JP2769647B2 - 光ビーム偏向装置用制御信号発生装置 - Google Patents

光ビーム偏向装置用制御信号発生装置

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JP2769647B2
JP2769647B2 JP3045970A JP4597091A JP2769647B2 JP 2769647 B2 JP2769647 B2 JP 2769647B2 JP 3045970 A JP3045970 A JP 3045970A JP 4597091 A JP4597091 A JP 4597091A JP 2769647 B2 JP2769647 B2 JP 2769647B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、レーザーロボット等
に適用可能な光ビーム偏向装置を制御するための装置に
関するものであり、特に光ビームを反射させるための傾
斜ミラーが各々取付けられた二つの回転機構を、所定の
回転数と所定の回転位相差を保ちつつ同時に連続回転さ
せるための制御信号を発生させる技術に関している。
【0002】
【従来の技術】レーザーロボットは種々の用途に用いら
れているが、昨今、溶接ロボットとしての用途が注目さ
れている。ところが、突き合わせ溶接等においてはワー
ク間のギャプが均一でないことが多く、しかもレーザー
ビームのスポット径がかなり小さいため、レーザービー
ムの照射方向を変化させながら溶接を行う,いわゆるウ
ィービング溶接を行わなければ十分な溶接結果を得るこ
とができないという問題点がある。従って、レーザーロ
ボットを溶接ロボットとして利用するにあたっては、そ
のウィービング性能を高めることが必要となる。
【0003】従来、レーザーロボットにウィービング機
能を持たせる方式としては、大別して二種類の方式があ
ることが知られている。
【0004】その第一は、アーク溶接ロボット等におい
て従来から用いられている方式であり、図10(a)に
示す様にレーザートーチLT自身を開先方向に直角な方
向に周期的に揺動させつつ、レーザートーチLTを開先
方向に沿って移動させる方式である(矢印A1)。
【0005】またその第二は、図10(b)で示す様に
レーザートーチLTを開先方向に沿った矢印A2の方向
に移動させるとともに、レーザートーチLTから発せら
れるレーザービームの偏向角度を矢印A3で示す様に周
期的に変化させる方式である。この第二の方式を実現す
る方法としては、 レーザービームの集光レンズを周
期的に振動または揺動させるもの、 一対のガルバノ
ミラーの組合わせによりレーザービームを偏向するもの
等が知られている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】(1) 課題 しかし、上記第一の方式ではトーチを揺動させるための
アームの動きをあまり速くすることができないため、溶
接速度が遅いという問題点がある。
【0007】一方、第二の方式のうちの方法では、集
光レンズがアームの先端付近に設けられているために、
アームの先端部にレンズ駆動機構を取り付ける必要があ
る。このためアーム先端部のサイズや慣性が増加し、ア
ーム先端部と障害物との干渉の増大や制御性の低下等の
問題が生じる。
【0008】又、第二の方式のうちの方法において
も、ガルバノミラーの駆動制御が容易でないという問題
が生じる。即ち、溶接用に利用されるレーザーは高出力
レーザー(例えばCW発振の炭酸ガスレーザー)である
ために、ガルバノミラー自身もその高出力に耐え得る様
な材質と厚さが要求され、必然的にその慣性も大きくな
る。更に、ガルバノミラーではミラーを高振動数で振動
させねばならないため、その振動機構へのトルク負荷の
変化が激しい。その結果、各ガルバノミラーの振動の同
期をとることが困難となる。
【0009】そして上記問題点は、溶接ロボットに限ら
ず、レーザーロボットにおいてレーザービームを周期的
に偏向する必要がある場合に共通の問題点となってい
た。
【0010】この様な問題点を解決する手段として本出
願人が創作したのが、本出願人の出願に係る特願平2−
133473号において開示した光ビーム偏向装置であ
り、かかる光ビーム偏向装置をレーザーロボットに適用
することにより、上記問題点を生じることなく、更に制
御性に富んだウィービング溶接を実現することが可能で
ある。尚、この光ビーム偏向装置の構成及び動作等につ
いては、後述する「実施例」の欄において詳細を説明す
ることとし、ここではその構成及び動作原理を簡単に述
べるに留めておく。
【0011】即ち、この光ビーム偏向装置はモータ等か
らなる2つの回転機構を有し、更におのおのの回転機構
には、その回転軸に垂直な面に対して所定の角度をなし
て傾斜したミラーが取付けられている。そして、この2
つの傾斜ミラーを所定の回転方向に所定の回転数で、且
つ所定の回転位相差で同時に回転させ、この2つの傾斜
ミラーに順次レーザービームを反射させることにより、
レーザービームの周期的偏向を実現しようとするもので
ある。
【0012】以上の通り、本出願人によって光ビーム偏
向装置を用いた新たなレーザービームのウィービング方
式が提供されたわけであるが、実際にこの光ビーム偏向
装置を実現するためには、2つの回転機構を高精度で電
気的に制御することが必要である。即ち、起動,加速,
減速,停止を含んだ一連の連続運転において、2つの回
転機構を常に所定の回転数及び所定の回転位相差を保ち
ながら同時に高速回転させることが可能な制御信号発生
装置が新たに求められることになる。その様な装置の方
式としては、ステッピングモータ等において用いられて
いる様なパルス列信号によって2つの回転機構(モータ
等)の回転速度とその回転時の位置を制御することが望
ましい。
【0013】しかし、現在実用化され市販されている様
なモータコントローラは、単にモータの停止位置を制御
できるのみか、あるいは単にモータの回転速度を一定に
保つ様にモータを制御できるのみであって、高速回転し
ている2つのモータの回転中の位置及び回転速度を同時
に高確度で制御するための装置として、かかるモータコ
ントローラを用いることができないのが現状である。従
って、この様な制御を実現できる新規なコントローラの
実現が強く要望されていた。
【0014】(2) 発明の目的 この発明は上記要望に応えるべくなされたものであり、
起動,加速,減速,停止等の一連の動作を含んだ連続高
速回転する2つの回転機構が、所定の時間ごとに常に所
定の回転数と所定の回転位相差をもって回転できる様に
光ビーム偏向装置を制御することができ、しかも2つの
回転機構を長時間連続運転する場合において1パルスの
誤差をも発生させない高確度な制御が可能な光ビーム偏
向装置用制御信号発生装置を提供することを目的として
いる。
【0015】
【課題を解決するための手段】この発明は、光ビーム偏
向装置内の第1の回転機構及び第2の回転機構に与える
べき制御信号を発生する光ビーム偏向装置用制御信号発
生装置において、所定の演算規則に従って、第1及び第
2の回転機構の回転数並びに第1及び第2の回転機構の
回転位相差として与えるべき値を演算するコントローラ
と、コントローラの出力端に接続され、且つ第1のタイ
ミングパルス信号に応じてコントローラの演算結果より
第1及び第2の回転機構それぞれに所定の時間当り与え
るべきパルス数を演算し、当該パルス数についての演算
結果をそれぞれ第1の演算結果及び第2の演算結果とし
て出力するプロセッサと、プロセッサの一つの出力端に
接続され、且つ第2のタイミングパルス信号に応じて第
1の演算結果をパルス列化して第1のパルス列信号を形
成し、第1のパルス列信号を第1の回転機構に与える第
1のパルス列化回路と、プロセッサの他の出力端に接続
され、且つ第2のタイミングパルス信号に応じて第2の
演算結果をパルス列化して第2のパルス列信号を形成
し、第2のパルス列信号を第2の回転機構に与える第2
のパルス列化回路と、第1及び第2のタイミングパルス
信号を発生するタイミングパルス発生回路とを備える様
にしたものである。
【0016】
【作用】この発明に係る光ビーム偏向装置用制御信号発
生装置におけるプロセッサは、所定の時間ごとに第1の
タイミングパルスを受けて、コントローラによって演算
された第1及び第2の回転機構に与えるべき回転数,及
び回転位相差についての演算結果をコントローラより受
け取り、これらの演算結果に応じて第1の回転機構及び
第2の回転機構それぞれに所定の時間当り与えるべきパ
ルス数を演算し、当該パルス数についてのそれぞれの演
算結果を第1及び第2の演算結果として出力する。この
様にプロセッサは、所定の時間ごとに、第1及び第2の
回転機構それぞれに与えるべきパルス数を管理してい
る。
【0017】その後、第1のパルス列化回路は、第2の
タイミングパルス信号に応じて第1の演算結果をパルス
列化する。
【0018】同様に第2のパルス列化回路も第2のタイ
ミングパルス信号に応じて第2の演算結果をパルス列化
する。
【0019】これにより、所定の時間当りに第1の演算
結果の値に相当する数のパルスを有する第1のパルス列
信号と、所定の時間当りに第2の演算結果の値に相当す
る数のパルスを有する第2のパルス列信号が形成され
る。
【0020】
【実施例】(I) 光ビーム偏向装置の構成とその動作 本発明に係る制御信号発生装置の構成を説明する前に、
まず本制御信号発生装置と一体不可分の関係にある光ビ
ーム偏向装置の構成とその光学的振舞いについて概観す
る。尚、光ビーム偏向装置自身もまた、新規な発明に係
る装置である。
【0021】図5は、光ビーム偏向装置10の構成を詳
細に示した断面図である。ここに光ビーム偏向装置10
は、第1の回転機構40a,ミラー41a,第2の回転
機構40b,ミラー41b及び固定反射ミラーM1より
構成されており、具体的には次の通りである。
【0022】第1の回転機構40aは第1のサーボモー
タ42aとそのローターシャフト43aより構成され、
ローターシャフト43aの先端には、ローターシャフト
43aの中心軸RA1 に垂直な平面PL1 に対して角度
Δθ1 だけ傾いた第1の傾斜ミラー41aが取付られて
いる。従って、第1の傾斜ミラー41aは、この傾斜し
たままの状態でローターシャフト43aの回転(回転数
1 ,回転位相φ1 )に伴い、回転運動を行なう。
【0023】又、第2の回転機構40bは第2のサーボ
モータ42bとそのローターシャフト43bより構成さ
れ、ローターシャフト43bの先端には、ローターシャ
フト43bの中心軸RA2 に垂直な平面PL2 に対して
角度Δθ2 だけ傾いた第2の傾斜ミラー41bが取付け
られている。従って、第2の傾斜ミラー41bも又、こ
の傾斜したままの状態でローターシャフト43bの回転
に伴い、回転数N2 ,回転位相φ2 で回転運動する。
【0024】そして光ビーム偏向装置10に対して、レ
ーザー発振器(図示せず)より発振されたレーザービー
ムLBi が入力部11より入射され、回転する第1の傾
斜ミラー41a,回転する第2の傾斜ミラー41b及び
固定反射ミラーM1に順次反射された後、反射後のレー
ザービームLBr が出力部12より出力される。尚、図
に示されたレーザービームLBi の光路は第1及び第2
の傾斜ミラー41a,41bが共に静止している場合で
の光路を示している。
【0025】従って、出力レーザービームLBr は、第
1及び第2の傾斜ミラー41a,41bの回転運動によ
り、図に示した光路を中心として周期的偏向を受けるこ
とになる。しかもこの偏向の状態は、第1及び第2の傾
斜ミラー41a,41bの回転方向、回転数N1 ,N2
及び回転位相差Δφ(Δφ=φ2 −φ1 )の値いかんに
よっては大きく異なることが、シミュレーション等によ
り確かめられている。
【0026】ここで、図6〜7は、上記シミュレーショ
ン結果を簡単に示したものであり、各図形は丁度図5に
示した出力レーザービームLBr の光路に垂直なスクリ
ーンを想定した場合に、出力レーザービームLBr がこ
のスクリーン上に描く軌跡に相当している。即ち、図6
は、第1及び第2の傾斜ミラー41a,41bが同一方
向にしかも同一回転数(N1 =N2 )でもって回転した
場合の出力レーザービームLBr の軌跡であり、両ミラ
ー41a,41bの回転位相差Δφをパラメータとして
表わしたものである。同図より明らかな通り、回転位相
差Δφが0でない場合には、出力レーザービームLBr
は楕円軌道を描くとともに、回転位相差Δφが大きくな
るにつれて楕円軌道の長軸及び短軸の長さが大きくな
る。尚、当然であるが、回転位相差Δφが0の場合に
は、出力レーザービームLBr は周期的偏向を受けな
い。又、図7の場合は、第1及び第2の傾斜ミラー41
a,41bが同一回転数(N1 =N2 )で互いに反対方
向に回転する際に出力レーザービームLBr が描く軌跡
を示しており、同じく回転位相差Δφをパラメータとし
て表わしている。この場合には、出力レーザービームL
r の軌跡は一定の長さの直線となり、しかもその直線
の傾きΔΨは、回転位相差Δφの値が大きくなるにつれ
て大きくなる。尚、レーザービームLBr は直線上を振
動することとなるので、以後、直線の傾きΔΨを振動方
向ΔΨと呼ぶことにする。
【0027】以上述べた光ビーム偏向装置10は、例え
ばレーザー溶接ロボットの様にレーザービームを加工線
に沿ってウィービングさせる様な装置に適用する際にそ
の効果を発揮する。
【0028】ここに図8は、光ビーム偏向装置10をレ
ーザーロボットRBに適用した場合の機械的構成を示す
断面図である。同図において、レーザー発振器8より発
したレーザービームLBi は既述した通り光ビーム偏向
装置10内を通過する際に周期的偏向を受け、その後レ
ーザービームLBr はレーザーロボットRBの本体内部
に設けられた各反射用ミラーM2,M3及び放物面鏡M
4に順次反射された後、トーチ7の先端からワークに向
けて照射される。しかもトーチ7の先端は、レーザービ
ームLBを照射しながらワーク上の溶接線に沿って移動
する。その結果、レーザービームLBはワーク上をウィ
ービングしながら溶接様に沿って走査されることとなる
が、そのウィービングモードとしては既述したレーザー
ビームLBr の偏向モードによって図9に示す2種類の
モードが得られる。
【0029】即ち、光ビーム偏向装置10を通り抜けた
レーザービームLBr が図6に示す様な軌跡を描く様に
周期的偏向を受ける場合〔両ミラー41a,41bの回
転方向同一,回転数N1 ,N2 同一,回転位相差Δφ
(≠0)〕には、そのウィービングモードは図9の表中
(a)に示す様なスパイラル状の軌跡を描く様なモード
となる。この様なウィービングモードを、本出願人はス
ピンモードと命名している。このスピンモードの場合に
は、両ミラー41a,41bの回転数N1 ,N2 (N1
=N2 )及びトーチ7の溶接線に沿って移動する速度、
即ち溶接速度vを定めれば本図に示すスピンピッチp1
が定まり、又、両ミラー41a,41bの回転位相差Δ
φを決定すれば図に示すスピン直径dが定まる。
【0030】一方、光ビーム偏向装置10を通り抜けた
レーザービームLBr が図7に示す様な有限長の直線を
描く場合〔両ミラー41a,41bの回転方向が逆,回
転数N1 ,N2 同一,回転位相差Δφ(≠0)〕には、
そのウィービングモードは図9の表中(b)に示す様な
正弦波ないしは鋸波状の軌跡を描くモードとなる。同じ
く本出願人は、このウィービングモードをスキャンモー
ドと命名している。このモードの場合もまた、両ミラー
41a,41bの回転数N1 ,N2 (N1 =N2 )及び
トーチ7の溶接速度vを定めれば本図に示すスキャンピ
ッチp2 が定まる。又、両ミラー41a,41bの回転
位相差Δφを定めれば、既述した振動方向Ψを決定する
ことができる。
【0031】以上、光ビーム偏向装置10をレーザーロ
ボットRBに応用することによってスピン,スキャン2
種類のモードでレーザービームLBをウィービングで
き、且つ両ミラー41a,41bの制御量を決定するこ
とにより各ウィービングモードの各パラメータ(p1
2 等)を制御できることを述べたが、これを逆の観点
からみれば、ウィービングモードの各パラメータ値(p
1 ,d等)をあらかじめ定めておけば、必要な両ミラー
41a,41bの制御量(N1 ,N2 ,Δφ)の値を決
定することができると言える。
【0032】例えば、スピンモードの場合には、スピン
ピッチp1 の値を指定し、且つ溶接線上の各加工点Pi
における溶接速度viの値を溶接線の情報より決定して
やれば、両ミラー41a,41bの回転数N1 ,N
2 は、
【0033】
【数1】
【0034】により与えられる。
【0035】又、両ミラー41a,41bの回転位相差
Δφは、放物面鏡M4の焦点距離をf0 とし、更にレー
ザービームLBr が光ビーム偏向装置10内で楕円形で
はなく、円形の軌跡を描く様に偏向を受けるものと近似
すれば(この近似は、両ミラー41a,41bが自身の
寸法に比して十分に遠方に配置された理想状態を考えて
いることに相当している。)、簡単な幾何学的考察によ
って数2の様に与えられることがわかる。
【0036】
【数2】
【0037】一方スキャンモードの場合には、各加工点
i における溶接速度vi の値はスピンモードと同様に
数1で与えられるが、回転位相差Δφi の値はスピンモ
ードの様に一意的に定めることができず、各加工点Pi
ごとに定める必要がある。特に、レーザーロボットRB
の各アームの駆動による影響を考慮する必要があるた
め、スキャンモードの場合には回転位相差Δφi の決定
方法は複雑となる。従って、ここではその具体的決定方
法については触れないこととする。
【0038】以上、光ビーム偏向装置10の構成とその
動作を、光ビーム偏向装置10の応用であるレーザーロ
ボットRBとの関係において説明したので、次に、上記
内容を踏まえて、本発明に係る制御信号発生装置の構成
並びにその動作原理について説明する。
【0039】(II) 制御信号発生装置の電気的構成 図1は、この発明の一実施例である光ビーム偏向装置用
制御信号発生装置100の電気的構成を示すブロック図
であり、制御信号発生装置100と光ビーム偏向装置1
0との接続関係を明確にすべく、光ビーム偏向装置10
の断面図をも共に模式的に示している。
【0040】同図において、タイミングパルス発生回路
130は所定の時間Δt内(以後、単位時間Δtと呼
ぶ。)に2N 個のパルスを有する第2のタイミングパル
ス信号CL2を発生せしめる。又、タイミングパルス発
生回路130はデータ長Nビットのカウンタ回路131
をも備えている。このカウンタ回路131は、第2のタ
イミングパルス信号CL2のパルス数をカウントしてお
り、そのカウント回数が2N 回になるごとに、即ち単位
時間Δtごとに1個のパルスを発生せしめる。そしてこ
のパルスからなる信号は、タイミングパルス発生回路1
30より第1のタイミングパルス信号CL1として、後
述するコントローラ110及びマイクロプロセッサ12
0に加えられる。
【0041】一方、コントローラ110はその出力端が
マイクロプロセッサ120の入力端に接続されており、
且つタイミングパルス発生回路130内で発生した第1
のタイミングパルス信号CL1によって所定の演算を行
うこととされている。又、マイクロプロセッサ120
は、その出力端の一方が第1のパルス列化回路140の
入力端に接続され、その出力端の他方が第2のパルス列
化回路150の入力端に接続されているとともに、第1
のタイミングパルス信号CL1によってその動作が制御
される。そして第1のパルス列化回路140及び第2の
パルス列化回路150もまた、タイミングパルス発生回
路130内で発生した第1及び第2のタイミングパルス
信号CL1及びCL2によって各動作が制御される。
【0042】更に、第1のパルス列化回路140の出力
端は、第1のサーボアンプ160を介して、光ビーム偏
向装置10内の第1のサーボモータ42aの入力端に接
続されており、第2のパルス列化回路150もその出力
端が、第2のサーボアンプ170を介して、光ビーム偏
向装置10内の第2のサーボモータ42bの入力端に接
続されている。ここで、第1及び第2のサーボアンプ1
60,170には、パルス列信号を入力することが可能
であって、偏差カウンタを備えたものを使用している。
【0043】また図2は、第1及び第2のパルス列化回
路140,150の詳細な電気的構成並びに各信号の流
れを示したブロック図であり、マイクロプロセッサ12
0及びタイミングパルス発生回路130とともに表わさ
れている。同図において、第1のパルス列化回路140
は、上段,下段の2種類の指令バッファ141,14
2,加算器143及び累算器144より構成されて成
る。即ち、上段の指令バッファ141の入力端にはマイ
クロプロセッサ120の出力端の一端が接続され、上段
の指令バッファ141の出力端には、下段の指令バッフ
ァ142の入力端が接続されている。又、下段の指令バ
ッファ142は第1のタイミングパルス信号C1によっ
てその動作が制御され、下段の指令バッファ142の出
力端には、加算器143の入力端の一端が接続されてい
る。この様に指令バッファを上段141,下段142の
2段構成としたのは、既述した単位時間Δt内に後述す
る加算器143,累算器144及び下段指令バッファ1
42により加算演算を行わせている間に、上段の指令バ
ッファ141がマイクロプロセッサ120より出力され
る指令信号を受け取るためである。
【0044】更に、加算器143の出力端の一端は累算
器144の入力端に接続されており、累算器144の出
力端は加算器143の入力端の他端に接続されている。
この様に加算器143及び累算器144は、加算演算す
るためのループを構成する。その際、累算器144は、
第2のタイミングパルス信号CL2に同期してその保持
するデータを入力信号の一つとして加算器143へ出力
する。又、累算器144のさらに別の入力端には、上段
の指令バッファ141の入力端にも接続されているマイ
クロプロセッサ120の出力端の一端が直接に接続され
ている。これは、加算演算の初期状態として、累算器1
44の累算結果を0にするためである。尚、この加算器
143の桁数はNビットであり、従ってその加算結果が
N の整数倍となるごとに加算器143は、1パルスを
桁上がりとしてその出力端の一端から出力する(信号f
1 )。
【0045】一方、第2のパルス列化回路150もま
た、第1のパルス列化回路140と全く同様の構成から
成りたっており、上段及び下段の指定バッファ151,
152,加算器153及び累算器154から構成されて
いる。以上の様に第1及び第2のパルス列化回路14
0,150は共通のタイミング信号、即ち第1及び第2
のタイミングパルス信号CL1,CL2によってその動
作がコントロールされているが、これはサーボモータ4
2a,42bの回転位相差を正確に制御するためであ
る。
【0046】(III) 制御信号発生装置の動作 図3は、第1のパルス列化回路140により第1のパル
ス列信号f1 が発生するまでの各構成部における信号処
理の動作を時系列的に表わしたタイミングチャートであ
る。即ち、図3(a)は時間軸Tに対してコントローラ
110において行われる演算処理の始期並びにその終期
を示しており、図3(b),(f)は、それぞれ第1及
び第2のタイミングパルス信号CL1,CL2の波形で
ある。又、図3(c)は、コントローラ110における
演算結果(N,Δφ)を受けて、マイクロプロセッサ1
20が第1のパルス列化回路140に第1の演算結果Δ
1 として与えるための第1の演算処理の始期並びにそ
の終期を示したものであり、図3(d)は、上段の指令
バッファ141がマイクロプロセッサ120より第1の
演算結果ΔP1 を読み取る始期並びにその結果ΔP1
格納している時間を示したものである。又、図3(e)
は下段の指令バッファ142が上段の指令バッファ14
1より第1の演算結果ΔP1 を読み取る始期及び、読み
取り後その結果ΔP1 を格納している時間を示すもので
ある。更に、図3(g)は、加算器143及び累算器1
44における加算演算の始期並びにその演算時間を示し
ており、かかる加算結果に応じて第1のパルス列信号f
1 が発生する状況を示したのが図3(h)である。この
様に第1のタイミングパルス信号CL1の周期に当たる
単位時間Δtごとに、マイクロプロセッサ120が新た
な第1の演算を実行し、新たな第1の演算結果(Δ
1 i を出力するとともに、並行して加算器143及
び累算器144がその前の第1の演算結果(ΔP1
i-1 に基づいて加算演算を行い、第1の演算結果(ΔP
1i-1 に等しい数のパルスを出力していることがわか
る。
【0047】又、図4は、第2のパルス列信号f2 の発
生に関する図3と同様のタイミングチャートであり、図
4(c)はマイクロプロセッサ120が第2のパルス列
化回路150に与える第2の演算結果ΔP2 を演算する
ための始期及びその終期を、図4(d)は上段の指令バ
ッファ151が第2の演算結果ΔP2 を読込む始期及び
その結果ΔP2 を格納している時間を、図4(e)は下
段の指令バッファ152が上段の指令バッファ151よ
り第2の演算結果ΔP2 を読み取る始期及び読み取り後
その結果ΔP2 を格納している時間を、図4(g)は加
算器153及び累算器154における加算演算の始期及
びその終期を、図4(h)は加算演算に対応して発生す
る第2のパルス列信号f2 の波形を示している。図4
(a),(b),(f)は、各々第3図(a),
(b),(f)と同じである。以下、制御信号発生装置
100の動作の詳細を、図3及び図4に基づき上位構成
部より順に説明してゆくこととする。
【0048】(a) コントローラにおける動作 コントローラ110は、第1のサーボモータ42a及び
第2のサーボモータ42bの回転数N1 ,N2 並びに両
モータ42a,42bの回転位相差Δφを所定の演算規
則に基づいて演算する。ここに所定の演算規則とは、光
ビーム偏向装置10の出力レーザービームLBr が所望
のモードで周期的偏向を受ける様に回転数N1 ,N2
び回転位相差Δφを定める演算則のことをいう。例え
ば、光ビーム偏向装置10をレーザーロボットRBに適
用する場合では、レーザービームLBをスピンモードで
ウィービングさせようと欲するときには、コントローラ
110は数1及び数2に基づいて回転数N1 及びN2
並びに回転位相差Δφを計算することとなる。この場合
には、溶接線上の加工点Pi (ティーテング点や補間
点)ごとに回転数N1 ,N2 の値が数1に基づき計算さ
れ、回転位相差Δφはスピン直径dの指定より一意的に
定まり、各加工点Pi ごとに計算する必要はない。しか
し、スキャンモードでレーザービームLBをウィービン
グさせる場合には、既述した通り回転数N1 ,N2 並び
に回転位相差Δφを各加工点Pi ごとに定めなければな
らない。従って一般的には、トーチ7の先端が加工点P
i と次の加工点Pi+1 を移動する時間Δt0 ごとにコン
トローラ110は、回転数N1 ,N2 及び回転位相差Δ
φの値を演算することとなる。即ち、本発明において
は、制御信号発生装置100の単位時間Δtは、移動時
間Δt0 (尚、移動時間Δt0 はレーザーロボットRB
自身のメインコントローラより各アームへ駆動指令信号
が発せられる際の指令間隔を指す。)以下でなければな
らない。そこで図1に示した本実施例においては、図3
(a),図4(a)に示す様にコントローラ110は、
単位時間Δtごとに、即ち第1のタイミングパルス信号
CL1の“0”レベルから“1”レベルへの立ち上り時
に応答して第1及び第2のサーボモータ42a,42b
の回転数N1 ,N2 及び回転位相差Δφの値を演算する
こととしている。又、図3(a),図4(a)では一般
化すべく、任意の時刻tにおいてコントローラ110が
演算すべき回転数N1 ,N2(N1 =N2 =N)の値を
回転数Ni+1 と、回転位相差Δφの値をΔφi+1 と記述
している。従って、図3,図4には図示されてはいない
が、回転数Ni 及び回転位相差Δφi は、時刻t−Δt
においてコントローラ110によって演算された結果で
ある。
【0049】(b) マイクロプロセッサにおける動作 マイクロプロセッサ120は、第1のタイミングパルス
信号CL1の“0”レベルから“1”レベルへの立上り
時に応答して、コントローラ110より回転数Ni 及び
回転位相差Δφi を読み出し、第1のサーボモータ42
a及び第2のサーボモータ42bに与えるべきパルス数
の演算、即ち第1の演算及び第2の演算を開始する(図
3(c),図4(c))。この回転数Ni ,回転位相差
Δφi から単位時間Δt当りに与えるべきパルス数(Δ
1 i (第1の演算結果)及び(ΔP2 i (第2の
演算結果)を求めるための演算規則は、次の様にして導
出される。
【0050】即ち、第1及び第2のサーボモータ42
a,42bのモータ1回転当りに要するパルス数がとも
にn(パルス数/回転)であるとし、両サーボモータ4
2a,42bの回転位相差が0であるとすれば、このと
き両サーボモータ42a,42bに単位時間Δt当り与
えるべき指令パルス数(ΔPA i は、
【0051】
【数3】
【0052】となる。又、両サーボモータ42a,42
bの回転位相間に回転位相差Δφを生じさせるために必
要な回転位相差指令パルス数(ΔPB i は、
【0053】
【数4】
【0054】である。
【0055】ここで、回転位相差指令パルス数(Δ
B i の初期値(ΔPB o を0であるものとすれ
ば、ある時刻tにおいて、両サーボモータ42a,42
bを回転位相差(Δφ)i で回転させるということは、
その前の時刻t−Δtから時刻tまでの時間内は回転位
相差(Δφ)i-1 で回転していた両サーボモータ42
a,42bを、時刻tにおいて回転位相差(Δφ)i
回転する様に両サーボモータ42a,42bを加速ない
しは減速させることに相当するので、その加減速に必要
な時刻tにおけるパルス数(dp i は、
【0056】
【数5】
【0057】となる。今、上記加減速のためのトルクを
両サーボモータ42a,42bに均等に分担するものと
すれば(もちろん一方のサーボモータに負担させること
も可能である。)、時刻tにおいて第1及び第2のサー
ボモータ42a,42bに単位時間Δt内に与えるべき
パルス数(ΔP1 i ,(ΔP2 i は、
【0058】
【数6】
【0059】
【数7】
【0060】によって与えられる。
【0061】よって、マイクロプロセッサ120は単位
時間Δtごとに、回転数Ni ,回転位相差Δφi の演算
値を数3〜数7に基づいて両サーボモータ42a,42
bに与えるべきパルス数(ΔP1 i ,(ΔP2 i
値に変換することができる。
【0062】(c) 第1のパルス列化回路における動
作 次に第1のパルス列化回路140の動作について詳述す
る。まずマイクロプロセッサ120は、第1の演算終了
後にその第1の演算結果(ΔP1 i を上段の指令バッ
ファ21へロードする。そして、上段の指令バッファ1
41による第1の演算結果(ΔP1 i の読み込みが行
なわれ、読み込まれた第1の演算結果(ΔP1 i は時
刻t+Δtまでの間、上段の指令バッファ141におい
て保持され続ける。
【0063】一方、下段の指令バッファ142は時刻t
において、第1のタイミングパルス信号CL1に同期し
て上段の指令バッファ141に保持されていた第1の演
算結果(ΔP1 i-1 を読み出し、今まで保持していた
第1の演算結果(ΔP1 i- 2 にかえて新たな第1の演
算結果(ΔP1 i-1 を格納するとともに、その第1の
演算結果(ΔP1 i-1 を加算器143の入力端の一端
にロードする。
【0064】そして第2のタイミングパルス信号CL2
が“1”レベルから“0”レベルへ立ち下がる時(時刻
1 )に同期して、累算器144からその累算結果が加
算器143の入力端の他端へロードされる。そして第2
のタイミングパルス信号CL2は単位時間Δt当たり2
N 個のパルスを有するので、時間Δt内に下段の指令バ
ッファ142,加算器143及び累算器144において
N 回の第1の演算結果(ΔP1 i-1 の積算が行われ
ることとなる。即ち、
【0065】
【数8】
【0066】で表わされる演算が行われる。ところで加
算器143は、既述した通りその加算桁数がNビットで
あるので、この数8の意味するところは、加算器143
において桁上りが(ΔP1 i-1 回行われるということ
である。従って、加算器143からは時間Δt内に(Δ
1 i-1 個のパルスが出力される。
【0067】そして、以上の演算処理の完了とともに再
び時刻t+Δtにおいて同一の一連の演算処理が開始さ
れ、時間Δt内に(ΔP1 i 個のパルスが出力され
る。以後、同様に単位時間Δtごとに(ΔP1
i+1 個,(ΔP1 i+2 個,……のパルスが引き続いて
出力される。こうして単位時間Δtごとにパルス数の異
なる第1のパルス列信号f1 が形成される。
【0068】(d) 第2のパルス列化回路における動
作 第2のパルス列化回路150の動作は実質的に第1のパ
ルス列化回路140と同様である。従って、図4(h)
に示す如く単位時間Δtごとにパルス数の異なる第2の
パルス列信号f2 が形成される。
【0069】(e) サーボモータの動作 第1のパルス列信号f1 及び第2のパルス列信号f2
それぞれ、第1のサーボアンプ160,第2のサーボア
ンプ170を介して第1のサーボモータ42a,第2の
サーボモータ42bに与えられる。その結果、第1及び
第2のサーボモータ42a,42bは、単位時間Δtご
とに同期して加速・減速を行い、各単位時間Δt内は常
に所定の回転数でもって、且つ所定の回転位相差を相対
的に保ちながら回転する様になる。しかも本制御信号発
生装置100は上述した様に簡単な電気的構成から成
り、タイミングパルス発生回路130が正確に第1及び
第2のタイミングパルス信号CL1,CL2を発生させ
ている限り、マイクロプロセッサ120や第1及び第2
のパルス列化回路140,150等において誤差が生ず
ることは殆ど無いと言える。従って、本制御信号発生装
置100から発する2つの異なるパルス列信号f1 ,f
2 によって、両サーボモータ42a,42bの連続運転
を高確度でコントロールすることが可能となる。
【0070】(f) 変形例 本実施例においてはコントローラ110の回転数Ni
回転位相差Δφi の演算を第1のタイミングパルス信号
CL1に同期して行わせる場合を示したが、これに限る
ものではなく、結局のところは単位時間Δt内ならばい
つ演算を開始しても良く、その演算時間が単位時間Δt
内に終了する様にコントローラ110を同期してやれば
良いのである。従って、本実施例の如く第1のタイミン
グパルス信号CL1をコントローラ110の同期信号に
用いる必要もなく、第1のタイミングパルス信号CL1
に対してある時間だけ位相が遅延した別のタイミング信
号を同期信号として用いることもできる。
【0071】又、コントローラ110の演算結果Ni
Δφi の値が常に等しいと近似できる場合(例えば、レ
ーザーロボットRBにおいてティーチング点間を直線補
間する様な場合)には、コントローラ110からは常に
一定の演算結果がマイクロプロセッサ120にロードさ
れ続けるので、ティーチング点間では係るコントローラ
110の同期用タイミングパルス信号そのものが不要で
ある。
【0072】更に全ティーチング点間を直線補間する様
な粗い近似が可能な場合には、第1及び第2のパルス列
化回路140,150内における指令バッファを図2の
如く上段,下段の2種類に分ける必要も無く、1種類の
指令バッファで済ますこが出来る。従って,第1のタイ
ミングパルス信号CL1を第1及び第2のパルス列化回
路140,150に与える必要は無く,その様な場合に
は,マイクロプロセッサ120をコントロールする第1
のタイミングパルス信号CL1並びに第1及び第2のパ
ルス列化回路140,150をコントロールする第2の
タイミングパルス信号CL2が同期信号として重要とな
る。
【0073】又,本実施例では光ビーム偏向装置10が
2つのサーボモータ42a,42bを有する場合につい
て述べたが、光ビーム偏向装置10が数個(三個以上)
のサーボモータを有する場合についても本発明を適用す
ることが可能であることは言うまでもない。但しその様
な場合には,パルス列化回路がサーボモータの数だけ必
要となる。
【0074】
【発明の効果】この発明によれば、光ビームを所定のモ
ードで周期的に偏向させるために光ビーム偏向装置内の
2つの回転機構を所定の時間ごとに加速,減速等を行な
いつつ、所定の時間ごとに定められた所定の回転数と所
定の回転位相差でもって、連続高速回転させることがで
きる光ビーム偏向装置用制御信号発生装置を提供できる
効果がある。
【0075】しかも、この光ビーム偏向装置用制御信号
発生装置は簡単な電気的構成からなり、所定の時間ごと
に所定の回転数、回転位相差で2つの回転機構を回転さ
せるための情報を2つのパルス列信号に置換して2つの
回転機構の回転を制御しているので、2つの回転機構を
容易に且つ1パルスの誤差なく高確度に制御できる効果
をも有している。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例である光ビーム偏向装置用
制御信号発生装置10の電気的構成を示すブロック図で
ある。
【図2】第1及び第2のパルス列化回路の電気的構成を
示すブロック図である。
【図3】第1のパルス列信号が発生するまでの各構成部
の動作を表わしたタイミングチャートである。
【図4】第2のパルス列信号が発生するまでの各構成部
の動作を表わしたタイミングチャートである。
【図5】光ビーム偏向装置の光学的構成を示した断面図
である。
【図6】シミュレーション結果を示す説明図である。
【図7】シミュレーション結果を示す説明図である。
【図8】レーザーロボットの機械的構成を示す断面図で
ある。
【図9】レーザービームのウィービングモードを示す説
明図である。
【図10】アーク溶接ロボット等において従来から用い
られている方式を示す説明図である。
【符号】100 光ビーム偏向装置用制御信号発生回路 110 コントローラ 120 マイクロプロセッサ 130 タイミングパルス発生回路 140 第1のパルス列化回路 150 第2のパルス列化回路 10 光ビーム偏向装置 40a 第1の回転機構 40b 第2の回転機構 LBi レーザービーム LBr レーザービーム LB レーザービーム CL1 第1のタイミングパルス信号 CL2 第2のタイミングパルス信号 N 回転数 Δφ 回転位相差 ΔP1 第1の演算結果 ΔP2 第2の演算結果 f1 第1のパルス列信号 f2 第2のパルス列信号
フロントページの続き (72)発明者 桃崎 潤子 兵庫県西宮市田近野町6番107号 新明 和工業株式会社開発技術本部内 (72)発明者 井上 真輔 兵庫県宝塚市新明和町1番1号 新明和 工業株式会社産業機械事業部内 (56)参考文献 特開 昭63−289523(JP,A) 特開 昭61−292122(JP,A) 特開 昭54−45149(JP,A) 特開 平2−121789(JP,A) 特開 平4−220190(JP,A)

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1及び第2の回転機構、前記第1の回
    転機構の回転軸に垂直な面に対して所定の角度をなす様
    に前記第1の回転機構の回転軸に取付けられた第1の傾
    斜ミラー及び前記第2の回転機構の回転軸に垂直な面に
    対して所定の角度をなす様に前記第2の回転機構の回転
    軸に取付けられた第2の傾斜ミラーを備えてなり、入射
    した光ビームを回転している前記第1の傾斜ミラー及び
    前記第2の傾斜ミラーによって順次反射させることによ
    り、前記光ビームを周期的に偏向する光ビーム偏向装置
    と組合わせて使用され、前記第1の回転機構及び前記第
    2の回転機構に与えるべき制御信号を発生する光ビーム
    偏向装置用制御信号発生装置において、(a) 所定の
    演算規則に従って、前記第1及び第2の回転機構の回転
    数並びに前記第1及び第2の回転機構の回転位相差とし
    て与えるべき値を演算するコントローラと、(b) 前
    記コントローラの出力端に接続され、且つ第1のタイミ
    ングパルス信号に応じて前記コントローラの演算結果よ
    り前記第1及び第2の回転機構それぞれに所定の時間当
    り与えるべきパルス数を演算し、当該パルス数について
    の演算結果をそれぞれ第1の演算結果及び第2の演算結
    果として出力するプロセッサと、(c) 前記プロセッ
    サの一つの出力端に接続され、且つ第2のタイミングパ
    ルス信号に応じて前記第1の演算結果をパルス列化して
    第1のパルス列信号を形成し、前記第1のパルス列信号
    を前記第1の回転機構に与える第1のパルス列化回路
    と、(d) 前記プロセッサの他の出力端に接続され、
    且つ第2のタイミングパルス信号に応じて前記第2の演
    算結果をパルス列化して第2のパルス列信号を形成し、
    前記第2のパルス列信号を前記第2の回転機構に与える
    第2のパルス列化回路と、(e) 前記第1及び第2の
    タイミングパルス信号を発生するタイミングパルス発生
    回路とを備えたことを特徴とする光ビーム偏向装置用制
    御信号発生装置。
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