JP2005352143A - 液晶基板の製造方法および液晶基板の製造装置 - Google Patents

液晶基板の製造方法および液晶基板の製造装置 Download PDF

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Abstract

【課題】歩留まりを向上させること。
【解決手段】複数の収容部２１1〜２１25を有するパレット２０に配設された複数の基板３０1〜３０25を含む領域を撮影部６１で撮影する撮影ステップと、撮影ステップでの撮影の結果に基づいて、複数の基板３０1〜３０25に対応する領域を実塗布領域として検出する実塗布領域検出ステップと、実塗布領域に基づいて、複数の基板３０1〜３０25に対して、配向膜インク６３をインクジェットヘッド６２から塗布する塗布ステップとを含む。
【選択図】 図１

Description

本発明は、液晶基板の製造方法および液晶基板の製造装置に関するものであり、特に、歩留まりを向上させることができる液晶基板の製造方法および液晶基板の製造装置に関するものである。
従来より、基板に対して配向膜インクをインクジェット法により塗布した後に、基板上に配向膜を形成し、液晶基板を製造する方法が採用されている（特許文献１参照）。図５は、従来の液晶基板の製造方法を説明する平面図である。図６は、図５に示したＸ−Ｘ’線視断面図である。これらの図において、加熱プレート１０は、マトリクス状に配設された基板３０1〜３０25に塗布された配向膜インクを乾燥させ、配向膜を形成するための加熱を行う機能を備えている。
パレット２０は、マトリクス状に収容部２１1〜２１25が形成され、加熱プレート１０の上に設けられている。これらの収容部２１1〜２１25には、基板３０1〜３０25が位置決めされた状態でそれぞれ収容される。インクジェットヘッド４０は、パレット２０上を移動自在に設けられ、基板３０1〜３０25に対して配向膜インク５０をインクジェット法により吐出する。
上記構成において、パレット２０の収容部２１1〜２１25には、基板３０1〜３０25が収容される。つぎに、インクジェットヘッド４０は、移動制御され、基板３０1〜３０25に対して、配向膜インク５０を順次吐出する。これにより、基板３０1〜３０25のそれぞれには、配向膜インク５０が塗布される。つぎに、加熱プレート１０がオンとされ、パレット２０を介して、基板３０1〜３０25が加熱される。これにより、基板３０1〜３０25にそれぞれ塗布された配向膜インク５０が乾燥され、基板３０1〜３０25には、配向膜が形成される。乾燥後の基板３０1〜３０25は、液晶基板とされる。
特開平１０−１９７８７３号公報
ところで、図５に示したように、収容部２１1〜２１25に基板３０1〜３０25が同図のように整然と収容部２１1〜２１25の中央部に位置決めされた状態では、基板３０1〜３０25の正規位置に配向膜インク５０が塗布される。
しかしながら、実際には、収容部２１1〜２１25と、基板３０1〜３０25との間に微少な隙間があるため、図７に示したように、基準配設位置（破線）に比して、左右上下、斜めにずれて基板３０1〜３０25が配設される場合がある。ここで、配向膜インク５０は、規定塗布領域（破線内）に塗布されるように設計されている。従って、かかる場合には、基板３０1〜３０25の規定塗布領域に配向膜インク５０が正確に塗布されず、歩留まりが悪いという問題があった。
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、歩留まりを向上させることができる液晶基板の製造方法および液晶基板の製造装置を提供することを目的とする。
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明は、複数の収容部を有するパレットに配設された複数の基板を含む領域を撮影する撮影工程と、前記撮影の結果に基づいて、前記複数の基板に対応する領域を実塗布領域として検出する実塗布領域検出工程と、前記実塗布領域に基づいて、前記複数の基板に対して、配向膜インクを塗布する塗布工程と、を含むことを特徴とする。
また、本発明は、複数の収容部を有するパレットに配設された複数の基板を含む領域を撮影する撮影手段と、前記撮影の結果に基づいて、前記複数の基板に対応する領域を実塗布領域として検出する実塗布領域検出手段と、前記実塗布領域に基づいて、前記複数の基板に対して、配向膜インクを塗布する塗布手段と、を備えたことを特徴とする。
本発明によれば、複数の収容部を有するパレットに配設された複数の基板を含む領域を撮影した結果に基づいて、複数の基板に対応する領域を実塗布領域として検出し、実塗布領域に基づいて、複数の基板に対して、配向膜インクを塗布することとしたので、収容部に対する基板の位置にかかわらず、基板に配向膜インクを正確に塗布することができるため、歩留まりを向上させることができるという効果を奏する。
以下に、本発明にかかる液晶基板の製造方法および液晶基板の製造装置の実施例を図面に基づいて詳細に説明する。なお、この実施例によりこの発明が限定されるものではない。
図１は、本発明にかかる一実施例の構成を示す平面図である。図２は、図１に示したＹ−Ｙ’線視断面図である。以下では、液晶基板の製造方法および液晶基板の製造装置について説明する。図１および図２において、図５および図６の各部に対応する部分には同一の符号を付け、その説明を省略する。図２においては、図６に示したインクジェットヘッド４０に代えて、描画装置６０およびホストコンピュータ７０が設けられている。
描画装置６０は、基板３０1〜３０25に対して、配向膜インク６３により所定パターンを描画するための装置である。ホストコンピュータ７０は、描画装置６０に接続されており、パレット配列データ等を描画装置６０へ供給する。パレット配列データは、図１に示したパレット２０における収容部２１1〜２１25の配列に関するデータであり、例えば、ｘｙ座標で表現される。
図２に示した描画装置６０の撮影部６１は、パレット２０上を移動自在に設けられており、行１〜５および列Ａ〜Ｅ（図１参照）において、列Ａ〜Ｅに沿って、収容部２１1〜２１25および基板３０1〜３０25を含む領域を撮影する機能を備えている。インクジェットヘッド６２は、パレット２０上を移動自在に設けられ、基板３０1〜３０25に対して配向膜インク６３をインクジェット法により吐出する。
キャリッジ機構６４は、撮影部６１およびインクジェットヘッド６２を移動させるための機構であり、制御部６５により制御される。制御部６５は、各部を制御する。この制御部６５の動作の詳細については、後述する。記憶部６６は、制御部６５で用いられる各種データを記憶する。
つぎに、一実施例の動作について、図３に示したフローチャートを参照しつつ説明する。以下では、図１に示したように、基準配設位置（破線：図７参照）に比して、左右上下、斜めにずれて基板３０1〜３０25が配設された場合の動作について説明する。ステップＳＡ１では、制御部６５は、ホストコンピュータ７０からパレット配列データを取得した後、記憶部６６に記憶させる。
ステップＳＡ２では、制御部６５は、キャリッジ機構６４を制御して、撮影部６１を、図１に示した列Ａ〜Ｅに沿って移動させつつ、収容部２０1〜２１25、基板３０1〜３０25を含む領域を撮影させる。また、制御部６５は、撮影部６１からの撮影データを記憶部６６に順次記憶させる。
ステップＳＡ３では、制御部６５は、撮影データに基づいて、エッジ検出等の画像処理により、パレット２０における基板３０1〜３０25の領域に対応する領域を実塗布領域データとして生成する。
ステップＳＡ４では、制御部６５は、記憶部６６に記憶されたパレット配列データに基づいて、収容部２１1〜２１25の領域に対応する基準塗布領域データを生成する。ステップＳＡ５では、制御部６５では、ステップＳＡ４で生成された基準塗布領域データに、ステップＳＡ３で生成された実塗布領域データをマッピングする。
具体的には、制御部６５は、図４に示したように、例えば、収容部２１1の領域に対応する基準塗布領域データ８０1に、基板３０1の領域に対応する実塗布領域データ９０1をマッピングする。また、制御部６５は、他の領域についても、同様にマッピングする。
ステップＳＡ６では、制御部６５は、ステップＳＡ５のマッピング結果に基づいて、基準塗布領域データのうち、実塗布領域データに対応するドット領域を１（塗布ビット）に、それ以外のドット領域を０（非塗布ビット）にし、ビットマップデータを生成する。また、制御部６５は、他の領域についても、同様にビットマップデータを生成する。
具体的には、制御部６５は、図４に示したように、基準塗布領域データ８０1のうち、実塗布領域データ９０1に対応するドット領域を１に、それ以外のドット領域を０にし、ビットマップデータを生成する。１のドット領域は、配向膜インクが塗布される領域である。一方、０のドット領域は、配向膜インクが塗布されない領域である。
ステップＳＡ７では、制御部６５は、ステップＳＡ６で生成されたビットマップデータに基づいて、キャリッジ機構６４およびインクジェットヘッド６２を制御し、描画を行わせる。
これにより、図２に示したインクジェットヘッド６２は、キャリッジ機構６４により、移動制御され、基板３０1〜３０25に対応する１のドット領域に対して、配向膜インク６３を順次吐出する。これにより、基板３０1〜３０25のそれぞれには、配向膜インク６３が塗布される。
ステップＳＡ８では、加熱プレート１０がオンとされ、パレット２０を介して、基板３０1〜３０25が加熱される。これにより、基板３０1〜３０25にそれぞれ塗布された配向膜インク６３が乾燥され、基板３０1〜３０25には、配向膜が形成される。乾燥後の基板３０1〜３０25は、液晶基板とされる。
以上説明したように、一実施例によれば、複数の収容部２１1〜２１25を有するパレット２０に配設された複数の基板３０1〜３０25を含む領域を撮影した結果に基づいて、複数の基板３０1〜３０25に対応する領域を実塗布領域として検出し、実塗布領域に基づいて、複数の基板３０1〜３０25に対して、配向膜インク６３を塗布することとしたので、収容部２１1〜２１25に対する基板３０1〜３０25の位置にかかわらず、基板３０1〜３０25に配向膜インク６３を正確に塗布することができるため、歩留まりを向上させることができる。
以上のように、本発明にかかる液晶基板の製造方法および液晶基板の製造装置は、配向膜インクの描画時における歩留まりの向上に対して有用である。
本発明にかかる一実施例の構成を示す平面図である。 図１に示したＹ−Ｙ’線視断面図である。 同一実施例の動作を説明するフローチャートである。 同一実施例における動作を説明する図である。 従来の液晶基板製造方法を説明する平面図である。 図５に示したＸ−Ｘ’線視断面図である。 従来の液晶基板の製造方法の問題点を説明する平面図である。
符号の説明
３０1〜３０25 基板、６０ 描画装置、６１ 撮影部、６２ インクジェットヘッド、６３ 配向膜インク、６５ 制御部

Claims (4)

  1. 複数の収容部を有するパレットに配設された複数の基板を含む領域を撮影する撮影工程と、
    前記撮影の結果に基づいて、前記複数の基板に対応する領域を実塗布領域として検出する実塗布領域検出工程と、
    前記実塗布領域に基づいて、前記複数の基板に対して、配向膜インクを塗布する塗布工程と、
    を含むことを特徴とする液晶基板の製造方法。
  2. 前記複数の収容部に対応する基準塗布領域において、前記実塗布領域に対応する領域に塗布ビットを、前記実塗布領域以外の領域に非塗布ビットを割り当て、ビットマップデータを生成するビットマップデータ生成工程を含み、前記塗布工程では、前記ビットマップデータに基づいて、前記複数の基板に対して、前記配向膜インクを塗布することを特徴とする請求項１に記載の液晶基板の製造方法。
  3. 複数の収容部を有するパレットに配設された複数の基板を含む領域を撮影する撮影手段と、
    前記撮影の結果に基づいて、前記複数の基板に対応する領域を実塗布領域として検出する実塗布領域検出手段と、
    前記実塗布領域に基づいて、前記複数の基板に対して、配向膜インクを塗布する塗布手段と、
    を備えたことを特徴とする液晶基板の製造装置。
  4. 前記複数の収容部に対応する基準塗布領域において、前記実塗布領域に対応する領域に塗布ビットを、前記実塗布領域以外の領域に非塗布ビットを割り当て、ビットマップデータを生成するビットマップデータ生成手段を備え、前記塗布手段では、前記ビットマップデータに基づいて、前記複数の基板に対して、前記配向膜インクを塗布することを特徴とする請求項３に記載の液晶基板の製造装置。
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