JP3638901B2 - 半導体装置用パッケージ - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
この発明は、半導体装置用パッケージに関し、特に、半導体装置の耐湿性を向上させるための半導体装置用パッケージに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、半導体装置用パッケージは、内接される半導体素子の特性や実装される電子機器の要望に応じて種々のものが提案されている。
この種の半導体装置用パッケージとして例えば、特開平5−299525号等には、ベース基板上に半導体チップを面実装し、このベース基板と封止用キャップとの間を気密封止するハーメチック封止型の半導体装置用パッケージが示されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、このようなハーメチック封止型の半導体装置用パッケージの場合、ある程度耐湿性の高い構造とすることができるが、高価なハーメチックパッケージを使用する必要があり、安価な製品に対しては適用できないという問題点があった。
【0004】
この発明は、このような従来の問題点を解決するためになされたものであり、半導体装置の耐湿性を高め、安価な製品にも適用できる汎用性のある半導体装置用パッケージを提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】
請求項1の発明に係る半導体装置用パッケージは、半導体基板と、該半導体基板上にその周囲を囲むように形成された金属フレームと、該金属フレームを介して上記半導体基板に対向して設けられたパッケージ基板とを備え、上記半導体基板をキャップとして上記パッケージ基板に実装し、上記半導体基板の外部への配線の取り出しを、上記半導体基板側に形成されたビアホールを用いて行うものである。
【0006】
請求項2の発明に係る半導体装置用パッケージは、上記半導体基板は電極を有し、上記パッケージ基板は上記電極に対向して設けられた基板電極と、上記金属フレームに対向して設けられた金属フレーム受けプレートとを有し、上記電極と上記基板電極、および上記金属フレームと上記金属フレーム受けプレートをそれぞれ半田接合して上記半導体基板を上記パッケージ基板に向かい合わせで連結実装するものである。
【0007】
請求項3の発明に係る半導体装置用パッケージは、上記半導体基板の外部への配線の取り出しを、上記パッケージ基板側に形成されたスルーホールを介して行うものである。
【0009】
請求項4の発明に係る半導体装置用パッケージは、上記半導体基板の外部への配線の取り出しを、上記パッケージ基板の代わりに多層配線基板を用いたものである。
【0011】
請求項5の発明に係る半導体装置用パッケージは、上記金属フレームを、ソース電極で兼用するものである。
【0022】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の実施の形態を、図に基づいて説明する。
実施の形態1.
図1は、この発明の実施の形態1による半導体装置用パッケージを示す構成図である。
図1において、1は半導体基板、2は金属フレーム、3は電極、4はパッケージ基板、5は基板電極、6は金属フレーム受けプレート、7は半田材、8はスルーホールである。
【0023】
次に、その製造方法を説明する。
図1に示すように、半導体装置(図示せず)の搭載された半導体基板1の周囲を囲む形状で金属フレーム2を形成する。半導体基板1にはメッキ法などによりAuを厚く積み上げて金属フレーム2および電極3を形成し、さらにその表面には蒸着などの方法でAu/Snなどの半田材7を形成する。半導体基板1に対向するパッケージ基板4には、半導体基板1の各電極3に対応する位置に基板電極5を設け、また、金属フレーム2に対応する位置に金属フレーム受けプレート6を設ける。
【0024】
これらを向かい合わせてその表面の半田材7を加熱溶融することにより半田接合させ、半導体基板1とパッケージ基板4とを連結実装する。こうすることで、周囲を取り囲む金属フレーム2により気密封止されるので、高耐湿性を確保することが可能となり、かつ中空パッケージとなることから高周波特性に対しても有利な構造となる。パッケージ内部からの配線の取り出し、つまり、半導体基板1の外部への配線の取り出しは、パッケージ基板4側に形成したスルーホール8から行う。
このようにして、本実施の形態では、半導体基板を実質的にキャップとしてパッケージ基板に連結実装することで、周囲を取り囲む金属フレームにより気密封止されるので、半導体装置の高耐湿性を確保することが可能となる。
【0025】
実施の形態2.
図2は、この発明の実施の形態2による半導体装置用パッケージを示す構成図である。なお、図2において、図1と対応する部分には同一符号を付し、その説明を省略する。
図2において、9は金属フレーム受けプレート6に形成されたエッジである。その他の構成は、図1と同様である。
【0026】
図2に示すように、パッケージ基板4側の金属フレーム受けプレート6に、鋭利なエッジ9を形成することによって、金属フレーム受けプレート6に塑性変形を生じさせ、これにより気密性を向上することができる。
【0027】
実施の形態3.
図3は、この発明の実施の形態3による半導体装置用パッケージを示す構成図である。なお、図3において、図1と対応する部分には同一符号を付し、その説明を省略する。
図3において、10は多層配線基板である。その他の構成は、図1と同様である。
上記実施の形態1では、パッケージ内部からの配線の取り出しをスルーホール8としたが、図3に示すように、多層配線基板10を用いてもよい。
【0028】
実施の形態4.
図4は、この発明の実施の形態4による半導体装置用パッケージを示す構成図である。なお、図4において、図1と対応する部分には同一符号を付し、その説明を省略する。
図4において、11は半導体基板1側に形成されたビアホール、12は半導体基板1の上に設けられた裏面電極である。その他の構成は、図1と同様である。上記実施の形態1では、外部への配線の取り出しをパッケージ基板4側に形成したスルーホール8によって行っていたが、図4に示すように、半導体基板1側に形成したビアホール11によって行ってもよい。このビアホール11を介して半導体基板1の上に設けられた裏面電極12にパッケージ内部の電極即ち半導体基板1が有する電極3が接続される。
【0029】
実施の形態5.
図5は、この発明の実施の形態5による半導体装置用パッケージを示す構成図である。なお、図5において、図1〜図4と対応する部分には同一符号を付し、その説明を省略する。
また、上記実施の形態1〜4では、気密性を高めるために金属フレーム2を用いていたが、図5に示すように、ソースなどの電極3で周囲を囲い、気密性を確保してもよい。
【0030】
実施の形態6.
図6は、この発明の実施の形態6による半導体装置用パッケージの一部を示す構成図である。
図において、13はソース電極、14はドレイン電極、15はゲート電極、16は絶縁膜、17は金属膜、18はリセス、19は半導体基板である。なお、金属膜17は、電気的にフローティングとする、つまりどこにも電気的に接続されていないものとする。
【0031】
通常、半導体装置の耐湿性は、リセス18の部分が大きく影響している。このため、絶縁膜16を介してリセス18およびゲート電極15を覆う形で金属膜17を形成する。これにより、水分の侵入を防ぎ、耐湿性を高めることができる。金属膜17には、Auなどの化学的に安定なものを用いることにより、ストレスの変化など半導体装置に特性変化をもたらす影響を低減できる。
【0032】
また、金属膜17は、直流的には電極と絶縁されているが、高周波的にはゲート抵抗を低減する効果もある。つまり、金属膜17は電気的にフローティングとされているが、高周波動作させたときに、実質的に通電状態となり、ゲート抵抗を低減する効果もある。
【0033】
【発明の効果】
以上、説明したように、請求項1の発明によれば、半導体基板と、該半導体基板上にその周囲を囲むように形成された金属フレームと、該金属フレームを介して上記半導体基板に対向して設けられたパッケージ基板とを備え、上記半導体基板をキャップとして上記パッケージ基板に実装し、上記半導体基板の外部への配線の取り出しを、上記半導体基板側に形成されたビアホールを用いて行うので、半導体装置の耐湿性を向上し、安価な製品にも適用できる汎用性のある半導体装置用パッケージが得られるという効果がある。
【0034】
また、請求項2の発明によれば、上記半導体基板は電極を有し、上記パッケージ基板は上記電極に対向して設けられた基板電極と、上記金属フレームに対向して設けられた金属フレーム受けプレートとを有し、上記電極と上記基板電極、および上記金属フレームと上記金属フレーム受けプレートをそれぞれ半田接合して上記半導体基板を上記パッケージ基板に向かい合わせで連結実装するので、半導体装置の耐湿性の向上を図ることができるという効果がある。
【0035】
また、請求項3の発明によれば、上記半導体基板の外部への配線の取り出しを、上記パッケージ基板側に形成されたスルーホールを介して行うので、半導体装置の耐湿性の向上に寄与できるという効果がある。
【0037】
また、請求項4の発明によれば、上記半導体基板の外部への配線の取り出しを、上記パッケージ基板の代わりに多層配線基板を用いたので、半導体装置の耐湿性の向上に寄与できるという効果がある。
【0039】
また、請求項5の発明によれば、上記金属フレームを、ソース電極で兼用するので、コストの低廉化を図ることができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の実施の形態1による半導体装置用パッケージを示す断面図である。
【図2】 この発明の実施の形態2による半導体装置を示す断面図である。
【図3】 この発明の実施の形態3による半導体装置半導体装置用パッケージを示す断面図である。
【図4】 この発明の実施の形態4による半導体装置用パッケージを示す断面図である。
【図5】 この発明の実施の形態5による半導体装置用パッケージを示す断面図である。
【図6】 この発明の実施の形態6による半導体装置用パッケージの一部を示す断面図である。
【符号の説明】
1,19 半導体基板、 2 金属フレーム、 3 電極、 4 パッケージ基板、 5 基板電極、 6 金属フレーム受けプレート、 7 半田材、 8スルーホール、 9 エッジ、 10 多層配線基板、 11 ビアホール、12 裏面電極、 13 ソース電極、 14 ドレイン電極、 15 ゲート電極、 16 絶縁膜、 17 金属膜、 18 リセス。
Claims (5)
- 半導体基板と、該半導体基板上にその周囲を囲むように形成された金属フレームと、該金属フレームを介して上記半導体基板に対向して設けられたパッケージ基板とを備え、上記半導体基板をキャップとして上記パッケージ基板に実装し、上記半導体基板の外部への配線の取り出しを、上記半導体基板側に形成されたビアホールを用いて行うことを特徴とする半導体装置用パッケージ。
- 上記半導体基板は電極を有し、上記パッケージ基板は上記電極に対向して設けられた基板電極と、上記金属フレームに対向して設けられた金属フレーム受けプレートとを有し、上記電極と上記基板電極、および上記金属フレームと上記金属フレーム受けプレートをそれぞれ半田接合して上記半導体基板を上記パッケージ基板に向かい合わせで連結実装するようにしたことを特徴とする請求項1記載の半導体装置用パッケージ。
- 上記半導体基板の外部への配線の取り出しを、上記パッケージ基板側に形成されたスルーホールを介して行うことを特徴とする請求項1または2記載の半導体装置用パッケージ。
- 上記半導体基板の外部への配線の取り出しを、上記パッケージ基板の代わりに多層配線基板を用いたことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の半導体装置用パッケージ。
- 上記金属フレームを、ソース電極で兼用するようにしたことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の半導体装置用パッケージ。
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