JP3769587B2 - 配線回路用部材とその製造方法と多層配線回路基板と半導体集積回路装置 - Google Patents
配線回路用部材とその製造方法と多層配線回路基板と半導体集積回路装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3769587B2 JP3769587B2 JP2000334332A JP2000334332A JP3769587B2 JP 3769587 B2 JP3769587 B2 JP 3769587B2 JP 2000334332 A JP2000334332 A JP 2000334332A JP 2000334332 A JP2000334332 A JP 2000334332A JP 3769587 B2 JP3769587 B2 JP 3769587B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal
- bump
- sheet
- wiring circuit
- wiring
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16151—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/16221—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/16225—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
Landscapes
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
- Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、配線回路基板の形成に用いる配線回路用部材と、その製造方法と、その配線回路用部材を用いて形成した複数の配線回路基板を積層した多層配線回路基板と、該多層配線回路基板に半導体チップを搭載した半導体集積回路装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
配線回路基板の製造方法として、例えば薄い銅板(銅箔)等を一方の表面側から選択的にハーフエッチング(銅板の板厚より適宜浅くしたエッチング)することにより針状のバンプを後で形成される上下配線間を導通する層間導通手段として複数個配設し、薄い銅板等のバンプ形成面に絶縁シートをそれが上記バンプにより貫通されるようにして積層し、該絶縁シートを各バンプ間及び上記上下配線間絶縁分離手段としたものを用いる方法が提案されている。
【0003】
上記従来の技術には、バンプを層間導通手段となるので、基板に孔を形成し、その後、その孔の内周面にスルーホール用導通膜を形成するために無電解メッキ、電解メッキを形成するという面倒な工程を設けなくても良い、また微細な形状で接続ができる等種々の利点がある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記従来の技術には、バンプ間及び上下配線間絶縁分離手段となる絶縁シートを針状のバンプで貫通させ確実にバンプの表面をその絶縁シートから突出させる必要があるが、絶縁シートの基板への貫通の際にバンプが変形ないし折れる等して絶縁シート表面から充分に突出しない場合があったり、バンプの高さがばらつく等、バンプの突出量にバラツキが生じ、上下配線間導通に関して充分な信頼性を得ることが難しいという問題があった。
【0005】
というのは、バンプは一般に高い導電性を持ち強い剛性を持つ銅乃至銅合金等で形成されるも、針状に形成すると先端は尖っているので、変形等し易くなり、また、選択的エッチングにより針状バンプを形成した場合にはバンプの高さのコントロールが難しく、バンプの高さに大きなバラツキが生じ、低く形成されたバンプについて上下配線間導通に関する信頼度の低下が生じ、断線等も起き得るからである。
【0006】
本発明はこのような問題点を解決すべく為されたものであり、基板に形成されたバンプの上下配線間導通についての信頼度をより高めることを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
請求項1の配線回路用部材は、縦断面形状がコニーデ状ないし台形状の複数の金属バンプを一方の主表面の所定位置に配設した金属箔からなる金属板の該一方の主表面に、合成樹脂からなり上記金属バンプの高さより薄い層間絶縁膜を成す絶縁シートと、該絶縁シート上に重なる第1の剥離シートと、これに重なる第2の剥離シートを、該第1及び第2の剥離シート及び上記絶縁シートが上記各金属バンプの形状を倣うように被覆し、上記第2の剥離シートを剥離し、上記金属板の一方の主表面に対して研磨することにより、上記第1の剥離シート及び上記絶縁シートの上記金属バンプを覆う部分を該金属バンプの上面が露出するよう除去し、更に、上記第1の剥離シートを剥離してなることを特徴とする。
【0008】
請求項2の配線回路用部材は、請求項1記載の配線回路用部材において、前記金属板の表面及び前記金属バンプの主表面が粗化処理により黒褐色にされ、前記金属バンプの上面が前記研磨により銅色にされてなることを特徴とする。
【0009】
請求項3の配線回路用部材の製造方法は、金属板の一方の主表面の所定位置に縦断面形状がコニーデ状ないし台形状の複数の金属バンプを形成するバンプ形成工程と、上記金属板の一方の主表面に、合成樹脂からなり上記金属バンプの高さより薄い層間絶縁膜を成す絶縁シートと、これに重なる第1の剥離シートと、これに重なる第2の剥離シートを、該第1及び第2の剥離シート及び上記絶縁シートが上記各金属バンプの形状を倣うように被覆する積層工程と、上記第2の剥離シートを剥離する剥離工程と、上記金属板の一方の主表面に対して研磨することにより、上記第1の剥離シート及び上記絶縁シートの上記金属バンプを覆う部分を該金属バンプの上面が露出するよう除去する研磨工程と、更に、上記第1の剥離シートを剥離する剥離工程と、を有することを特徴とする。
【0010】
請求項4の配線回路用部材の製造方法は、請求項3記載の配線回路用部材の製造方法において、前記バンプ形成工程と、前記積層工程との間に、前記金属板及び金属バンプの表面を黒褐色にする黒化処理工程を有することを特徴とする。
【0011】
請求項5の多層配線回路基板は、請求項1又は2記載の配線回路用部材をビルドアップ部材として、銅箔ないし内層回路形成したコア基板に積層、プレスし、その後、所要の回路形成して両面配線ないし多層配線形成してなることを特徴とする。
請求項6の半導体集積回路装置は、請求項5の多層配線回路基板の少なくとも一部に半導体チップを搭載してなることを特徴とする。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を図示実施の形態例に従って詳細に説明する。 図1(A)〜(D)及び図2(E)〜(H)は第1の実施の形態例に係る配線回路用部材の製造方法を工程順(A)〜(H)に示す断面図である。
(A)銅からなる薄い金属板(銅箔)1を用意し、その一主表面にフォトレジスト膜2を露光、現像処理により選択的に形成し、その後、その選択的に形成したフォトレジスト膜2をマスクとしてその金属板1の上記主表面をハーフエッチングすることにより上下配線間導通用の金属バンプ3を形成する。図1(A)は金属バンプ3形成後の状態を示す。
【0013】
ここで、ハーフエッチングとは、選択エッチング対象となる金属板1の厚さよりもエッチング深さを適宜浅くし、エッチングされた部分4が貫通することのないエッチングのことを言う。従って、決してエッチング深さが金属板1の厚さの2分の1になるエッチングに限定されるものではない。尚、6は金属板1の外枠である。
本配線回路用部材における金属バンプ3は、縦断面形状が略台形乃至コニーデ状で、上面5が研磨された平坦面を成しており、針状にはなっていない。
【0014】
(B)次に、上記フォトレジスト膜2を除去し、その後、図1(B)に示すように、上記金属板1の上記金属バンプ3形成側の主表面を例えば次亜塩素酸ソーダによる黒化処理により黒化し、次いで還元処理をすることにより黒褐色化すると共に、粗面化する。この黒色化には、後で金属バンプの検査時に少し後の研磨工程で本来の銅色になった金属バンプ3の上面と金属板1のそれ以外の部分との間に光学的パターン認識のためのコントラストをつけ、バンプ3(の上面5)のパターン認識をし易くし、以て検査の確実性を高め、検査スピードを高める意義がある。
また、粗面化には後で形成される層間絶縁及び金属バンプ間絶縁用の絶縁シートからなる絶縁層(7)との密着性を高める意義がある。
【0015】
(C)次に、図1(C)に示すように、配線層の絶縁層となる例えばエポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、ビスマレイミドトリアジン樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、液晶ポリマー等から絶縁シート7、合成樹脂或いは金属箔からなる剥離シート(第1の剥離シート)8及びペーパー(第2の剥離シート)9を用意し、上記金属板1のバンプ形成側主表面上方に臨ませる。
(D)次に、図1(D)に示すように、平板真空熱プレス(熱プレス)により上記絶縁シート7、剥離シート8及びペーパー9を上記金属板1の上記金属バンプ形成側主表面に積層する。
【0016】
(E)次に、図2(E)に示すように、ペーパー9を剥離する。
(F)次に、図2(F)に示すように、上記金属板1の金属バンプ形成側主表面を研磨し、金属バンプ3の上記黒化還元処理により黒褐色化され且つ粗面化された上面5を研磨により通常の銅色の光沢面(滑面)5a化する。そして、この鏡面5aが後で上側に形成される配線膜との接続面となる。この段階で配線回路用部材11が出来上がったと言える。従って、このままの段階で積層配線基板加工工場に搬送するようにすることもできる。尚、10は研磨により剥離シート8上に生じた銅微粉等の異物である。
【0017】
(G)次に、上記剥離シート8を金属板1から剥離することにより、図2(F)に示すように、金属板1上から除去する。尚、上記研磨工程等で生じた剥離シート8上の異物10が該剥離シート8と共に除去される。この段階で積層配線基板組立工場に搬送するようにしても良い。
【0018】
尚、その後、更に配線回路用部材11に対してエアースプレー等によりゴミとり処理を施す。そして、他の会社に販売する場合には、検査が必要なので、その後、配線回路用部材11に対する金属バンプ3についての光学的パターン検査をする。これは、上側から検査用の光を照射し、反射光によりパターンを検知し、検知したパターンと本来の基準パターンとを比較して良、不良の判断をするものであるが、前記金属バンプ3形成後の黒化還元処理[前記図1(B)に示す工程(B)参照]と前記研磨工程[前記図2(F)に示す工程(F)参照]がその検査の確実性を高め、検査スピードを速めるのに寄与する。
【0019】
というのは、上記黒化還元処理により金属板1の金属バンプ3形成側の主表面は金属バンプ3表面を含め色が黒褐色となるが、その後の研磨工程で金属バンプ3の上面のみが普通の銅の色に戻る。従って、金属バンプ1の上面5aが黒褐色を背景にして銅色に現れ、黒褐色の部分と銅色の部分とでは光の反射率が大幅に異なるので、金属板1上における金属バンプ3のパターン認識の誤認識に対するマージンを大きくとることができるからである。
また、黒化還元処理による金属板1の上記主表面の粗面化は、金属バンプ3の周面を含む金属板1表面と、上下配線(後で形成される)間及び金属バンプ3間分離用の絶縁層7との密着性を高める。
【0020】
この配線回路用部材11は、上記検査に合格すると、複数枚重ねられ、脱酸素剤と共に例えばアルミニウム袋等に梱包され、熱シールにより封止された状態で販売相手先である顧客に搬送される。
【0021】
このような、配線回路用部材11によれば、金属バンプ3は縦断面形状が略コニーデ状或いは略台形状であり、上面が平坦面5とされ、そして、絶縁層7を成す絶縁シート、剥離層7及びペーパー8が積層されるときそのバンプ3でこれらの層を貫通させることによってではなく、積層後の研磨により金属バンプ3の上面5aを確実に露出させ、後で接続されることになる銅箔ないし内層配線板の銅パターンとの接続面とするので、斯かる積層時にバンプ3が変形するおそれがなく、従って、層間導通手段としての機能を確実に果たさせることができる。また、バンプ3の高さも針状バンプの場合におけるようにバラツキが生じおそれがなく、バンプ高さ不足により接続性が低まり、信頼度が低くなると言うおそれもない。
依って、出来上がった配線回路用部材11の信頼度を高めることができる。
【0022】
図3(A)〜(C)は本発明の第2の実施の形態例に係る配線回路用部材の製造方法を工程順(A)〜(C)に示す断面図である。
(A)図1(A)、(B)に示した工程(A)、(B)と同じ工程により金属板1の一主表面に金属バンプ3を形成し、該金属板1の表面を、金属バンプ3の表面を次亜塩素酸ソーダにより黒化処理を施す。図3(A)はその黒化処理後の状態を示す。
【0023】
(B)次に、上下配線(後で形成等される)間及び各金属バンプ3・3間を絶縁分離する絶縁層となる、例えば液晶ポリマーからなる絶縁シート7aを用意し、図3(B)に示すように、該絶縁シート7aを介して研磨板12により上記金属板1の金属バンプ形成側主表面の研磨を開始する。尚、絶縁シート7aとして液晶ポリマーを用いることが最も本実施の形態に好適であるが、必ずしも、液晶ポリマーに限定されるものではない。
(C)すると、例えば液晶ポリマーからなる上記絶縁シート7aは金属バンプ3と接する部分が該金属バンプ3と研磨板12とにより他の部分より強く研磨されて、該絶縁シート7aのその部分に孔があき、図3(C)に示すように、そこに金属バンプ3が入り込む。
【0024】
(D)そして、完全に絶縁シート7aが金属バンプ3に貫通されて金属板1上に位置して各金属バンプ3・3間を絶縁分離し且つ上下配線(後で形成される)間を絶縁分離する絶縁層となり、更に、金属バンプ3上面5が研磨板12により研磨されて研磨面5aになり、配線回路用部材11aが出来上がる。図1(D)はその研磨が終了して出来上がった配線回路用部材11aを示す。
【0025】
この配線回路用部材11aは、エアースプレー等によりゴミとり処理が施され、他の会社に販売する場合には、検査が必要なので、配線回路用部材11aに対する金属バンプ3についての光学的パターン検査が行われること図1、図2の実施の形態に係る配線回路用部材11の場合と同じである。また、前記金属バンプ3形成後の黒化処理と前記研磨工程がその検査の確実性を高め、検査スピードを速めるのに寄与すること、その理由も図1、図2の実施の形態に係る配線回路用部材11の場合と同じである。
【0026】
このような配線回路用部材11aによれば、配線回路用部材11により得ることのできる効果、即ち、絶縁層の積層時にバンプ3が変形するおそれがなく、従って、上下配線間導通手段としての機能を確実に果たさせることができ、バンプ3の高さも針状バンプの場合におけるようにバラツキが生じおそれがなく、バンプ高さ不足により接続性が低まり、信頼度が低くなると言うおそれもなく、配線回路用部材11の信頼度を高めることができるという効果を享受できるのみならず、絶縁層7aの積層と金属バンプ3の上面5を露出させる研磨を一つの工程で同時に行うことができ、より工程数を低減できるという効果をも奏する。
【0027】
図4は上記配線回路用部材11(或いは11a)の金属板1をパターニングして配線膜1aを形成した配線回路基板13を用いた多層配線回路基板の一例14に半導体チップ15を搭載した半導体集積回路装置16を示す。同図において、17は例えばガラスエポキシ等からなる基板18の両主表面に配線膜19を形成した配線基板であり、該配線基板17の両主表面に上記配線回路基板13が2個ずつ積層プレスし、次いで両表面をパターニングし、更に同様な工程を再度繰り返すことにより6層の多層配線回路基板14が構成されている。
【0028】
各配線回路基板13は、それぞれ図1、図2に示す方法により製造された配線回路用部材11(或いは図3に示す方法により製造された配線回路用部材11a)を配線基板17に積層配置し、加熱加圧後パターニングされたものであり、金属バンプ3の上面5を配線基板17の配線膜19に加熱加圧時に接続することにより該配線基板17の両主表面に積層される。
【0029】
上記配線基板17の両主表面に積層された各配線回路基板13には、その配線膜1aに他の配線回路基板13の金属バンプ3の上面5aを接続することにより該他の配線回路基板13が積層される。このように積層する配線回路基板13の数を増やすことにより任意に多層配線回路基板14の配線の層数を増やすことができる。
【0030】
そして、多層配線回路基板14の両主表面の配線膜1aに半導体チップ15を例えばフェイスダウンボンディングすることにより、半導体チップ15aを搭載して半導体集積回路装置16が構成される。17は半導体チップボンディング半田である。
【0031】
このように、図1、図2に示した配線回路用部材11或いは11aを用いた配線回路基板13を用いることにより配線膜の層数の多い多層配線回路基板14を得ることができ、それに半導体チップ15を搭載することにより極めて高集積度の半導体集積回路装置16を得ることができるのである。
【0032】
【発明の効果】
請求項1の配線回路用部材によれば、金属バンプ縦断面形状が略コニーデ状或いは略台形状であり、上面が平坦面とされ、そして、絶縁層を成す絶縁シートが積層されるときその金属バンプでこれらの層を貫通させることによってではなく、積層後の研磨により金属バンプの上面を露出させ、後で接続されることになる上側配線との接続面とするので、斯かる積層時にバンプが変形するおそれがなく、従って、上下配線間導通手段としての機能を確実に果たさせることができる。また、バンプの高さも針状バンプの場合におけるようにバラツキが生じおそれがなく、バンプ高さ不足により接続性が低まり、信頼度が低くなると言うおそれもない。依って、配線回路用部材の信頼度を高めることができる。
更に、請求項1の配線回路用部材によれば、第1の剥離シートを金属板から剥離することにより、研磨工程等で生じた該第1剥離シート上の異物が該剥離シートと共に除去される。従って、基板表面をよりクリーンにすることができる。
【0033】
請求項2の配線回路用部材によれば、金属板の表面及び金属バンプの主表面が黒化処理により黒褐色にされ、前記金属バンプの上面が前記研磨により銅色にされているので、光学的検査をするとき、金属バンプの上面が黒褐色を背景にして銅色に現れ、黒褐色の部分と銅色の部分とでは光の反射率が異なるので、金属板上における金属バンプのパターン認識の誤認識に対するマージンを大きくとることができ、検査の正確さを高め、検査スピードを速めることができる。
また、黒化処理による、金属バンプの周面を含む金属板表面の粗面化は上下配線(後で形成される)間及び金属バンプ間分離用の絶縁層との密着性を高め、絶縁に関する信頼度を高めることができる。
【0034】
請求項3の配線回路用部材の製造方法によれば、請求項1の配線回路用部材を得ることができる。そして、請求項1の配線回路用部材が享受した効果を奏するのみならず、第1の剥離シートを金属板から剥離することにより、研磨工程等で生じた該第1剥離シート上の異物が該剥離シートと共に除去される。従って、基板表面をよりクリーンにすることができる。
【0035】
請求項4の配線回路用部材の製造方法によれば、請求項2の配線回路用部材を得ることができる。従って、請求項2の配線回路用部材が享受した効果、即ち、光学的検査をするとき、金属バンプの上面が黒褐色を背景にして銅色に現れ、黒褐色の部分と銅色の部分とでは光の反射率が異なるので、金属板上における金属バンプのパターン認識の誤認識に対するマージンを大きくとることができ、検査の正確さを高め、検査スピードを速めることができるという効果を奏する。
請求項5の多層配線回路基板によれば、配線回路基板を積層することにより配線膜の層数を増やし、配線の集積密度をより高めることができる。
請求項6の半導体集積回路装置によれば、上記多層配線回路基板に半導体チップを搭載するので、集積密度の高い半導体集積回路装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(A)〜(D)は本発明配線回路用部材の製造方法の一つの実施の形態例の工程(A)〜(D)を順に示す断面図である。
【図2】(E)〜(G)は上記実施の形態例の工程(E)〜(G)を順に示す断面図である。
【図3】(A)〜(C)は本発明配線回路用部材の製造方法の一つの実施の形態例の工程(A)〜(C)を順に示す断面図である。
【図4】上記図1、2に示した配線回路用部材の金属板をパターニングすることにより配線膜を形成してつくった配線回路基板を用いて製造した多層配線回路基板に半導体チップを搭載した半導体集積回路装置を示す断面図である。
【符号の説明】
1・・・金属板、1a・・・配線膜、3・・・金属バンプ、
5・・・金属バンプの上面、5a・・・研磨された上面、
7、7a・・・絶縁シート(絶縁層)、8・・・第1の剥離シート、
9・・・第2の剥離シート(ペーパー)、
11、11a・・・配線回路用部材、12・・・研磨板、
13・・・配線回路基板、14・・・多層配線回路基板、
15・・・半導体チップ、16・・・半導体集積回路装置。
Claims (6)
- 縦断面形状がコニーデ状ないし台形状の複数の金属バンプを一方の主表面の所定位置に配設した金属箔からなる金属板の該一方の主表面に、合成樹脂からなり上記金属バンプの高さより薄い層間絶縁膜を成す絶縁シートと、該絶縁シート上に重なる第1の剥離シートと、これに重なる第2の剥離シートを、該第1及び第2の剥離シート及び上記絶縁シートが上記各金属バンプの形状に倣うように被覆し、
上記第2の剥離シートを剥離し、
上記金属板の一方の主表面に対して研磨することにより、上記第1の剥離シート及び上記絶縁シートの上記金属バンプを覆う部分を該金属バンプの上面が露出するよう除去し、
更に、上記第1の剥離シートを剥離してなる
ことを特徴とする配線回路用部材。 - 前記金属板の表面及び前記金属バンプの主表面が粗化処理により黒褐色にされ、
前記金属バンプの上面が前記研磨により銅色にされてなる
ことを特徴とする請求項1記載の配線回路用部材。 - 金属板の一方の主表面の所定位置に縦断面形状がコニーデ状ないし台形状の複数の金属バンプを形成するバンプ形成工程と、
上記金属板の一方の主表面に、合成樹脂からなり上記金属バンプの高さより薄い層間絶縁膜を成す絶縁シートと、これに重なる第1の剥離シートと、これに重なる第2の剥離シートを、該第1及び第2の剥離シート及び上記絶縁シートが上記各金属バンプの形状を倣うように被覆する積層工程と、
上記第2の剥離シートを剥離する剥離工程と、
上記金属板の一方の主表面に対して研磨することにより、上記第1の剥離シート及び上記絶縁シートの上記金属バンプを覆う部分を該金属バンプの上面が露出するよう除去する研磨工程と、
更に、上記第1の剥離シートを剥離する剥離工程と、
を有することを特徴とする配線回路用部材の製造方法。 - 前記バンプ形成工程と、前記積層工程との間に、前記金属板及び金属バンプの表面を粗化処理により黒褐の粗化面にする黒化処理工程を有する
ことを特徴とする請求項3記載の配線回路用部材の製造方法。 - 請求項1又は2記載の配線回路用部材をビルドアップ部材として、銅箔ないし内層回路を形成したコア基板に積層、プレスし、その後、所要の回路形成してなる両面配線ないし多層配線を有する
ことを特徴とする多層配線回路基板。 - 請求項5の多層配線回路基板の少なくとも一部に半導体チップを搭載してなる
ことを特徴とする半導体集積回路装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000334332A JP3769587B2 (ja) | 2000-11-01 | 2000-11-01 | 配線回路用部材とその製造方法と多層配線回路基板と半導体集積回路装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000334332A JP3769587B2 (ja) | 2000-11-01 | 2000-11-01 | 配線回路用部材とその製造方法と多層配線回路基板と半導体集積回路装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002141629A JP2002141629A (ja) | 2002-05-17 |
JP3769587B2 true JP3769587B2 (ja) | 2006-04-26 |
Family
ID=18810269
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000334332A Expired - Fee Related JP3769587B2 (ja) | 2000-11-01 | 2000-11-01 | 配線回路用部材とその製造方法と多層配線回路基板と半導体集積回路装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3769587B2 (ja) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3907062B2 (ja) * | 2002-05-21 | 2007-04-18 | 株式会社ダイワ工業 | 層間接続構造及びその形成方法 |
JP2004079773A (ja) * | 2002-08-19 | 2004-03-11 | Taiyo Yuden Co Ltd | 多層プリント配線板及びその製造方法 |
JP4523261B2 (ja) * | 2003-10-30 | 2010-08-11 | テセラ・インターコネクト・マテリアルズ,インコーポレイテッド | 配線回路基板、配線回路基板の製造方法及び多層配線基板の製造方法 |
JP4495520B2 (ja) * | 2004-05-24 | 2010-07-07 | 北川精機株式会社 | フィルム加工装置 |
TW200623999A (en) * | 2004-09-06 | 2006-07-01 | North Corp | Member for interconnecting wiring films and method for producing the same |
JP2008153682A (ja) * | 2008-01-24 | 2008-07-03 | Tadatomo Suga | 電子部品実装装置とその製造方法 |
JP2009182272A (ja) | 2008-01-31 | 2009-08-13 | Sanyo Electric Co Ltd | 素子搭載用基板およびその製造方法、半導体モジュールおよびその製造方法、ならびに携帯機器 |
US8309864B2 (en) | 2008-01-31 | 2012-11-13 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Device mounting board and manufacturing method therefor, and semiconductor module |
JP5028291B2 (ja) * | 2008-01-31 | 2012-09-19 | 三洋電機株式会社 | 素子搭載用基板、素子搭載用基板の製造方法、半導体モジュールおよび半導体モジュールの製造方法 |
JP4987756B2 (ja) * | 2008-02-28 | 2012-07-25 | 日本メクトロン株式会社 | 多層回路基板の製造方法 |
WO2012128269A1 (ja) * | 2011-03-24 | 2012-09-27 | 株式会社村田製作所 | 配線基板 |
JP5306443B2 (ja) * | 2011-12-27 | 2013-10-02 | 三洋電機株式会社 | 素子搭載用基板、素子搭載用基板の製造方法、半導体モジュールおよび半導体モジュールの製造方法 |
KR20140060767A (ko) * | 2012-11-12 | 2014-05-21 | 삼성전기주식회사 | 회로 기판 및 그 제조 방법 |
JP6856444B2 (ja) * | 2017-05-12 | 2021-04-07 | 新光電気工業株式会社 | 配線基板、配線基板の製造方法 |
-
2000
- 2000-11-01 JP JP2000334332A patent/JP3769587B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2002141629A (ja) | 2002-05-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI423754B (zh) | 多層配線基板及其製造方法 | |
US6884945B2 (en) | Multi-layer printed circuit board and a BGA semiconductor package using the multi-layer printed circuit board | |
JP4126052B2 (ja) | プリント基板の製造方法および薄型プリント基板 | |
JP3769587B2 (ja) | 配線回路用部材とその製造方法と多層配線回路基板と半導体集積回路装置 | |
TWI414221B (zh) | 多層配線基板及其製造方法 | |
KR100548607B1 (ko) | 배선막간 접속용 부재, 그 제조방법 및 다층배선기판의제조방법 | |
KR100836653B1 (ko) | 회로기판 및 그 제조방법 | |
TWI492688B (zh) | 多層配線基板的製造方法 | |
WO2007069789A1 (ja) | 多層プリント配線板およびその製造方法 | |
KR20080091709A (ko) | 배선 기판 및 그 제조 방법 | |
US20080128911A1 (en) | Semiconductor package and method for manufacturing the same | |
JP4143609B2 (ja) | 配線基板の製造方法 | |
JP2001111189A (ja) | 配線回路基板とその製造方法 | |
TW201334647A (zh) | 多層配線基板及其製造方法 | |
JP2004119729A (ja) | 回路装置の製造方法 | |
JP4274855B2 (ja) | プリント基板の製造方法 | |
KR100582145B1 (ko) | 반도체 장치의 제조 방법 | |
JP4203538B2 (ja) | 配線基板の製造方法、及び配線基板 | |
JP2004119730A (ja) | 回路装置の製造方法 | |
KR20060135983A (ko) | 범프를 이용한 인쇄회로기판 및 그 제조방법 | |
JP4549695B2 (ja) | 配線基板の製造方法 | |
JP5530955B2 (ja) | 多層配線基板 | |
JP3304061B2 (ja) | プリント配線板の製造方法 | |
JP3895017B2 (ja) | プリント配線板の製造における埋込型表面バイアホールの形成方法 | |
TWI527164B (zh) | 封裝基板之製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050614 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050804 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050920 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20051018 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20051019 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051209 |
|
R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100217 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100217 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110217 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120217 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120217 Year of fee payment: 6 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130217 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130217 Year of fee payment: 7 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130217 Year of fee payment: 7 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130217 Year of fee payment: 7 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130217 Year of fee payment: 7 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130217 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140217 Year of fee payment: 8 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |