JP4059199B2 - マイクロリレー - Google Patents
マイクロリレー Download PDFInfo
- Publication number
- JP4059199B2 JP4059199B2 JP2004018960A JP2004018960A JP4059199B2 JP 4059199 B2 JP4059199 B2 JP 4059199B2 JP 2004018960 A JP2004018960 A JP 2004018960A JP 2004018960 A JP2004018960 A JP 2004018960A JP 4059199 B2 JP4059199 B2 JP 4059199B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- base substrate
- thin film
- armature
- fixed
- hole
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Micromachines (AREA)
Description
以下、本実施形態のマイクロリレーについて図1〜図6を参照しながら説明する。
本実施形態のマイクロリレーの基本構成は実施形態1と略同じであって、図16に示すように、ベース基板1の上記一表面側でスルーホール10を閉塞する蓋体19が、アーマチュアブロック3のフレーム部31から連続一体に延設されている点に特徴がある。なお、他の構成は実施形態1と同様なので、実施形態1と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
本参考例のマイクロリレーの基本構成は実施形態1と略同じであって、図17に示すように、カバー4の周部が、アーマチュアブロック3のフレーム部31ではなくてベース基板1の上記一表面側に固着され、ベース基板1の上記一表面側でスルーホール10を閉塞する蓋体19が、カバー4の周部から連続一体に延設されている点に特徴がある。なお、他の構成は実施形態1と同様なので、実施形態1と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
2 電磁石装置
3 アーマチュアブロック
4 カバー
10 スルーホール
14 固定接点
16 収納孔
17 蓋体
19 蓋体
20 ヨーク
20a コイル巻回部
20b 脚片
21 永久磁石
22 コイル
23 プリント基板
30 アーマチュア
30a 可動基台部
30b 磁性体部
31 フレーム部
32 支持ばね部
34 可動接点基台部
35 接圧ばね部
Claims (8)
- 厚み方向の一表面側に固定接点が設けられ且つ他表面側に電磁石装置を収納する収納部が形成されたベース基板と、ベース基板の前記一表面側に全周に亙って固着される枠状のフレーム部およびフレーム部の内側に配置されて支持ばね部を介してフレーム部に支持され電磁石装置により駆動されるアーマチュアおよび可動接点を有するアーマチュアブロックと、アーマチュアブロックにおけるベース基板とは反対側でアーマチュアブロックの少なくともアーマチュアおよび支持ばね部および可動接点を覆うように周部が全周に亙ってフレーム部に固着されたカバーとを備え、ベース基板は、厚み方向に貫通するスルーホールの内周面に被着された金属配線を介して固定接点に電気的に接続される導体パターンが前記他表面側に形成され、スルーホールを閉塞する閉塞手段が設けられてなり、前記閉塞手段は、前記ベース基板の前記一表面において前記スルーホールの周縁に形成された環状の金属薄膜と、金属薄膜の表面の全周に亙って接合された前記スルーホールを閉塞する薄膜状の蓋体とからなり、前記金属薄膜および前記蓋体は少なくとも互いの接合面近傍の部分が同種の金属材料により形成されてなり、前記蓋体は、前記金属材料からなり前記金属薄膜に接合された接合用金属薄膜と接合用金属薄膜に積層されたシリコン薄膜との積層膜からなり、前記シリコン薄膜は、低抵抗であって、前記ベース基板の前記一表面側に前記金属薄膜および前記接合用金属薄膜を介して形成され、前記接合用金属薄膜とは反対側の表面に前記固定接点が積層されてなることを特徴とするマイクロリレー。
- 前記金属材料が金であることを特徴とする請求項1記載のマイクロリレー。
- 前記シリコン薄膜は、ベース基板側へ突出し前記金属薄膜の周囲を全周に亙って囲む環状のストッパ突起が設けられてなることを特徴とする請求項1または請求項2記載のマイクロリレー。
- 前記収納部が前記ベース基板において厚み方向に貫設した収納孔と前記ベース基板の前記一表面側において収納孔を閉塞するように前記ベース基板に固着された閉塞用薄膜とで囲まれる空間よりなり、前記蓋体と前記閉塞用薄膜とが同一平面上に配置されてなることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれかに記載のマイクロリレー。
- 前記収納部が前記ベース基板において厚み方向に貫設した収納孔と前記ベース基板の前記一表面側において収納孔を閉塞するように前記ベース基板に固着された閉塞用薄膜とで囲まれる空間よりなり、前記蓋体と前記閉塞用薄膜とは前記ベース基板の前記一表面側に同時に固着されてなることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれかに記載のマイクロリレー。
- 前記ベース基板は、ガラス基板により形成され、前記閉塞用薄膜としてのシリコン膜が陽極接合により固着されてなることを特徴とする請求項4または請求項5記載のマイクロリレー。
- 前記金属薄膜および前記接合用金属薄膜の一部は、前記ベース基板に形成された凹部であって且つ内底面に前記スルーホールの開口面が形成された凹部内に設けられ、前記シリコン薄膜の周部は凹部の周縁に重なっていることを特徴とする請求項1ないし請求項6のいずれかに記載のマイクロリレー。
- 厚み方向の一表面側に固定接点が設けられ且つ他表面側に電磁石装置を収納する収納部が形成されたベース基板と、ベース基板の前記一表面側に全周に亙って固着される枠状のフレーム部およびフレーム部の内側に配置されて支持ばね部を介してフレーム部に支持され電磁石装置により駆動されるアーマチュアおよび可動接点を有するアーマチュアブロックと、アーマチュアブロックにおけるベース基板とは反対側でアーマチュアブロックの少なくともアーマチュアおよび支持ばね部および可動接点を覆うように周部が全周に亙ってフレーム部に固着されたカバーとを備え、ベース基板は、厚み方向に貫通するスルーホールの内周面に被着された金属配線を介して固定接点に電気的に接続される導体パターンが前記他表面側に形成され、アーマチュアブロックは、ベース基板の前記一表面側でスルーホールを閉塞する蓋体がフレーム部から連続一体に延設されてなることを特徴とするマイクロリレー。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004018960A JP4059199B2 (ja) | 2004-01-27 | 2004-01-27 | マイクロリレー |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004018960A JP4059199B2 (ja) | 2004-01-27 | 2004-01-27 | マイクロリレー |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005216544A JP2005216544A (ja) | 2005-08-11 |
JP4059199B2 true JP4059199B2 (ja) | 2008-03-12 |
Family
ID=34903316
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004018960A Expired - Fee Related JP4059199B2 (ja) | 2004-01-27 | 2004-01-27 | マイクロリレー |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4059199B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2024024741A1 (ja) * | 2022-07-29 | 2024-02-01 | 株式会社大真空 | 圧電振動デバイス |
-
2004
- 2004-01-27 JP JP2004018960A patent/JP4059199B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005216544A (ja) | 2005-08-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4183008B2 (ja) | マイクロリレー | |
WO2005071707A1 (ja) | マイクロリレー | |
JP4059199B2 (ja) | マイクロリレー | |
JP4265542B2 (ja) | マイクロリレー | |
JP4020081B2 (ja) | マイクロリレー | |
JP4059198B2 (ja) | マイクロリレーおよびその製造方法 | |
JP2006210083A (ja) | マイクロリレー | |
JP2011090816A (ja) | 接点装置及びそれを用いたリレー、並びにマイクロリレー | |
JP4059201B2 (ja) | マイクロリレー | |
JP4059200B2 (ja) | マイクロリレー | |
JP4059203B2 (ja) | マイクロリレー | |
JP4059204B2 (ja) | マイクロリレー | |
JP4069870B2 (ja) | マイクロリレー | |
JP4069869B2 (ja) | マイクロリレーおよびこれを用いたマトリクスリレー | |
JP4196008B2 (ja) | マイクロリレー | |
JP4063228B2 (ja) | マイクロリレー | |
JP4059202B2 (ja) | マイクロリレー | |
JP4059205B2 (ja) | マイクロリレー | |
JP4222313B2 (ja) | マイクロリレー | |
JP2011096409A (ja) | 接点装置及びそれを用いたリレー、並びにマイクロリレー | |
JP4222319B2 (ja) | マイクロリレー | |
JP2011086589A (ja) | 接点装置及びそれを用いたリレー、並びにマイクロリレー | |
JP2012084290A (ja) | 接点構造及びその製造方法及び同接点構造を用いたマイクロリレー | |
JP2011086588A (ja) | 接点装置及びそれを用いたリレー、並びにマイクロリレー | |
JP2006210062A (ja) | マイクロリレー |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060302 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070720 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070904 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071105 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20071127 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20071210 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101228 Year of fee payment: 3 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101228 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111228 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121228 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121228 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131228 Year of fee payment: 6 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |