複数のノズル５２に同じ駆動波形を与えて駆動したときに、各ノズル５２から同じ吐出量の液滴が必ず吐出されるとは限らない。
例えば、加圧部５７のキャビティに充填された機能液をノズル５２に供給する流路は、ノズル列５２ａ，５２ｂを構成する複数のノズル５２において同一ではなく、ノズル列５２ａ，５２ｂにおけるノズル５２の位置によって違う。つまり、吐出ヘッド５０の機械的な構造によってノズル５２ごとに液滴の吐出量がばらつくことがある。

また、主走査において機能層形成領域に液滴を吐出するにあたり、選択されたノズル５２つまり選択されたアクチュエーター（圧電素子）を駆動すると、アクチュエーター（圧電素子）に与えられたエネルギーに相当する分の熱が生ずる。このような吐出ヘッド５０の発熱は、吐出ヘッド５０が搭載されたヘッドプレート９ａ（図３参照）を介して放熱されるが、その一部は充填された機能液を温めることになる。つまり、主走査における吐出ヘッド５０内の機能液の温度によって、ノズル５２から吐出される液滴の吐出量がばらつく。言い換えれば、吐出ヘッド５０の駆動における電気的な負荷の違いによってノズル５２から吐出される液滴の吐出量がばらつく。

このような吐出装置１０では、機能層形成領域に機能液を液滴として吐出する際に、前述した異常ノズルが発生すると、異常ノズルを正常なノズルに回復させるためメンテナンス機構６０を用いた回復処理が行われる。回復処理は、例えば複数のノズル５２から機能液を吸引して目詰まりの原因となる乾燥した機能液の固形分などの異物を取り除く吸引処理、ノズル面５１ａに付着した異物を取り除く吐出ヘッド５０のクリーニング処理などが挙げられる。しかしながら、異常ノズルが発生する度に上記のような回復処理を頻繁に行っていたのでは、ワークＷに対して機能液を吐出している時間が減少して生産性が低下するという課題を有している。

特に、機能層形成領域が微細になってくると、機能層形成領域に収容可能な機能液の総量も小さくなり、液滴を確実に機能層形成領域に着弾させる一方で、着弾後の機能液の総量が複数の機能層形成領域ごとにばらつくことを低減する必要があるという課題を有している。
発明者は、微細な機能層形成領域に対して異常ノズルを回避しつつ機能液を確実に吐出して、高い生産性を実現すると共に、機能層形成領域に吐出される機能液の総量のばらつきを低減可能な機能液の吐出方法を開発した。

＜機能液の吐出方法＞
本実施形態の機能液の吐出方法について、従来例と実施例とを挙げて説明する。
図６（ａ）〜（ｈ）は従来例の機能液の吐出方法を説明する図、図７（ａ）〜（ｈ）は実施例１の機能液の吐出方法を説明する図、図８（ａ）〜（ｇ）は実施例２の機能液の吐出方法を説明する図、図９（ａ）〜（ｈ）は実施例３の機能液の吐出方法を説明する図である。

本実施形態の機能液の吐出方法は、前述した吐出装置１０を用い、ワークＷ上においてＸ軸方向（副走査方向）及びＹ軸方向（主走査方向）に複数配置された機能層形成領域に機能液を塗布するものである。吐出ヘッド５０を備えたヘッドユニット９とワークＷとをＹ軸方向に相対的に移動させる主走査の間に、吐出ヘッド５０のノズル５２から機能液を液滴として吐出して機能層形成領域に着弾させる。なお、図６〜図９に示すように矩形状の機能層形成領域Ａは、ワークＷ上において隔壁ＢＫにより区画されている。また、隔壁ＢＫまたは隔壁ＢＫの表面が機能液に対して撥液性を有している。機能層形成領域Ａ内は塗布される機能液の濡れ性を考慮して親液性を付与する表面処理が施されている。

以降の説明を分かり易くするために、複数のノズル５２にそれぞれ符号（Ｎ１〜Ｎ１０）を付して呼ぶこととする。また、主走査を「パス」と呼び、複数回の主走査のそれぞれにも符号（１パス；１Ｐ、２パス；２Ｐ、３パス；３Ｐ、４パス；４Ｐ、５パス；５Ｐ）を付して呼ぶこととする。

Ｙ軸方向への主走査によって機能層形成領域Ａに掛かるノズル５２から機能層形成領域Ａに機能液が液滴Ｄとして吐出される。図６〜図９では、機能層形成領域Ａに着弾した液滴Ｄをハッチングした円形で表示し、液滴Ｄが吐出されなかった場合をハッチングせずに破線の円形で表示している。着弾した液滴Ｄは機能層形成領域Ａに濡れ広がるので、機能層形成領域Ａに吐出された液滴Ｄの着弾状態だけを示している。なお、液滴Ｄの吐出のさせ方を示すものであって、液滴Ｄの着弾形状（円形）、着弾径（大きさ）、着弾位置を厳密に示すものではない。
また、矩形状の機能層形成領域Ａは、副走査方向（Ｘ軸方向）に等間隔で複数配置されている。図６〜図９は、１つの機能層形成領域Ａに対する機能液の液滴Ｄの吐出の仕方を示しているが、複数の機能層形成領域Ａのそれぞれにおける液滴Ｄの吐出の仕方は基本的に同じであるため、図６〜図９を用いて、従来例と実施例１〜３の機能液の吐出方法を説明する。

（従来例）
まず、従来の機能液の吐出方法の一例について、図６を参照して説明する。図６（ａ）に示すように、従来例は、ワークＷ上においてＸ軸方向とＹ軸方向とにマトリックス状に配置された矩形状の機能層形成領域Ａに吐出ヘッド５０のノズル５２から機能液を塗布するものである。機能層形成領域Ａは長手方向がＸ軸方向に沿って配置されており、主走査方向（Ｙ軸方向）から見て複数のノズル５２は、副走査方向（Ｘ軸方向）に延在するように機能層形成領域Ａに対して相対的に配置されている。機能層形成領域Ａの長手方向の長さは、１００μｍ以下を想定している。したがって、ノズル列５２ｃの実質的なノズルピッチが７０．５μｍであることから、複数のノズル５２の配列方向を副走査方向（Ｘ軸方向）に合致させたとしても、主走査では機能層形成領域Ａに最大でも２つのノズル５２しか掛からない。なお、前述したように、主走査方向（Ｙ軸方向）から見たノズルピッチは、主走査方向（Ｙ軸方向）に対して交差するようにノズル列５２ｃを配置することでさらに小さくすることができる。言い換えれば、主走査において機能層形成領域Ａに対して２つ以上のノズル５２が掛かるようにすることは可能である。
そこで、以降の説明では、主走査方向（Ｙ軸方向）から見たノズルピッチ（ノズル５２の配置ピッチ）をＰｎとして説明する。

従来例の機能液の吐出方法では、ｍ回（４回）の主走査ごとに１滴の液滴Ｄを吐出して、合計４滴の液滴Ｄを機能層形成領域Ａに吐出する。次の主走査を行う前に、吐出ヘッド５０を副走査方向（Ｘ軸方向）に相対移動させる副走査を行って、主走査ごとに異なるノズル５２が機能層形成領域Ａに掛かるようにしている。主走査方向（Ｙ軸方向）から見たときのノズルピッチをＰｎとするとき、副走査後のノズル５２の位置が先の主走査におけるノズル５２に対してＰｎ／ｍずれるように副走査している。この場合のずれ量は、Ｐｎ／４である。１回の主走査では最大で２つのノズル５２から機能層形成領域Ａに液滴Ｄを吐出可能である。

複数のノズル５２がすべて正常な場合は、例えば、図６（ａ）に示すように、１パス（１回目の主走査；１Ｐ）では、２つのノズルＮ１，Ｎ５が機能層形成領域Ａに掛かるように吐出ヘッド５０を相対的に位置決めして、２つのノズルＮ１，Ｎ５からそれぞれ液滴Ｄを吐出する。主走査方向（Ｙ軸方向）から見て隣り合うノズルＮ１とノズルＮ５のノズルピッチはＰｎである。つまり、１Ｐでは２滴の液滴Ｄが機能層形成領域Ａに着弾する。

２パス（２回目の主走査；２Ｐ）では、１パスのノズルＮ１，Ｎ５と異なるノズルＮ２が機能層形成領域Ａに掛かるように副走査される。１パスのノズルＮ１と２パスのノズルＮ２とのピッチはＰｎ／４である。このとき、主走査方向（Ｙ軸方向）から見てノズルＮ２に隣り合うノズルＮ６とのノズルピッチはＰｎである。ノズルＮ６は２パスにおいて機能層形成領域Ａから外れている。２パスでは、ノズルＮ２，Ｎ６から液滴Ｄを吐出しない。したがって、２Ｐでは液滴Ｄが機能層形成領域Ａに着弾しない。あるいは２パスにおいて副走査方向（Ｘ軸方向）に隣り合う機能層形成領域ＡにノズルＮ６が掛かる場合は、ノズルＮ６を隣り合う機能層形成領域Ａにおける吐出するべきノズル５２として使用することができる。

３パス（３回目の主走査；３Ｐ）では、２パスのノズルＮ２と異なるノズルＮ３が機能層形成領域Ａに掛かるように副走査される。２パスのノズルＮ２と３パスのノズルＮ３とのピッチはＰｎ／４である。このとき、主走査方向（Ｙ軸方向）から見てノズルＮ３に隣り合うノズルＮ７とのノズルピッチはＰｎである。ノズルＮ７は３パスにおいて機能層形成領域Ａから外れている。３パスでは、ノズルＮ３から液滴Ｄを吐出する。したがって、３Ｐでは１滴の液滴Ｄが機能層形成領域Ａに着弾する。あるいは３パスにおいて副走査方向（Ｘ軸方向）に隣り合う機能層形成領域ＡにノズルＮ７が掛かる場合は、ノズルＮ７を隣り合う機能層形成領域Ａにおける吐出するべきノズル５２として使用することができる。

４パス（４回目の主走査；４Ｐ）では、３パスのノズルＮ３と異なるノズルＮ４が機能層形成領域Ａに掛かるように副走査される。３パスのノズルＮ３と４パスのノズルＮ４とのピッチはＰｎ／４である。このとき、主走査方向（Ｙ軸方向）から見てノズルＮ４に隣り合うノズルＮ８とのノズルピッチはＰｎである。ノズルＮ８は４パスにおいて機能層形成領域Ａから外れている。４パスでは、ノズルＮ４から液滴Ｄを吐出する。したがって、４Ｐでは１滴の液滴Ｄが機能層形成領域Ａに着弾する。あるいは４パスにおいて副走査方向（Ｘ軸方向）に隣り合う機能層形成領域ＡにノズルＮ８が掛かる場合は、ノズルＮ８を隣り合う機能層形成領域Ａにおける吐出するべきノズル５２として使用することができる。

従来例では、４滴の液滴Ｄを効率よく機能層形成領域Ａに吐出するため、２つのノズルＮ１，Ｎ５が機能層形成領域Ａに掛かるときには必ず吐出させている。したがって、ｍ回（４回）のパスのうち１回は液滴Ｄを吐出させない配置情報が生成されている。それゆえに、主走査において複数の膜形成領域Ａごとに掛かるノズル５２の配置によって、例えば図６（ｂ）に示すように、１パス、２パス、４パスで液滴Ｄを吐出して、３パスで液滴Ｄを吐出しない例や、図６（ｃ）に示すように、１パス、２パス、３パスで液滴Ｄを吐出して、４パスで液滴Ｄを吐出しない例が考えられる。

一方で、ｍ回（４回）の主走査で吐出すべきノズル５２に異常ノズルが含まれる場合は、それを回避しなくてはならない。従来例ではｍ回（４回）の主走査でｍ＋１個のノズル５２が機能層形成領域Ａに掛かるので、ノズルＮ１〜ノズルＮ５のうち異常ノズルが１つ発生した場合には、図６（ｄ）〜（ｈ）に示すようにノズルＮ１〜ノズルＮ５のいずれかの吐出を止めても機能層形成領域Ａに４滴の液滴Ｄを吐出することができる。図６（ｄ）〜（ｈ）において、「Ｉｆ ノズル番号（Ｎ１〜Ｎ５） ×」とは、当該ノズル番号のノズル５２が異常ノズルであることを示すものである。以降、実施例でも同様な表記とする。

しかしながら、正常なノズル５２の数（以降、正常ノズル数と言う）に対する異常ノズルの数（以降、異常ノズル数）の割合は、それほど多くなく、数％程度である。言い換えれば、それを越えると、複数の機能層形成領域Ａのそれぞれに正常ノズルが掛かるような配置情報を生成することが困難になる。したがって、従来例では、ｍ回（４回）のパス（主走査）において、正常ノズルを使用して、２滴の液滴Ｄを吐出するパスと、１滴の液滴Ｄを吐出するパスと、液滴Ｄを吐出しないパスの組み合わせが大半を占めることになる。つまり、従来例では、複数の機能層形成領域Ａのそれぞれに対して、１パス〜４パスまでの主走査（パス）における液滴Ｄを吐出すべきノズル数（以降、使用ノズル数；ノズルＤｕｔｙとも言う）が一定ではなく、「０」〜「２」の間で変動する割合が高くなる。すなわち、吐出ヘッド５０におけるノズル５２ごとのアクチュエーター（圧電素子）の駆動数がパスによって変動し、ノズル５２間の電気的、機械的なクロストークやアクチュエーター（圧電素子）からの発熱の影響などによって、ノズル５２から吐出される液滴Ｄの吐出量が変化し易い。それゆえに、機能層形成領域Ａに吐出された機能液（４滴の液滴Ｄ）の総量がばらついて安定し難い。

（実施例１）
図７（ａ）〜（ｈ）は実施例１の機能液の吐出方法を説明する図である。
実施例１の機能液の吐出方法では、従来例と同様に、ｍ回（４回）のパス（主走査）のうち１回は２つのノズル５２が機能層形成領域Ａに掛かるように吐出ヘッド５０を副走査する。また、パスごとに異なるノズル５２が機能層形成領域Ａに掛かるように吐出ヘッド５０を副走査して液滴Ｄを吐出する。ｍ回（４回）のパスによって機能層形成領域Ａには４滴の液滴Ｄが着弾する。例えば、正常ノズルを使用した場合には、図７（ａ）及び（ｂ）に示すように、機能層形成領域Ａに２つのノズルＮ１，Ｎ５が掛かる１パスにおいて、ノズルＮ１またはノズルＮ５から液滴Ｄが吐出される。２パスではノズルＮ２から液滴Ｄが吐出され、３パスではノズルＮ３から液滴Ｄが吐出され、４パスではノズルＮ４から液滴Ｄが吐出される。したがって、パスごとに異なる１つのノズル５２から液滴Ｄが吐出され、パスごとの使用ノズル数は一定の「１」となる。

実施例１では、吐出すべきノズル５２（ノズルＮ１〜ノズルＮ５）に異常ノズルが１つ含まれ、当該異常ノズルの吐出を止めても、図７（ｃ）〜（ｇ）に示すように、機能層形成領域Ａには４回の主走査（パス）で４滴の液滴Ｄを着弾させることができる。
具体的には、１パス（１回目の主走査；１Ｐ）において、機能層形成領域Ａに掛かる２つのノズルＮ１，Ｎ５のうち一方が異常ノズルの場合には、図７（ｃ）または図７（ｇ）に示すように、２つのノズルＮ１，Ｎ５のうち正常なノズル５２を使って液滴Ｄを吐出する。
また、機能層形成領域Ａに１つのノズル５２しか掛からない２パス、３パス、４パスにおいて、ノズルＮ２、ノズルＮ３、ノズルＮ４のいずれかが異常ノズルの場合には、図７（ｄ）〜（ｆ）に示すように、異常ノズルからの吐出を止めて、２つのノズルＮ１，Ｎ５が機能層形成領域Ａに掛かる１パスにおいて、２つのノズルＮ１，Ｎ５からそれぞれ液滴Ｄを吐出する。つまり、２つのノズルＮ１，Ｎ５のうちの一方を予備ノズルとして用いることができる。

２つのノズルＮ１，Ｎ５のうち一方を予備ノズルとするにあたり、どちらのノズル５２を選択するかについて説明する。本実施形態では、機能層形成領域Ａの副走査方向（Ｘ軸方向）における長さを１００μｍ以下と想定している。２つのノズル５２が機能層形成領域Ａに掛かる主走査において、機能層形成領域Ａの副走査方向における２つのノズル５２の位置は、機能層形成領域Ａごとに必ずしも一定ではない。例えば、図７（ｈ）に示すように、ノズルピッチＰｎが１００μｍ未満である２つのノズルＮＡ，ＮＢのうち、副走査方向（Ｘ軸方向）において隔壁ＢＫから遠い方のノズルＮＢを通常に使用するノズル５２として設定し、隔壁ＢＫに近い方のノズルＮＡを予備ノズルとすることが好ましい。これによれば、使用するノズルＮＢから吐出された液滴Ｄの着弾位置が多少ばらついたとしても、確実に機能層形成領域Ａに着弾させることができる。

実施例１の機能液の吐出方法によれば、従来例と同じ主走査の回数（４回）で機能層形成領域Ａに４滴の液滴Ｄを吐出する際に、２つのノズルＮ１，Ｎ５のうちの一方を予備ノズルとして利用できる。加えて、正常なノズル５２を用いて吐出が行われるときには、主走査において機能層形成領域Ａごとの使用ノズル数が「１」になるので、吐出された液滴Ｄの吐出量のばらつきが抑えられ、４回の主走査によって機能層形成領域Ａに付与される機能液の総量が安定する。

（実施例２）
図８（ａ）〜（ｇ）は実施例２の機能液の吐出方法を説明する図である。
実施例２の機能液の吐出方法は、実施例１に対して、異常ノズルが発生したときに、２つのノズル５２が機能層形成領域Ａに掛かる主走査（パス）を増やす例である。
具体的には、ｍ回（４回）の主走査（パス）において吐出すべきノズル５２が正常ノズルの場合には、図８（ａ）及び（ｂ）に示すように、２つのノズルＮ１，Ｎ５が機能層形成領域Ａに掛かる１パスにおいて、２つのノズルＮ１，Ｎ５のいずれか一方から液滴Ｄを吐出する。１つのノズル５２が機能層形成領域Ａに掛かる２パス、３パス、４パスでは、吐出すべきノズルＮ２、ノズルＮ３、ノズルＮ４からそれぞれ液滴Ｄを吐出する。

ｍ回（４回）の主走査（パス）において吐出すべきノズル５２に異常ノズルが含まれるときは、５パス（５回目の主走査；５Ｐ）を実施する。例えば、５パスでは、１パスと同様に、２つのノズルＮ１，Ｎ５が機能層形成領域Ａに掛かるように吐出ヘッド５０を副走査する。この場合、４パスのノズルＮ４と５パスのノズルＮ５のピッチはＰｎ／４である。
例えば、２つのノズルＮ１，Ｎ５のうちいずれか一方が異常ノズルの場合、図８（ｃ）及び（ｇ）に示すように、１パスにおいて正常なノズル５２から液滴Ｄを吐出する。
ノズルＮ２，Ｎ３，Ｎ４のいずれかが異常ノズルの場合、図８（ｄ）〜（ｆ）に示すように、異常ノズルからの吐出を止めて、２つのノズルＮ１，Ｎ５が機能層形成領域Ａに掛かる１パスと５パスとにおいて異常ノズルを補う液滴Ｄを吐出する。例えば、１パスではノズルＮ１から液滴Ｄを吐出し、５パスではノズルＮ５から吐出する。１パスと５パスとにおいて、異なるノズル５２から液滴Ｄを吐出することが、吐出量のばらつきの影響を受け難くする点で好ましい。

予め５パスを基本とした液滴Ｄの配置情報を生成しておいて、異常ノズルが発生していないときには、５パスで液滴Ｄを吐出させない構成としてもよい。

実施例２の機能液の吐出方法によれば、実施例１に対して、異常ノズルが生じたとしても１回の主走査（パス）における機能層形成領域Ａごとの使用ノズル数が１または０となってより均一化される。

なお、５パスにおいて、機能層形成領域Ａに掛かる２つのノズル５２は、１パスと同じノズルＮ１，Ｎ５に限定されず、ノズルＮ１〜ノズルＮ５以外の２つのノズル５２が掛かるように吐出ヘッド５０を副走査してもよい。

（実施例３）
図９（ａ）〜（ｈ）は、実施例３の機能液の吐出方法を説明する図である。
実施例３の機能液の吐出方法は、実施例１に対して、主走査の回数を５回に増やし、５回の主走査で合計５滴の液滴Ｄを機能層形成領域Ａに吐出する。

ｍ回（５回）のパス（主走査）のうち１回は２つのノズル５２が機能層形成領域Ａに掛かるように吐出ヘッド５０を副走査する。また、パスごとに異なるノズル５２が機能層形成領域Ａに掛かるように吐出ヘッド５０を副走査して液滴Ｄを吐出する。ｍ回（５回）のパスによって機能層形成領域Ａには５滴の液滴Ｄが着弾する。例えば、正常ノズルを使用した場合には、図９（ａ）及び（ｂ）に示すように、機能層形成領域Ａに２つのノズルＮ１，Ｎ６が掛かる１パスにおいて、ノズルＮ１またはノズルＮ６から液滴Ｄが吐出される。
２パスではノズルＮ２から液滴Ｄが吐出され、３パスではノズルＮ３から液滴Ｄが吐出され、４パスではノズルＮ４から液滴Ｄが吐出され、５パスではノズルＮ５から液滴Ｄが吐出される。したがって、パスごとに異なる１つのノズル５２から液滴Ｄが吐出され、パスごとの使用ノズル数は一定の「１」となる。
ノズルＮ１とノズルＮ６のノズルピッチはＰｎである。また、１パスのノズルＮ１と２パスのノズルＮ２とのピッチはＰｎ／ｍすなわちＰｎ／５である。２パスのノズルＮ２と３パスのノズルＮ３のピッチ、３パスのノズルＮ３と４パスのノズルＮ４のピッチ、４パスのノズルＮ４と５パスのノズルＮ５のピッチも、同じＰｎ／５である。

実施例３では、吐出すべきノズル５２（ノズルＮ１〜ノズルＮ６）に異常ノズルが１つ含まれ、当該異常ノズルの吐出を止めても、図９（ｃ）〜（ｈ）に示すように、機能層形成領域Ａには５回の主走査（パス）で５滴の液滴Ｄを着弾させることができる。
具体的には、１パス（１回目の主走査；１Ｐ）において、機能層形成領域Ａに掛かる２つのノズルＮ１，Ｎ６のうち一方が異常ノズルの場合には、図９（ｃ）または図９（ｈ）に示すように、２つのノズルＮ１，Ｎ６のうち正常なノズル５２を使って液滴Ｄを吐出する。
また、機能層形成領域Ａに１つのノズル５２しか掛からない２パス、３パス、４パス、５パスにおいて、ノズルＮ２、ノズルＮ３、ノズルＮ４、ノズルＮ５のいずれかが異常ノズルの場合には、図９（ｄ）〜（ｇ）に示すように、異常ノズルからの吐出を止めて、２つのノズルＮ１，Ｎ６が機能層形成領域Ａに掛かる１パスにおいて、２つのノズルＮ１，Ｎ６からそれぞれ液滴Ｄを吐出する。つまり、２つのノズルＮ１，Ｎ６のうちの一方を予備ノズルとして用いることができる。

実施例３の機能液の吐出方法によれば、実施例１に対して、ノズルピッチＰｎや機能層形成領域Ａの大きさが同じでも、異常ノズルを回避して、機能層形成領域Ａに確実に且つ高密度に液滴Ｄを着弾させることができる。

本実施形態の機能液の吐出方法について、従来例、実施例１〜実施例３を示して説明したが、ｍ回の主走査において吐出すべきノズル５２に２つ以上の異常ノズルが生ずることもある。そのときには、ｍ回の主走査において吐出すべきノズル５２に１つの異常ノズルが含まれるように、機能層形成領域Ａに対して吐出ヘッド５０を副走査すれば、上記実施例１〜実施例３の機能液の吐出方法を適用することができる。

上記実施形態の機能液の吐出方法によれば、以下の効果が得られる。
（１）ｍ回の主走査（パス）のうち少なくとも１回において２つのノズル５２が機能層形成領域Ａに掛かるように吐出ヘッド５０を副走査することにより、ｍ回の主走査で吐出すべきノズル５２に１つの異常ノズルが生じても、２つのノズル５２が掛かる主走査において２つのノズル５２のうち一方を異常ノズルを回避して液滴Ｄを吐出させる予備ノズルとして利用できる。言い換えれば、複数のノズル５２からなるノズル列５２ｃにおいて、予め特定のノズル５２を予備ノズルとしなくてもよいので、吐出ヘッド５０が本来有する描画幅Ｌ₀を有効に利用できる。
（２）従来例に比べて、実施例１及び実施例３では、異常ノズルが生じていないときに正常ノズルを用いた主走査における機能層形成領域Ａごとの使用ノズル数が「１」となって均一化される。実施例２では、異常ノズルが生じて予備ノズルを使用しても、主走査における機能層形成領域Ａごとの使用ノズル数が「０」または「１」となってより均一化される。したがって、主走査ごとの使用ノズル数の変動に起因する液滴Ｄの吐出量のばらつきが低減され、ｍ回の主走査後に機能層形成領域Ａに付与される機能液の総量が安定する。
（３）ｍ回の主走査において先の主走査（パス）と後の主走査（パス）における吐出すべきノズル５２の副走査方向のピッチがＰｎ／ｍ（ノズルピッチＰｎのｍ分の１）に設定されているので、吐出ヘッド５０が本来有する描画精度である３６０ｄｐｉに対して、ｍ倍の描画精度で液滴Ｄを機能層形成領域Ａに着弾させることができる。

（第２実施形態）
＜有機ＥＬ装置＞
次に、本実施形態の有機ＥＬ（エレクトロルミネセンス）素子の製造方法を適用して製造された有機ＥＬ素子を有する有機ＥＬ装置について図１０及び図１１を参照して説明する。図１０は有機ＥＬ装置を示す概略正面図、図１１は有機ＥＬ装置の要部概略断面図である。

図１０に示すように、本実施形態の有機ＥＬ装置１００は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）、３色の発光画素１０７を備えた素子基板１０１と、素子基板１０１に所定の間隔を置いて対向配置された封止基板１０２とを備えている。封止基板１０２は、複数の発光画素１０７が設けられた発光領域１０６を封着する封着剤を用いて素子基板１０１に貼り合わされている。封着剤は光透過性を有する一方で水や酸素などの気体を透過し難い、例えばエポキシ樹脂などの熱硬化型の接着剤が用いられている。

発光画素１０７は、後述する発光素子としての有機ＥＬ素子１１２（図１１参照）を備えるものであって、同色の発光が得られる発光画素１０７が、図面上の縦方向に配列した所謂ストライプ方式となっている。なお、実際には、発光画素１０７は微細なものであり、図示の都合上拡大して現している。

素子基板１０１は、封止基板１０２よりも一回り大きく、額縁状に張り出した部分には、発光画素１０７を駆動する２つの走査線駆動回路部１０３と１つのデータ線駆動回路部１０４が設けられている。走査線駆動回路部１０３、データ線駆動回路部１０４は、例えば、電気回路が集積されたＩＣとして素子基板１０１に実装してもよいし、走査線駆動回路部１０３及びデータ線駆動回路部１０４を素子基板１０１の表面に直接形成してもよい。

素子基板１０１の端子部１０１ａには、これらの走査線駆動回路部１０３やデータ線駆動回路部１０４と外部駆動回路とを接続するための中継基板１０５が実装されている。中継基板１０５は、例えば、フレキシブル回路基板などを用いることができる。

図１１に示すように、有機ＥＬ装置１００において、有機ＥＬ素子１１２は、画素電極としての陽極１３１と、陽極１３１を区画する隔壁１３３と、陽極１３１上に形成された有機膜からなる発光層を含む機能層１３２とを有している。また、機能層１３２を介して陽極１３１と対向するように形成された共通電極としての陰極１３４を有している。

隔壁１３３は、フェノール又はポリイミドなどの絶縁性を有する感光性樹脂からなり、発光画素１０７を構成する陽極１３１の外縁を覆って、複数の陽極１３１をそれぞれ区画するように設けられている。

陽極１３１は、素子基板１０１上に形成されたＴＦＴ素子１０８の３端子のうちの１つに接続しており、例えば、透明電極材料であるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）を厚さ１００ｎｍ程度に成膜した電極である。

陰極１３４は、例えばアルミニウム（Ａｌ）や銀（Ａｇ）などの光反射性を有する金属材料や、該金属材料と他の金属（例えばマグネシウム（Ｍｇ））との合金などにより形成されている。

本実施形態の有機ＥＬ装置１００は、所謂ボトムエミッション型の構造となっており、陽極１３１と陰極１３４との間に駆動電流を流して機能層１３２で発光した光を陰極１３４で反射させて素子基板１０１側から取り出す。したがって、素子基板１０１はガラスなどの透明基板を用いる。また、封止基板１０２は、透明基板及び不透明基板のいずれも用いることができる。不透明基板としては、例えば、アルミナ等のセラミックス、ステンレススチール等の金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したものの他に、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などが挙げられる。

素子基板１０１には、有機ＥＬ素子１１２を駆動する回路部１１１が設けられている。すなわち、素子基板１０１の表面にはＳｉＯ₂を主体とする下地保護層１２１が下地として形成され、その上には例えばポリシリコンなどからなる半導体層１２２が形成されている。この半導体層１２２の表面には、ＳｉＯ₂及び／又はＳｉＮを主体とするゲート絶縁膜１２３が形成されている。

また、半導体層１２２のうち、ゲート絶縁膜１２３を挟んでゲート電極１２６と重なる領域がチャネル領域１２２ａとされている。なお、このゲート電極１２６は、図示しない走査線の一部である。一方、半導体層１２２を覆い、ゲート電極１２６を形成したゲート絶縁膜１２３の表面には、ＳｉＯ₂を主体とする第１層間絶縁層１２７が形成されている。

また、半導体層１２２のうち、チャネル領域１２２ａのソース側には、低濃度ソース領域及び高濃度ソース領域１２２ｃが設けられる一方、チャネル領域１２２ａのドレイン側には低濃度ドレイン領域及び高濃度ドレイン領域１２２ｂが設けられて、所謂ＬＤＤ（Light Doped Drain）構造となっている。これらのうち、高濃度ソース領域１２２ｃは、ゲート絶縁膜１２３と第１層間絶縁層１２７とにわたって開孔するコンタクトホール１２５ａを介して、ソース電極１２５に接続されている。このソース電極１２５は、電源線（図示せず）の一部として構成されている。一方、高濃度ドレイン領域１２２ｂは、ゲート絶縁膜１２３と第１層間絶縁層１２７とにわたって開孔するコンタクトホール１２４ａを介して、ソース電極１２５と同一層からなるドレイン電極１２４に接続されている。

ソース電極１２５及びドレイン電極１２４が形成された第１層間絶縁層１２７の上層には、平坦化層１２８が形成されている。この平坦化層１２８は、アクリル系やポリイミド系等の、耐熱性絶縁性樹脂などによって形成されたもので、ＴＦＴ素子１０８やソース電極１２５、ドレイン電極１２４などによる表面の凹凸をなくすために形成された公知のものである。

そして、陽極１３１が、この平坦化層１２８の表面上に形成されると共に、該平坦化層１２８に設けられたコンタクトホール１２８ａを介してドレイン電極１２４に接続されている。すなわち、陽極１３１は、ドレイン電極１２４を介して、半導体層１２２の高濃度ドレイン領域１２２ｂに接続されている。陰極１３４は、ＧＮＤに接続されている。したがって、スイッチング素子としてのＴＦＴ素子１０８により、上記電源線から陽極１３１に供給され陰極１３４との間で流れる駆動電流を制御する。これにより、回路部１１１は、所望の有機ＥＬ素子１１２を発光させカラー表示を可能としている。

なお、有機ＥＬ素子１１２を駆動する回路部１１１の構成は、これに限定されるものではない。

機能層１３２は、有機膜からなる正孔注入層、中間層、発光層を含む複数の薄膜層からなり、陽極１３１側からこの順で積層されている。本実施形態において、これらの薄膜層は液滴吐出法（インクジェット法）を用いて形成されている。

正孔注入層の材料としては、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）等のポリチオフェン誘導体にドーパントとしてのポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）を加えた混合物（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）や、ポリスチレン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレンやその誘導体を用いてもよい。

中間層は、正孔注入層と発光層との間に設けられ、発光層に対する正孔の輸送性（注入性）を向上させると共に、発光層から正孔注入層に電子が侵入することを抑制するために設けられている。すなわち、発光層における正孔と電子との結合による発光の効率を改善するものである。中間層の材料としては、例えば、正孔輸送性が良好なトリフェニルアミン系ポリマーを含んだものが挙げられる。

発光層の材料としては、例えば、赤色、緑色、青色の発光が得られるポリフルオレン誘導体（ＰＦ）、ポリパラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ＰＥＤＯＴ等のポリチオフェニレン誘導体、ポリメチルフェニレンシラン（ＰＭＰＳ）等を用いることができる。また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素等の高分子材料や、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクドリン等低分子材料をドープしてもよい。

このような有機ＥＬ素子１１２を有する素子基板１０１は、熱硬化型エポキシ樹脂等を封着部材として用いた封着層１３５を介して封止基板１０２と隙間なくベタ封止されている。

本実施形態の有機ＥＬ装置１００は、後述する有機ＥＬ素子１１２の製造方法を用いて製造されており、発光層がほぼ一定の膜厚と安定した膜形状（断面形状）を有しているため、異なる発光色が得られる機能層１３２Ｒ，１３２Ｇ，１３２Ｂにおいてそれぞれ所望の発光特性が得られる。

なお、本実施形態の有機ＥＬ装置１００は、ボトムエミッション型に限定されず、例えば陽極１３１を光反射性の導電材料を用いて形成し、共通電極としての陰極１３４を透明な導電材料を用いて形成して、有機ＥＬ素子１１２の発光を陽極１３１で反射させて、封止基板１０２側から取り出すトップエミッション型の構造としてもよい。また、トップエミッション型とする場合、回路部１１１と陽極１３１との間に反射層を設けてもよい。また、有機ＥＬ素子１１２の発光色に対応させたカラーフィルターを封止基板１０２側に設ける構成としてもよい。さらには、封止基板１０２側にカラーフィルターを有する場合、有機ＥＬ素子１１２から白色発光が得られる構成としてもよい。

＜有機ＥＬ素子の製造方法＞
次に、本実施形態の有機ＥＬ素子の製造方法を適用した有機ＥＬ装置の製造方法について図１２〜図１４を参照して説明する。図１２は有機ＥＬ装置の製造方法を示すフローチャート、図１３（ａ）〜（ｄ）及び図１４（ｅ）〜（ｈ）は有機ＥＬ素子の製造方法を示す概略断面図である。

図１２に示すように、本実施形態の有機ＥＬ装置１００の製造方法は、隔壁形成工程（ステップＳ１）と、隔壁が形成された基板に表面処理を施す表面処理工程（ステップＳ２）と、正孔注入層形成工程（ステップＳ３）と、中間層形成工程（ステップＳ４）と、発光層形成工程（ステップＳ５）と、陰極形成工程（ステップＳ６）と、有機ＥＬ素子１１２が形成された素子基板１０１と封止基板１０２とを貼り合わせる封止基板接着工程（ステップＳ７）とを少なくとも備えている。なお、素子基板１０１上に回路部１１１（図１１参照）を形成する工程や回路部１１１に電気的に接続した陽極１３１を形成する工程は、公知の製造方法を用いればよく、本実施形態では詳細の説明は省略する。したがって、図１３（ａ）〜（ｄ）及び図１４（ｅ）〜（ｈ）では、回路部１１１の図示を省略している。

図１２のステップＳ１は、隔壁形成工程である。ステップＳ１では、図１３（ａ）に示すように、陽極１３１の外縁を覆ってそれぞれの陽極１３１を区画するように隔壁１３３を形成する。形成方法としては、例えば、陽極１３１が形成された素子基板１０１の表面に、感光性のフェノール樹脂又はポリイミド樹脂をおよそ１μｍ〜３μｍ程度の厚みで塗布する。塗布方法としては、転写法、スリットコート法などが挙げられる。そして、発光画素１０７の形状に対応したマスクを用いて露光し、現像することにより隔壁１３３を形成する。以降、隔壁１３３により区画された発光画素１０７の領域を機能層形成領域Ａと呼ぶ。そして、ステップＳ２へ進む。

図１２のステップＳ２は、表面処理工程である。ステップＳ２では、隔壁１３３が形成された素子基板１０１の表面に親液処理と撥液処理とを施す。まず、酸素を処理ガスとするプラズマ処理を行い、主に無機材料からなる陽極１３１の表面に親液処理を施す。次に、ＣＦ₄などのフッ素系ガスを処理ガスとするプラズマ処理を行い、有機材料からなる隔壁１３３の表面にフッ素を導入して撥液処理を施す。
なお、撥液性を有する隔壁１３３の形成は、これに限定されず。例えば、隔壁１３３の頭頂部に撥液性材を転写して撥液層を形成したり、上記感光性樹脂自体に撥液性材を含ませて隔壁１３３を形成してもよい。そして、ステップＳ３へ進む。

図１２のステップＳ３は、正孔注入層形成工程である。ステップＳ３では、まず、図１３（ｂ）に示すように、正孔注入層形成材料を含む機能液７０を機能層形成領域Ａに塗布する。機能液７０は、例えば、溶媒としてジエチレングリコールと水（純水）とを含んでおり、正孔注入層形成材料としてＰＥＤＯＴ／ＰＳＳを重量比で０．５％程度含んだものを用いた。粘度がおよそ２０ｍＰａ・ｓ以下となるように溶媒の割合が調整されている。
機能液７０を塗布する方法としては、第１実施形態において説明した機能液（インク）を吐出ヘッド５０のノズル５２から吐出可能な吐出装置１０を用いる。吐出ヘッド５０とワークＷである素子基板１０１とを対向させ、吐出ヘッド５０から機能液７０を吐出する。吐出された機能液７０は、液滴として親液処理された陽極１３１に着弾して濡れ拡がる。また、乾燥後の正孔注入層の膜厚がおよそ５０ｎｍ〜７０ｎｍとなるように、機能層形成領域Ａの面積に応じた必要量を液滴として吐出した。そして乾燥工程へ進む。

乾燥工程では、素子基板１０１を例えばランプアニール等の方法で加熱することにより、機能液７０の溶媒成分を乾燥させて除去し、図１３（ｃ）に示すように機能層形成領域Ａの陽極１３１上に正孔注入層１３２ａを形成する。なお、本実施形態では、各機能層形成領域Ａに同一材料からなる正孔注入層１３２ａを形成したが、後に形成される発光層に対応して正孔注入層１３２ａの材料を発光色ごとに変えてもよい。そしてステップＳ４へ進む。

図１２のステップＳ４は、中間層形成工程である。ステップＳ４では、図１３（ｄ）に示すように、中間層形成材料を含む機能液８０を機能層形成領域Ａに塗布する。
機能液８０は、例えば、溶媒としてシクロヘキシルベンゼンを含み、中間層形成材料として、前述したトリフェニルアミン系ポリマーを重量比で０．１％程度含んだものを用いた。粘度はおよそ６ｍＰａ・ｓである。
機能液８０を塗布する方法としては、機能液７０を塗布する場合と同様に、第１実施形態の吐出装置１０を用いる。乾燥後の中間層の膜厚がおよそ１０ｎｍ〜２０ｎｍとなるように、機能層形成領域Ａの面積に応じた必要量を液滴として吐出した。そして乾燥工程へ進む。

乾燥工程では、素子基板１０１を例えばランプアニール等の方法で加熱することにより、機能液８０の溶媒成分を乾燥させて除去し、図１４（ｅ）に示すように機能層形成領域Ａの正孔注入層１３２ａ上に中間層１３２ｃを形成する。そしてステップＳ５へ進む。

図１２のステップＳ５は、発光層形成工程である。ステップＳ５では、図１４（ｆ）に示すように、発光層形成材料を含む機能液９０Ｒ，９０Ｇ，９０Ｂをそれぞれ対応する機能層形成領域Ａに塗布する。
機能液９０Ｒ，９０Ｇ，９０Ｂは、例えば、溶媒としてシクロヘキシルベンゼンを含んでおり、発光層形成材料としてＰＦを重量比で０．７％含んだものを用いた。粘度はおよそ１４ｍＰａ・ｓである。
機能液９０Ｒ，９０Ｇ，９０Ｂを塗布する方法は、やはり第１実施形態の吐出装置１０を用い、それぞれ異なる吐出ヘッド５０に充填されて吐出される。
発光層の成膜にあたり、機能液９０Ｒ，９０Ｇ，９０Ｂを機能層形成領域Ａに吐出ムラなく、且つ必要量を安定的に吐出することができる第１実施形態の機能液の吐出方法を用いた。すなわち、ｍ回の主走査にのうち少なくとも１回で２つのノズル５２が機能層形成領域Ａに掛かるように吐出ヘッド５０を副走査して、主走査ごとに異なるノズル５２から液滴を吐出した。そして、主走査ごとに使用ノズル数がほぼ同数となるように主走査におけるノズル５２の配置情報が生成されている。また、乾燥後の発光層の膜厚がおよそ５０ｎｍ〜１００ｎｍとなるように、機能層形成領域Ａの面積に応じた必要量をｍ回の主走査に分けて液滴として吐出した。そして乾燥工程へ進む。

本実施形態における吐出された機能液９０Ｒ，９０Ｇ，９０Ｂの乾燥工程は、一般的な加熱乾燥に比べて溶媒成分を比較的均一に乾燥可能な減圧乾燥法を用いている。機能層形成領域Ａに満遍なく必要量の機能液９０Ｒ，９０Ｇ，９０Ｂが塗布されている。したがって、図１４（ｇ）に示すように、乾燥後に形成された発光層１３２ｒ，１３２ｇ，１３２ｂは機能層形成領域Ａごとにほぼ一定の膜厚と安定した膜形状（断面形状）を有する。そして、ステップＳ６へ進む。

図１２のステップＳ６は、陰極形成工程である。ステップＳ６では、図１４（ｈ）に示すように、隔壁１３３と各機能層１３２Ｒ，１３２Ｇ，１３２Ｂとを覆うように陰極１３４を形成する。これにより有機ＥＬ素子１１２が構成される。
陰極１３４の材料としては、アルミニウム（Ａｌ）や銀（Ａｇ）とマグネシウム（Ｍｇ）の合金などが用いられる。機能層１３２Ｒ，１３２Ｇ，１３２Ｂに近い側に仕事関数が小さいＣａ、Ｂａ、ＬｉＦの膜を形成してもよい。また、陰極１３４の上にＳｉＯ₂、ＳｉＮ等の保護層を積層してもよい。このようにすれば、陰極１３４の酸化を防止することができる。陰極１３４の形成方法としては、蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等が挙げられる。特に機能層１３２Ｒ，１３２Ｇ，１３２Ｂの熱による損傷を防止できるという点では、蒸着法が好ましい。ここまでが、有機ＥＬ素子１１２の製造工程を示すものである。そして、ステップＳ７へ進む。

図１２のステップＳ７は、封止基板接着工程である。ステップＳ７では、有機ＥＬ素子１１２が形成された素子基板１０１に封着剤を塗布して、封止基板１０２と隙間なくベタ封止する（図１１参照）。なお、封止基板１０２の外周領域において水分や酸素等の進入を防ぐ接着層を設けて素子基板１０１と封止基板１０２とを接着するようにしてもよい。

以上のような有機ＥＬ素子１１２の製造方法によれば、上記第１実施形態の機能液の吐出方法を用いて形成された発光層１３２ｒ，１３２ｇ，１３２ｂは、機能層形成領域Ａに必要量の機能液９０Ｒ，９０Ｇ，９０Ｂがそれぞれ安定的に付与され、乾燥後における成膜ムラが低減され、それぞれほぼ一定の膜厚と安定した膜形状（断面形状）を有している。したがって、成膜ムラに起因する輝度ムラが低減された有機ＥＬ素子１１２を製造することができる。
なお、上記第１実施形態の機能液の吐出方法は、発光層形成材料を含む機能液９０Ｒ，９０Ｇ，９０Ｂの塗布に適用するだけでなく、もちろん、正孔注入層形成材料を含む機能液７０や中間層形成材料を含む機能液８０の塗布においても適用することができる。

このようにして製造された異なる発光が得られる有機ＥＬ素子１１２を備えた有機ＥＬ装置１００は、発光画素１０７が微細であって、所望の発光特性が実現され、見映えのよいカラー表示が可能である。

＜電子機器＞
本発明の有機ＥＬ素子１１２の製造方法を用いて製造された有機ＥＬ装置１００は、様々な電子機器の表示部として好適に用いることができる。
電子機器としては、携帯電話機やパーソナルコンピューター、ＰＤＡ、ＰＯＳなどの携帯型情報端末、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、カーナビゲーションシステム、テレビ、ＨＭＤ（ヘッドマウントディスプレイ）、ＨＵＤ（ヘッドアップディスプレイ）などを挙げることができる。
また、有機ＥＬ装置１００は、表示部として用いられるだけでなく、例えば有機ＥＬ素子１１２を白色発光が得られる構成として電子機器の照明装置として用いてもよい。

本発明は、上記した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨あるいは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う機能液の吐出方法及び有機ＥＬ素子の製造方法ならびに該有機ＥＬ素子の製造方法を用いて製造された有機ＥＬ素子を適用する有機ＥＬ装置や電子機器もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。上記実施形態以外にも様々な変形例が考えられる。以下、変形例を挙げて説明する。

（変形例１）上記第１実施形態の機能液の吐出方法は、有機ＥＬ素子１１２の製造方法に用いることに限定されない。図１５（ａ）はカラーフィルター基板の構成を示す概略平面図、図１５（ｂ）はカラーフィルター基板の構造を示す概略断面図である。図１５（ａ）及び（ｂ）に示すように、カラーフィルター基板２００は、ガラスなどの透明な基材２０１と、基材２０１に形成された隔壁２０２と、隔壁２０２によって区画された機能層形成領域に形成された赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各色に対応した着色層２０３Ｒ，２０３Ｇ，２０３Ｂを有している。したがって、色ごとに用意される着色層形成材料を含む機能液を機能層形成領域に塗布する際にも、本実施形態の機能液の吐出方法を適用できる。これにより、所望の膜厚と膜形状が実現された着色層２０３Ｒ，２０３Ｇ，２０３Ｂを有するカラーフィルター２０３（カラーフィルター基板２００）を製造することができる。つまり、所望の光学特性を有するカラーフィルター２０３（カラーフィルター基板２００）を製造することができる。

（変形例２）上記第１実施形態の機能液の吐出方法において、２つのノズル５２が機能層形成領域Ａに掛かる主走査（パス）は、１パス（１回目の主走査）に限定されない。ｍ回の主走査のうちのいずれかの主走査であればよい。また、ワークＷ上には複数の機能層形成領域Ａが設けられているので、１パスにおいて２つのノズル５２が掛かる機能層形成領域Ａと、１つのノズル５２が掛かる機能層形成領域Ａとが副走査方向に配列していることもある。

（変形例３）上記第１実施形態の機能液の吐出方法において、１回の主走査（パス）において吐出すべきノズル５２から吐出される液滴Ｄの数は１つに限定されない。前述したように、複数のノズル５２は時分割駆動されており、主走査方向における吐出分解能は３．３μｍである。したがって、機能層形成領域Ａの主走査方向における長さにもよるが、１つのノズル５２から複数の液滴Ｄを吐出させても、機能層形成領域Ａに着弾させることができる。

（変形例４）上記第１実施形態の機能液の吐出方法において、機能層形成領域Ａの形状及び配置は、これに限定されない。例えば、ストライプ方式の配置だけでなく、モザイク方式やデルタ方式の配置においても適用できる。

（変形例５）上記第１実施形態の機能液の吐出方法において、時分割駆動を実現する駆動波形ＰＬ１，ＰＬ２，ＰＬ３の構成は、これに限定されない。例えば、２種類の波形構成としても時分割駆動は可能である。

（変形例６）上記実施形態における吐出装置１０の構成は、これに限定されない。例えば、ヘッドプレート９ａに搭載される吐出ヘッド５０の配置は、吐出される機能液の種類によってその配置を変えてもよい。

５０…吐出ヘッド、５２…ノズル、１００…有機ＥＬ装置、１０１…基板としての素子基板、１１２…有機ＥＬ素子、１３２ｒ，１３２ｇ，１３２ｂ…発光層，１３２Ｒ，１３２Ｇ，１３２Ｂ…機能層、２００…カラーフィルター基板、２０３…カラーフィルター、２０３Ｒ，２０３Ｇ，２０３Ｂ…着色層、Ａ…機能層形成領域。

Claims (11)

1. 複数のノズルを有する吐出ヘッドを用い、主走査方向から見て前記主走査方向と交差する副走査方向に前記複数のノズルを配列させ、機能層形成領域に対して前記吐出ヘッドを前記主走査方向に相対移動させる主走査の間に、前記吐出ヘッドから機能層形成材料を含む機能液を前記機能層形成領域に吐出する機能液の吐出方法であって、
   ｍ回の主走査のうち少なくとも１回の主走査で少なくとも２つのノズルが前記機能層形成領域に掛かるように前記吐出ヘッドを前記副走査方向に相対移動させる副走査を行って、ｍ回の主走査ごとに異なる１つのノズルから前記機能液を吐出し、
   前記ｍ回の主走査の吐出を行わせるべきノズルに１つの異常ノズルが含まれるとき、前記異常ノズルからの吐出を止めて、前記少なくとも２つのノズルが前記機能層形成領域に掛かる主走査において前記少なくとも２つのノズルから前記機能液の吐出を行うことを特徴とする機能液の吐出方法。
2. 複数のノズルを有する吐出ヘッドを用い、主走査方向から見て前記主走査方向と交差する副走査方向に前記複数のノズルを配列させ、機能層形成領域に対して前記吐出ヘッドを前記主走査方向に相対移動させる主走査の間に、前記吐出ヘッドから機能層形成材料を含む機能液を前記機能層形成領域に吐出する機能液の吐出方法であって、
   ｍ回の主走査のうち少なくとも１回の主走査で少なくとも２つのノズルが前記機能層形成領域に掛かるように前記吐出ヘッドを前記副走査方向に相対移動させる副走査を行って、ｍ回の主走査ごとに異なる１つのノズルから前記機能液を吐出し、
   前記ｍ回の主走査の吐出を行わせるべきノズルに１つの異常ノズルが含まれるとき、前記異常ノズルからの吐出を止めて、前記少なくとも２つのノズルが前記機能層形成領域に掛かる主走査を追加して、追加された主走査において前記少なくとも２つのノズルうちの１つのノズルから前記機能液の吐出を行うことを特徴とする機能液の吐出方法。
3. 前記ｍ回の主走査の吐出を行わせるべきノズルに２つ以上の異常ノズルが含まれるとき、
   前記ｍ回の主走査において前記機能層形成領域に掛かる前記異常ノズルの数が１つとなるように、前記吐出ヘッドを副走査することを特徴とする請求項１または２に記載の機能液の吐出方法。
4. 前記主走査方向から見て前記副走査方向に隣り合うノズルの配置ピッチをＰｎとするとき、
   前記ｍ回の主走査における吐出を行わせるべきノズルの配置ピッチがＰｎ／ｍとなるように、前記吐出ヘッドを副走査することを特徴とする請求項１または２に記載の機能液の吐出方法。
5. 前記副走査方向に前記機能層形成領域の長手方向が向くように前記機能層形成領域を前記吐出ヘッドに対して相対的に配置させ、
   前記機能層形成領域に掛かる前記少なくとも２つのノズルのうち、前記機能層形成領域の前記副走査方向における端部に近い方のノズルを予備ノズルとし、前記端部から遠い方のノズルを前記吐出を行わせる前記１つのノズルとすることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の機能液の吐出方法。
6. 所定量の前記機能液を液滴として、少なくとも前記ｍ回の主走査に分けて前記機能層形成領域に前記吐出ヘッドから吐出することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の機能液の吐出方法。
7. 基板上の機能層形成領域に発光層を含む機能層を有する有機ＥＬ素子の製造方法であって、
   請求項１乃至６のいずれか一項に記載の機能液の吐出方法を用い、機能層形成材料を含む機能液を前記機能層形成領域に吐出する工程と、
   吐出された前記機能液を固化して前記機能層のうちの少なくとも１層を形成する工程と、を備えたことを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
8. 発光層形成材料を含む前記機能液を前記機能層形成領域に吐出して、前記機能層のうち前記発光層を形成することを特徴とする請求項７に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
9. 基板上の着色層形成領域に着色層を有するカラーフィルターの製造方法であって、
   請求項１乃至６のいずれか一項に記載の機能液の吐出方法を用い、着色層形成材料を含む機能液を前記着色層形成領域に吐出する工程と、
   吐出された前記機能液を固化して前記着色層を形成する工程と、を備えたことを特徴とするカラーフィルターの製造方法。
10. 請求項７または８に記載の有機ＥＬ素子の製造方法を用いて製造された有機ＥＬ素子を備えたことを特徴とする有機ＥＬ装置。
11. 請求項１０に記載の有機ＥＬ装置を備えたことを特徴とする電子機器。

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