JP2003005186A - 液晶表示装置の製造方法及び塗布膜乾燥装置 - Google Patents
液晶表示装置の製造方法及び塗布膜乾燥装置Info
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- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
- G02F1/133711—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by organic films, e.g. polymeric films
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- E01—CONSTRUCTION OF ROADS, RAILWAYS, OR BRIDGES
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- G02F1/13378—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation
- G02F1/133784—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation by rubbing
Abstract
(57)【要約】
【課題】配向膜を形成するに当たって、有機溶剤に有機
材料を溶解させた塗布膜を塗布し、その後塗布膜をホッ
トプレートで乾燥処理して有機溶剤を蒸発させると、塗
布膜周辺が中央部よりも早く乾燥する。その後、塗布膜
をラビング処理して配向膜とすると、その上に位置する
こととなる液晶分子のプレチルト角がばらつき、大きな
表示ムラとなる。 【解決手段】配向膜の形成に当たって、その形成過程で
形成される塗布膜２３を気体２４の吹き付けにより乾燥
させることで乾燥むらの小さい塗布膜３３とし、塗布膜
３３のラビング処理後の配向膜による液晶のプレチルト
角のばらつきが、従来のホットプレートによる乾燥によ
り形成された配向膜に比べて大幅に低減され、液晶表示
装置の表示ムラを低減することができる。
材料を溶解させた塗布膜を塗布し、その後塗布膜をホッ
トプレートで乾燥処理して有機溶剤を蒸発させると、塗
布膜周辺が中央部よりも早く乾燥する。その後、塗布膜
をラビング処理して配向膜とすると、その上に位置する
こととなる液晶分子のプレチルト角がばらつき、大きな
表示ムラとなる。 【解決手段】配向膜の形成に当たって、その形成過程で
形成される塗布膜２３を気体２４の吹き付けにより乾燥
させることで乾燥むらの小さい塗布膜３３とし、塗布膜
３３のラビング処理後の配向膜による液晶のプレチルト
角のばらつきが、従来のホットプレートによる乾燥によ
り形成された配向膜に比べて大幅に低減され、液晶表示
装置の表示ムラを低減することができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、塗布膜乾燥装置及
びそれを用いた液晶表示装置の製造方法に関し、特に、
有機溶剤にポリイミド及び／またはポリアミツク酸を溶
解させた配向膜材料に対して乾燥処理を施すに当たっ
て、配向膜材料から有機溶剤を均一に除去する製造方法
に関する。
びそれを用いた液晶表示装置の製造方法に関し、特に、
有機溶剤にポリイミド及び／またはポリアミツク酸を溶
解させた配向膜材料に対して乾燥処理を施すに当たっ
て、配向膜材料から有機溶剤を均一に除去する製造方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示装置の配向膜はラビング処理を
受けることにより液晶分子を一方向に配向させるととも
にプレチルト角を決定付けるが、このプレチルト角は配
向膜がラビング処理を受ける前のその配向膜形成工程に
も大きく左右される。この中で、配向膜形成工程におけ
る配向膜塗布、乾燥工程について、塗布、乾燥装置を中
心に従来の製造方法を図５を参照して説明する。
受けることにより液晶分子を一方向に配向させるととも
にプレチルト角を決定付けるが、このプレチルト角は配
向膜がラビング処理を受ける前のその配向膜形成工程に
も大きく左右される。この中で、配向膜形成工程におけ
る配向膜塗布、乾燥工程について、塗布、乾燥装置を中
心に従来の製造方法を図５を参照して説明する。
【０００３】配向膜を形成するための配向膜塗布乾燥装
置３００は、大きく分けて塗布機構３１０、基板搬送機
構３２０、乾燥機構３３０の３機構から構成される。
置３００は、大きく分けて塗布機構３１０、基板搬送機
構３２０、乾燥機構３３０の３機構から構成される。
【０００４】塗布機構３１０の印刷ステージ３１１にガ
ラス等からなる透明基板３５１を載置する。印刷ステー
ジ３１１上の透明基板３５１の表面に、有機溶剤に可溶
性ポリイミド及び／またはポリアミック酸を１〜１５ｗ
ｔ％の割合で溶解させた塗布液３２２を塗布するのであ
るが、塗布液３２２はディスペンサー３１２から第１ロ
ール３１３に滴下され、第１ロール３１３は第２ロール
３１４により塗布液を一定厚さに保持し、さらに版胴３
１５上の版（図示省略）に転写し、最終的に透明基板３
５１の表面に所定の膜厚で塗布（印刷）され、塗布膜３
２３となる。
ラス等からなる透明基板３５１を載置する。印刷ステー
ジ３１１上の透明基板３５１の表面に、有機溶剤に可溶
性ポリイミド及び／またはポリアミック酸を１〜１５ｗ
ｔ％の割合で溶解させた塗布液３２２を塗布するのであ
るが、塗布液３２２はディスペンサー３１２から第１ロ
ール３１３に滴下され、第１ロール３１３は第２ロール
３１４により塗布液を一定厚さに保持し、さらに版胴３
１５上の版（図示省略）に転写し、最終的に透明基板３
５１の表面に所定の膜厚で塗布（印刷）され、塗布膜３
２３となる。
【０００５】塗布を終えた透明基板３５１は、基板搬送
機構３２０により、印刷ステージ３１１から透明基板３
５１が取り出され、乾燥機構３３０のホットプレート３
３１に載置される。透明基板３５１がホットプレート３
３１に載置された後、透明基板３５１表面に塗布された
塗布膜３２３は、その中に含まれる有機溶剤を除去する
ために５０〜１００℃に加熱されたホットプレートに透
明基板３５１を３０秒から３分程度の間載置することに
より乾燥処理を受け、塗布膜３３３となる。
機構３２０により、印刷ステージ３１１から透明基板３
５１が取り出され、乾燥機構３３０のホットプレート３
３１に載置される。透明基板３５１がホットプレート３
３１に載置された後、透明基板３５１表面に塗布された
塗布膜３２３は、その中に含まれる有機溶剤を除去する
ために５０〜１００℃に加熱されたホットプレートに透
明基板３５１を３０秒から３分程度の間載置することに
より乾燥処理を受け、塗布膜３３３となる。
【０００６】このように乾燥処理を受けた後、塗布膜３
３３は１８０〜２５０℃で１０分〜３時間の焼成処理を
受ける。
３３は１８０〜２５０℃で１０分〜３時間の焼成処理を
受ける。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上記の塗布膜乾燥工程
は、下記に示す特徴を有している。
は、下記に示す特徴を有している。
【０００８】図５（ａ）は透明基板３５１上に塗布膜３
２３を１面付けした場合の塗布膜３２３の乾燥領域の進
行状況を示すものである。ホットプレート３３１に載置
された透明基板３５１においては、熱処理を受ける塗布
膜３２３は、図５（ａ）の透明基板３５１の平面図に示
すように、加熱時間の経過と共に塗布膜３２３の乾燥領
域が透明基板３５１の周辺から中央部に向かって進む。
３２４で示す線は加熱開始後１０秒経過した時点での基
板周辺の乾燥領域であり、３２５、３２６はそれぞれ加
熱開始後２０秒、３０秒経過した時点の乾燥領域の進行
具合をしめしたものである。
２３を１面付けした場合の塗布膜３２３の乾燥領域の進
行状況を示すものである。ホットプレート３３１に載置
された透明基板３５１においては、熱処理を受ける塗布
膜３２３は、図５（ａ）の透明基板３５１の平面図に示
すように、加熱時間の経過と共に塗布膜３２３の乾燥領
域が透明基板３５１の周辺から中央部に向かって進む。
３２４で示す線は加熱開始後１０秒経過した時点での基
板周辺の乾燥領域であり、３２５、３２６はそれぞれ加
熱開始後２０秒、３０秒経過した時点の乾燥領域の進行
具合をしめしたものである。
【０００９】時間の経過にたいする乾燥領域の進行状況
は、図５（ａ）からわかるように、塗布膜３２３の周辺
部での乾燥速度が中央部よりも早い。
は、図５（ａ）からわかるように、塗布膜３２３の周辺
部での乾燥速度が中央部よりも早い。
【００１０】図５（ｂ）は基板３６１に塗布膜３２３を
４面付けした場合の塗布膜の乾燥領域の進行状況を示し
ている。この場合も、塗布膜の乾燥が基板の周辺及び各
面付領域の周辺で早く乾燥することがわかる。
４面付けした場合の塗布膜の乾燥領域の進行状況を示し
ている。この場合も、塗布膜の乾燥が基板の周辺及び各
面付領域の周辺で早く乾燥することがわかる。
【００１１】また、ホットプレート３３１に透明基板３
５１を直接載置すると剥離時の基板の帯電及び汚れの付
着が懸念されるために、図６に示すように、ホットプレ
ート３３２上にピン３３６を立てて、透明基板３５１を
載置することが従来から行なわれているが、この場合
は、ピン３３６の上に位置する領域の塗布膜から先に乾
燥する。
５１を直接載置すると剥離時の基板の帯電及び汚れの付
着が懸念されるために、図６に示すように、ホットプレ
ート３３２上にピン３３６を立てて、透明基板３５１を
載置することが従来から行なわれているが、この場合
は、ピン３３６の上に位置する領域の塗布膜から先に乾
燥する。
【００１２】従って、以上のような状態で塗布膜をラビ
ング処理して配向膜とすると、その配向膜表面の状態と
液晶分子とで決まるプレチルト角が場所によって大きく
ばらついてしまう。具体的には、プレチルト角は４．５
〜６．０°の範囲でばらつき、大きな表示ムラとなって
現れた。
ング処理して配向膜とすると、その配向膜表面の状態と
液晶分子とで決まるプレチルト角が場所によって大きく
ばらついてしまう。具体的には、プレチルト角は４．５
〜６．０°の範囲でばらつき、大きな表示ムラとなって
現れた。
【００１３】本発明の目的は、有機溶剤に有機材料を溶
解させた塗布膜の乾燥処理において、塗布膜の有機溶剤
を基板上で均一に乾燥させることのできる塗布膜乾燥装
置及びそれを用いた液晶表示装置の製造方法を提供する
ことにある。
解させた塗布膜の乾燥処理において、塗布膜の有機溶剤
を基板上で均一に乾燥させることのできる塗布膜乾燥装
置及びそれを用いた液晶表示装置の製造方法を提供する
ことにある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】以上述べたように、従来
は乾燥ムラの原因が熱の伝わり方のバラツキにあるもの
と考えられていた。ところが、ホットプレートに基板を
載置すると同時に気体を吹き付けるだけで、３秒程度で
乾燥し乾燥ムラの出ないことを突き止めた。３秒程度で
は基板温度は設定温度まで上昇していないと考えられる
ので、この現象は、溶媒の塗布膜からの蒸発が、塗布膜
からの溶媒の加熱蒸発よりも塗布膜上面近傍の溶媒蒸気
の排気の方が効果的である、すなわち、塗布膜の乾燥は
塗布膜上面近傍の溶媒の蒸気密度状態に左右されている
ことが判明した。
は乾燥ムラの原因が熱の伝わり方のバラツキにあるもの
と考えられていた。ところが、ホットプレートに基板を
載置すると同時に気体を吹き付けるだけで、３秒程度で
乾燥し乾燥ムラの出ないことを突き止めた。３秒程度で
は基板温度は設定温度まで上昇していないと考えられる
ので、この現象は、溶媒の塗布膜からの蒸発が、塗布膜
からの溶媒の加熱蒸発よりも塗布膜上面近傍の溶媒蒸気
の排気の方が効果的である、すなわち、塗布膜の乾燥は
塗布膜上面近傍の溶媒の蒸気密度状態に左右されている
ことが判明した。
【００１５】そこで、本発明の液晶表示装置の製造方法
は、２枚の基板上にそれぞれ配向膜材料を塗布した後、
前記配向膜材料を乾燥させ、続いて前記配向膜材料の表
面をラビングして前記配向膜材料を配向膜とすることに
よりそれぞれ第１の基板及び第２の基板を形成し、前記
第１の基板及び前記第２の基板の配向膜同志が向かい合
うように前記第１の基板及び前記第２の基板を配置し
て、前記第１の基板及び前記第２の基板の間に液晶を充
填する液晶表示装置の製造方法であって、前記配向膜材
料の乾燥が、前記配向膜材料の表面に気体を吹き付ける
ことにより行われ、その適用形態として、前記気体は、
空気、乾燥空気、窒素のうち少なくともいずれか一つを
含む気体であり、前記気体は、前記塗布膜に１ｍ3／分
〜５ｍ3／分の流量で吹き付けられる、というものであ
る。
は、２枚の基板上にそれぞれ配向膜材料を塗布した後、
前記配向膜材料を乾燥させ、続いて前記配向膜材料の表
面をラビングして前記配向膜材料を配向膜とすることに
よりそれぞれ第１の基板及び第２の基板を形成し、前記
第１の基板及び前記第２の基板の配向膜同志が向かい合
うように前記第１の基板及び前記第２の基板を配置し
て、前記第１の基板及び前記第２の基板の間に液晶を充
填する液晶表示装置の製造方法であって、前記配向膜材
料の乾燥が、前記配向膜材料の表面に気体を吹き付ける
ことにより行われ、その適用形態として、前記気体は、
空気、乾燥空気、窒素のうち少なくともいずれか一つを
含む気体であり、前記気体は、前記塗布膜に１ｍ3／分
〜５ｍ3／分の流量で吹き付けられる、というものであ
る。
【００１６】本発明の塗布膜乾燥装置は、基板上に塗布
膜を塗布する塗布機構と、前記塗布機構から搬送される
前記基板上の前記塗布膜に気体を吹き付けて前記塗布膜
を乾燥させる乾燥機構とを有する。
膜を塗布する塗布機構と、前記塗布機構から搬送される
前記基板上の前記塗布膜に気体を吹き付けて前記塗布膜
を乾燥させる乾燥機構とを有する。
【００１７】本発明の塗布膜乾燥装置は、次のような適
用形態を有している。
用形態を有している。
【００１８】まず、前記気体は、空気、乾燥空気、窒素
のうち少なくともいずれか一つを含む気体であり、前記
気体は、前記塗布膜に１ｍ3／分〜５ｍ3／分の流量で吹
き付けられる。
のうち少なくともいずれか一つを含む気体であり、前記
気体は、前記塗布膜に１ｍ3／分〜５ｍ3／分の流量で吹
き付けられる。
【００１９】次に、前記乾燥機構は前記基板を載置する
ステージを備え、前記ステージは加熱機構を有さない、
或いは、前記乾燥機構は加熱手段を有し、前記加熱手段
は、ヒーター加熱、赤外線加熱、マイクロ波加熱のいず
れかである。
ステージを備え、前記ステージは加熱機構を有さない、
或いは、前記乾燥機構は加熱手段を有し、前記加熱手段
は、ヒーター加熱、赤外線加熱、マイクロ波加熱のいず
れかである。
【００２０】
【発明の実施の形態】次に、本発明の第１の実施形態に
ついて説明する。図１は、本発明の塗布膜乾燥装置を横
方向から眺めたときの模式見取図である。また、本発明
の塗布膜乾燥装置を、液晶表示装置の基板に塗布される
配向膜材料を塗布膜とする場合の塗布膜乾燥装置の構成
を、その乾燥方法のメカニズムと共に説明する。
ついて説明する。図１は、本発明の塗布膜乾燥装置を横
方向から眺めたときの模式見取図である。また、本発明
の塗布膜乾燥装置を、液晶表示装置の基板に塗布される
配向膜材料を塗布膜とする場合の塗布膜乾燥装置の構成
を、その乾燥方法のメカニズムと共に説明する。
【００２１】塗布膜形成装置１００は大きく分けて塗布
機構１１０、基板搬送機構１２０、乾燥機構１３０の３
機構を有する。
機構１１０、基板搬送機構１２０、乾燥機構１３０の３
機構を有する。
【００２２】まず、塗布機構１１０の印刷ステージ１１
１に基板１が載置されたところから説明する。印刷ステ
ージ１１１上の基板１の表面に有機溶剤に有機材料を溶
解させた塗布液２からなる塗布膜を塗布するのである
が、塗布液２はディスペンサー１１２から互いに接合す
る第１ロール１１３に滴下され、第１ロール１１３は第
２ロール１１４により塗布液を一定厚さに保持し、さら
に版胴１１５に転写し、最終的に基板１の表面に所定の
膜厚で塗布（印刷）され、塗布膜３となる。
１に基板１が載置されたところから説明する。印刷ステ
ージ１１１上の基板１の表面に有機溶剤に有機材料を溶
解させた塗布液２からなる塗布膜を塗布するのである
が、塗布液２はディスペンサー１１２から互いに接合す
る第１ロール１１３に滴下され、第１ロール１１３は第
２ロール１１４により塗布液を一定厚さに保持し、さら
に版胴１１５に転写し、最終的に基板１の表面に所定の
膜厚で塗布（印刷）され、塗布膜３となる。
【００２３】塗布を終えた基板１は、基板搬送機構１２
０に含まれるアーム（図示略）により、印刷ステージ１
１１から基板１が取り出され、乾燥機構１３０の乾燥ス
テージ１３１に載置される。基板１が乾燥ステージ１３
１に載置された後、基板１表面に塗布された塗布膜３は
その中に含まれる有機溶剤を除去するために乾燥処理を
施され、塗布膜１３となるのであるが、この乾燥処理は
乾燥機構１３０を構成する気体吹付け機１３２から基板
１表面の塗布膜３に乾燥空気４を１ｍ3／分〜５ｍ3／分
の流量で５〜３０秒の間吹き付ける。乾燥空気４の流量
が多ければその吹き付け時間が短くて済むことは言うま
でもないことであり、吹き付け流量を上記よりも小さく
設定した場合には、吹き付け時間を長くすれば良く、大
きく設定した場合には乾燥空気４が塗布膜３に物理的ダ
メージを与えない流量に抑え、吹き付け時間を短くすれ
ば良い。
０に含まれるアーム（図示略）により、印刷ステージ１
１１から基板１が取り出され、乾燥機構１３０の乾燥ス
テージ１３１に載置される。基板１が乾燥ステージ１３
１に載置された後、基板１表面に塗布された塗布膜３は
その中に含まれる有機溶剤を除去するために乾燥処理を
施され、塗布膜１３となるのであるが、この乾燥処理は
乾燥機構１３０を構成する気体吹付け機１３２から基板
１表面の塗布膜３に乾燥空気４を１ｍ3／分〜５ｍ3／分
の流量で５〜３０秒の間吹き付ける。乾燥空気４の流量
が多ければその吹き付け時間が短くて済むことは言うま
でもないことであり、吹き付け流量を上記よりも小さく
設定した場合には、吹き付け時間を長くすれば良く、大
きく設定した場合には乾燥空気４が塗布膜３に物理的ダ
メージを与えない流量に抑え、吹き付け時間を短くすれ
ば良い。
【００２４】このように乾燥処理を受けた後、塗布膜１
３は乾燥機構１３０内を乾燥ステージ１３１が移動す
る、或いは、乾燥機構１３０内の別のステージに移され
て１８０〜２５０℃で１０分〜３時間の焼成処理を受け
る。
３は乾燥機構１３０内を乾燥ステージ１３１が移動す
る、或いは、乾燥機構１３０内の別のステージに移され
て１８０〜２５０℃で１０分〜３時間の焼成処理を受け
る。
【００２５】以上のようにして形成された塗布膜１３
は、次のような特徴を有している。
は、次のような特徴を有している。
【００２６】すなわち、従来のホットプレートを用いる
乾燥方法では、除去されるべき有機溶剤が熱処理を施さ
れた塗布膜の周辺部でその蒸気密度が小さく、中央部で
蒸気密度が高くなるため、塗布膜の周辺部での有機溶剤
の蒸発が中央部よりも促進される。従って、塗布膜をホ
ットプレートで所定の時間乾燥処理した場合、塗布膜周
辺が中央部よりも早く乾燥し、塗布膜周辺と中央部とで
乾燥度が異なることとなる。
乾燥方法では、除去されるべき有機溶剤が熱処理を施さ
れた塗布膜の周辺部でその蒸気密度が小さく、中央部で
蒸気密度が高くなるため、塗布膜の周辺部での有機溶剤
の蒸発が中央部よりも促進される。従って、塗布膜をホ
ットプレートで所定の時間乾燥処理した場合、塗布膜周
辺が中央部よりも早く乾燥し、塗布膜周辺と中央部とで
乾燥度が異なることとなる。
【００２７】これに対して、本実施形態では、乾燥空気
を塗布膜の表面に均一に吹きかけるので、塗布膜表面近
傍に滞留する有機溶剤が強制的に均一に除去され、塗布
膜の乾燥度を塗布膜全体に渡って均一に且つ乾燥時間を
短くすることができる。従って、本実施形態の乾燥方法
を用いれば、塗布膜の乾燥度のばらつきに基因する不良
をなくすことができる。
を塗布膜の表面に均一に吹きかけるので、塗布膜表面近
傍に滞留する有機溶剤が強制的に均一に除去され、塗布
膜の乾燥度を塗布膜全体に渡って均一に且つ乾燥時間を
短くすることができる。従って、本実施形態の乾燥方法
を用いれば、塗布膜の乾燥度のばらつきに基因する不良
をなくすことができる。
【００２８】上記実施形態では、乾燥気体に乾燥空気を
用いたが、これに代えて空気、窒素等も用いることが可
能であり、上述したように、塗布膜に物理的、化学的変
化を生じさせない限りにおいて、塗布膜表面近傍の有機
溶剤をブローする機能を有する気体であれば使用可能で
ある。また、気体の吹き付け方向は図１では基板１の上
方から吹き付けているが、吹き付け方向はこれに限定さ
れず、斜め方向からでも同様な効果が得られることは言
うまでもない。
用いたが、これに代えて空気、窒素等も用いることが可
能であり、上述したように、塗布膜に物理的、化学的変
化を生じさせない限りにおいて、塗布膜表面近傍の有機
溶剤をブローする機能を有する気体であれば使用可能で
ある。また、気体の吹き付け方向は図１では基板１の上
方から吹き付けているが、吹き付け方向はこれに限定さ
れず、斜め方向からでも同様な効果が得られることは言
うまでもない。
【００２９】また、乾燥ステージは単に基板を載置する
だけの機能を有するものとして説明したが、ヒーター、
赤外線加熱またはマイクロ波加熱による加熱機能を有す
るステージであっても良い。
だけの機能を有するものとして説明したが、ヒーター、
赤外線加熱またはマイクロ波加熱による加熱機能を有す
るステージであっても良い。
【００３０】次に、本発明の第２の実施形態を液晶表示
装置の製造方法に適用した場合を説明する。図２は、本
実施形態を用いて製造されたＴＮ（ツイスト・ネマティ
ック）型の液晶表示装置の断面図である。図３は、本実
施形態の液晶表示装置の製造方法における配向膜形成工
程を示すために、配向膜塗布乾燥装置を横方向から眺め
たときの模式見取図である。
装置の製造方法に適用した場合を説明する。図２は、本
実施形態を用いて製造されたＴＮ（ツイスト・ネマティ
ック）型の液晶表示装置の断面図である。図３は、本実
施形態の液晶表示装置の製造方法における配向膜形成工
程を示すために、配向膜塗布乾燥装置を横方向から眺め
たときの模式見取図である。
【００３１】まず、この液晶表示装置は、液晶セル９０
と、この液晶セル９０の光入射面側と光出射面側にそれ
ぞれ配置された一対の偏光板６５、８５とからなってい
る。
と、この液晶セル９０の光入射面側と光出射面側にそれ
ぞれ配置された一対の偏光板６５、８５とからなってい
る。
【００３２】上記液晶セル９０は、ガラス（プラスチッ
ク基板、石英ガラス等も含む）からなる一対の透明基板
５１、７１を枠状のシール材（図示省略）を介して接合
し、この両基板５１、７１間に液晶６６を封入したもの
で、両基板５１、７１の液晶層との対向面にはそれぞれ
透明電極５５、７５が形成されおり、その上に配向膜５
７、７７がそれぞれ形成されている。また、透明基板７
１には透明電極７５の下にカラーフィルタ７４が形成さ
れている。
ク基板、石英ガラス等も含む）からなる一対の透明基板
５１、７１を枠状のシール材（図示省略）を介して接合
し、この両基板５１、７１間に液晶６６を封入したもの
で、両基板５１、７１の液晶層との対向面にはそれぞれ
透明電極５５、７５が形成されおり、その上に配向膜５
７、７７がそれぞれ形成されている。また、透明基板７
１には透明電極７５の下にカラーフィルタ７４が形成さ
れている。
【００３３】なお、この実施形態の液晶表示装置は、Ｔ
ＦＴ（薄膜トランジスタ、図示省略）駆動のＴＮ型カラ
ー液晶表示装置の例を示している。液晶セル９０の一方
の透明基板７１の透明電極７５は共通電極、他方の透明
基板５１の透明電極５５は画素電極である。
ＦＴ（薄膜トランジスタ、図示省略）駆動のＴＮ型カラ
ー液晶表示装置の例を示している。液晶セル９０の一方
の透明基板７１の透明電極７５は共通電極、他方の透明
基板５１の透明電極５５は画素電極である。
【００３４】また、液晶セル９０の両基板５１、７１上
に形成された配向膜５７、７７はそれぞれ、互いにほぼ
直交する方向に液晶分子を配向させる水平配向膜であ
り、液晶セル９０内に封入された液晶６６の分子は、両
基板５１、７１側での配向方向を配向膜５７、７７で規
制され、両基板５１、７１間においてほぼ９０°のツイ
スト角でツイスト配列している。
に形成された配向膜５７、７７はそれぞれ、互いにほぼ
直交する方向に液晶分子を配向させる水平配向膜であ
り、液晶セル９０内に封入された液晶６６の分子は、両
基板５１、７１側での配向方向を配向膜５７、７７で規
制され、両基板５１、７１間においてほぼ９０°のツイ
スト角でツイスト配列している。
【００３５】さらに、この実施形態の液晶表示装置はノ
ーマリーホワイトモードのものであり、この液晶表示装
置では、液晶セル９０の光入射面側と光出射面側に配置
する一対の偏光板６５、８５の透過軸を互いにほぼ直交
させるとともに、一方の偏光板８５の透過軸を、液晶セ
ル９０の一方の偏光板８５が形成された透明基板７１側
における液晶分子配向方向とほぼ平行にし、他方の偏光
板６５の透過軸を、液晶セル９０の他方の偏光板６５が
形成された透明基板５１側における液晶分子配向方向と
ほぼ平行にしている。
ーマリーホワイトモードのものであり、この液晶表示装
置では、液晶セル９０の光入射面側と光出射面側に配置
する一対の偏光板６５、８５の透過軸を互いにほぼ直交
させるとともに、一方の偏光板８５の透過軸を、液晶セ
ル９０の一方の偏光板８５が形成された透明基板７１側
における液晶分子配向方向とほぼ平行にし、他方の偏光
板６５の透過軸を、液晶セル９０の他方の偏光板６５が
形成された透明基板５１側における液晶分子配向方向と
ほぼ平行にしている。
【００３６】そして、この液晶表示装置では、上記液晶
セル９０の両基板５１、７１面に対する液晶分子のプレ
チルト角をそれぞれ４〜６°の範囲にしている。
セル９０の両基板５１、７１面に対する液晶分子のプレ
チルト角をそれぞれ４〜６°の範囲にしている。
【００３７】次に、このようにして作成したＴＦＴ基板
５０と対向基板７０のそれぞれに、オフセット印刷によ
る方法で、配向膜５７、７７を印刷するのであるが、こ
の方法について図３を参照しながら説明する。
５０と対向基板７０のそれぞれに、オフセット印刷によ
る方法で、配向膜５７、７７を印刷するのであるが、こ
の方法について図３を参照しながら説明する。
【００３８】配向膜５７を形成するための配向膜塗布乾
燥装置２００は、大きく分けて塗布機構２１０、基板搬
送機構２２０、乾燥機構２３０の３機構から構成され
る。
燥装置２００は、大きく分けて塗布機構２１０、基板搬
送機構２２０、乾燥機構２３０の３機構から構成され
る。
【００３９】塗布機構２１０の印刷ステージ２１１にＴ
ＦＴ基板５０を載置する。印刷ステージ２１１上のＴＦ
Ｔ基板５０（透明電極５５）の表面に有機溶剤としてＮ
ＭＰ、γ−ブチロラクトン、ジプロピレングリコールモ
ノメチルエーテル、ブチルセロソルブ等の有機溶媒に有
機材料として可溶性ポリイミド、ポリアミック酸等を１
〜１５ｗｔ％の割合で溶解させた塗布液２２を塗布する
のであるが、塗布液２２はディスペンサー２１２から第
１ロール２１３に滴下され、第１ロール２１３は第２ロ
ール２１４により塗布液を一定厚さに保持し、さらに版
胴２１５に転写し、最終的にＴＦＴ基板５０の表面に所
定の膜厚で塗布（印刷）され、塗布膜２３となる。
ＦＴ基板５０を載置する。印刷ステージ２１１上のＴＦ
Ｔ基板５０（透明電極５５）の表面に有機溶剤としてＮ
ＭＰ、γ−ブチロラクトン、ジプロピレングリコールモ
ノメチルエーテル、ブチルセロソルブ等の有機溶媒に有
機材料として可溶性ポリイミド、ポリアミック酸等を１
〜１５ｗｔ％の割合で溶解させた塗布液２２を塗布する
のであるが、塗布液２２はディスペンサー２１２から第
１ロール２１３に滴下され、第１ロール２１３は第２ロ
ール２１４により塗布液を一定厚さに保持し、さらに版
胴２１５に転写し、最終的にＴＦＴ基板５０の表面に所
定の膜厚で塗布（印刷）され、塗布膜２３となる。
【００４０】塗布を終えたＴＦＴ基板５０は、基板搬送
機構２２０により、印刷ステージ２１１からＴＦＴ基板
５０が取り出され、乾燥機構２３０の乾燥ステージ２３
１に載置される。ＴＦＴ基板５０が乾燥ステージ２３１
に載置された後、ＴＦＴ基板５０表面に塗布された塗布
膜２３はその中に含まれる有機溶媒を除去するために乾
燥処理を施され、塗布膜３３となるのであるが、この乾
燥処理は乾燥機構２３０を構成する気体吹付け機２３２
からＴＦＴ基板５０表面の塗布膜２３に窒素２４を１ｍ
3／分〜５ｍ3／分の流量で５〜３０秒の間吹き付ける。
窒素２４の流量が多ければその吹き付け時間が短くて済
むことは言うまでもないことであり、吹き付け流量を上
記よりも小さく設定した場合には、吹き付け時間を長く
すれば良く、大きく設定した場合には窒素２４が塗布膜
２３に物理的ダメージを与えない流量に抑え、吹き付け
時間を短くすれば良い。
機構２２０により、印刷ステージ２１１からＴＦＴ基板
５０が取り出され、乾燥機構２３０の乾燥ステージ２３
１に載置される。ＴＦＴ基板５０が乾燥ステージ２３１
に載置された後、ＴＦＴ基板５０表面に塗布された塗布
膜２３はその中に含まれる有機溶媒を除去するために乾
燥処理を施され、塗布膜３３となるのであるが、この乾
燥処理は乾燥機構２３０を構成する気体吹付け機２３２
からＴＦＴ基板５０表面の塗布膜２３に窒素２４を１ｍ
3／分〜５ｍ3／分の流量で５〜３０秒の間吹き付ける。
窒素２４の流量が多ければその吹き付け時間が短くて済
むことは言うまでもないことであり、吹き付け流量を上
記よりも小さく設定した場合には、吹き付け時間を長く
すれば良く、大きく設定した場合には窒素２４が塗布膜
２３に物理的ダメージを与えない流量に抑え、吹き付け
時間を短くすれば良い。
【００４１】このように乾燥処理を受けた後、塗布膜３
３は乾燥機構２３０内を乾燥ステージ２３１が移動す
る、或いは、乾燥機構２３０内の別のステージに移され
て１８０〜２５０℃で１０分〜３時間の焼成処理を受け
る。
３は乾燥機構２３０内を乾燥ステージ２３１が移動す
る、或いは、乾燥機構２３０内の別のステージに移され
て１８０〜２５０℃で１０分〜３時間の焼成処理を受け
る。
【００４２】以上のようにして形成された塗布膜３３
は、次のような特徴を有している。
は、次のような特徴を有している。
【００４３】すなわち、従来のホットプレートを用いる
乾燥方法では、除去されるべき有機溶剤が熱処理を施さ
れた塗布膜の周辺部でその蒸気密度が小さく、中央部で
蒸気密度が高くなるため、塗布膜の周辺部での有機溶剤
の蒸発が中央部よりも促進される。従って、塗布膜をホ
ットプレートで所定の時間乾燥処理した場合、塗布膜周
辺が中央部よりも早く乾燥し、塗布膜周辺と中央部とで
乾燥速度が異なることとなる。
乾燥方法では、除去されるべき有機溶剤が熱処理を施さ
れた塗布膜の周辺部でその蒸気密度が小さく、中央部で
蒸気密度が高くなるため、塗布膜の周辺部での有機溶剤
の蒸発が中央部よりも促進される。従って、塗布膜をホ
ットプレートで所定の時間乾燥処理した場合、塗布膜周
辺が中央部よりも早く乾燥し、塗布膜周辺と中央部とで
乾燥速度が異なることとなる。
【００４４】これに対して、本実施形態では、窒素を塗
布膜の表面に均一に吹きかけるので、塗布膜表面近傍に
滞留する有機溶剤が強制的に均一に除去され、塗布膜の
乾燥度を塗布膜全体に渡って均一に且つ乾燥時間を短く
することができる。従って、本実施形態の乾燥方法を用
いれば、塗布膜の乾燥速度のばらつきに基因する不良を
なくすことができる。
布膜の表面に均一に吹きかけるので、塗布膜表面近傍に
滞留する有機溶剤が強制的に均一に除去され、塗布膜の
乾燥度を塗布膜全体に渡って均一に且つ乾燥時間を短く
することができる。従って、本実施形態の乾燥方法を用
いれば、塗布膜の乾燥速度のばらつきに基因する不良を
なくすことができる。
【００４５】また、乾燥ステージは単に基板を載置する
だけの機能を有するものとして説明したが、乾燥ステー
ジに装着されたヒーターにより乾燥ステージが加熱され
る、または乾燥ステージの外部からの赤外線加熱または
マイクロ波加熱により乾燥ステージが加熱される構成の
乾燥機構であっても良い。
だけの機能を有するものとして説明したが、乾燥ステー
ジに装着されたヒーターにより乾燥ステージが加熱され
る、または乾燥ステージの外部からの赤外線加熱または
マイクロ波加熱により乾燥ステージが加熱される構成の
乾燥機構であっても良い。
【００４６】同様にして、対向基板７０側の透明電極７
５の表面にも塗布膜３３を形成することにより、ＴＦＴ
基板５０と同様にして配向膜７７が形成される。
５の表面にも塗布膜３３を形成することにより、ＴＦＴ
基板５０と同様にして配向膜７７が形成される。
【００４７】こうして形成されたＴＦＴ基板５０と対向
基板７０の表面の塗布膜３３を、ＴＦＴ基板５０及び対
向基板７０が対向配置されたときに、配向軸が９０°と
なるように、それぞれの塗布膜３３をラビング処理する
と配向膜５７が得られる。
基板７０の表面の塗布膜３３を、ＴＦＴ基板５０及び対
向基板７０が対向配置されたときに、配向軸が９０°と
なるように、それぞれの塗布膜３３をラビング処理する
と配向膜５７が得られる。
【００４８】続いて、ＴＦＴ基板５０及び対向基板７０
の対向する面と反対側の面に偏光板６５（ＴＦＴ基板５
０）、偏光板８５（対向基板７０）をそれぞれ貼着し、
その後、両基板を対向して組み立て、セル化し、その間
隙に液晶６６を注入、封止すると、液晶表示装置が完成
するこのようにして形成された液晶表示装置において、
液晶分子のプレチルト角の基板内ばらつきを測定したと
ころ４．５〜５．０°の範囲内に収まり、従来の４．５
〜６．０°のばらつきに比べて大幅に改善された。
の対向する面と反対側の面に偏光板６５（ＴＦＴ基板５
０）、偏光板８５（対向基板７０）をそれぞれ貼着し、
その後、両基板を対向して組み立て、セル化し、その間
隙に液晶６６を注入、封止すると、液晶表示装置が完成
するこのようにして形成された液晶表示装置において、
液晶分子のプレチルト角の基板内ばらつきを測定したと
ころ４．５〜５．０°の範囲内に収まり、従来の４．５
〜６．０°のばらつきに比べて大幅に改善された。
【００４９】以上のように、本実施形態では、配向膜の
形成に当たって、その形成過程で形成される塗布膜を気
体の吹き付けにより乾燥させることで、従来のホットプ
レートによる乾燥に比べて、塗布膜のラビング処理後の
液晶のプレチルト角のばらつきを大幅に小さくすること
ができ、液晶表示装置の表示ムラを低減することができ
た。
形成に当たって、その形成過程で形成される塗布膜を気
体の吹き付けにより乾燥させることで、従来のホットプ
レートによる乾燥に比べて、塗布膜のラビング処理後の
液晶のプレチルト角のばらつきを大幅に小さくすること
ができ、液晶表示装置の表示ムラを低減することができ
た。
【００５０】
【発明の効果】本発明による液晶表示装置の製造方法及
び塗布膜乾燥装置によれば、配向膜の形成に当たって、
その形成過程で形成される塗布膜を気体の吹き付けによ
り乾燥させることで、従来のホットプレートによる乾燥
に比べて、塗布膜のラビング処理後の液晶のプレチルト
角のばらつきを大幅に小さくすることができ、液晶表示
装置の表示ムラを低減することができる。
び塗布膜乾燥装置によれば、配向膜の形成に当たって、
その形成過程で形成される塗布膜を気体の吹き付けによ
り乾燥させることで、従来のホットプレートによる乾燥
に比べて、塗布膜のラビング処理後の液晶のプレチルト
角のばらつきを大幅に小さくすることができ、液晶表示
装置の表示ムラを低減することができる。
【図１】本発明の第１の実施形態の塗布膜乾燥装置の見
取図である。
取図である。
【図２】本発明の第２の実施形態の液晶表示装置の製造
方法が適用される液晶表示装置の断面図である。
方法が適用される液晶表示装置の断面図である。
【図３】本発明の第２の実施形態の塗布膜乾燥装置の見
取図である。
取図である。
【図４】従来の塗布膜乾燥装置の見取図である。
【図５】従来の塗布膜乾燥装置を用いた場合の基板上で
の塗布膜の乾燥度合いを示す平面図である。
の塗布膜の乾燥度合いを示す平面図である。
【図６】従来の別の塗布膜乾燥装置を用いた場合の基板
上での塗布膜の乾燥度合いを説明するための断面図であ
る。
上での塗布膜の乾燥度合いを説明するための断面図であ
る。
１、３６１ 基板
２、２２、３２２ 塗布液
３、１３、２３、３３、３２３、３３３ 塗布膜
４ 乾燥空気
２４ 窒素
５０ ＴＦＴ基板
５１、７１、３５１ 透明基板
５５、７５ 透明電極
５７、７７ 配向膜
６５、８５ 偏光板
６６ 液晶
７０ 対向基板
７４ カラーフィルタ
９０ 液晶セル
１１０、２１０、３１０ 塗布機構
１１１、２１１、３１１ 印刷ステージ
１１２、２１２、３１２ ディスペンサー
１１３、２１３、３１３ 第１ロール
１１４、２１４、３１４ 第２ロール
１１５、２１５、３１５ 版胴
１２０、２２０、３２０ 基板搬送機構
１３０、２３０、３３０ 乾燥機構
１３２、２３２ 気体吹付け機
１３１、２３１ 乾燥ステージ
２００ 配向膜塗布乾燥装置
２１０ 塗布機構
３００ 塗布乾燥装置
３２４、３２５、３２６ 塗布膜乾燥領域線
３３１、３３２ ホットプレート
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
Ｆターム(参考） 2H090 HB08 HB11 HC06 HC14 HD11
3L113 AA03 AB02 AB06 AC08 AC10
AC13 BA34 DA11
4D075 BB24Z BB32Z BB35Z BB36Z
BB37Z BB57Z DA06 DB13
DC18 DC21 EA05 EB39
4F042 AA02 AA06 AB00 DB01 DB17
DB18 DB21 ED05
Claims (8)
- 【請求項１】 ２枚の基板上にそれぞれ配向膜材料を塗
布した後、前記配向膜材料を乾燥させ、続いて前記配向
膜材料の表面をラビングして前記配向膜材料を配向膜と
することによりそれぞれ第１の基板及び第２の基板を形
成し、前記第１の基板及び前記第２の基板の配向膜同志
が向かい合うように前記第１の基板及び前記第２の基板
を配置して、前記第１の基板及び前記第２の基板の間に
液晶を充填する液晶表示装置の製造方法であって、前記
配向膜材料の乾燥が、前記配向膜材料の表面に気体を吹
き付けることにより行われることを特徴とする液晶表示
装置の製造方法。 - 【請求項２】 前記気体は、空気、乾燥空気、窒素のう
ち少なくともいずれか一つを含む気体である請求項１記
載の液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項３】 前記気体は、前記塗布膜に１ｍ3／分〜
５ｍ3／分の流量で吹き付けられる請求項１又は２記載
の液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項４】 基板上に塗布膜を塗布する塗布機構と、
前記塗布機構から搬送される前記基板上の前記塗布膜に
気体を吹き付けて前記塗布膜を乾燥させる乾燥機構とを
有する塗布膜乾燥装置。 - 【請求項５】 前記気体は、空気、乾燥空気、窒素のう
ち少なくともいずれか一つを含む気体である請求項４記
載の塗布膜乾燥装置。 - 【請求項６】 前記気体は、前記塗布膜に１ｍ3／分〜
５ｍ3／分の流量で吹き付けられる請求項４又は５記載
の塗布膜乾燥装置。 - 【請求項７】 前記乾燥機構は前記基板を載置するステ
ージを備え、前記ステージは加熱機構を有さない請求項
４乃至６のいずれかに記載の塗布膜乾燥装置。 - 【請求項８】 前記乾燥機構は加熱手段を有し、前記加
熱手段は、ヒーター加熱、赤外線加熱、マイクロ波加熱
のいずれかである請求項４乃至６のいずれかに記載の塗
布膜乾燥装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001187224A JP2003005186A (ja) | 2001-06-20 | 2001-06-20 | 液晶表示装置の製造方法及び塗布膜乾燥装置 |
| US10/174,010 US6947113B2 (en) | 2001-06-20 | 2002-06-18 | Method of fabricating liquid crystal display device |
| KR1020020034254A KR20020096997A (ko) | 2001-06-20 | 2002-06-19 | 액정 디스플레이 장치의 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001187224A JP2003005186A (ja) | 2001-06-20 | 2001-06-20 | 液晶表示装置の製造方法及び塗布膜乾燥装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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Family
ID=19026547
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001187224A Withdrawn JP2003005186A (ja) | 2001-06-20 | 2001-06-20 | 液晶表示装置の製造方法及び塗布膜乾燥装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6947113B2 (ja) |
| JP (1) | JP2003005186A (ja) |
| KR (1) | KR20020096997A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100349053C (zh) * | 2003-10-28 | 2007-11-14 | 精工爱普生株式会社 | 膜形成方法 |
| US11067854B2 (en) | 2015-04-06 | 2021-07-20 | Mitsubishi Electric Corporation | Method of applying alignment film, and color filter substrate |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007134629A (ja) * | 2005-11-14 | 2007-05-31 | Konica Minolta Holdings Inc | 半導体層の成膜方法、半導体層を成膜する製造装置 |
| CN102085511A (zh) * | 2010-11-22 | 2011-06-08 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 配向膜干燥装置及干燥方法 |
| US20130320605A1 (en) * | 2012-05-31 | 2013-12-05 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co, Ltd. | Device for Manufacturing Alignment Film |
| CN102966214A (zh) * | 2012-11-26 | 2013-03-13 | 中山市创科科研技术服务有限公司 | 一种免清洗铝板的制备装置 |
| CN115682687A (zh) * | 2022-09-28 | 2023-02-03 | 深圳市海盛电子线路科技有限公司 | 一种用于液晶显示屏加工的烘干装置 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59182422A (ja) * | 1983-04-01 | 1984-10-17 | Citizen Watch Co Ltd | 液晶セルの製造方法 |
| JPH05333337A (ja) * | 1992-05-29 | 1993-12-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示素子の配向処理法 |
| US5750041A (en) * | 1994-08-15 | 1998-05-12 | Hirane; Ken | Method for backwashing water processing systems |
| JPH0926582A (ja) * | 1995-07-11 | 1997-01-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶パネルの製造方法 |
| JPH10142603A (ja) | 1996-11-13 | 1998-05-29 | Seiko Epson Corp | スピンコーティング方法及びこれを用いた液晶表示装置の製造方法 |
| JPH1195219A (ja) | 1997-09-24 | 1999-04-09 | Denso Corp | 液晶セルの配向膜形成方法 |
| KR100476625B1 (ko) | 1997-12-31 | 2005-07-29 | 삼성전자주식회사 | 액정표시장치의제조장치 |
| JPH11264978A (ja) | 1998-03-17 | 1999-09-28 | Toshiba Corp | 液晶表示素子の製造方法 |
| JP3517585B2 (ja) * | 1998-04-23 | 2004-04-12 | 株式会社アドバンスト・ディスプレイ | 液晶表示パネルの製造方法およびこれに用いられる洗浄装置 |
| JP3926929B2 (ja) | 1998-06-15 | 2007-06-06 | 富士フイルム株式会社 | 配向膜形成材料層を備えた長尺可撓性シートの製造方法 |
-
2001
- 2001-06-20 JP JP2001187224A patent/JP2003005186A/ja not_active Withdrawn
-
2002
- 2002-06-18 US US10/174,010 patent/US6947113B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2002-06-19 KR KR1020020034254A patent/KR20020096997A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100349053C (zh) * | 2003-10-28 | 2007-11-14 | 精工爱普生株式会社 | 膜形成方法 |
| US11067854B2 (en) | 2015-04-06 | 2021-07-20 | Mitsubishi Electric Corporation | Method of applying alignment film, and color filter substrate |
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