JP3782312B2 - 半導体集積回路装置 - Google Patents
半導体集積回路装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3782312B2 JP3782312B2 JP2001095310A JP2001095310A JP3782312B2 JP 3782312 B2 JP3782312 B2 JP 3782312B2 JP 2001095310 A JP2001095310 A JP 2001095310A JP 2001095310 A JP2001095310 A JP 2001095310A JP 3782312 B2 JP3782312 B2 JP 3782312B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pulse width
- integrated circuit
- input
- pulse
- gate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 37
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 16
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 15
- 230000009467 reduction Effects 0.000 claims description 15
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 claims description 13
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 claims description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 38
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 19
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 12
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 12
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 12
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 11
- 230000008859 change Effects 0.000 description 10
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001934 delay Effects 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K7/00—Modulating pulses with a continuously-variable modulating signal
- H03K7/08—Duration or width modulation ; Duty cycle modulation
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K5/00—Manipulating of pulses not covered by one of the other main groups of this subclass
- H03K5/13—Arrangements having a single output and transforming input signals into pulses delivered at desired time intervals
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K5/00—Manipulating of pulses not covered by one of the other main groups of this subclass
- H03K5/01—Shaping pulses
- H03K5/04—Shaping pulses by increasing duration; by decreasing duration
- H03K5/06—Shaping pulses by increasing duration; by decreasing duration by the use of delay lines or other analogue delay elements
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K5/00—Manipulating of pulses not covered by one of the other main groups of this subclass
- H03K5/01—Shaping pulses
- H03K5/08—Shaping pulses by limiting; by thresholding; by slicing, i.e. combined limiting and thresholding
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Pulse Circuits (AREA)
- Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Insulated Gate Type Field-Effect Transistor (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
この発明は半導体集積回路装置に係わり、特に入力パルスのパルス幅を縮小する半導体集積回路装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、回路システム内で使用されるパルス幅を変えるために、ロジックゲート回路を用いてパルス幅を変更するパルス幅変更回路を組み上げていた。このようなパルス幅変更回路の例を、図13、図14に示す。
【0003】
図13Aは入力のパルス幅を縮小する回路を示す回路図で、図13Bはその動作を示す動作波形図である。同じく図14Aは入力のパルス幅を拡大する回路を示す回路図で、図14Bはその動作を示す動作波形図である。
【0004】
図13Aに示す回路は、遅延回路101と、ANDゲート102とによって構成される。遅延回路101は、偶数個のインバータ回路103によって構成されるのが普通である。従って、遅延回路101の遅延dの量は、インバータ回路103のゲート遅延量の整数倍である。
【0005】
その動作は、図13Bに示すように、入力inが“0”から“1”になって遅延回路101の遅延dが経過すると、ANDゲート102の入力がともに“1”になる。この後、ANDゲート102のゲート遅延量が経過すると、出力outが“1”となる。
【0006】
次に、入力inが“1”から“0”に戻り、ANDゲート102のゲート遅延量が経過すると、出力outは“0”に戻る。
【0007】
このように図13Aに示す回路によれば、パルスの前縁部が、遅延回路101の遅延dだけ遅れるので、入力inのパルス幅を遅延dだけ縮小することができる。
【0008】
図14Aに示す回路は、図13Aと同様な遅延回路101と、ORゲート104とによって構成される。
【0009】
その動作は、図14Bに示すように、入力inが“0”から“1”になると、ORゲート104の一方の入力が“1”になる。このため、ORゲート104のゲート遅延量が経過すると、出力outが“1”になる。
【0010】
次に、入力inが“1”から“0”に戻り、遅延回路101の遅延dが経過すると、ORゲート104の入力がともに“0”になる。このため、ORゲート104のゲート遅延量が経過した後、出力outは“0”に戻る。
【0011】
このように、図14Aに示す回路によれば、パルスの後縁部が、遅延回路101の遅延dだけ遅れるので、入力パルスのパルス幅を遅延dだけ拡大することができる。
【0012】
長い入力パルスを縮小する従来の回路を図15に示す。
【0013】
この回路は、図15Aに示すように、図13Aに示した回路を縦続接続したもので、各々が遅延回路101の遅延dだけパルス幅を縮小する。このため、適当なところからパルスを取り出せば、様々なパルス幅を入力パルスから作ることができる。図15Bに各ノード(NODE0〜NODE2)での出力パルスを、遅延の様子と合わせて示しておく。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、図13、図14、及び図15に示した従来回路は、いずれも遅延回路101の遅延dよりもパルス幅が大きい入力パルスに対してのみ有効である。かつ遅延dの量は、インバータ回路103等のロジックゲート回路のゲート遅延量と同等以上の大きさである。
【0015】
このため、従来では、遅延回路101の遅延d以下でパルス幅を細かく縮小すること、即ちロジックゲート回路のゲート遅延量よりも小さい量でパルス幅を縮小することは、原理的に不可能であった。
【0016】
もし、ロジックゲート回路のゲート遅延量よりも小さい量でパルス幅を縮小することが可能になれば、従来、不可能であった、より細かなパルス幅の設定や、回路システムのより細かなチューニングを実現することができ、例えば今後、さらに動作の高速化の進展が予想される回路システムにとって大変有用である。
【0017】
また、従来の回路は、複数のロジックゲート回路を含む遅延回路101と、ANDゲート、もしくはORゲートとの組み合わせによって構成されるため、回路素子数が増えて大規模である。このため、半導体集積回路装置の高集積化や、チップ面積の縮小化を妨げている。
【0018】
この発明は、上記の事情に鑑み為されたもので、その目的は、ロジックゲート回路のゲート遅延量よりも小さい量でパルス幅を縮小することが可能な半導体集積回路装置を提供することにある。
【0019】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、この発明の第1態様に係る半導体集積回路装置は、等価回路として容量及び抵抗が互いに並列接続された回路要素を含むゲートを有したMISトランジスタを用いて構成された集積回路部を具備し、前記MISトランジスタには、Pチャネル型及びNチャネル型の双方があり、前記集積回路部は、前記Pチャネル型MISトランジスタと前記Nチャネル型MISトランジスタとを用いて構成されたインバータ、NANDゲート、及びNORゲートの少なくともいずれか一つのロジックゲート回路を含む。
この発明の第2態様に係る半導体集積回路装置は、等価回路として容量及び抵抗が互いに並列接続された回路要素を含むゲートを有したMISトランジスタを用いて構成された集積回路部を具備し、前記MISトランジスタのゲートは、導電性ポリシリコン層と金属層との積層構造であり、かつ前記導電性ポリシリコン層と前記金属層との界面に、容量成分及び抵抗成分を持つ。
【0020】
このようなMISトランジスタでは、ゲートに含まれる容量の大きさと抵抗の大きさとにより決まるあるパルス幅以下のパルスが入力されたとき、その前縁部は従来のロジックゲート回路と同等のゲート遅延を受ける。しかし、その後縁部は従来のロジックゲート回路より少ない遅延を受ける。この特性から、入力されたパルスのパルス幅は、上記集積回路部を伝播するに従って、前縁部の遅延と後縁部の遅延と差に応じた量、縮小されていく。これにより、従来、原理的に不可能であった、ロジックゲート回路の遅延量よりも小さい量でパルス幅を縮小することが可能になる。
【0021】
上記知見に基づき、さらにこの発明によれば、入力のパルス幅に応じて、この入力のパルス幅をロジックゲート回路の遅延量よりも小さい量でパルス幅を縮小する機能、入力パルスを消滅させる機能、入力されたパルス幅を維持する機能、さらには入力されたパルス幅を維持しつつ上記ロジックゲート回路のゲート遅延量に応じて遅延させる機能などの機能を様々に組み合わせて有する半導体集積回路装置も得ることができる。
【0022】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の実施形態を、図面を参照して説明する。この説明に際し、全図にわたり、共通する部分には共通する参照符号を付す。
【0023】
(第1実施形態)
図1Aは、この発明の第1実施形態に係るパルス幅変更回路を構成する基本ユニット素子の等価回路図である。
【0024】
図1Aに示すように、基本ユニット素子1は、基本的に従来のインバータ回路と同様、高電位電源Vddと低電位電源Vss(例えば接地電位)との間に、Nチャネル型MOSトランジスタ(以下NMOS)2、及びPチャネル型MOSトランジスタ(以下PMOS)3をそれぞれ、直列に接続した構成を持つ。
【0025】
しかし、本発明に係る基本ユニット素子1は、そのNMOS2のゲート、及びPMOS3のゲートそれぞれが、等価回路として容量C及び抵抗Rが並列接続された回路要素4を含んでおり、NMOS2及びPMOS3のそれぞれが、回路要素4との複合素子として構成されているところが、従来のインバータ回路と異なっている。本明細書において、基本ユニット素子1を表す記号を図1Bに示しておく。
【0026】
次に、NMOS2側複合素子、及びPMOS3側複合素子の動作を、それぞれ説明する。
【0027】
図2AはNMOS2側複合素子を示す図、図2Bはその動作波形図である。同じく図3AはPMOS3側複合素子を示す図、図3Bはその動作波形図である。なお、図2B及び図3Bの動作波形図はそれぞれ、十分長い入力パルスを受ける場合を想定して示している。十分長い入力パルスを受ける場合を想定し、その入力パルスの前縁部と後縁部の動作から、入力パルスが正で短い場合でも、逆に負で短い場合でもそれぞれ予測ができるためである。
【0028】
〔NMOS2側複合素子の動作〕
図2Bに示すように、まず、入力inが“0”から“1”に遷移する。このとき、NMOS2はオンしていないので、そのゲート容量Cgは非常に軽い。このため、ゲート電位Vgは、容量Cによるカップリングによって、NMOS2のしきい値Vthまで、入力inに従っていっきに上昇する。
【0029】
この状態における等価回路は、容量Cのみからなる、とみなせる。
【0030】
次に、ゲート電位VgがNMOS2のしきい値Vthに達し、NMOS2がオンすると、そのゲート容量Cgが大きく見え、かつ出力outの電位が放電により下がり始める。これによるカップリングは、上昇しようとするゲート電位Vgを、反対に引き下げる方向に働くために、そのゲート容量Cgはますます大きく見えてくる。このときのゲート電位Vgの上昇は、抵抗Rとゲート容量CgとによるRCg時定数で決まるような振舞いとなる。
【0031】
この状態における等価回路は、容量Cを無視でき、抵抗RとNMOS2のゲート容量Cgとからなる、とみなせる。
【0032】
なお、ゲート電位Vgが入力inと同じ“1”レベルになるまでには、十分な時間が必要であり、この間、入力inも“1”を保持していなければならない。このため、入力inの正パルスが短いと、ゲート電位Vgは十分上昇しないことになる。
【0033】
次に、入力inが“1”から“0”に遷移する。このとき、NMOS2がオフするまでは、そのゲート容量Cgが見えるので、ゲート電位Vgは、抵抗Rとゲート容量CgとによるRCg時定数で決まるような振舞いで下降する。
【0034】
この間、出力outの電位は、図2B中に点線で示されるように、PMOS3側複合素子から充電されて上昇する。この上昇によるカップリングもあるが、しかし、NMOS2がオンする場合に比べて、オフに向かう場合のNMOS2の抵抗は急激に上昇するので、上記カップリングは急速に減少する。よって、ゲート容量Cgを見かけ上大きくする効果は小さい。従って、RCg時定数は、ゲート電位Vgが上昇する場合に比べて実効的に小さくなり、このため、ゲート電位Vgの変化も急となる。
【0035】
次に、ゲート電位VgがNMOS2のしきい値Vthよりも下がり、NMOS2がオフすると、そのゲート容量Cgは無視できるようになる。このため、容量Cに残っている電荷は、抵抗Rを介して放電するのみになり、ゲート電位Vgは、急速に“0”に向かって下がることになる。
【0036】
〔PMOS3側複合素子の動作〕
図3Bに示すように、まず、入力inが“0”から“1”に遷移する。このとき、PMOS3はオンしているので、そのゲート容量Cgが見え、ゲート電位Vgは、抵抗Rとゲート容量CgとによるRCg時定数で決まる振舞いで上昇する。
【0037】
この間、出力outの電位は、図3B中に点線で示されるように、NMOS2側複合素子から放電されて下降するので、カップリングによりゲート容量Cgを大きく見せる。しかし、ゲート電位Vgは、PMOS3をオフさせるように上昇しているので、このカップリングは比較的小さく、ゲート電位Vgの上昇はPMOS3をオフさせる場合に比べて早い。
【0038】
この状態における等価回路は、抵抗Rとゲート容量Cgのみからなる、とみなせる。
【0039】
次に、ゲート電位VgがPMOS3のしきい値Vthを超え、PMOS3がオフすると、そのゲート容量Cgが見えなくなる。よって、ゲート電位Vgは、抵抗Rを介して容量Cを充電するように上昇するようになる。この抵抗Rと容量CとによるRC時定数は小さく、ゲート電位Vgは、急激に“1”に向かって上昇する。
【0040】
次に、入力inが“1”から“0”に遷移すると、PMOS3がオンするまでは、そのゲート容量Cgが見えない。このため、ゲート電位Vgは、容量Cによるカップリングによって、PMOS3のしきい値Vthまで、入力inに従って下降する。
【0041】
次に、ゲート電位VgがPMOS3のしきい値Vthに達し、PMOS3がオンすると、そのゲート容量Cgが見え、かつ出力outの充電が始まる。これによるカップリングは、下降しようとするゲート電位Vgを、反対に引き上げる方向に働くので、見かけ上のゲート容量Cgは大きくなり、実効的なRCg時定数も大きくなる。従って、ゲート電位Vgの下降は、比較的ゆっくりしたものとなる。
【0042】
ゲート電位Vgが入力inと同じ“0”になるには、十分長い時間、入力inを“0”レベルに保持しておく必要がある。このため、入力inに短い負パルスを与えた場合には、ゲート電位Vgは、十分に“0”まで下がり切らないことになる。
【0043】
以上のNMOS2側複合素子、及びPMOS3側複合素子それぞれのゲート電位Vgの振舞いに基づき、入力inのパルス幅が短い場合について、基本ユニット素子1の出力outがどうなるのかを示したのが図4である。
【0044】
〔正パルスの場合〕
図4中の“正パルス”の部分に示すように、NMOS2のゲート電位Vgは、そのしきい値まで、回路要素4の容量Cによるカップリングによって、入力inと同じように上昇する。よって、出力outが“0”に向かって下降される時点は、従来のインバータ回路と変わらないゲート遅延D1を持つ。その後、入力パルスinのパルス幅が短く、十分な時間“1”レベル状態を保持していないために、NMOS2のゲート電位Vg、及びPMOS3のゲート電位Vgの双方とも、十分な“1”に達することなく“0”に遷移する。
【0045】
入力inが“0”に遷移したとき、PMOS3のゲート電位Vgは、回路要素4の容量Cによるカップリングにより、入力inと同じに変化するが、ゲート電位Vgが十分に“1”になっていない状態から変化が始まるので、PMOS3のしきい値にすぐに達し、出力outは、従来のインバータ回路の場合に比べて少ない遅延D2で“1”へ向かって変化を始める。
【0046】
このように基本ユニット素子1では、出力outの負パルスの前縁部は、従来のインバータ回路とほぼ同じゲート遅延D1で下降するが、その後縁部は、従来のインバータ回路より短い遅延D2で上昇する。
【0047】
図5は、基本ユニット素子1の遅延D1、D2と入力パルスのパルス幅との関係を示した図である。
【0048】
図5に示すように、遅延D2は、入力inのパルス幅が“1”である時間が短くなるに従って急速に小さくなる。そして、あるパルス幅W0以下では、PMOS3はオフすることが無くなる。
【0049】
なお、入力inのパルス幅が“1”である時間が十分に長いパルス幅W1以上である場合には、PMOS3のゲート電位Vgが十分に“1”になった状態から下降するので、遅延D2は、ゲート遅延D1と実質的に等しくなる。
【0050】
〔負パルスの場合〕
図4中の“負パルス”の部分に示すように、PMOS3のゲート電位Vgは、そのしきい値まで、回路要素4の容量Cによるカップリングによって、入力inと同じに下降するので、出力outが“1”に向かって上昇される時点は、従来のインバータ回路と変わらないゲート遅延D1を持つ。その後、正パルスの場合と同様に、パルス幅が短く、十分な時間“0”"レベル状態を保持していないために、NMOS2のゲート電位Vg、及びPMOS3のゲート電位Vgの双方ともが十分な“0”に達することなく、入力inが“1”に遷移する。
【0051】
入力inが“1”に遷移すると、NMOS2では、そのゲート電位Vgが、回路要素4の容量Cによるカップリングにより、入力inと同じに変化するが、ゲート電位Vgが十分に“0”になっていない状態から変化が始まるので、NMOS2のしきい値にすぐに達し、出力outは、従来のインバータ回路の場合に比べて少ない遅延D2で“0”へ向かって変化を始める。
【0052】
従って、入力inの負パルスに比べて、出力outの正パルスの前縁部は、従来のインバータ回路とほぼ同じ遅延D1で出力されるが、その後縁部は、従来のインバータ回路より短い遅延D2で出力される。
【0053】
この遅延D2もまた、図5に示される関係のように、入力パルスの“0”の部分が少なくなるに従って急速に小さくなり、あるパルス幅W0以下ではNMOS2はオフすることが無くなる。
【0054】
以上のように、正パルス、負パルスともパルスの後縁部において、従来のインバータ回路よりも遅延が少なくなる。これにより、パルス幅の縮小量は、ゲート遅延D1よりも小さくすることができる。
【0055】
また、入力パルスのパルス幅が短くなるにつれ、パルスの前縁部とその後縁部とでの遅延差が大きくなり、パルス幅の縮小率は大きくなる。これにより、パルス幅の縮小率は、基本ユニット素子1を何段通させるかによって調節することもできる。
【0056】
さらに、入力パルスのパルス幅が、あるパルス幅以下となると、パルスを消滅させることもできる。
【0057】
このような特性を持つ基本ユニット素子1を何段か縦続接続すれば、従来、原理的に不可能であった、インバータ回路(ロジックゲート回路)のゲート遅延よりも小さい遅延でパルス幅を縮小できるパルス幅変更回路を作ることができる。図6及び図7に、このパルス幅変更回路の一例を示す。
【0058】
図6Aはこの発明の第1実施形態に係るパルス幅変更回路の一例を示す回路図である。
【0059】
図6Aに示すように、一例に係るパルス幅変更回路5は、基本ユニット素子1を6個縦続接続したものである。初段の基本ユニット素子1の入力(NODE0)には入力inが入力され、2段目、4段目、6段目の基本ユニット素子1の出力(NODE1〜NODE3)からは、出力out1〜out3がそれぞれ出力される。
【0060】
図6B〜図6Eはそれぞれ上記パルス幅変更回路5における入力inのパルス幅と出力out1〜out3のパルス幅との関係を概略的に示した図である。
【0061】
なお、図6B〜図6Eでは、特にパルス幅がどのように縮小するのかについてのみ着目しており、基本ユニット素子1のゲート遅延による遅延については無視している。
【0062】
〔W1≦入力パルス幅Wa〕
図6Bに示すように、本ケースでは、NODE0に、遅延D1と遅延D2とが実質的に等しくなるパルス幅W1(図5参照)以上のパルス幅Waを持つ入力inを入力する。
【0063】
この場合、NODE1〜NODE3のいずれからも、入力inのパルス幅Waと同じパルス幅Waを持つ出力out1〜out3が出力される。
【0064】
このように上記パルス幅変更回路5に、上記パルス幅W1以上のパルス幅Waを持つ入力inを入力すると、該パルス幅Waを維持した出力out1〜out3を出力することができる。
【0065】
〔W0<入力パルス幅Wb<W1; Wb<Wa〕
図6Cに示すように、本ケースでは、NODE0に、上記パルス幅W1未満、かつ遅延D2が無くなるパルス幅W0を超えるパルス幅Wbを持つ入力inを入力する。
【0066】
この場合には、NODE1〜NODE3からそれぞれ、入力inのパルス幅Wbより短いパルス幅Wb1〜Wb3を持つ出力out1〜out3が出力される。さらに、これらパルス幅Wb1〜Wb3は“Wb3<Wb2<Wb1<Wb”なる関係を持つ。
【0067】
このように上記パルス幅変更回路5に、上記パルス幅W1未満かつ上記パルス幅W0を超えるパルス幅Wbを持つ入力inを入力すると、該パルス幅Wbを縮小した出力out1〜out3を出力することができる。
【0068】
さらに、これら出力out1〜out3のパルス幅Wb1〜Wb3は“Wb3<Wb2<Wb1<Wb”なる関係を持つので、入力inのパルス幅Wbを段階的に縮小することができる。
【0069】
また、出力out1〜out3はそれぞれ適宜抽出することができるので、段階的に縮小されたパルス幅Wb1〜Wb3をそれぞれ任意に抽出することができる。このため、上記パルス幅変更回路5では、パルス幅Wb1〜Wb3を任意に選択し、また、いくつでも得ることができる。
【0070】
〔W0<入力パルス幅Wc<W1; Wc<Wb〕
図6Dに示すように、本ケースは、図6Cに示したケースと同様に、NODE0に、上記パルス幅W1未満かつ上記パルス幅W0を超えるパルス幅Wcを持つ入力inを入力するものである。異なるところは、パルス幅Wcがパルス幅Wbよりも小さいことである。
【0071】
この場合、NODE1、NODE2からそれぞれ、入力inのパルス幅Wbより短いパルス幅Wc1、Wc2を持つ出力out1、out2が出力されるが、NODE3では、パルスが消滅する。
【0072】
このように上記パルス幅変更回路5では、パルス幅W0を超え、かつパルス幅W1未満の範囲内で、入力パルス幅を変化させることにより、本ケースのように、パルスを消滅させることもできる。
【0073】
また、本ケースにおいても、出力out1、out2のパルス幅Wc1、Wc2は、図6Cに示したケースと同様、“Wc2<Wc1<Wc”なる関係を持つので、入力inのパルス幅Wbを段階的に縮小することができる。
【0074】
また、出力out1、out2は適宜抽出することができるので、図6Cに示したケースと同様、段階的に縮小されたパルス幅Wc1、Wc2をそれぞれ任意に抽出することができる。
【0075】
〔入力パルス幅Wd<W0〕
図6Eに示すように、本ケースでは、NODE0に、上記パルス幅W0以下のパルス幅Wdを持つ入力inを入力する。
【0076】
この場合には、NODE1〜NODE3のいずれにおいても、パルスが消滅する。
【0077】
このように上記パルス幅変更回路5では、入力パルス幅が、上記パルス幅W0以下のとき、NODE1〜NODE3のいずれからもパルスが消滅する。
【0078】
また、図6Eに示した特性から、上記パルス幅変更回路5は、パルス幅を縮小する機能ばかりでなく、フィルタ機能を有することが分かる。
【0079】
つまり、基本ユニット素子1を縦続接続して構成された回路は、フィルタ機能を有するパルス幅変更回路として、あるいは単にフィルタ回路としても使用することができる。
【0080】
図7は、本第1実施形態に係るパルス幅変更回路の特徴を、従来のインバータ回路を縦続接続した遅延回路と比較して示した図である。
【0081】
図7Aはインバータ回路を縦続接続した従来の遅延回路101の回路図、図7Bは本第1実施形態に係るパルス幅変更回路5の回路図である。
【0082】
図7C及び図7Dはそれぞれ、小さいパルス幅を持つ入力を、図7Aに示す遅延回路101のNODE0と、図7Bに示すパルス幅変更回路5のNODE0とにそれぞれ入力したときの各段(NODE0〜NODE3)での波形を比べたものである。
【0083】
図7Cに示すように、小さいパルス幅、具体的にはW0<パルス幅<W1(図5参照)を持つ入力を、遅延回路101のNODE0に入力しても、パルスが変形されることは無く、一定の遅延を受けるだけである。
【0084】
これに対し、図7Dに示すように、同様に小さいパルス幅を持つ入力をパルス幅変更回路5のNODE0に入力した場合には、パルスが遅延される量は遅延回路101と変わらないが、そのパルス幅は急速に縮小される。
【0085】
また、図7Eに示すように、パルス幅がある程度大きい、具体的にはW1≦パルス幅(図5参照)を持つ入力を、遅延回路101及びパルス幅変更回路5に入力した場合には、いずれも区別無くパルスが遅延されるだけで、パルス幅が縮小することは無い。
【0086】
このような特徴は、従来のロジックゲート回路で組み上げたパルス幅変換回路では実現できない特徴である。
【0087】
さらに、図7Eに示した特性から、上記パルス幅変更回路5は、パルス幅を縮小する機能及びフィルタ機能ばかりでなく、遅延機能を有することが分かる。
【0088】
つまり、基本ユニット素子1を縦続接続して構成された回路は、遅延機能を有するパルス幅変更回路として、あるいは遅延機能、フィルタ機能を有するパルス幅変更回路として、あるいは遅延機能を有するフィルタ回路として、あるいは単に遅延回路や遅延線としても使用することができる。
【0089】
(第2実施形態)
本発明の基本ユニット素子1を構成する複合素子は、容量や抵抗を用いた複合回路として組んでも良いが、それでは単純な素子で構成できる特徴が十分発揮できない。複合素子が持つ特徴を、単体のトランジスタのゲートの電気的な特性として実現するのが、本第2実施形態である。
【0090】
図8Aは第2実施形態に用いられるMOSトランジスタの断面図、図8Bはその等価回路図である。
【0091】
図8Aに示すように、MOSトランジスタのゲート構造として、ポリシリコン(POLY-Si)に、タングステンなどのメタル(METAL)を積層したものを用いる。このようなゲート構造は、従来のゲート特性でありながら、メタルの低抵抗を利用できるのでゲートの抵抗が減り、高速なトランジスタを作ることができる。さらに、ポリシリコンとメタルとの界面に薄い酸化膜(THIN OXIDE)を形成することができる。
【0092】
このような構造のゲートを、メタル側からMOSトランジスタのチャンネル領域(CHANNEL)に向かって見ると、MIS構造になっている。この構造の電気特性を表す等価回路は、容量Cと抵抗Rとを並列にしたものとなる。
【0093】
つまり、図8Bに示すように、第1実施形態で説明した複合素子が持つ回路要素4の等価回路と同じである。容量Cは、メタル及びポリシリコンをそれぞれ一方/他方電極とし、薄い酸化膜を誘電体膜とすることで生じ、また、抵抗Rは、メタルとポリシリコンとの間の薄い酸化膜を介したトンネル効果によって生じる。
【0094】
このようなゲート構造は、MOSトランジスタのゲートを作る工程で、ポリシリコンとメタルとの界面に薄い酸化膜を形成するのみであり、その形成過程は通常のMOSトランジスタとほとんど変わらず、形状もまた、全く同じである。
【0095】
(第3実施形態)
例えば第2実施形態のように、トランジスタのゲート中に回路要素4を作り込んで複合素子を得た場合、その特性を見るために、ICチップ内にモニターを設ける必要がある場合がある。この構成を示したのが、本第3実施形態である。
【0096】
図9は、この発明の第3実施形態に係る半導体集積回路装置のブロック図である。
【0097】
図8に示したゲート構造を持つMOSトランジスタを一部でも用いたICのトランジスタの特性を見るために、ICチップ6の一部に、基本ユニット素子1を縦続接続した遅延線7を含むモニター回路8を形成し、遅延線7にパルス幅の短いパルスを通すことによってパルスの縮小率をモニターできるようにする。
【0098】
このようにパルスの縮小率が所望のものになっているか、などをモニターすることで得られた情報は、ICの製造工程にフィードバックしたり、回路システムの調節に利用したりすることができる。
【0099】
回路システムを調節する際には、フューズのような素子を用いて回路の切り替えを行ったり、レジスタにプログラムをしたりして、回路システムに、基本ユニット素子1や複合素子等の特性に合った動作を選択すればよい。
【0100】
図10に、基本ユニット素子1の回路要素4中の容量C及び抵抗Rの値を変えたときのパルスの縮小率を、ある遅延線で全ての基本ユニット素子1の容量Cと抵抗Rを一斉に変えてみた結果を示す。
【0101】
縦軸は、2nsのパルスを遅延線に入力した時のパルスの減少率を%で示したもので、100%はパルスが消滅することを表す。横軸は容量Cを酸化膜圧換算(Teffect@SiO2)し、オングストローム単位で示している。各抵抗Rはコンタクト抵抗として単位面積(μm2)での抵抗kΩとして示している。面積が大きくなれば抵抗は小さくなる。
【0102】
この計算結果から、この遅延線では、抵抗Rが10kΩ・μm2以下の抵抗であると、容量Cによらずパルスの減少率は小さく、基本ユニット素子1としての特性が弱いことが分かる。反対に抵抗Rが10kΩ・μm2を超える抵抗であれば、基本ユニット素子1としての特性が強い。
【0103】
遅延線の構成によって容量Cや抵抗Rの値は異なるが、この計算から値によっていろいろな減少率が得られることが分かり、図9に示したような遅延線7を含むモニター回路8を入れておくことで特性を有効に把握できることが分かる。
【0104】
パルス幅縮小の効果を用いたくない回路や、LSIについてはモニター回路8でパルス幅縮小効果を調べ、製造プロセスを制御して容量Cや抵抗Rの値を調節し、パルス幅縮小が無視できるようなシステムを作るようにすることもできる。
【0105】
また、パルス幅縮小の効果がLSIの部分部分で異なるようなシステムを構成することも可能となる。
【0106】
以上説明した第1〜第3実施形態であると、それぞれ下記のような効果を得ることができる。
【0107】
まず、第1実施形態によれば、等価回路として容量C及び抵抗Rが互いに並列接続された回路要素4を含むゲートを有したNMOS2、PMOS3を用いて、基本ユニット素子1を構成する。この基本ユニット素子1は、入力のパルス幅に応じて、その後縁部の遅延D2を、パルスの前縁部の遅延D1よりも小さくすることができる。この特性を利用することにより、従来、原理的に不可能であった、ロジックゲート回路のゲート遅延量よりも小さい量でパルス幅を縮小するパルス幅変更回路5を構成することが可能となる。
【0108】
このようなパルス幅変更回路5は、従来、不可能であった、より細かなパルス幅の設定や、回路システムのより細かなチューニングを実現させることができ、例えば今後、さらに動作の高速化の進展が予想される回路システムにとって、大変有用である。さらに、上記パルス幅変更回路5を用いれば、アナログ的な微少な量のパルス幅減少を行うシステムを構成することも可能となり、さらには、第1実施形態で述べたように、パルス幅を選択して減少させたり、パルス自体を消滅させたりすることも可能になる。
【0109】
また、従来のパルス幅変更回路は、図13、図14、及び図15に示したように、複数のロジックゲート回路を含む遅延回路101と、ANDゲート、もしくはORゲートとの組み合わせによって構成されるため、回路素子数が増えて大規模である。
【0110】
しかし、第1実施形態により説明されたパルス幅変更回路5は、基本ユニット素子1を縦続接続することで得られるため、従来のパルス幅変更回路に比べて、回路素子数を削減することができる。従って、第1実施形態で説明したパルス幅変更回路5は、従来のパルス幅変更回路に比べて、半導体集積回路装置の高集積化や、チップ面積の縮小化にも有利である。
【0111】
また、第2実施形態によれば、MOSトランジスタのゲートを、導電性ポリシリコン層と金属層との積層構造とし、かつ導電性ポリシリコン層と金属層との界面に、容量成分及び抵抗成分を持たせるようにした。
【0112】
このようなゲート構造を持つMOSトランジスタによれば、等価回路として容量C及び抵抗Rが互いに並列接続された回路要素4を、単にゲートを形成するだけで得ることができる。従って、第1実施形態により説明されたパルス幅変更回路5を、余分な回路を付加することなく、得ることができる。
【0113】
また、第3実施形態によれば、例えば第2実施形態により説明されたMISトランジスタにより構成されたモニター回路8を、ICチップ6の一部の領域に設け、モニター回路8を構成するMISトランジスタの容量C及び抵抗Rをモニターする。そして、このモニター結果、即ちモニター回路8から得た情報に基づき、ICチップ6内に設けられるパルス遅延線のパルス幅の減少量を制御する。
【0114】
このようなモニター回路8を有したICチップ6によれば、モニター回路8から得た情報に基づき、パルス幅減少が無視できるようにもコントロールすることが可能になる。
【0115】
以上、この発明を第1〜第3実施形態により説明したが、この発明は、これら実施形態に限定されるものではなく、その実施に際しては、発明の要旨を逸脱しない範囲で種々に変形することが可能である。
【0116】
例えば上記実施形態では、図1に示したように、基本ユニット素子1を従来のインバータ回路と同様の構成としたが、基本ユニット素子1は、図11に示すように、NANDゲートと同様の構成としても良いし、図12に示すように、NORゲートと同様の構成としても良い。
【0117】
また、上記実施形態では、トランジスタをMOS(Metal-Oxide-Semiconductor)トランジスタとしたが、そのゲート絶縁膜は酸化膜に限られるものではなく、ゲートとチャネルとを絶縁できるものであれば何でも良い。つまり、トランジスタはMIS(Metal-Insulator-Semiconductor)トランジスタであれば良い。
【0118】
また、上記実施形態は適宜組み合わせて実施することもできる。
【0119】
さらに、上記実施形態には、種々の段階の発明が含まれており、上記実施形態において開示した複数の構成要件の適宜な組み合わせにより、種々の段階の発明を抽出することも可能である。
【0120】
【発明の効果】
以上説明したように、この発明によれば、ロジックゲート回路のゲート遅延量よりも小さい量でパルス幅を縮小することが可能な半導体集積回路装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 図1Aはこの発明の第1実施形態に係るパルス幅変更回路を構成する基本ユニット素子の等価回路図、図1Bは図1Aの基本ユニット素子を本明細書において表す記号を示す図。
【図2】 図2AはNMOS2側複合素子を示す図、図2Bはその動作波形図(入力パルスが長い場合)。
【図3】 図3AはPMOS3側複合素子を示す図、図3Bはその動作波形図(入力パルスが長い場合)。
【図4】 図4は基本ユニット素子の動作を示す動作波形図。
【図5】 図5は基本ユニット素子の遅延と入力パルスのパルス幅との関係を示す図。
【図6】 図6Aはこの発明の第1実施形態に係るパルス幅変更回路の一例を示す回路図、図6B〜図6Eはそれぞれ入力のパルス幅と出力のパルス幅との関係を概略的に示した図。
【図7】 図7A〜図7Eはそれぞれこの発明の第1実施形態に係るパルス幅変更回路の特徴を従来のインバータ回路を縦続接続した遅延回路と比較して示した図。
【図8】 図8Aはこの発明の第2実施形態に用いられるMOSトランジスタの断面図、図8Bはその等価回路図。
【図9】 図9はこの発明の第3実施形態に係る半導体集積回路装置のブロック図。
【図10】 図10は酸化膜厚換算で表した容量Cとパルス減少率との関係を抵抗R毎に示した図。
【図11】 図11は基本ユニット素子の他例を示す等価回路図。
【図12】 図12は基本ユニット素子の他例を示す等価回路図。
【図13】 図13Aは従来のパルス幅変更回路を示す回路図、図13Bはその動作波形図。
【図14】 図14Aは従来のパルス幅拡大回路を示す回路図、図14Bはその動作波形図。
【図15】 図15Aは従来のパルス幅変更回路の他例を示す回路図、図15Bは図15Aに示す回路の各ノードでの出力パルスを示す図。
【符号の説明】
1…基本ユニット素子、
2…Nチャネル型MOSトランジスタ、
3…Pチャネル型MOSトランジスタ、
4…並列に接続された容量及び抵抗を含む回路要素、
5…パルス幅変更回路、
6…ICチップ、
7…遅延線、
8…モニター回路。
Claims (20)
- 等価回路として容量及び抵抗が互いに並列接続された回路要素を含むゲートを有したMISトランジスタを用いて構成された集積回路部を具備し、
前記MISトランジスタには、Pチャネル型及びNチャネル型の双方があり、
前記集積回路部は、前記Pチャネル型MISトランジスタと前記Nチャネル型MISトランジスタとを用いて構成されたインバータ、NANDゲート、及びNORゲートの少なくともいずれか一つのロジックゲート回路を含むことを特徴とする半導体集積回路装置。 - 前記集積回路部は、入力のパルス幅に応じて、この入力のパルス幅を変更するパルス幅変更機能を有することを特徴とする請求項1に記載の半導体集積回路装置。
- 前記集積回路部は、入力のパルス幅に応じて、この入力のパルス幅を縮小するか、該パルスを消滅させるかのいずれかを選択可能なパルス幅変更機能を有することを特徴とする請求項1に記載の半導体集積回路装置。
- 前記集積回路部は、入力のパルス幅に応じて、この入力のパルス幅を維持するか、該パルス幅を縮小するかのいずれかを選択可能なパルス幅変更機能を有することを特徴とする請求項1に記載の半導体集積回路装置。
- 前記集積回路部は、入力のパルス幅に応じて、この入力のパルス幅を維持するか、該パルス幅を縮小するか、該パルスを消滅させるかのいずれかを選択可能なパルス幅変更機能を有することを特徴とする請求項1に記載の半導体集積回路装置。
- 前記集積回路部は、入力のパルス幅に応じて、このパルスを通すか、該パルスを消滅させるかのいずれかを選択可能なフィルタ機能を有することを特徴とする請求項1に記載の半導体集積回路装置。
- 前記集積回路部は、入力のパルス幅に応じて、このパルスの幅を縮小して通すか、該パルスを消滅させるかのいずれかを選択可能なパルス幅変更機能及びフィルタ機能を有することを特徴とする請求項1に記載の半導体集積回路装置。
- 前記集積回路部は、入力のパルス幅に応じて、このパルスのパルス幅を維持して通すか、該パルスのパルス幅を縮小して通すか、該パルスを消滅させるかのいずれかを選択可能なパルス幅変更機能及びフィルタ機能を有することを特徴とする請求項1に記載の半導体集積回路装置。
- 前記集積回路部は、入力のパルス幅に応じて、この入力のパルス幅を維持しつつ前記ロジックゲート回路のゲート遅延量に応じて遅延させるか、該パルスを消滅させるかのいずれかを選択可能な遅延機能及びフィルタ機能を有することを特徴とする請求項1に記載の半導体集積回路装置。
- 前記集積回路部は、入力のパルス幅に応じて、この入力のパルス幅を維持しつつ前記ロジックゲート回路のゲート遅延量に応じて遅延させるか、該パルスのパルス幅を縮小して通すかのいずれかを選択可能な遅延機能及びパルス幅変更機能を有することを特徴とする請求項1に記載の半導体集積回路装置。
- 前記集積回路部は、入力のパルス幅に応じて、この入力のパルス幅を維持しつつ前記ロジックゲート回路のゲート遅延量に応じて遅延させるか、該パルスのパルス幅を縮小して通すか、該パルスを消滅させるかのいずれかを選択可能な遅延機能、パルス幅変更機能及びフィルタ機能を有することを特徴とする請求項1に記載の半導体集積回路装置。
- 前記パルス幅変更機能は、前記ロジックゲート回路のゲート遅延量よりも小さい量でパルス幅を縮小すること特徴とする請求項2乃至請求項5、請求項7、請求項8、請求項10及び請求項11いずれか一項に記載の半導体集積回路装置。
- 前記パルス幅変更機能は、前記入力のパルス幅を段階的に縮小する機能を有することを特徴とする請求項12に記載の半導体集積回路装置。
- 前記段階的に縮小されたパルス幅は、任意に抽出可能であることを特徴とする請求項13に記載の半導体集積回路装置。
- 前記ロジックゲート回路は、縦続接続されていることを特徴とする請求項1乃至請求項14いずれか一項に記載の半導体集積回路装置。
- 等価回路として容量及び抵抗が互いに並列接続された回路要素を含むゲートを有したMISトランジスタを用いて構成された集積回路部を具備し、
前記MISトランジスタのゲートは、導電性ポリシリコン層と金属層との積層構造であり、かつ前記導電性ポリシリコン層と前記金属層との界面に、容量成分及び抵抗成分を持つことを特徴とする半導体集積回路装置。 - 前記容量成分及び抵抗成分は、前記導電性ポリシリコン層と前記金属層との界面に存在する絶縁層により得ることを特徴とする請求項16に記載の半導体集積回路装置。
- 前記MISトランジスタにより構成されたモニター回路を半導体集積回路の一部の領域に設け、前記モニター回路を構成する前記MISトランジスタの容量成分及び抵抗成分をモニターし、このモニター結果に基づき、前記半導体集積回路に設けられるパルス遅延線のパルス幅の減少量を制御することを特徴とする請求項16及び請求項17いずれかに記載の半導体集積回路装置。
- 前記抵抗成分の抵抗は、10kΩ・μm2を超えることを特徴とする請求項16乃至請求項18いずれか一項に記載の半導体集積回路装置。
- 前記抵抗成分の抵抗は、10kΩ・μm2以下であること特徴とする請求項16乃至請求項18いずれか一項に記載の半導体集積回路装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001095310A JP3782312B2 (ja) | 2001-03-29 | 2001-03-29 | 半導体集積回路装置 |
US10/104,069 US6753695B2 (en) | 2001-03-29 | 2002-03-25 | Semiconductor integrated circuit device and pulse width changing circuit |
TW091106329A TWI269527B (en) | 2001-03-29 | 2002-03-29 | Semiconductor integrated circuit device and pulse width changing circuit |
KR10-2002-0017305A KR100465082B1 (ko) | 2001-03-29 | 2002-03-29 | 반도체 집적 회로 장치 및 펄스폭 변경 회로 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001095310A JP3782312B2 (ja) | 2001-03-29 | 2001-03-29 | 半導体集積回路装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002300012A JP2002300012A (ja) | 2002-10-11 |
JP3782312B2 true JP3782312B2 (ja) | 2006-06-07 |
Family
ID=18949379
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001095310A Expired - Fee Related JP3782312B2 (ja) | 2001-03-29 | 2001-03-29 | 半導体集積回路装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6753695B2 (ja) |
JP (1) | JP3782312B2 (ja) |
KR (1) | KR100465082B1 (ja) |
TW (1) | TWI269527B (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3545743B2 (ja) * | 2001-12-13 | 2004-07-21 | 株式会社東芝 | 特徴抽出システム及び半導体集積回路装置 |
US7146517B2 (en) * | 2002-05-02 | 2006-12-05 | Cray, Inc. | Clock pulse shaver with selective enable pulse width |
DE10329856A1 (de) * | 2003-07-02 | 2005-02-03 | Micronas Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Ermittlung des Verhältnisses zwischen einer RC-Zeitkonstante in einer integrierten Schaltung und einem Sollwert |
JP2016072790A (ja) * | 2014-09-30 | 2016-05-09 | ソニー株式会社 | 伝送装置、伝送方法、及び、フィルタ回路 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51142925A (en) * | 1975-06-04 | 1976-12-08 | Hitachi Ltd | Address buffer circuit |
JPS61123218A (ja) | 1984-11-20 | 1986-06-11 | Fujitsu Ltd | 半導体論理回路 |
JPH0693613B2 (ja) * | 1987-01-16 | 1994-11-16 | 三菱電機株式会社 | Misトランジスタ回路 |
JPH04105420A (ja) * | 1990-08-27 | 1992-04-07 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体集積回路 |
US5111076A (en) * | 1990-09-05 | 1992-05-05 | Min Ming Tarng | Digital superbuffer |
US5336937A (en) | 1992-08-28 | 1994-08-09 | State University Of New York | Programmable analog synapse and neural networks incorporating same |
KR950004058A (ko) | 1993-07-30 | 1995-02-17 | 오오가 노리오 | 펄스폭 변조회로 |
JPH09326687A (ja) * | 1996-06-04 | 1997-12-16 | Citizen Watch Co Ltd | 半導体集積回路 |
JP3986103B2 (ja) * | 1996-08-30 | 2007-10-03 | 富士通株式会社 | 半導体集積回路 |
TW350168B (en) | 1997-05-30 | 1999-01-11 | Nat Science Council | Signal processor |
-
2001
- 2001-03-29 JP JP2001095310A patent/JP3782312B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2002
- 2002-03-25 US US10/104,069 patent/US6753695B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2002-03-29 KR KR10-2002-0017305A patent/KR100465082B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2002-03-29 TW TW091106329A patent/TWI269527B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20020140459A1 (en) | 2002-10-03 |
TWI269527B (en) | 2006-12-21 |
KR20020077237A (ko) | 2002-10-11 |
KR100465082B1 (ko) | 2005-01-06 |
US6753695B2 (en) | 2004-06-22 |
JP2002300012A (ja) | 2002-10-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3200703B2 (ja) | 遅延回路 | |
JP3032694B2 (ja) | メモリ素子の出力バッファ回路 | |
US4499387A (en) | Integrated circuit formed on a semiconductor substrate with a variable capacitor circuit | |
US20100148304A1 (en) | Integrated circuit decoupling capacitors | |
EP1102402A1 (en) | Level adjustment circuit and data output circuit thereof | |
JP3953492B2 (ja) | 出力バッファ回路 | |
EP0315385B1 (en) | Delay circuits for integrated circuits | |
JPH06343023A (ja) | 集積回路 | |
JPH0897701A (ja) | 半導体回路 | |
US8044696B2 (en) | Delay circuit having long delay time and semiconductor device comprising the same | |
JP3782312B2 (ja) | 半導体集積回路装置 | |
JP3575920B2 (ja) | 半導体集積回路 | |
JP2003273724A (ja) | 半導体集積回路装置 | |
JP3464278B2 (ja) | ノイズ低減出力段を備えた集積回路 | |
JP4401268B2 (ja) | 出力バッファ回路及び半導体装置 | |
US20050218475A1 (en) | Low power fuse structure and method for making the same | |
US5801567A (en) | Circuit and method for generating a delayed output signal | |
US20030234674A1 (en) | System, circuit and method for low voltage operable, small footprint delay | |
US6943603B2 (en) | Pulse generating circuit and semiconductor device provided with same | |
JP2003338748A (ja) | スキューを減少させる入出力バッファ及び動作方法 | |
US20030164722A1 (en) | System and method for compensating for the effects of process, voltage, and temperature variations in a circuit | |
JPH0620176B2 (ja) | 遅延回路 | |
JPH01240013A (ja) | 半導体集積回路装置 | |
TWI836388B (zh) | 靜電放電鉗位器 | |
TWI316715B (en) | Memory controller and output signal driving circuit thereof |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20051130 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20051213 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060210 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060307 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060309 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100317 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |