JP4086163B2 - プラズマディスプレイパネルの再利用システム - Google Patents

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Description

本発明は、表示側ガラス基板と背面側ガラス基板とが対向配置され、これら一対のガラス基板の対向領域の周縁をシール部により密封接合し、内部に放電空間を形成してなるプラズマディスプレイパネルを搬送部により搬送させながら分離し再利用化を図るプラズマディスプレイパネルの再利用システムに関する。
近年、パネル自体が発光し明るい映像を映し出し、高精細度、軽量薄形の表示デバイスとしてプラズマディスプレイパネル(以下「PDP」という)が注目されており、図9(a)はこのようなPDPの斜視図であり、図9(b)はその一部断面図を示したものである(特許文献1参照)。
図9(a)に示すように、PDP01は表示側ガラス基板02と背面側ガラス基板03が約100から200μmの間隔を隔てて対向配置されており、これら一対のガラス基板02,03の対向領域の周縁は封止ガラス(フリット硝子)で熱融着して、内部に放電のための密封空間を形成している。そして、何千という数の単位発光領域Uを有し、そのうちの一つの単位発光領域Uの内部構造は、図8(b)に示すように、その領域内に表示側ガラス基板02に設けた表示電極X、Yと、背面側ガラス基板03に設けたアドレス電極Aが直交するように対峙し、両者間に放電空間04が形成されている。
これら表示電極X、Yは幅広の透明導電膜06と、導電性を補うために、例えばクロム−銅−クロムの3層構造のバス金属膜07とから成り、そして全ての電極X、Yは数十μm程度の厚さを有する誘電体層08と低融点ガラス層09で覆われ、さらに最終外表面には放電による劣化を抑えるために、例えばMgOから成る保護層010が蒸着されている。誘電体層08としては焼成時の気泡を抑えるために非脱泡性の、例えばPbOを主成分とし、SiO、Al等から成る低融点ガラスが選択される。
一方、背面側ガラス基板03上にはアドレス電極Aが表示電極X、Yと直交する方向に配線され、各アドレス電極Aは各放電空間04の干渉を防ぐためのグリッド隔壁011により隔離されその上面は誘電体層08で覆われている。アドレス電極Aを挟んで延びる2つのグリッド隔壁011は単位発光領域Uの放電空間04を画成し、この放電空間04の上面を除く周面は、放電空間04内の放電ガスが放つ紫外線により励起して発光する蛍光体012で被覆されている。そして、R、G、Bの発光色を有する3つの単位発光領域を1単位として、1画素セルが構成されている。
そして、これら2つのガラス基板02、03が封止ガラス013により密封接合されるが、この際、封止ガラス013内の両ガラス基板02、03で挟まれた放電空間領域はガラス基板02に設けられた排気管014を介して真空状態にされ、その後、その放電空間領域にヘリウム、ゼノン、或いはネオン等の放電ガスが充填される。
特開平7−65729号公報(段落0019−0027、図1及び図2参照図)
しかしながら、特許文献1に記載のPDPを再利用しようとすると、2枚のガラス基板02、03を先ずは熱融着した封止ガラス013から分離しなければならず、困難な作業を伴うばかりでなく、分離後においても微少間隔で立設しているグリッド隔壁011間に、金属体で構成された電極A、誘電体層08およびR、G、Bの蛍光物質から成る蛍光体012が埋設し、表示ガラス基板02面にも保護層010、誘電体層08および電極X,Yが付着しているため、これら各種の表示素子構成物質を表示ガラス基板02、背面側ガラス基板03からきれいに剥ぎ取ることが殆ど不可能であることから、従来はクラッシャーにかけ産業廃棄物として埋め立て処理するか、表示素子構成物質が付着したまま粉砕して、鋭利な角部を取り除いた小さい粒形状に仕上げ、ガラスカレットとして舗装材の骨材として、あるいは外装壁タイル原料として使用される程度であり、コスト面および技術上の困難性からPDPのガラス基板を再度ガラス基板の原料として再利用する構想はどこにもなかった。
本発明は、このような状況に鑑みてなされたものであり、廃棄予定のPDPのガラス基板の分離から表示素子構成物質の剥離まで、効率的に、且つ連続的に行える低コストのPDPの再利用システムを提供することを目的とするものである。
上記課題を解決するために、本発明の請求項1に記載のプラズマディスプレイパネルの再利用システムは、表示側ガラス基板と背面側ガラス基板とが対向配置され、これら一対のガラス基板の対向領域の周縁をシール部により密封接合し、内部に放電空間を形成してなるプラズマディスプレイパネルを搬送装置により搬送させながら分離し再利用化を図るプラズマディスプレイパネルの再利用システムであって、搬送装置に投入されたプラズマディスプレイパネルは、前記ガラス基板のうち一方のガラス基板の対向する一対の側端部をシール部の放電空間側を僅かに残して切断する第1切断部、プラズマディスプレイパネルを90°回動させる反転部、前記一方のガラス基板の対向する他方の一対の側端部をシール部の放電空間側を僅かに残して切断する第2切断部、切断された両ガラス基板の放電空間内に加圧流体を導入する分離部、分離した各ガラス基板に付着している電極を含む表示素子構成物質を剥離する剥離部を順次経た後、搬送装置より搬出されることを特徴としている。
この特徴によれば、プラズマディスプレイパネルを搬送させながら、切断、分離、剥離工程を連続的に行うことで、効率の良い解体作業が作業でき、しかも特殊な工具を準備する必要がないので、低コストで再利用システムを構築することができる。
本発明の請求項2に記載のプラズマディスプレイパネルの再利用システムは、請求項1に記載のプラズマディスプレイパネルの再利用システムであって、前記シール部の切り残された幅は0.5mmから1.0mmの範囲内であることを特徴としている。
この特徴によれば、シール部の切り残された幅は0.5mmから1.0mmの範囲内であれば、小さな加圧ガス圧で容易にガラス基板を分離させることができる。
本発明の請求項3に記載のプラズマディスプレイパネルの再利用システムは、請求項1または2に記載のプラズマディスプレイパネルの再利用システムであって、前記加圧流体は放電ガス注入口から導入することを特徴としている。
この特徴によれば、すでに設けられている放電ガス注入口を利用するので、あらためて注入口を形設する必要がない。
本発明の請求項4に記載のプラズマディスプレイパネルの再利用システムは、請求項1ないし3のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの再利用システムであって、前記シール部の切断は、他方のガラス基板の外方電極形成側を残してシール部を切断することを特徴としている。
この特徴によれば、ガラス基板の外方電極形成側を切断しないので、ガラス基板の再利用可能な面積を大きく残すことができる。
本発明の請求項5に記載のプラズマディスプレイパネルの再利用システムは、請求項1ないし4のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの再利用システムであって、前記表示素子構成物質の剥離は両ガラス基板の内面研削をダイヤホイールで行うことを特徴としている。
この特徴によれば、ガラス基板に付着した表示素子構成物質をダイヤホイールによる研削という手法で剥ぎ取ることにより、迅速且つ確実にガラス基板から剥離することができる。
本発明の実施例を以下に説明する。
図1は本発明で使用されるPDPの外観形状を示す斜視図、図2はPDPの1画素に対応する部分の基本的な構造を示す分解斜視図、図3はPDPの切断部位を示す平面図、図4は(a)は図3のA−Aに沿った断面図、(b)は図3のB−Bに沿った断面図であって、シール部が僅かに残るように切断した状態を示す説明図、図5(a)はカッターを使用して表示側ガラス基板の両側端と背面側ガラス基板の内面をシール部を一部残して共に切除する状態を示す工程図、(b)は90°回転させて表示側ガラス基板の両外方電極形成側と背面側ガラス基板の内面をシール部を一部残して共に切除する状態を示す工程図、図6は両ガラス基板を分離する工程図であって、(a)は加圧流体を導入する分離前の状態図、(b)は分離後の両ガラス基板の状態図、図7(a)はPDPから分離された表示側ガラス基板内面側の表示素子構成物質を研削によって剥離する状態を示す作用説明図で、(b)は同じく背面側ガラス基板内面側の電極を含む表示素子構成物質を研削によって剥離する状態を示す作用説明図である。また図8は本発明のシステムに係る流れ工程図である。
最初に、PDPに付き図1および図2を参照して説明する。
図1および図2に示すように、PDP1は薄い肉厚(3mm程度)で構成される表示側ガラス基板(以下、前面基板という)2と背面側ガラス基板(以下、背面基板という)3が、約100から200μmの間隔を隔てて張合わされたもので、これら一対の基板2,3の対向領域周縁は、シール部となる封止ガラス(フリット硝子)4で熱融着して、内部に放電のための密封空間を形成している。
そして、その密封空間には複数(数千単位)の単位発光領域Uを有し、そのうちの一つの単位発光領域Uの内部構造は、図1に示すように、その領域内に前面基板2に設けた表示電極S、Tと、背面基板3に設けたアドレス電極Eが直交するように対峙し、両者間に放電空間5(図2,図4参照)が形成されている。
これら表示電極S、Tは幅広の透明導電膜8と、導電性を補うために、例えばクロム−銅−クロムの3層構造のバス金属膜6とから成り、そして全ての電極S,Tは数十μm程度の厚さを有する誘電体層10と、さらに最終外表面には放電による劣化を抑えるために、例えばMgOから成る保護層12が蒸着されている。誘電体層10としては焼成時の気泡を抑えるために非脱泡性の、例えばPbOを主成分とし、SiO,Al等から成る低融点ガラスが選択される。
一方、背面基板3上には、アドレス電極Eが表示電極S、Tと直交する方向に配線され、各アドレス電極Eは各放電空間5の干渉を防ぐためのグリッド隔壁14により隔離されその上面は誘電体層16で覆われている。アドレス電極Eを挟んで延びる2つのグリッド隔壁14は、単位発光領域Uの放電空間5を画成し、この放電空間5の上面を除く周面は、放電空間5内の放電ガスが放つ紫外線により励起して発光する蛍光体15で被覆されている。そして、R(赤)、G(緑)、B(青)の発光色を有する3つの単位発光領域を1単位として、1画素セルDが構成されている。
そして、これら2つの基板2,3がシール部となる封止ガラス4により密封接続されるが、封止ガラス4内の両基板2,3で挟まれた空間は、前面基板2に形設したガス注入口(図示せず)に接続した排気管兼注入管17により先ず真空状態にされ、その後、内部にヘリウム、ゼノン、或いはネオン等の放電ガスが充填される。
このようにして、表示画面を構成する各画素セルDには,ライン方向に並ぶ同一面積の3つの単位発光領域Uが対応づけられている。各単位発光領域Uにおいて、表示電極S、Tによって面放電セル(表示のための主放電セル)が画定され、アドレス電極Eとの電位によって表示又は非表示セルが特定される。これにより、アドレス電極Eの延長方向に連続する蛍光体15の内、各単位発光領域Uに対応した部分を選択的に発光させることができ、R,G,Bの組み合わせによるフルカラー表示が可能になる。
そこで、上記のように構成されたPDP1の前面基板2と背面基板3を再利用するに際し、封止ガラス4により張合わされている両基板2,3を分離して該両基板2,3に付着している電極を含む表示素子構成物質の全てを、図2に示される厚みの範囲S2,S1で剥離する作業が行われる。
両基板2、3の対接する両側端内面は、図3に示すように封止ガラス4により密封状に接続されており、カッターによる切断線C1,C2により切除する領域は、前面基板2の電極が形成されていない非電極形成両側端部と、背面基板3の内面側の一部であり、切断線C3,C4により切除する領域は、前面基板2の電極が形成されている外方電極形成両側部X3,X4と、背面基板3の内面側の一部であり、封止ガラス4の放電空間側が僅かに残るようにして切除される。
このような切断手段を採用することにより、背面基板3の外方電極形成両側部X1,X2は切断されず、有効資源として利用される。また、封止ガラス4の一部を残して切除することにより、両基板2,3が封止ガラスを介してカッターCによる切断中も連接されることになり、切断時の両基板の振動が封止ガラス4により抑えられて、基板にクラックや欠けが発生するのを防止できる。
更に封止ガラス4の切断に関し詳述すると、図4(a)に示すように、封止ガラス4の幅(約4mm)のうち、放電空間5側が0.5mm幅残るような部位に、約3.5mm幅のカッターCを使用して前面基板2の非電極形成側端部20b、封止ガラス4を切断し、背面基板3の上面の一部を切除する(一点鎖線参照)。その後、図4(b)に示すように、封止ガラス4の放電空間5側が、同じく0.5mm幅残るような部位に、約3.5mm幅のカッターCを使用して前面基板2の外方電極形成両側部X3(X4)、封止ガラス4を切断し、背面基板3の上面の一部を切除する(一点鎖線参照)。
具体的には、図5(a)に示すように、廃棄予定のPDP1を、前面基板2を上にしてコンベア等の移載装置に載せ、切断線C1,C2に沿って移動させる。2連のカッターC、Cを通過するときに、前面基板2の非電極形成両側端部20a,20b、封止ガラス4が切断され、背面基板3の上面の一部が切除される。2連のカッターC、Cを通過後、PDP1を90°回動させ、再び移載装置に載せ、図5(b)に示すように、切断線C3,C4に沿って移動させ、2連のカッターC、Cを通過するときに、前面基板2の外方電極形成両側部X3、X4、封止ガラス4を切断し、背面基板3の上面の一部を切除する。
廃棄予定のPDP1の移動方式としては、中央に一つの2連のカッターC、Cを置き、PDP1一方向から通過させ、90°反転させて再び中央の2連カッターC、Cに向かって移送させるようにしても良いし、2つの2連カッターC、C2連カッターC、C間に反転装置を置き、一方向から直線的に流すようにしたライン構成であっても良い。
封止ガラス4は0.5mm幅残るようにして切除しているが、残す幅は0.5mmから1.0mmの範囲内であれば問題はなく、幅が1.0mmを越すと両基板の分離が困難となり、0.5mmより小さいと、封止ガラスの効果が発揮されず、クラックや欠けが発生する。
上述の切断工程を経ることにより、図6(a)で示す分離前のPDP1が得られる。前面基板2の排気管兼注入管17に加圧ホースをつなぎ、加圧流体を注入すると、0.5mm幅の封止ガラスで接続されていた両基板2,3は、図6(b)で示すように瞬時に分離される。加圧流体としては後の剥離工程を考慮すると、気体、特に圧縮空気が好ましい。使用圧も1.5から2気圧程度で十分である。また、後の剥離工程作業をし易いように、排気管兼注入管17はカットされる。仮に、PDP1が放電ガス注入後、注入口をガラス材で封止してしまうタイプのものであれば、注入のための注入口を形設する必要がある。
両基板2,3が分離されると、両対接面に形成される電極を含む表示素子構成物質24及び25を上に向けて図示しない研削盤の移動テーブル上にそれぞれ載置される。
研削盤の移動テーブル上に載置された前面基板2は、図7(a)に示すように、図示しない移動テーブルの移動により、例えば、周囲に冷却水用のスリットを複数有するダイヤホイールGを使用して、対接面に付着している電極を含む表示素子構成物質24の全てを研削して、前面基板2に不純物のない研磨面2aを形成する。
一方、研削盤の移動テーブル上に載置された背面基板3は、図7(b)に示すように、同様のダイヤホイールGを使用して対接面に付着している電極を含む表示素子構成物質25の全てを削り取るまで研削することで、背面基板3に不純物のない研磨面3aを形成することができる。研削具としては、ダイヤモンドやCBN(立体晶窒化硼素)固定した電着ホイールを使用してもよいが、ダイヤホイールの方が表示素子構成物質を迅速且つ確実に基板から剥離することができる。
このように、対接面に付着している不純物が研削によって剥離された両基板2,3の純粋な部分のみが溶解されて再利用することができるだけでなく、研削によって形成されたスラッジ内に含まれる電極などの組成物として貴金属となる、Ag,Sn及びInも、電気分解によって回収することができる。
次に、本発明のプラズマディスプレイパネルの再利用システムに付き、図8の流れ工程図に基づき説明する
先ず、再利用予定のPDP1は回収パレットより取り出され、移載装置により第1切断部(ア)に搬送される。この第1切断部(ア)はPDP1を移送するための搬送装置としての搬送コンベア30と2連のカッターCで構成され、PDP1がモータMにより駆動されている2連カッターCを通過することで、上方の基板の両側端部がシール部を一部残して同時切断される。
次に、PDP1は反転部(イ)に移され、反転部(イ)のターンテーブル32により90°回転される。90°回転されたPDP1は再び切断のため第2切断部(ウ)に移される。この第2切断部(ウ)も第1切断部(ア)と同様にPDP1を移送するための搬送コンベア34と2連のカッターCで構成され、PDP1がモータMにより駆動されている2連カッターCを通過することで、上方の基板の外方電極形成両側部がシール部を一部残して同時切断される。
僅かに残されたシール部によって基板同士が連接しているPDP1は分離部(エ)に運ばれる。分離部(エ)ではポンプPからの加圧空気が基板間の放電空間に注入され、両基板は分離される。分離された両基板は一枚ずつ次の剥離部(オ)の搬送コンベア36に表示素子構成物質が上を向くようにして載置される。
剥離部(オ)には2列に並んだ複数個(本実施例では7個)の回転するダイヤホイールGが横設され、基板がこのダイヤホイールGを通過することにより、表示素子構成物質が剥離される。剥離時はダイヤホイールGの周面から冷却水を常時散布するのが好ましい。剥離作業を終えた基板は搬送装置である搬送コンベア36から搬出され、図示しない収納パレット等に一時的に保管される。
上記のような再利用システムによれば、切断には2連のカッターを使用することで同時切断が可能であり、分離作業も加圧流体を注入するだけでよく、かつ、両基板の両対接面に付着した電極を含む表示素子構成物質をダイヤホイールを複数横設するだけで確実に剥ぎ取ることができ、しかも高価な特殊工具を用いていないので、低コストで効率的な一連の作業が完遂できる。
以上、本発明の実施形態を図面により説明してきたが、具体的な構成はこれら実施例に限られるものではなく、例えば、カッターの使用順序は、実施例で説明したのとは逆に、始めに前面基板2の外方電極形成両側部X3、X4の方を切除し、後で前面基板2の非電極形成両側端部を切除するようにしても良い。また、前面基板2の外方電極形成両側部X3、X4の方を残すように、背面基板3を上に向けて切断することも可能である。
本発明で使用されるPDPの外観形状を示す斜視図である。 PDPの1画素に対応する部分の基本的な構造を示す分解斜視図である。 PDPの切断部位を示す平面図である。 (a)は図3のA−Aに沿った断面図、(b)は図3のB−Bに沿った断面図であって、シール部が僅かに残るように切断した状態を示す説明図である。 (a)はカッターを使用して表示側ガラス基板の両側端と背面側ガラス基板の内面をシール部を一部残して共に切除する状態を示す工程図、(b)は90°回転させて表示側ガラス基板の両外方電極形成側と背面側ガラス基板の内面をシール部を一部残して共に切除する状態を示す工程図である。 両ガラス基板を分離する工程図であって、(a)は加圧流体を導入する分離前の状態図、(b)は分離後の両ガラス基板の状態図である。 (a)はPDPから分離された表示側ガラス基板内面側の表示素子構成物質を研削によって剥離する状態を示す作用説明図で、(b)は同じく背面側ガラス基板内面側の電極を含む表示素子構成物質を研削によって剥離する状態を示す作用説明図である。 本発明のシステムに係る流れ工程図である (a)は従来のPDPの斜視図であり、(b)はその部分断面図を示したものである。
符号の説明
1 PDP(プラズマディスプレイパネル)
2 表示側ガラス基板(前面基板)
3 背面側ガラス基板(背面基板)
2a,3a 研磨面
4 封止ガラス(シール部)
6 バス金属膜
5 放電空間
8 透明導電膜
10、16 誘電体層
12 保護層
14 グリッド隔壁
15 蛍光体
17 排気管兼注入管
20a,20b 非電極形成両側端部
24,25 表示素子構成物質
30,34,36 搬送コンベア(搬送装置)
32 ターンテーブル
C1〜C4 切断線
D 画素セル
E アドレス電極
C カッター
G ダイヤホイール
S,T 表示電極
S2,S1 剥離する厚みの範囲
U 単位発光領域
X1〜X4 外方電極形成側部

Claims (5)

  1. 表示側ガラス基板と背面側ガラス基板とが対向配置され、これら一対のガラス基板の対向領域の周縁をシール部により密封接合し、内部に放電空間を形成してなるプラズマディスプレイパネルを搬送装置により搬送させながら分離し再利用化を図るプラズマディスプレイパネルの再利用システムであって、搬送装置に投入されたプラズマディスプレイパネルは、前記ガラス基板のうち一方のガラス基板の対向する一対の側端部をシール部の放電空間側を僅かに残して切断する第1切断部、プラズマディスプレイパネルを90°回動させる反転部、前記一方のガラス基板の対向する他方の一対の側端部をシール部の放電空間側を僅かに残して切断する第2切断部、切断された両ガラス基板の放電空間内に加圧流体を導入する分離部、分離した各ガラス基板に付着している電極を含む表示素子構成物質を剥離する剥離部を順次経た後、搬送装置より搬出されることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの再利用システム。
  2. 前記シール部の切り残された幅は0.5mmから1.0mmの範囲内である請求項1に記載のプラズマディスプレイパネルの再利用システム。
  3. 前記加圧流体は放電ガス注入口から導入する請求項1または2に記載のプラズマディスプレイパネルの再利用システム。
  4. 前記シール部の切断は、他方のガラス基板の外方電極形成側を残してシール部を切断する請求項1ないし3のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの再利用システム。
  5. 前記表示素子構成物質の剥離は両ガラス基板の内面研削をダイヤホイールで行う請求項1ないし4のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの再利用システム。
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