JP3902724B2 - 研磨装置 - Google Patents

Description

技術分野
本発明は、半導体ウエハ等を研磨するための研磨面を備えるターンテーブルと、研磨面に研磨液等の液体を供給するための液体供給装置とを備える研磨装置に関する。
背景技術
半導体ウエハの製造工程においては、半導体ウエハ表面を平坦且つ鏡面化するための研磨装置が使用されている。
この種の研磨装置は、表面に研磨面を有し所定の回転数で回転されるターンテーブルと、半導体ウエハを保持して所定の回転数で回転し研磨液が供給されるターンテーブルの研磨面に接触させて該半導体ウエハの表面を研磨するウエハキャリアと、研磨後にターンテーブルの研磨面に接触してドレッシング液を供給しながら研磨面の再生（目立て）を行なうドレッシングツールとを１つの密閉ハウジング内に収納して構成されている。
ターンテーブルの研磨面に研磨液やドレッシング液を供給するには、従来、図１に示すように、ターンテーブル２０１の上部に、研磨液やドレッシング液を吐出するためのノズル２０３を設置し、該ノズル２０３に研磨液やドレッシング液の供給チューブ２０５を接続し、該ノズル２０３から研磨液やドレッシング液をターンテーブル２０１の（通常は、上面に研磨クロス２０２を張り付けて形成した）研磨面上に吐出するようにしていた。
しかしながら上記従来装置には以下のような問題点があった。
▲１▼ノズル２０３や供給チューブ２０５は、ターンテーブル２０１の上方位置に固定されているので、例えばターンテーブル２０１の上面に貼り付けた研磨クロス２０２の貼り替えや、その他のメンテナンス時には邪魔になってしまう。
▲２▼ノズル２０３から吐出した研磨液等の液体は、ターンテーブル２０１上の最適位置（回転するターンテーブル２０１の上面全体を遠心力で拡散していくのに好適な位置、即ちターンテーブル２０１の回転中心位置近傍）に落下させる必要があるが、吐出する液体の流量や流速によってはその落下位置が変化して前記最適位置からずれてしまう虞れがある。
本発明は上述の点に鑑みてなされたものでありその目的は、研磨クロスの貼り替えやその他のメンテナンス時の邪魔になることがなく、且つ、液体を確実にターンテーブル上の最適位置に供給できるターンテーブルへの液体供給装置を備えた研磨装置を提供することにある。
発明の開示
本発明に係る研磨装置においては、液体供給装置が、可動アームと、該可動アームに支持されて、ターンテーブルの研磨面に液体を供給するためのノズルとを有する。可動アームは、ノズルを研磨面における液体を供給すべき箇所の実質的に垂直上方位置に位置決めするための液体供給位置と、研磨面の外周縁よりも外側に位置する少なくとも１つの待避位置との間で可動とされている。研磨装置は、更に、アームを液体供給位置及び待避位置のそれぞれの位置に保持するための保持装置を有する。
発明を実施するための最良の形態
以下、本発明の最良の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。
図２は、本発明を適用した研磨装置６０全体の構造の概要を示している。図示のように、研磨装置６０は、研磨を行う研磨室７０と、該研磨室に隣接して設けられた洗浄室９０とを備えており、両室７０，９０は１つの密閉されたハウジング内に設定されている。
研磨室は７０、中央にターンテーブル７３を有し、その両側に、研磨するウエハを支持してターンテーブルの研磨面に接触させる円盤状のウエハキャリア７５を備えるキャリアアセンブリ７７と、ターンテーブル７３の研磨面の目立てを行うための円盤状のドレッシングツール７９を備えるドレッシングアセンブリ８１とを有しており、研磨ユニット７７に隣接した位置には、研磨室７０と洗浄室９０との間での半導体ウエハの受け渡しを行うためのワーク受渡装置８３が設けられている。
この装置における研磨作業及び目立て作業は、概ね、以下の通りである。
研磨される半導体ウエハは、洗浄装置９０の受渡部ａがら当該洗浄装置９０内に導入され、同洗浄装置９０内を移送されて研磨装置７０のワーク受渡装置８３の上に載置される。
キャリアアセンブリ７７のウエハキャリア７５は、図示の位置から矢印Ａ方向に回転されて、ワーク受渡装置８３に載置されているウエハを、当該ウエハキャリアの下面で保持し、その垂直中心軸線を中心に回転しながら、保持したウエハを回転するターンテーブル７３上に移動し、同ターンテーブル上面の研磨クロス７４に押し付けることによって該ウエハの研磨を行う。このとき研磨クロス７４上には、以下で詳述する液体供給アーム１０から研磨液が供給される。
研磨作業終了後、半導体ウエハは再びワーク受渡装置８３に戻され、洗浄装置９０内で洗浄・乾燥され、受渡部ａから外部に取り出される。
ドレッシングツール７９は、半導体ウエハの研磨終了後、当該ドレッシングツールの垂直中心軸線を中心に回転されながら、矢印Ｂで示すようにターンテーブル７３上で揺動され、ターンテーブル７３の研磨クロス７４上に押し付けられて同研磨クロス７４表面の目立てを行なう。このとき研磨クロス７４上には、以下で詳述する液体供給アーム１０からドレッシング液が供給される。
研磨液やドレッシング液等を供給するために、本発明では、以下に説明する如き液体供給装置を備えているが、該液体供給装置を説明する前に、供給された液体の液体排出システムにつき簡単に述べる。
すなわち、本発明に係る研磨装置においては、図３及び図４に示すように、液体供給装置によってターンテーブル７３上に供給された研磨液等の液体が同ターンテーブルの回転に伴って、その外周縁から外方に飛散されるのを受け止めるための飛散防止カバー１０１が設けられている。該カバーは、ターンテーブルの外周縁に沿って設置されており、その一部には切欠き部１０３が設けられている。またターンテーブル７３の外周下部にはリング状に形成された樋１１１が設置されており、飛散防止カバーによって受け止められた液体は、該樋１１１内に集められ、図示しない所定の配管によって研磨装置７０の外部に排出されるようになっている。
次に液体供給装置を説明するに、該装置は、一端がターンテーブル７３近傍に設置した台１２１の上に設けた揺動軸５０に揺動可能に取り付けられた液体供給アーム１０を有しており、該アームには、その先端に研磨液とドレッシング液をそれぞれ吐出する４つのノズル２３を備えるノズルアセンブリが取り付けられている。
液体供給アーム１０の揺動軸５０の部分には、下記するディテント機構１５が設けられ、図５に示す液体供給位置Ｆ（図３に示す位置と同じ）と、ターンテーブル７３の外周縁近傍の第１の退避位置Ｄと、ターンテーブル７３の外周縁から離れた第２の退避位置Ｅの３つのポジションにおいて、それぞれ停止状態が保持できるようにされている。
液体供給アーム１０は、その先端部分の上面にスライド機構１２を介してステー１４が摺動可能に取り付けられており、該ステー１４の先端部分にノズルアセンブリ４０がネジ等によって固定され、さらに該ノズルアセンブリ４０の上部を塞ぐようにボックスカバー１３が着脱自在に取り付けられている。図７に示すように、液体供給アームは、油圧や空気圧のシリンダにより上下動可能になっている。
ディテント機構１５は、図示のように、台１２１上面の所要個所に設けられた弾性部材と、該弾性部材によって液体供給アームの底面に押圧される球体と、アーム本体底面に形成された凹部とから構成されており、前記各位置Ｆ，Ｄ，Ｅにおいて凹部が球体と係合することによって当該液体供給アームをその位置に保持するようになっている。しかし、保持されているアームは一定以上の回転力を与えることによって、その保持が解除される。
前記ステー１４はスライド機構１２によってスライド可能とされているが、前記揺動軸５０のディテント機構１５と同様のディテント機構で矢印Ｘ方向には抜けないようにされている。
前記ノズルアセンブリは、ノズル設定部材４０を備え、その先端の下面１９がボックスカバー１３先端下面に設けた開口２１から下方向に向かって突出しており、前記４つのノズル２３はその先端を設定部材４０の下面１９から真下に突出するように取り付けられており、その反対側の基端は、それぞれコネクタ２４を介して供給チューブ２５に接続されている。ノズル２３の先端を下面１９と同一面に設置したとした場合、該ノズル２３から吐出される液体がノズル設定部材の下面１９上に表面張力で溜って別のノズル２３から吐出する別の種類の液体と混ざってしまう虞れがあるが、上記の通り、ノズル先端をノズル設定部材の下面１９から突出させ、しかも、相互に離して設定しているので、そのような問題は回避することができる。
また４本の供給チューブ２５はボックスカバー１３から外部に引き出されているが、各供給チューブ２５は何れもボックスカバー１３内において所定角度θだけ斜めに傾斜している。このように各供給チューブ２５を傾斜させたのは、各供給チューブ２５内で液が溜らないようにするためである。
各供給チューブ２５には液体供給装置からそれぞれ研磨液やドレッシング液や分散液、酸化剤などの薬液などが供給される。それぞれのチューブは、必要に応じて、図７に示される様に、それぞれ異なった液体供給源（タンクＴ）に接続させることができる。ノズル２３や供給チューブ２５の数や構造は必要に応じて変更される。
次にこの液体供給アーム１０の動作を説明する。
液体供給アーム１０は、図５に示す液体供給位置Ｆにおいて、その先端の４つのノズル２３の中心が、ターンテーブル７３の回転中心軸に一致するように位置決めされ、ディテント機構１５によって保持されている。そして、ウエハキャリア７５の下面に保持した半導体ウエハをターンテーブル７３の研磨クロス７４表面の研磨面に当接して研磨する際、前記液体供給アーム１０先端の４個のノズルのうちの所定のノズル２３から研磨液を吐出する。
吐出された研磨液は、ターンテーブル７３の中央に垂直に落ち、ターンテーブル７３の回転による遠心力によってターンテーブル７３全面に均一に広がり、その研磨面全体を覆う。
また、ドレッシングツール７９によるドレッシング時には、ノズルユニット４０の別のノズル２３からドレッシング液が吐出されるが、このドレッシング液も前記研磨液と同様にターンテーブル７３の中央に垂直に落ちるようにされ、研磨クロス７４全面に均一に広がる。
つまり本実施形態にかかる液体供給アーム１０の場合、図１に示す従来例のように液体をターンテーブル７３上で斜め方向に吐出する構造ではなく、いずれのノズル２３から吐出される液体も、ターンテーブル７３の中央に垂直に垂れるように供給され、従って、ターンテーブルの研磨面の所要の位置に正確に供給することができる。
液体を垂直に供給するための方法としては、図示の如くノズル先端を垂直下向きにする方法の他に、液体を貯留するタンクＴとノズルとの間に流量調整バルブＶを設けてノズルに供給する流量を調整できるようにし、ノズル先端が角度を持って設定されていたとしても、そのノズル先端から吐出された液体が直ちに垂直に流下する程度の流量に調節することによって行うことも可能である。
ターンテーブル７３上に貼り付けた研磨クロス７４の貼り替え等を行なう場合は、前記液体供給アーム１０を手で図５の第１の退避位置Ｄまで揺動させる。この位置においてもディテント機構１５が働いて、その停止状態が保持される。これによってターンテーブル７３の研磨クロス７４の真上には何物も存在しないこととなり、研磨クロス７４の貼り替えなどの作業が容易に行なえる。
またこのとき液体供給アーム１０先端のノズル２３は、飛散防止カバー１０１の切欠き部１０３の真上に位置するようにされており、ノズル２３から垂れる液体（液体の供給は停止しているが、ノズル２３内に残った液体が漏出してくる）は、該切欠き部１０３を通してその下に位置する樋１１１内に落下し、これによって漏出した液がターンテーブル７３の周囲を汚す虞はない。
また、このような構成となっているために、チューブ２５を研磨液源や薬液源などの他に純水源にも接続しておき、使用後に、チューブ２５の接続を純水源に切り替えて純水を流すことにより、当該チューブ及びノズルの洗浄を、周囲を汚すことなしに行うことができる。
前記２つのポジションＦ，Ｄでは行えないメンテナンスの必要が発生した場合、即ち例えば下記するようにノズルアセンブリ４０をアーム本体１１から取り外してノズル２３の吐出流量を計る場合や、ターンテーブル７３上で割れた半導体ウエハの破片を回収する場合や、樋１１１に入り込んだ半導体ウエハの破片を取り出すために飛散防止カバー１０１を取り外す場合や、ターンテーブル７３全体を見渡して何らかの異常があるか否かを点検するような場合や、本発明にかかる液体供給装置自体のメンテナンスを行いたい場合等は、前記液体供給アーム１０を手で図５の第２の退避位置Ｅまで揺動させる。この位置においてもディテント機構１５が働いて、この位置での停止状態が保持される。
これによってターンテーブル７３及び飛散防止カバー１０１の上に何物も存在しなくなり、上記メンテナンスが容易に行なえる。
しかも図示の退避位置Ｅは、研磨装置７０の外壁に近い位置なので、液体供給装置自体のメンテナンスが研磨装置７０の外部から容易に行え好適である。なお第２の退避位置としては、位置Ｅ以外に、例えば図５に示す位置Ｇとしても良い。
ところで各ノズル２３から吐出される液体の流量を最適量に調整するためには、該流量を計量する必要がある。そして本実施形態の場合、その計量には以下の２つの方法がある。
即ち１つ目の方法は、各ノズル２３先端から吐出する液体をメスシリンダなどの流量計で直接測定する方法である。この場合、液体供給アーム１０を例えば前記Ｄの位置として行ったり、又は、止めネジ１６（図６、図７）を取り外してステー１４ごと矢印Ｘ方向に引き抜いてノズルユニット４０等全てをアーム本体１１から取り外し、測定し易い場所に移動して行うことができる。この測定方法は、各ノズル２３先端から吐出する液体の流量を直接測定できるので、正確な測定が行なえる。
２つ目の方法は、ステー１４からボックスカバー１３を矢印Ｙ方向に引き上げて取り外し、その内部に露出する供給チューブ２５の内の測定したい供給チューブ２５をコネクタ２４の部分で取り外し、該供給チューブ２５の先端を所望の測定し易い場所に移動してその吐出流量を測定する方法である。
この測定方法の場合、ノズル２３から吐出する流量を測定するのではないので、前記１つ目の測定方法に比べてその流量値に多少誤差が生じる恐れはあるが、ステー１４等をアーム本体１１から取り外す必要がないので、その測定が簡便に行なえるという利点がある。
以上に述べた本実施形態は、液体供給アーム１０を揺動軸５０を中心に揺動させる構造なので、その揺動位置を例えば揺動軸５０に取り付けた位置検出センサで容易に検出することができ、これによって液体供給アーム１０が正規の液体供給位置Ｆにない場合には、研磨装置７０の駆動を停止するように駆動停止手段でインターロックをかけて制御することで装置の安全性を向上することが容易に行なえる。即ち例えば液体供給アーム１０が液体供給位置Ｆ以外の位置にある場合に、ドレッシングユニット８１が動作して液体供給アーム１０に衝突して双方破損するといったこと等を防止できる。
また図３に示すように飛散防止カバー１０１の所定位置にドグ（被検出物）１３１を取り付け、一方飛散防止カバー１０１を正規の設置位置に設置した際に前記ドグ１３１と接近して対向するアーム本体１１の位置にセンサ１３３（図１，図３参照）を取り付けることにより、飛散防止カバー１０１の付け忘れや、位置ずれが容易に検出できるようにしている。即ち飛散防止カバー１０１は上下動可能なので、ターンテーブル７３のメンテナンス時は下げているが、下げたまま研磨作業が行われると、研磨液などが周囲に飛散するため、そのようなことがないように飛散防止カバー１０１が下がったままだとセンサ１３３がドグ１３１を検知せず、これに基づきターンテーブルの駆動モータ等が作動しないようにすることができる。
また、飛散防止カバー１０１が上昇しすぎてセンサ１３３でドグ１３１を検知できなくなるのに応答して、飛散防止カバー１０１を所定の位置まで下げるか、またはアーム本体１１を所定量上昇するようにすることができる。本実施例では、アーム本体１１及び飛散防止カバー１０１を共に上下動可能な構成としてあるが、例えばアーム本体１１は上下動しない構成にしても良い。
また上記実施形態ではディテント機構１５による液体供給アーム１０の停止位置を３個所としたが、本発明はこれに限定されるものではなく、液体供給位置及び退避位置がそれぞれ少なくとも１づつあればよい。
またアーム１０を揺動する装置として、アームと当該研磨装置の静止フレームとの間にピストンシリンダ装置を設けて、該ピストンシリンダの伸縮によって揺動するようにすれば、前記の停止位置においてアーム１０を保持するのに前記の如きディテント機構を設ける必要が無くなる。その場合、ピストンシリンダ装置に位置検出スイッチを設け、アーム位置を検出・制御しても良い。さらにそのようなピストンシリンダの代わりにロータリーアクチュエータを用いても良い。さらにディテント機構の代わりにアーム１０をステッピングモータを用いて駆動するようにすればアーム１０の各停止位置で正確にアーム１０を停止・保持できる。
また上記実施形態ではその液体供給位置Ｆを、液体供給アーム１０の先端の４つのノズル２３の中心がターンテーブル７３の回転中心軸に一致するように位置せしめているが、液体供給位置Ｆは必ずしもこの位置に限定されない。即ち例えば図５に示すように、ターンテーブル７３上で研磨される半導体ウエハ３００の外周がターンテーブル７３０回転中心まで移動してこない場合は、ノズル２３の中心位置はターンテーブル７３の回転中心から半導体ウエハ３００が研磨されない半径Ｈ内の範囲であれば何れの位置であっても良い。何故なら半径Ｈの円内に液体が供給されれば、ターンテーブル７３の回転による遠心力によりウエハ３００の面に液体が十分供給されるためである。
図８ないし図１２は、本発明の他の実施形態が示されている。
すなわち、この実施形態においては、液体供給アーム１０’に取り付けられるノズルを、当該アーム本体１１’の先端に固定される固定ノズル２３’と、同アームの長さ方向で変位可能な移動ノズル２５”の２種類としている。すなわち、固定ノズル２３’は、図示しない液体供給装置（図示の例ではドレッシング液供給装置）から伸びるチューブ２５’の先端を液体供給アーム１０先端に設けた垂直貫通孔に通し、固定用部材２７によって固定して形成されている。また、移動ノズル２３”は、図示しない液体供給装置（図示の例では研磨液供給装置）から伸びたチューブ２５”の先端を、アーム本体１１’の長さ方向に設けた細長い孔２８に垂直に通し、該孔に沿って移動可能なるようにして形成されており、固定用部材３０によって所要の位置で固定されるようになっている。具体的には、アーム本体１１’が断面円形の管状部材によって形成されており、孔２８は該環状部材を垂直方向で貫通している。固定用部材３０は、孔２８内にその長さ方向で摺動可能に設けられた断面がほぼ円形の摺動部材３２と、アーム本体の外側下面に当接するように設定され、部材３２を貫通するように設けられたボルト３４と、ボルト３４によって摺動部材３２に連結されているチューブ保持部材３６とから構成されており、チューブ保持部材３６には孔２８を通されたチューブ２５”の先端が抑え部材３８によって固定されている。
ボルト３４は、摺動部材の垂直孔を挿通されており、その先端部分に形成したねじ部分がチューブ保持部材３６のねじ孔にねじ係合しており、該ボルトを回すことによって、チューブ保持部材３６を上下動させ、アーム本体に固定したり、固定を解除したりすることができるようになっている。
図８に示す例では、固定ノズル２３’がターンテーブルの中心に位置決めされる状態において、移動ノズルが、研磨されるウエハ３００のほぼ中心を通る研磨面上の部分の位置に位置決めされている。図示の例では、研磨液を供給するためのノズルだけを移動可能としたが、必要に応じて他のノズルも同様に移動可能にすることができ、たとえば、分散剤供給ノズルや、酸化剤供給ノズルも移動可能とし、研磨液と同じ位置から供給するようにすることが好ましい。
産業上の利用可能性
以上詳細に説明したように本発明によれば、▲１▼液体供給アームを必要に応じてターンテーブル外周縁の外側に移動保持することができるので、研磨クロスの貼り替えやその他のメンテナンスが容易に行なえ、且つこれら作業の時間短縮が図れ、また、▲２▼ターンテーブルに液体を垂直に流下させてターンテーブル上の所要の箇所に正確に供給することができ、最適な作業を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
図１は、ターンテーブルに対するノズルの従来の取付状態を示す概略側面図、
図２は、本発明に係る研磨装置の概略平面図、
図３は、本発明に係る研磨装置におけるターンテーブル及び液体供給アームの部分を拡大して示す平面図、
図４は、図２の４−４線断面概略図、
図５は、図３に類似する平面図であり、液体供給アームの種々の停止位置を示す図、
図６は、液体供給アームの一部切欠き平面図、
図７は、同アームの一部切欠き側面図である。
図８は、液体供給アームの他の実施形態を示す平面図、
図９は、図８の液体供給アームの側面図、
図１０は、同液体供給アームの移動ノズルを示す側面図、
図１１は、図１０の１１−１１線断面図、
図１２は、図１０の１２−１２線断面図である。

Claims (14)

1. 研磨面を有するターンテーブルと、
   該ターンテーブルの研磨面に研磨液等の液体を供給するための液体供給装置とを備える研磨装置において、
   前記液体供給装置が、可動アームと、該可動アームに支持されて、前記研磨面に液体を供給するためのノズルとを有し、
   前記可動アームが、前記研磨面の上方位置にあり、前記ノズルを前記研磨面における液体を供給すべき箇所の実質的に垂直上方位置に位置決めするための液体供給位置と、前記研磨面の外周縁よりも外側に位置する少なくとも１つの待避位置との間で可動とされており、
   前記ノズルが、前記可動アーム上で変位可能とされ、該可動アームが前記液体供給位置にあるときの当該ノズルの前記研磨面上での半径方向位置を調節可能とした研磨装置。
2. 研磨面を有するターンテーブルと、
   該ターンテーブルの研磨面に研磨液等の液体を供給するための液体供給装置とを備える研磨装置において、
   前記液体供給装置が、可動アームと、該可動アームに支持されて、前記研磨面に液体を供給するためのノズルとを有し、
   前記可動アームが、前記研磨面の上方位置にあり、前記ノズルを前記研磨面における液体を供給すべき箇所の実質的に垂直上方位置に位置決めするための液体供給位置と、前記研磨面の外周縁よりも外側に位置する少なくとも１つの待避位置との間で可動とされており、
   前記研磨装置は、更に、前記ターンテーブルの周囲に設けられ、研磨中に前記研磨面の外周級から外側に飛散する液体を受け止めるための上方位置と、非研磨中のテーブルのメンテナンスの際に位置する、前記研磨面よりも下方の位置との間で可動とされている液体飛散防止用の環状カバーとを有し、
   所定のセンサが前記可動アームに取り付けられており、前記環状カバーに取り付けられたドグを感知するようになっている研磨装置。
3. 前記ターンテーブルの周囲に設けられた液体飛散防止用の環状カバーを有し、該環状カバーが前記研磨面の外周縁から外側に飛散する液体を受け止めるための上方位置と、前記研磨面よりも下方の位置との間で可動とされている請求の範囲第１項に記載の研磨装置。
4. 前記液体飛散防止用の環状カバーの下方位置に、該環状カバーによって受け止められて同環状カバーから落下する飛散液体を受け入れる液体排出用部材を有し、前記液体排出位置にある前記可動アームのノズルから排出される液体が該液体排出用部材内に排出されるようになされている請求の範囲第３項に記載の研磨装置。
5. 前記液体供給装置が、それぞれ別の種類の液体供給源に連通される複数のノズルを含む請求の範囲第１〜４の何れか一項に記載の研磨装置。
6. 前記液体供給装置が、液体が前記研磨面上の前記箇所に実質的に垂直に流下する状態で前記ノズルから吐出されるよう、当該ノズルから吐出される液体の流量を調整する流量調整装置を有する請求の範囲第１〜５の何れか一項に記載の研磨装置。
7. 前記可動アームが、上下動可能にされている請求の範囲第１〜６の何れか一項に記載の研磨装置。
8. 前記液体供給装置が、それぞれ別の種類の液体供給源に連通される複数のノズルを含む請求の範囲第１〜７の何れか一項に記載の研磨装置。
9. 前記ノズルが切換バルブを介して研磨液等の所要液体の供給源の他に、純水の供給源に接続されており、当該ノズルを純水の供給源に接続することにより、同ノズルを洗浄することができるようにしたことを特徴とする請求の範囲第１〜８の何れか一項に記載の研磨装置。
10. 前記ノズルの先端が、垂直下向きとなるように設定されていることを特徴とする請求の範囲第１〜９の何れか一項に記載の研磨装置。
11. 前記可動アームと当該研磨装置の静止部材との間にピストンシリンダ装置を設け、該ピストンシリンダ装置の伸縮により可動アームを動かすようにするとともに、該可動アームの位置を検出する検出スイッチを設け、当該可動アームの位置制御を行うようにしたことを特徴とする請求の範囲第１〜１０の何れか一項に記載の研磨装置。
12. 前記可動アームを動かすためのステッピングモータを設け、該ステッピングモータによって可動アームの位置制御を行うようにしたことを特徴とする請求の範囲第１〜１１の何れか一項に記載の研磨装置。
13. 研磨面を有するターンテーブルと、
    該ターンテーブルの研磨面に研磨液等の液体を供給するための液体供給装置とを備える研磨装置において、
    前記液体供給装置が、可動アームと、該可動アームに支持されて、前記研磨面に液体を供給するためのノズルとを有し、
    前記可動アームが、前記研磨面の上方位置にあり、前記ノズルを前記研磨面における液体を供給すべき箇所の実質的に垂直上方位置に位置決めするための液体供給位置と、前記研磨面の外周縁よりも外側に位置する少なくとも１つの待避位置との間で可動とされており、
    前記研磨装置は、更に、前記ターンテーブルの周囲に設けられ、研磨中に前記研磨面の外周級から外側に飛散する液体を受け止めるための上方位置と、非研磨中のテーブルのメンテナンスの際に位置する、前記研磨面よりも下方の位置との間で可動とされている液体飛散防止用の環状カバーとを有し、
    前記環状カバーが前記上方位置にあるか否かを感知するためのセンサを有している研磨装置。
14. 前記ノズルの変位は、前記可動アームの長さ方向に沿った変位であることを特徴とする、請求項１〜１３の何れか一項に記載の研磨装置。

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