JP4171399B2 - レーザ照射装置 - Google Patents
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Description
2 半波長板
3 折り返しミラー
4 偏光ビームスプリッタ
5 シャッタ
6 回折光学素子
7 (回折光学素子6の)焦点面
8 半導体基板
9 ステージ
Claims (4)
- 第2高調波の発生ユニットを含む、YAGレーザ、YLFレーザ、及びYVO 4 レーザから選択された固体レーザ光源であって、パルスレーザビームである第1のレーザビームを出射する第1のレーザ光源と、
第2高調波の発生ユニットを含む、YAGレーザ、YLFレーザ、及びYVO 4 レーザから選択された固体レーザ光源であって、連続波レーザビームである第2のレーザビームを出射する第2のレーザ光源と、
前記第1及び第2のレーザ光源から出射した第1及び第2のレーザビームが入射するように配置され、入射したレーザビームのビーム断面形状の整形及びビーム断面内の光強度分布の均一化の少なくとも一方を行う回折光学素子と、
前記第2のレーザ光源と前記回折光学素子との間の光路上に配置され、前記第2のレーザ光源から出射したレーザビームが前記回折光学素子に入射する状態と、入射しない状態とを切り換えるシャッタと
を有するレーザ照射装置。 - 前記回折光学素子に入射する前記第1及び第2のレーザビームの光軸が、互いに平行であるか、または、一致している請求項1に記載のレーザ照射装置。
- 前記回折光学素子に入射する前記第1及び第2のレーザビームのビーム断面が、互いに接しているか、または、互いに重なりを有している請求項1または2に記載のレーザ照射装置。
- さらに、
前記回折光学素子から出射したレーザビームが入射するレーザ被照射物を保持する保持台と、
前記保持台に保持されたレーザ被照射物の表面へ、前記第1のレーザ光源から出射したレーザビームが照射されている間に、前記第2のレーザ光源から出射したレーザビームの該表面への照射が開始するように、または、前記保持台に保持されたレーザ被照射物の表面への前記第1のレーザ光源から出射したパルスレーザビームの照射が終了した時刻から300ns以内に、前記第2のレーザ光源から出射したレーザビームの該表面への照射が開始されるように、前記第1のレーザ光源及び前記シャッタの少なくとも一方を制御する制御装置と
を有する請求項1〜3のいずれか1項に記載のレーザ照射装置。
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