JP5819149B2 - 周期構造の作成方法および周期構造の作成装置 - Google Patents
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Description
周期構造の形成幅や間欠比や方向性などのパターニングの自由度は小さくなる。加工対象物の寸法や用途に応じて、求められる周期構造の形成幅や間欠比などのパターニングは様々であるため、パターニングの自由度は大きいことが望まれる。
2 ビームエキスパンダ
3 ミラー
4 偏向器
5 主走査用偏向器
6 副走査用偏向器
7 集光レンズ
8 加工対象物
9 レーザ照射スポット
10 周期構造
20 制御手段
Claims (8)
- 加工対象物に一軸のパルスレーザをオーバーラップさせながら照射して、そのレーザ波長程度に微細な凹凸溝を方向性をもたせて周期的に形成する、周期構造の作成方法であって、主走査を行う主走査用偏向器と副走査を行う副走査用偏向器とを、連続的に動作させながら、パルスレーザ光源の繰返し周波数と主走査用偏向器の走査周波数の関係が整数比の関係になるように保つことで、レーザ照射スポットがレーザ照射済みスポットの一部を含むようにオーバーラップ位置を制御して、二次元的に走査することを特徴とする周期構造の作成方法。
- 加工対象物に一軸のパルスレーザをオーバーラップさせながら照射して、そのレーザ波長程度に微細な凹凸溝を方向性をもたせて周期的に形成する、周期構造の作成方法であって、主走査を行う主走査用偏向器と副走査を行う副走査用偏向器とを、連続的に動作させながら、パルスレーザ光源の繰返し周波数と主走査用偏向器の走査周波数の関係が整数比の関係から一定数を加減した関係になるように保つことで、レーザ照射スポットがレーザ照射済みスポットの一部を含むようにオーバーラップ位置を制御して、二次元的に走査することを特徴とする周期構造の作成方法。
- 複数系列のレーザ照射スポットに主走査方向のうねりを与えながら、複数系列のレーザ照射スポットの軌跡が重なる位置にだけ周期構造が形成されるように、レーザエネルギを調整して、離散的な複数の領域に間欠な周期構造を作成することを特徴とする、請求項2に記載の周期構造の作成方法。
- パルスレーザ光源の繰返し周波数か主走査用偏向器の走査周波数のいずれか、又は両方を、副走査の途中で変更することを特徴とする、請求項1又は請求項2に記載の周期構造の作成方法。
- パルスレーザ光源の繰返し周波数と主走査周波数の周波数比を保ったまま、両者の位相差を制御することで、レーザ照射スポットを主走査方向にシフトさせることを特徴とする、請求項1又は請求項2に記載の周期構造の作成方法。
- 前記請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の周期構造の作成方法における走査方法を、副走査の途中で変更して組み合わせ、又は、レーザ照射のON/OFF制御と併用することを特徴とする周期構造の作成方法。
- 加工対象物に一軸のパルスレーザをオーバーラップさせながら照射して、そのレーザ波長程度に微細な凹凸溝を方向性をもたせて周期的に形成する、周期構造の作成装置であって、パルスレーザ光源と、主走査を行う主走査用偏向器と、副走査を行う副走査用偏向器と、パルスレーザ光源と主走査用偏向器との同期動作を制御する制御手段とを備え、主走査を行う主走査用偏向器と副走査を行う副走査用偏向器とを、連続的に動作させながら、パルスレーザ光源の繰返し周波数と主走査用偏向器の走査周波数の関係が整数比の関係になるように保つことで、レーザ照射スポットがレーザ照射済みスポットの一部を含むようにオーバーラップ位置を制御して、二次元的に走査することを特徴とする周期構造の作成装置。
- 加工対象物に一軸のパルスレーザをオーバーラップさせながら照射して、そのレーザ波長程度に微細な凹凸溝を方向性をもたせて周期的に形成する、周期構造の作成装置であって、パルスレーザ光源と、主走査を行う主走査用偏向器と、副走査を行う副走査用偏向器と、パルスレーザ光源と主走査用偏向器との同期動作を制御する制御手段とを備え、主走査を行う主走査用偏向器と副走査を行う副走査用偏向器とを、連続的に動作させながら、パルスレーザ光源の繰返し周波数と主走査用偏向器の走査周波数の関係が整数比の関係から一定数を加減した関係になるように保つことで、レーザ照射スポットがレーザ照射済みスポットの一部を含むようにオーバーラップ位置を制御して、二次元的に走査することを特徴とする周期構造の作成装置。
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