JPH09105939A - 液晶表示素子の配向膜形成方法及び装置 - Google Patents
液晶表示素子の配向膜形成方法及び装置Info
- Publication number
- JPH09105939A JPH09105939A JP26410995A JP26410995A JPH09105939A JP H09105939 A JPH09105939 A JP H09105939A JP 26410995 A JP26410995 A JP 26410995A JP 26410995 A JP26410995 A JP 26410995A JP H09105939 A JPH09105939 A JP H09105939A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alignment film
- substrate
- liquid crystal
- ink jet
- film forming
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 配向膜材料の使用効率を可及的に高くするこ
とを可能にするとともに配向膜に起因する表示品位の低
下を可及的に膨することを可能にする。 【解決手段】 電極が形成された基板の表面の凹凸を測
定する工程と、この測定結果に基づいて前記基板の表面
からの距離がほぼ所定値となるようにインクジェットノ
ズルの位置を調節して配向膜形成溶液を噴射し、前記基
板上に前記配向膜形成溶液の膜を形成する工程と、加熱
処理を行うことにより前記配向膜形成溶液の膜内の溶媒
を除去する工程と、を備えていることを特徴とする。
とを可能にするとともに配向膜に起因する表示品位の低
下を可及的に膨することを可能にする。 【解決手段】 電極が形成された基板の表面の凹凸を測
定する工程と、この測定結果に基づいて前記基板の表面
からの距離がほぼ所定値となるようにインクジェットノ
ズルの位置を調節して配向膜形成溶液を噴射し、前記基
板上に前記配向膜形成溶液の膜を形成する工程と、加熱
処理を行うことにより前記配向膜形成溶液の膜内の溶媒
を除去する工程と、を備えていることを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示素子の配向
膜形成方法及び装置に関する。
膜形成方法及び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、薄型軽量、低消費電力という大き
な利点をもつ液晶表示素子は、日本語ワードプロセッサ
やデスクトップパーソナルコンピュータ等のパーソナル
ＯＡ機器の表示装置として積極的に用いられている。液
晶表示素子（以下ＬＣＤともいう）のほとんどは、捩れ
ネマティック液晶を用いており、表示方式としては、こ
の中でも旋光モードと複屈折モードとの２つの方式に大
別できる。
な利点をもつ液晶表示素子は、日本語ワードプロセッサ
やデスクトップパーソナルコンピュータ等のパーソナル
ＯＡ機器の表示装置として積極的に用いられている。液
晶表示素子（以下ＬＣＤともいう）のほとんどは、捩れ
ネマティック液晶を用いており、表示方式としては、こ
の中でも旋光モードと複屈折モードとの２つの方式に大
別できる。
【０００３】旋光モードのＬＣＤは、例えば９０度捩れ
た分子配列をもつツイステッドネマティック（ＴＮ）形
液晶であり、原理的に白黒表示で、高いコントラスト比
と良好な階調表示性を示す。また応答速度が速い（数十
ミリ秒）ことから、時計や電卓、単純マトリクス駆動
や、スイッチング素子を各画素毎に具備したアクティブ
マトリクス駆動で、また、カラーフィルタと組み合わせ
たフルカラーの表示の液晶テレビなど（ＴＦＴ(Thin Fi
lm Transistor)−ＬＣＤやＭＩＭ(Metal Insulator Met
al) −ＬＣＤ）に応用されている。
た分子配列をもつツイステッドネマティック（ＴＮ）形
液晶であり、原理的に白黒表示で、高いコントラスト比
と良好な階調表示性を示す。また応答速度が速い（数十
ミリ秒）ことから、時計や電卓、単純マトリクス駆動
や、スイッチング素子を各画素毎に具備したアクティブ
マトリクス駆動で、また、カラーフィルタと組み合わせ
たフルカラーの表示の液晶テレビなど（ＴＦＴ(Thin Fi
lm Transistor)−ＬＣＤやＭＩＭ(Metal Insulator Met
al) −ＬＣＤ）に応用されている。
【０００４】一方、複屈折モードの表示方式のＬＣＤ
は、一般に９０度以上捩れた分子配列をもつスーパーツ
イスト（ＳＴ）形液晶で、急峻な電気光学特性をもつた
め、各画素ごとにスイッチング素子（薄膜トランジスタ
やダイオード）がなくても単純なマトリクス状の電極構
造でも時分割駆動により容易に大容量表示が得られる。
これらの液晶表示素子の表示を均一に行うためには基板
表面全面に液晶分子を均一に配向させることが必要であ
る。
は、一般に９０度以上捩れた分子配列をもつスーパーツ
イスト（ＳＴ）形液晶で、急峻な電気光学特性をもつた
め、各画素ごとにスイッチング素子（薄膜トランジスタ
やダイオード）がなくても単純なマトリクス状の電極構
造でも時分割駆動により容易に大容量表示が得られる。
これらの液晶表示素子の表示を均一に行うためには基板
表面全面に液晶分子を均一に配向させることが必要であ
る。
【０００５】液晶表示素子は、２枚の基板の電極の間に
液晶組成物を挟持し、２枚の基板の電極から液晶組成物
に電圧を印加し表示を行うものであり、電圧を印加した
時に均一な表示を行うためには、液晶分子にプレチルト
角（液晶分子の分子軸と配向膜表面とのなす角）を予め
与えることが必要である。このように、配向膜はプレチ
ルト角を与えることも重要な役割として担っている。
液晶組成物を挟持し、２枚の基板の電極から液晶組成物
に電圧を印加し表示を行うものであり、電圧を印加した
時に均一な表示を行うためには、液晶分子にプレチルト
角（液晶分子の分子軸と配向膜表面とのなす角）を予め
与えることが必要である。このように、配向膜はプレチ
ルト角を与えることも重要な役割として担っている。
【０００６】従来、これらの液晶表示素子の配向膜の形
成は、電極等が形成された基板上に例えばポリイミド等
の有機高分子化合物からなる薄膜をオフセット印刷によ
り形成した後、布などで軽く摩擦すること（ラビング処
理）によって行うのが一般的である。
成は、電極等が形成された基板上に例えばポリイミド等
の有機高分子化合物からなる薄膜をオフセット印刷によ
り形成した後、布などで軽く摩擦すること（ラビング処
理）によって行うのが一般的である。
【０００７】オフセット印刷によって配向膜を形成する
方法は、図７に示すように、まずアニロックスローラ５
２上にノズル５０を介して配向膜材料、例えばポリイミ
ドを滴下し、ドクターローラ５１をアニロックスローラ
５２に押付けることによって上記滴下されたポリイミド
の厚さが均一となるように伸ばす。そしてこの均一とな
るように伸ばされたポリイミド膜を、版胴５３上に設け
られた印刷版５４上に転写し、印刷版５４上に転写され
たポリイミド膜を基板２０の表面に更に転写し、配向膜
２２を形成する。
方法は、図７に示すように、まずアニロックスローラ５
２上にノズル５０を介して配向膜材料、例えばポリイミ
ドを滴下し、ドクターローラ５１をアニロックスローラ
５２に押付けることによって上記滴下されたポリイミド
の厚さが均一となるように伸ばす。そしてこの均一とな
るように伸ばされたポリイミド膜を、版胴５３上に設け
られた印刷版５４上に転写し、印刷版５４上に転写され
たポリイミド膜を基板２０の表面に更に転写し、配向膜
２２を形成する。
【０００８】また、電極等が形成された基板表面に例え
ばポリイミド等の高分子化合物を含む溶液をインクジェ
ットノズルを用いて噴霧塗布することによって配向膜を
形成する方法も考えられている。
ばポリイミド等の高分子化合物を含む溶液をインクジェ
ットノズルを用いて噴霧塗布することによって配向膜を
形成する方法も考えられている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】オフセット印刷によっ
て配向膜を形成する方法においては、印刷版５４上に平
坦化された配向膜材料の膜を基板表面に転写することに
より配向膜を形成するため、膜厚の均一性はかなり良
い。しかし、ドクタローラ５１とアニロックスローラ５
２上に配向膜材料を塗布する必要があるため、配向膜材
料の使用効率が低いという問題がある。
て配向膜を形成する方法においては、印刷版５４上に平
坦化された配向膜材料の膜を基板表面に転写することに
より配向膜を形成するため、膜厚の均一性はかなり良
い。しかし、ドクタローラ５１とアニロックスローラ５
２上に配向膜材料を塗布する必要があるため、配向膜材
料の使用効率が低いという問題がある。
【００１０】一方、インクジェットノズルを用いて配向
膜を形成する方法においては、配向膜材料の使用効率は
高いがインクジェットノズルと基板との間隙が塗布性の
善し悪しに影響し、特に塗布面エッジ部において顕著と
なるという問題がある。例えばインクジェットノズルと
基板との間隙が大の場合、インクジェットノズルのイン
ク溜部からピエゾ機構等でインクを圧飛させたとき、イ
ンクの飛行距離により液滴の形状が乱れたり（例えば、
液滴が霧状になったり、液滴同士で合着する）、ノズル
表面において圧飛方向のわずかなずれが生じた場合に、
飛行後のインクの基板上での到達地点が所望の位置から
ずれてしまう。このためこれらの現象が起った場合、塗
布面のエッジ部が不明瞭となったり、所望の膜厚が得ら
れなくなり、表示品位が低下する。
膜を形成する方法においては、配向膜材料の使用効率は
高いがインクジェットノズルと基板との間隙が塗布性の
善し悪しに影響し、特に塗布面エッジ部において顕著と
なるという問題がある。例えばインクジェットノズルと
基板との間隙が大の場合、インクジェットノズルのイン
ク溜部からピエゾ機構等でインクを圧飛させたとき、イ
ンクの飛行距離により液滴の形状が乱れたり（例えば、
液滴が霧状になったり、液滴同士で合着する）、ノズル
表面において圧飛方向のわずかなずれが生じた場合に、
飛行後のインクの基板上での到達地点が所望の位置から
ずれてしまう。このためこれらの現象が起った場合、塗
布面のエッジ部が不明瞭となったり、所望の膜厚が得ら
れなくなり、表示品位が低下する。
【００１１】またインクジェットノズルと基板との間隙
が小の場合には、基板のうねりに起因する凸部や表面突
起にインクジェットノズルが衝突して基板が損傷したり
インクジェットノズルが損傷してしまうおそれがあっ
た。
が小の場合には、基板のうねりに起因する凸部や表面突
起にインクジェットノズルが衝突して基板が損傷したり
インクジェットノズルが損傷してしまうおそれがあっ
た。
【００１２】本発明は上記事情を考慮してなさたもので
あって、配向膜材料の使用効率を可及的に高くすること
ができるとともに、表示品位の低下を可及的に防止する
ことのできる液晶表示素子の配向膜形成方法及び装置を
提供することを目的とする。
あって、配向膜材料の使用効率を可及的に高くすること
ができるとともに、表示品位の低下を可及的に防止する
ことのできる液晶表示素子の配向膜形成方法及び装置を
提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明による液晶表示素
子の配向膜形成方法の第１の態様は、電極が形成された
基板の表面の凹凸を測定する工程と、この測定結果に基
づいて前記基板の表面からの距離がほぼ所定値となるよ
うにインクジェットノズルの位置を調節して配向膜形成
溶液を噴射し、前記基板上に前記配向膜形成溶液の膜を
形成する工程と、加熱処理を行うことにより前記配向膜
形成溶液の膜内の溶媒を除去する工程と、を備えている
ことを特徴とする。
子の配向膜形成方法の第１の態様は、電極が形成された
基板の表面の凹凸を測定する工程と、この測定結果に基
づいて前記基板の表面からの距離がほぼ所定値となるよ
うにインクジェットノズルの位置を調節して配向膜形成
溶液を噴射し、前記基板上に前記配向膜形成溶液の膜を
形成する工程と、加熱処理を行うことにより前記配向膜
形成溶液の膜内の溶媒を除去する工程と、を備えている
ことを特徴とする。
【００１４】また本発明による液晶表示素子の配向膜形
成方法の第２の態様は、第１の態様の形成方法におい
て、前記基板の表面の凹凸の測定はレーザーフォーカス
変位計を用いて行うことを特徴とする。
成方法の第２の態様は、第１の態様の形成方法におい
て、前記基板の表面の凹凸の測定はレーザーフォーカス
変位計を用いて行うことを特徴とする。
【００１５】本発明による液晶表示素子の配向膜形成装
置の第１の態様は、電極が形成された基板の表面の凹凸
を測定する手段と、配向膜形成溶液を前記基板に噴射塗
布して前記配向膜形成溶液の膜を形成するインクジェッ
トノズルと、前記測定する手段の出力に基づいて前記基
板の表面からの距離がほぼ所定値となるように前記イン
クジェットノズルの位置を調節する手段と、前記インク
ジェットから前記配向膜形成溶液を噴射させる手段と、
前記基板上に形成された前記配向膜形成溶液の膜を加熱
焼成する手段と、を備えていることを特徴とする。
置の第１の態様は、電極が形成された基板の表面の凹凸
を測定する手段と、配向膜形成溶液を前記基板に噴射塗
布して前記配向膜形成溶液の膜を形成するインクジェッ
トノズルと、前記測定する手段の出力に基づいて前記基
板の表面からの距離がほぼ所定値となるように前記イン
クジェットノズルの位置を調節する手段と、前記インク
ジェットから前記配向膜形成溶液を噴射させる手段と、
前記基板上に形成された前記配向膜形成溶液の膜を加熱
焼成する手段と、を備えていることを特徴とする。
【００１６】また本発明による液晶表示素子の配向膜形
成装置の第２の態様は、第１の態様の形成装置におい
て、前記測定する手段はレーザーフォーカス変位計であ
ることを特徴とする。
成装置の第２の態様は、第１の態様の形成装置におい
て、前記測定する手段はレーザーフォーカス変位計であ
ることを特徴とする。
【００１７】また本発明による液晶表示素子の配向膜形
成装置の第３の態様は、第１または第２の態様の形成装
置において、前記インクジェットノズルはライン型イン
クジェットノズルであり、前記調節する手段は前記ライ
ン型インクジェットノズルの両端に設けられて各々が独
立に前記ライン型インクジェットノズルの対応する端部
の高さを調整する２台の高さ調整手段を備えていること
を特徴とする。
成装置の第３の態様は、第１または第２の態様の形成装
置において、前記インクジェットノズルはライン型イン
クジェットノズルであり、前記調節する手段は前記ライ
ン型インクジェットノズルの両端に設けられて各々が独
立に前記ライン型インクジェットノズルの対応する端部
の高さを調整する２台の高さ調整手段を備えていること
を特徴とする。
【００１８】また本発明による液晶表示素子の配向膜形
成装置の第４の態様は、第１または第２の態様の形成装
置において、前記インクジェットノズルはライン型イン
クジェットノズルであり、前記調節する手段は前記ライ
ン型インクジェットノズルの高さを調整する手段と、前
記ライン型インクジェットノズルの傾き角を調整する手
段とを備えていることを特徴とする。
成装置の第４の態様は、第１または第２の態様の形成装
置において、前記インクジェットノズルはライン型イン
クジェットノズルであり、前記調節する手段は前記ライ
ン型インクジェットノズルの高さを調整する手段と、前
記ライン型インクジェットノズルの傾き角を調整する手
段とを備えていることを特徴とする。
【００１９】
【発明の実施の形態】本発明による液晶表示素子の配向
膜形成方法の一実施例の形態を図１乃至図４を参照して
説明する。図１に本実施の形態の配向膜形成方法の処理
手順を示し、図２に本実施の形態の配向膜形成方法を実
現するための装置の一具体例を示す。
膜形成方法の一実施例の形態を図１乃至図４を参照して
説明する。図１に本実施の形態の配向膜形成方法の処理
手順を示し、図２に本実施の形態の配向膜形成方法を実
現するための装置の一具体例を示す。
【００２０】まず、透明電極が形成されたガラス基板２
０を中性洗剤を用いて洗浄後、１２０℃で２０分間乾燥
させる。続いて、この基板２０を図２に示すようにゲー
ジングピン６によって押圧し、ステージ２に内蔵された
真空吸着装置で吸引することによりステージ２上に固定
する。この固定する際の位置決めは、基板２０上の四隅
に形成されている合わせマーク２５をＣＣＤカメラ４で
撮影し、このＣＣＤカメラ４の映像信号に基づいて行
う。
０を中性洗剤を用いて洗浄後、１２０℃で２０分間乾燥
させる。続いて、この基板２０を図２に示すようにゲー
ジングピン６によって押圧し、ステージ２に内蔵された
真空吸着装置で吸引することによりステージ２上に固定
する。この固定する際の位置決めは、基板２０上の四隅
に形成されている合わせマーク２５をＣＣＤカメラ４で
撮影し、このＣＣＤカメラ４の映像信号に基づいて行
う。
【００２１】基板２０が固定されたステージ２はレール
１７ａ、１７ｂ上を、図示しない駆動装置によって図面
上で右から左に搬送させられる。そして、ステージ２上
の基板２０の先端が、ステージ２の搬送路上に設けられ
たレーザーフォーカス変位計８（例えばキーエンス社製
ＬＴ−８０００シリーズ）に到達すると、基板２０の表
面の凹凸の測定が変位計８によって開始させられる。こ
のレーザーフォーカス変位計８は、ステージ２の進行方
向と直行する位置に、例えば１０mm間隔で一列に配置さ
れた複数個の変位計測素子８ａが設けられている。そし
て基板２０の表面の凹凸の測定は図３（ａ）に示すよう
に、ステージ２上に固定された基板２０の表面に変位計
測素子８ａからレーザ光を照射し、基板２０の表面から
の反射光を観測することによって行う。なお、基板２０
の搬送方向の測定ピッチは５０μｍ間隔で行う。
１７ａ、１７ｂ上を、図示しない駆動装置によって図面
上で右から左に搬送させられる。そして、ステージ２上
の基板２０の先端が、ステージ２の搬送路上に設けられ
たレーザーフォーカス変位計８（例えばキーエンス社製
ＬＴ−８０００シリーズ）に到達すると、基板２０の表
面の凹凸の測定が変位計８によって開始させられる。こ
のレーザーフォーカス変位計８は、ステージ２の進行方
向と直行する位置に、例えば１０mm間隔で一列に配置さ
れた複数個の変位計測素子８ａが設けられている。そし
て基板２０の表面の凹凸の測定は図３（ａ）に示すよう
に、ステージ２上に固定された基板２０の表面に変位計
測素子８ａからレーザ光を照射し、基板２０の表面から
の反射光を観測することによって行う。なお、基板２０
の搬送方向の測定ピッチは５０μｍ間隔で行う。
【００２２】この観測結果は図示しないコンピュータに
送られ、変位計測素子８ａから基板２０の表面までの距
離が計算され、上記コンピュータ内のメモリに記憶され
る（図１のステップＦ２参照）。そして、上記メモリに
記憶されたデータに基づいて上記コンピュータが基板２
０の表面の凹凸を最小２乗法を用いて直線近似する（図
１のステップＦ４参照）。
送られ、変位計測素子８ａから基板２０の表面までの距
離が計算され、上記コンピュータ内のメモリに記憶され
る（図１のステップＦ２参照）。そして、上記メモリに
記憶されたデータに基づいて上記コンピュータが基板２
０の表面の凹凸を最小２乗法を用いて直線近似する（図
１のステップＦ４参照）。
【００２３】またステージ２の搬送路上にはレーザーフ
ォーカス変位計８から所定の距離、例えば１０cm離れた
ところにインクジェット噴射装置９が設けられている。
このインクジェット噴射装置９は、ステージ２の搬送方
向にほぼ直交する方向に設けられた筐体１０と、この筐
体１０上のステージ２の搬送方向に直交する方向に５０
μｍ間隔で配設されたライン型ピエゾ式インクジェット
ノズル１１と、筐体１０の高さ、すなわちインクジェッ
トノズル１１の高さを調整する高さ調整機構１２ａ，１
２ｂとを備えている。
ォーカス変位計８から所定の距離、例えば１０cm離れた
ところにインクジェット噴射装置９が設けられている。
このインクジェット噴射装置９は、ステージ２の搬送方
向にほぼ直交する方向に設けられた筐体１０と、この筐
体１０上のステージ２の搬送方向に直交する方向に５０
μｍ間隔で配設されたライン型ピエゾ式インクジェット
ノズル１１と、筐体１０の高さ、すなわちインクジェッ
トノズル１１の高さを調整する高さ調整機構１２ａ，１
２ｂとを備えている。
【００２４】基板２０の表面の凹凸が測定された位置が
インクジェット噴射装置９に到達したのを図示しない検
出装置が検出すると、上記コンピュータから制御信号が
高さ調整機構１２ａ，１２ｂに送られ、図１のステップ
Ｆ４において近似された直線に、インクジェットノズル
１１が平行でかつ、基板２０の表面からインクジェット
ノズル１１までの距離が例えば５００μｍとなるように
筐体１０の高さが高さ調整機構１２ａ，１２ｂによって
調整される。（図１のステップＦ６参照）。したがって
図４に示すように基板２０の表面が歪んでいる場合に
は、基板表面に平行でかつこの基板表面から５００μｍ
の距離にインクジェットノズル１１が配置される。そし
て、上記コンピュータからの指令に基づいてインクジェ
ットノズル１１から配向膜形成溶液２７、例えば配向膜
材料としてＡＬ−１０５１（商品名（日本合成ゴム社
製））の２．０重量％溶液（溶媒はγ−ブチルラクト
ン）を噴射塗布する（図１のステップＦ８及び図３
（ｂ）参照）。
インクジェット噴射装置９に到達したのを図示しない検
出装置が検出すると、上記コンピュータから制御信号が
高さ調整機構１２ａ，１２ｂに送られ、図１のステップ
Ｆ４において近似された直線に、インクジェットノズル
１１が平行でかつ、基板２０の表面からインクジェット
ノズル１１までの距離が例えば５００μｍとなるように
筐体１０の高さが高さ調整機構１２ａ，１２ｂによって
調整される。（図１のステップＦ６参照）。したがって
図４に示すように基板２０の表面が歪んでいる場合に
は、基板表面に平行でかつこの基板表面から５００μｍ
の距離にインクジェットノズル１１が配置される。そし
て、上記コンピュータからの指令に基づいてインクジェ
ットノズル１１から配向膜形成溶液２７、例えば配向膜
材料としてＡＬ−１０５１（商品名（日本合成ゴム社
製））の２．０重量％溶液（溶媒はγ−ブチルラクト
ン）を噴射塗布する（図１のステップＦ８及び図３
（ｂ）参照）。
【００２５】この噴射塗布は、レーザーフォーカス変位
計８の基板２０の搬送方向の測定ピッチ（５０μｍ）毎
に行う。したがって、噴射塗布が終了すると、ステージ
２が５０μｍ移動させられ、図１に示すステップＦ６，
Ｆ８が行われる。
計８の基板２０の搬送方向の測定ピッチ（５０μｍ）毎
に行う。したがって、噴射塗布が終了すると、ステージ
２が５０μｍ移動させられ、図１に示すステップＦ６，
Ｆ８が行われる。
【００２６】そしてこのように噴射塗布を繰り返すこと
によって基板２０上の電極を覆う、配向膜形成溶液の膜
２７が形成される。配向膜形成溶液の膜２７が形成され
た基板２０を１００℃で１５秒間乾燥した後、更に１８
０℃で３０分間加熱焼成することにより、配向膜形成溶
液中の溶媒（γ−ブチルラクトン）を除去し、配向膜を
形成する（図１のステップＦ１０参照）。
によって基板２０上の電極を覆う、配向膜形成溶液の膜
２７が形成される。配向膜形成溶液の膜２７が形成され
た基板２０を１００℃で１５秒間乾燥した後、更に１８
０℃で３０分間加熱焼成することにより、配向膜形成溶
液中の溶媒（γ−ブチルラクトン）を除去し、配向膜を
形成する（図１のステップＦ１０参照）。
【００２７】本実施の形態の形成方法を用いて配向膜を
形成した液晶表示素子の構成断面図を図５に示す。この
液晶表示素子はまず、ＴＦＴ３２、透明電極３３が形成
されたガラス基板３１ａ上に本実施の形態の製造方法に
よって配向膜３８ａが形成される。また遮光膜３４およ
び着色層３５が形成されたガラス基板３１ｂ上にオーバ
コート層３６が形成され、このオーバーコート層３６上
に透明電極３７が形成される。続いて透明電極３７が形
成されたガラス基板３１ｂ上に本実施の形態の形成方法
によって配向膜３８ｂを形成する。
形成した液晶表示素子の構成断面図を図５に示す。この
液晶表示素子はまず、ＴＦＴ３２、透明電極３３が形成
されたガラス基板３１ａ上に本実施の形態の製造方法に
よって配向膜３８ａが形成される。また遮光膜３４およ
び着色層３５が形成されたガラス基板３１ｂ上にオーバ
コート層３６が形成され、このオーバーコート層３６上
に透明電極３７が形成される。続いて透明電極３７が形
成されたガラス基板３１ｂ上に本実施の形態の形成方法
によって配向膜３８ｂを形成する。
【００２８】このようにして形成された配向膜３８ａ，
３８ｂにラビング処理を施し、液晶分子が９０度捩れる
ように配向膜３８ａ，３８ｂ同士を内側にしてスペーサ
４０を介してガラス基板３１ａ，３１ｂを対向配置す
る。そしてシール剤３９により周囲をシールし、液晶組
成物４１を封入する。なお液晶組成物として例えばＺＬ
１−１１３２（E.Merck 社製）が用いられる。ガラス基
板３１ａ，３１ｂの外側の表面には偏光板４２ａ，４２
ｂが貼着され、更に偏光板４２ａの外側にはバックライ
ト４５が設けられている。またガラス基板３１ａ上には
外部電源との接続を取るためのＴＡＢ（Tape Automated
Bonding）配線４４が設けられている。
３８ｂにラビング処理を施し、液晶分子が９０度捩れる
ように配向膜３８ａ，３８ｂ同士を内側にしてスペーサ
４０を介してガラス基板３１ａ，３１ｂを対向配置す
る。そしてシール剤３９により周囲をシールし、液晶組
成物４１を封入する。なお液晶組成物として例えばＺＬ
１−１１３２（E.Merck 社製）が用いられる。ガラス基
板３１ａ，３１ｂの外側の表面には偏光板４２ａ，４２
ｂが貼着され、更に偏光板４２ａの外側にはバックライ
ト４５が設けられている。またガラス基板３１ａ上には
外部電源との接続を取るためのＴＡＢ（Tape Automated
Bonding）配線４４が設けられている。
【００２９】このようにして構成された液晶表示素子の
液晶のプレチルト角は約１．５度であった。そしてプレ
チルトの方向はラビング方向に従う方向であった。また
液晶の配向を調べたところ、９０度捩れた均一な配向が
実現されているとが確認された。
液晶のプレチルト角は約１．５度であった。そしてプレ
チルトの方向はラビング方向に従う方向であった。また
液晶の配向を調べたところ、９０度捩れた均一な配向が
実現されているとが確認された。
【００３０】また上記液晶表示素子を駆動してその表示
性能を検証したところ、液晶配向膜の膜厚の異常に起因
するような表示不良のない、良好な表示が得られた。
性能を検証したところ、液晶配向膜の膜厚の異常に起因
するような表示不良のない、良好な表示が得られた。
【００３１】また、配向膜の形成にインクジェット方式
を用いているため、配向膜材料の使用効率は約９０％程
度と高く、配向膜材料の供給系に在留したもの以外は全
く有効に成膜に用いられていることが分った。
を用いているため、配向膜材料の使用効率は約９０％程
度と高く、配向膜材料の供給系に在留したもの以外は全
く有効に成膜に用いられていることが分った。
【００３２】なお、本実施の形態の形成方法において
は、インクジェットノズル１１と基板２０の表面との距
離を５００μｍに設定したが、配向膜形成溶液の粘度
（又は濃度）に応じて適切な値に設定する必要がある。
は、インクジェットノズル１１と基板２０の表面との距
離を５００μｍに設定したが、配向膜形成溶液の粘度
（又は濃度）に応じて適切な値に設定する必要がある。
【００３３】また、本実施の形態の成形方法において
は、インクジェットノズル１１と基板２０との表面との
距離の制御を、筐体１０の両端に設けられた２個の高さ
調整機構１２ａ，１２ｂを用いて行ったが、図６に示す
ように高さ調整機構６１と、インクジェットノズル１１
の傾き角を調整する傾き角調整機構６５を用いて行って
も良い。高さ調整機構６１は、ピニオン６１ａとラック
６１ｂとを有し、ピニオン６１ａはステージ２の進行方
向（図６においては紙面に垂直な方向）とほぼ直交する
位置に配置される梁６０上に軸着され、ラック６１ｂは
ピニオン６１ａが左回転または右回転することにより上
下に移動する。
は、インクジェットノズル１１と基板２０との表面との
距離の制御を、筐体１０の両端に設けられた２個の高さ
調整機構１２ａ，１２ｂを用いて行ったが、図６に示す
ように高さ調整機構６１と、インクジェットノズル１１
の傾き角を調整する傾き角調整機構６５を用いて行って
も良い。高さ調整機構６１は、ピニオン６１ａとラック
６１ｂとを有し、ピニオン６１ａはステージ２の進行方
向（図６においては紙面に垂直な方向）とほぼ直交する
位置に配置される梁６０上に軸着され、ラック６１ｂは
ピニオン６１ａが左回転または右回転することにより上
下に移動する。
【００３４】一方、傾き角調整機構６３は梁６３ａと、
ピニオン６３ｂと、ラック６３ｃとを有している。そし
て梁６３ａはその中央部において高さ調整機構６１のラ
ック６１ｂの一端と固定されている。また梁６３ａの一
端６４はインクジェットノズル１１の筐体１０の一端と
回動自在なように蝶着され、梁６３ａの他端にはピニオ
ン６３ｂが軸着されている。またラック６３ｃの一端は
筐体１０の他端に固定されている。ピニオン６３ｂが左
回転または右回転することにより、ラック６３ｃが上下
し、これにより筐体１０が支点６４のまわりに回動して
インクジェットノズル１１の傾き角を変化させる。
ピニオン６３ｂと、ラック６３ｃとを有している。そし
て梁６３ａはその中央部において高さ調整機構６１のラ
ック６１ｂの一端と固定されている。また梁６３ａの一
端６４はインクジェットノズル１１の筐体１０の一端と
回動自在なように蝶着され、梁６３ａの他端にはピニオ
ン６３ｂが軸着されている。またラック６３ｃの一端は
筐体１０の他端に固定されている。ピニオン６３ｂが左
回転または右回転することにより、ラック６３ｃが上下
し、これにより筐体１０が支点６４のまわりに回動して
インクジェットノズル１１の傾き角を変化させる。
【００３５】また本実施の形態の形成方法においては、
インクジェットノズルはライン形のものを用いている
が、ステージ２の進行方向と直交する方向に移動可能な
ように筐体１０に取付けられた１個のインクジェットノ
ズルを用いて配向膜形成溶液を噴射塗布しても良い。
インクジェットノズルはライン形のものを用いている
が、ステージ２の進行方向と直交する方向に移動可能な
ように筐体１０に取付けられた１個のインクジェットノ
ズルを用いて配向膜形成溶液を噴射塗布しても良い。
【００３６】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、配向
膜材料の使用効率を可及的に高くすることができるとと
もに、表示品位の低下を可及的に防止することができ
る。
膜材料の使用効率を可及的に高くすることができるとと
もに、表示品位の低下を可及的に防止することができ
る。
【図１】本発明による液晶表示素子の配向膜形成方法の
一実施の形態の処理手順を示すフローチャート。
一実施の形態の処理手順を示すフローチャート。
【図２】本発明による配向膜形成方法を実現する装置の
一具体例の構成を示す斜視図。
一具体例の構成を示す斜視図。
【図３】図２に示す装置の動作を説明する説明図。
【図４】基板とインクジェットノズルの位置関係を説明
する説明図。
する説明図。
【図５】本発明による形成方法を用いて配向膜が形成さ
れた液晶表示素子の構成断面図。
れた液晶表示素子の構成断面図。
【図６】インクジェットノズルの高さを制御する装置の
他の具体例を示す図。
他の具体例を示す図。
【図７】オフセット印刷方式による配向膜の形成を説明
する説明図。
する説明図。
２ ステージ ４ ＣＣＤカメラ ６ ゲージングピン ８ レーザーフォーカス変位計 ８ａ 変位計測素子 ９ インクジェット噴射装置 １０ 筐体 １１ ライン型インクジェットノズル １２ａ，１２ｂ 高さ調整機構 １７ａ，１７ｂ レール ２０ 基板 ２２ 配向膜 ２５ 合わせマーク ２７ 配向膜形成溶液の膜 ３１ａ，３１ｂ ガラス基板 ３２ ＴＦＴ ３３ 透明電極 ３４ 遮光膜 ３５ 着色層 ３６ オーバーコート層 ３７ 透明電極 ３８ａ，３８ｂ 配向膜 ３９ シール剤 ４０ スペーサ ４１ 液晶組成物 ４２ａ，４２ｂ 偏光板 ４４ ＴＡＢ配線 ４５ バックライト ５０ ノズル ５１ ドクタローラ ５２ アニロックスローラ ５３ 版胴 ５４ 印刷版 ６０ 梁 ６１ 高さ調整機構 ６１ａ ピニオン ６１ｂ ラック ６３ 傾き角調整機構 ６３ａ 梁 ６３ｂ ピニオン ６３ｃ ラック ６４ 支点
フロントページの続き (72)発明者 秋 吉 宗 治 神奈川県横浜市磯子区新杉田町８番地 株 式会社東芝横浜事業所内 (72)発明者 上 埜 亜希子 神奈川県横浜市磯子区新杉田町８番地 株 式会社東芝横浜事業所内
Claims (6)
- 【請求項１】電極が形成された基板の表面の凹凸を測定
する工程と、 この測定結果に基づいて前記基板の表面からの距離がほ
ぼ所定値となるようにインクジェットノズルの位置を調
節して配向膜形成溶液を噴射し、前記基板上に前記配向
膜形成溶液の膜を形成する工程と、 加熱処理を行うことにより前記配向膜形成溶液の膜内の
溶媒を除去する工程と、 を備えていることを特徴とする液晶表示素子の配向膜形
成方法。 - 【請求項２】前記基板の表面の凹凸の測定はレーザーフ
ォーカス変位計を用いて行うことを特徴とする請求項１
記載の液晶表示素子の配向膜形成方法。 - 【請求項３】電極が形成された基板の表面の凹凸を測定
する手段と、 配向膜形成溶液を前記基板に噴射塗布して前記配向膜形
成溶液の膜を形成するインクジェットノズルと、 前記測定する手段の出力に基づいて前記基板の表面から
の距離がほぼ所定値となるように前記インクジェットノ
ズルの位置を調節する手段と、 前記インクジェットから前記配向膜形成溶液を噴射させ
る手段と、 前記基板上に形成された前記配向膜形成溶液の膜を加熱
焼成する手段と、 を備えていることを特徴とする液晶表示素子の配向膜形
成装置。 - 【請求項４】前記測定する手段はレーザーフォーカス変
位計であることを特徴とする請求項３記載の液晶表示素
子の配向膜形成装置。 - 【請求項５】前記インクジェットノズルはライン型イン
クジェットノズルであり、前記調節する手段は前記ライ
ン型インクジェットノズルの両端に設けられて各々が独
立に前記ライン型インクジェットノズルの対応する端部
の高さを調整する２台の高さ調整手段を備えていること
を特徴とする請求項３または４記載の液晶表示素子の配
向膜形成装置。 - 【請求項６】前記インクジェットノズルはライン型イン
クジェットノズルであり、前記調節する手段は前記ライ
ン型インクジェットノズルの高さを調整する手段と、前
記ライン型インクジェットノズルの傾き角を調節する手
段とを備えていることを特徴とする請求項３または４記
載の液晶表示素子の配向膜形成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26410995A JPH09105939A (ja) | 1995-10-12 | 1995-10-12 | 液晶表示素子の配向膜形成方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26410995A JPH09105939A (ja) | 1995-10-12 | 1995-10-12 | 液晶表示素子の配向膜形成方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09105939A true JPH09105939A (ja) | 1997-04-22 |
Family
ID=17398634
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26410995A Pending JPH09105939A (ja) | 1995-10-12 | 1995-10-12 | 液晶表示素子の配向膜形成方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09105939A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1356320A1 (en) * | 2001-01-29 | 2003-10-29 | Rolic AG | Optical device and method for manufacturing same |
| JP2005352143A (ja) * | 2004-06-10 | 2005-12-22 | Seiko Epson Corp | 液晶基板の製造方法および液晶基板の製造装置 |
| JP2006334546A (ja) * | 2005-06-06 | 2006-12-14 | Hitachi Plant Technologies Ltd | 塗布装置 |
| JP2009086571A (ja) * | 2007-10-03 | 2009-04-23 | Seiko Epson Corp | 液晶表示装置、及び液晶表示装置の製造方法 |
| KR100959368B1 (ko) * | 2003-12-11 | 2010-05-24 | 엘지디스플레이 주식회사 | 배향액 도포 장치 및 이를 이용한 자동 간격 측정방법 |
-
1995
- 1995-10-12 JP JP26410995A patent/JPH09105939A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1356320A1 (en) * | 2001-01-29 | 2003-10-29 | Rolic AG | Optical device and method for manufacturing same |
| EP1356320B1 (en) * | 2001-01-29 | 2013-06-19 | Rolic AG | Optical device and method for manufacturing same |
| KR100959368B1 (ko) * | 2003-12-11 | 2010-05-24 | 엘지디스플레이 주식회사 | 배향액 도포 장치 및 이를 이용한 자동 간격 측정방법 |
| JP2005352143A (ja) * | 2004-06-10 | 2005-12-22 | Seiko Epson Corp | 液晶基板の製造方法および液晶基板の製造装置 |
| US7349061B2 (en) | 2004-06-10 | 2008-03-25 | Seiko Epson Corporation | Manufacturing method of liquid crystal substrate and manufacturing device of liquid crystal substrate |
| JP2006334546A (ja) * | 2005-06-06 | 2006-12-14 | Hitachi Plant Technologies Ltd | 塗布装置 |
| JP2009086571A (ja) * | 2007-10-03 | 2009-04-23 | Seiko Epson Corp | 液晶表示装置、及び液晶表示装置の製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US8780317B2 (en) | Film forming method, film forming device, liquid crystal arrangement method, liquid crystal arrangement device, liquid crystal device, liquid crystal device production method and electronic equipment | |
| JPH09166783A (ja) | 液晶表示素子の配向膜形成方法及び装置 | |
| US7414687B2 (en) | Method of forming alignment layer in LCD | |
| KR100677062B1 (ko) | 편광기능이 구비된 컬러필터 기판 및 그 제조 방법 | |
| JPH09105939A (ja) | 液晶表示素子の配向膜形成方法及び装置 | |
| JP4111195B2 (ja) | デバイスとその製造方法及び電気光学装置とその製造方法並びに電子機器 | |
| JPH09138410A (ja) | 液晶表示素子の配向膜形成方法 | |
| KR20060069271A (ko) | 패키지, 액적 토출 장치, 전기 광학 장치 및 전자 기기 | |
| US20050007520A1 (en) | Method, program, and apparatus for manufacturing electrooptical panel, and method for manufacturing electronic device | |
| KR20010028154A (ko) | 액정표시장치의 씰 프린트 장치. | |
| JP2010054675A (ja) | 配向処理装置、配向処理方法及び液晶パネルの製造方法 | |
| US20080062376A1 (en) | Method of fabricating a liquid crystal panel and alignment method | |
| JP2007011173A (ja) | 液晶装置用基板のラビング方法、液晶装置の製造方法及び液晶装置の製造装置 | |
| KR100786542B1 (ko) | 액정표시장치의 실런트 도포장치 및 이를 이용한 실런트도포방법 | |
| JPH09127509A (ja) | 液晶表示素子及びその製造方法 | |
| JP2003005186A (ja) | 液晶表示装置の製造方法及び塗布膜乾燥装置 | |
| JP2001249342A (ja) | スペーサービーズの位置ぎめ方法と液晶表示装置 | |
| KR101255703B1 (ko) | 액정패널 제조 방법 | |
| WO2007144998A1 (ja) | 液晶表示装置の製造方法及び液晶表示装置 | |
| US6842216B1 (en) | Coating method of forming orientation film of predetermined pattern | |
| JPH086028A (ja) | 液晶表示装置 | |
| JP2003057625A (ja) | 液晶装置用基板の製造方法及び製造装置 | |
| KR100928483B1 (ko) | 멀티도메인 액정표시장치의 제조 방법 | |
| JPH02310527A (ja) | 液晶素子の製造方法 | |
| JPH09105938A (ja) | 液晶表示素子の配向膜形成方法 |