JP3524107B2 - 力が補償されるマシンフレームを有する光リソグラフ装置 - Google Patents

力が補償されるマシンフレームを有する光リソグラフ装置

Info

Publication number
JP3524107B2
JP3524107B2 JP08168792A JP8168792A JP3524107B2 JP 3524107 B2 JP3524107 B2 JP 3524107B2 JP 08168792 A JP08168792 A JP 08168792A JP 8168792 A JP8168792 A JP 8168792A JP 3524107 B2 JP3524107 B2 JP 3524107B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
force
optical
machine frame
lithographic apparatus
optical lithographic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP08168792A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH05121294A (ja
Inventor
ファン エイク ヤン
ファン エンゲレン ゲラルド
ヘルマン マリー コクス ヘンドリクス
エルネスト ベークマン ヘンリクス
マテイス ヤコブス フランシスカス
Original Assignee
エー エス エム エル ネザーランズ ビー ヴィ
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by エー エス エム エル ネザーランズ ビー ヴィ filed Critical エー エス エム エル ネザーランズ ビー ヴィ
Publication of JPH05121294A publication Critical patent/JPH05121294A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3524107B2 publication Critical patent/JP3524107B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70716—Stages
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • G03F7/70833—Mounting of optical systems, e.g. mounting of illumination system, projection system or stage systems on base-plate or ground
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
    • G03F7/709—Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Atmospheric Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Transmission Devices (AREA)
  • Control Of Linear Motors (AREA)
  • Vibration Prevention Devices (AREA)
  • Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レンズ系と位置決め装
置とを有する光リソグラフ装置に係り、前記レンズ系が
ｚ方向に平行である垂直光学主軸を有するとともに光リ
ソグラフ装置のマシンフレームに固定されており、前記
位置決め装置が、レンズ系の下に位置し、かつ該位置決
め装置に結合された支持部材の、前記ｚ方向に対して直
角に延在する、ガイド面上で前記レンズ系に対してオブ
ジェクトテーブルの変移を可能とする構成の前記光リソ
グラフ装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】前記光リソグラフ装置は米国特許第４７
３７８２３号によって公知である。この既知の光リソグ
ラフ装置の場合、支持部材は、光リソグラフ装置のマシ
ンフレームの基礎となる長方形の花崗岩スラブである。
ｚ方向に延在するマシンフレームの４本の柱は、花崗岩
スラブの上面が形成するガイド面に固定されている。こ
のレンズ系は花崗岩スラブより或る距離だけ上にある水
平マウント板によって４本の柱に固定されている。花崗
岩スラブの下側には各々スプリング部材とダンピング部
材を備えた下側フレーム支持体が設けられている。この
既知の光リソグラフ装置のマシンフレームは、この装置
が下側フレーム支持体によって位置づけられている底面
に対してｚ方向に平行な方向とｚ方向を横切る方向とに
振動数の低いスプリングで配設されていて、マシンフレ
ームと下側フレーム支持体とにより形成されているマス
スプリング系は２〜４Ｈｚの機械的固有振動数を有す
る。下側フレーム支持体の使用により、好ましくない高
振動数の底面振動が下側フレーム支持体を介してマシン
フレームに伝達されることが防止される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】この既知の光リソグラ
フ装置の欠点は、マシンフレームと下側フレーム支持体
によって形成されるマススプリング系の機械的固有振動
数が、装置の運転中、位置決め装置によって与えられる
交互の駆動力の下で、オブジェクトテーブルによって実
行される段階的な動きの周波数よりも低い点である。駆
動力によって定まり且つ位置決め装置によってマシンフ
レームに加えられる交互反力により、マシンフレームが
底面に対して揺動し、これが光リソグラフ装置の精度に
悪影響を及ぼす。
【０００４】本発明の目的は前述した欠点を可能な限り
除去した光リソグラフ装置を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段および作用】この目的に対
して、本発明光リソグラフ装置の特徴点は、光リソグラ
フ装置の基準フレームに固定されていてかつフィードフ
ォワード制御システムによって制御される力アクチュエ
ータシステムが、光リソグラフ装置に設けられていて、
装置の運転中、位置決め装置により前記支持部材に同時
に発生する反力の方向と反対の方向でかつ当該反力の値
に実質的に等しい値で、力アクチュエータシステムがマ
シンフレームに補償力を発生させる点である。本発明の
光リソグラフ装置は、以下の構成を有する。ｚ方向に平
行な垂直光学主軸を有するレンズ系と、該レンズ系の下
にある位置決め装置とを具備する光リソグラフ装置であ
り、レンズ系が光リソグラフ装置のマシンフレームに固
定され、前記位置決め装置によって、オブジェクトテー
ブルが、前記位置決め装置に結合されている支持部材の
ガイド面上で前記レンズ系に対して変移可能になされて
おり、支持部材のガイド面が、前記ｚ方向に対して直角
に延在している構成の光リソグラフ装置であり、支持部
材が、マシンフレームに対して固定され、マシンフレー
ムが、光リソグラフ装置の基準フレームと固定関係にあ
るベース上に設けた高周波振動遮断支持体によって支持
されており、光リソグラフ装置が力アクチュエータシス
テムを具備し、力アクチュエータシステムが、基準フレ
ームに固定され、かつ、フィードフォワード制 御システ
ムによって制御されるようになっており、光リソグラフ
装置の運転中に、力アクチュエータシステムが、前記位
置決め装置によって支持部材に同時に働く反力の方向と
反対方向で且つ前記反力の値と実質的に等しい値の補償
力を支持部材に加えるようになっている光リソグラフ装
置。かかる構成によれば、位置決め装置が支持部材に与
える反力によるマシンフレームの動きは力アクチュエー
タシステムの使用により可及的に阻止される。基準フレ
ームは光リソグラフ装置が載置される底面に対して固定
位置に配置されている。補償力の値に関して使用される
用語「実質的に」は、装置の機械部品および電気部品の
両者における許容度の結果として補償力と反力との間に
現実に発生する差を考慮する時に使用される。用語「等
しい」は、以後、この関連で使用される時は、常に前記
のとおり「実質的に等しい」を意味するものと解すべき
である。
【０００６】レンズ系の下部がマシンフレームに属する
マウント部材に固定されていて、補償力が実際的かつ効
果的な位置でマシンフレーム（ｚ方向で見てコンパクト
な構成になっている）に加えられるようになされた本発
明光リソグラフ装置の別の実施態様では、マウント部材
から懸吊されているキャリアに対して力アクチュエータ
システムが補償力を加え、位置決め装置と支持部材がユ
ニットとしてキャリアに配設される点に特徴がある。
【０００７】前記制御システムの大きなバンド幅と安定
かつ正確な動作を与える本発明光リソグラフ装置の特別
な実施態様の特徴点は、制御システムが加速度の負帰還
を有し、力アクチュエータシステムが、加速度トランス
デューサによって測定されるマシンフレームの加速度に
よって決定される値と方向を有する制御力を支持部材に
加える点である。さらに、加速度の負帰還の使用によ
り、オブジェクトテーブルに対して位置決め装置から加
わる力（例えば、ハンドリング力のような駆動力以外の
力）によって生じるマシンフレームの動きを防ぐことが
できる。
【０００８】本発明光リソグラフ装置の別の実施態様の
特徴点は、力アクチュエータシステムが、前記光学主軸
に対して直角である前記位置決め装置の第一変移方向と
平行に各々動作する第一および第二力アクチュエータ
と、前記第一変移方向に対して直角であって且つ前記光
学主軸に対して直角である前記位置決め装置の第二変移
方向に対して平行に動作する第三力アクチュエータとを
有する点である。３つの力アクチュエータを備えたこの
ような力アクチュエータシステムの使用により、位置決
め装置の２つの変移方向におけるマシンフレームの望ま
しくない動きが防止されるだけでなく光学主軸に平行で
ある回転軸についてのマシンフレームの望ましくない回
転も防止される。
【０００９】前記力アクチュエータシステムの簡単な構
成を提供する本発明光リソグラフ装置の更に別の実施態
様の特徴点は、前記基準フレームに固定された電気モー
タを前記力アクチュエータの各々に設け、かつ関連する
変移方向に平行に延在する結合ロッドを設け、第一のロ
ッド端を電気モータの出力軸に偏心的にピボット支持
（回転可能に支持）し、かつ第二のロッド端をマシンフ
レームにピボット支持する点である。
【００１０】機械的摩耗のない強固な力アクチュエータ
システムを提供する本発明光リソグラフ装置の特別な実
施態様の特徴点は、力アクチュエータシステムが磁束密
度センサを有する少なくとも１つの電磁石を有し、この
電磁石の発生力を制御することのできる電子制御回路の
電気入力端に前記磁束密度センサの電気出力端が接続さ
れている点である。このような力アクチュエータシステ
ムの使用により、望ましくない機械的振動が基準フレー
ムを介してマシンフレームに伝達されることが防止され
る。
【００１１】本発明光リソグラフ装置の別の実施態様の
特徴点は、前記制御回路に電子平方根エクストラクタを
設け、電子平方根エクストラクタの入力信号が、前記制
御回路の入力信号によって形成されるとともに、前記電
磁石に発生させるべき所望の電磁力によって決定される
値を有する点である。電子平方根エクストラクタの使用
により、電磁石は線形力アクチュエータを形成し、電磁
石によって与えられる電磁力は制御回路の入力信号に比
例する値を有する。
【００１２】
【実施例】以下、添付図面を見ながら、図１〜図３に示
す本発明の実施例について説明する。なお、図４〜図８
に示すものは参考例である。
【００１３】図１〜図３に示す光リソグラフ装置の一具
体例では、長方形の花崗岩スラブとして構成されている
支持部材３を有するマシンフレーム１を具備する。この
支持部材３は、図１、図２に示される垂直ｚ方向に対し
て直角に延在する上面５を有する。マシンフレーム１の
４本の柱７は、各々ｚ方向に平行に上面５に固定されて
いる。図１には２本の柱しか示されていないが、図３に
は４本の柱７の断面が示されている。柱７は、支持部材
３から或る距離で、ｚ方向に横切って延在する長方形の
板として構成されているマウント部材９に固定されてい
る。さらに、この光リソグラフ装置には、図１、図２に
輪郭線のみが示され、ｚ方向に一致する光学主軸１３を
有するとともに下側でマウント部材９に固定された光学
レンズ系１１が配置されている。
【００１４】レンズ系１１の上端近傍において、光リソ
グラフ装置には、レンズ系１１に対してマスク１７を位
置決めし支持するためのマスクマニュプレータ１５が配
置されている。装置の運転中、光源１９からの光ビーム
が、鏡２１，２３により、例えば集積回路のパターンを
有するマスク１７に誘導され、かつ光リソグラフ装置の
オブジェクトテーブル２７上に置かれている、例えば半
導体基板２５の様な基板上に、レンズ系１１によって焦
点づけされる。この様にして、当該パターンが半導体基
板２５上に縮小し画像化される。オブジェクトテーブル
２７は、ｚ方向に直角である図１、図３におけるｘ方
向、およびｚ方向とｘ方向に直角であるｙ方向で変移可
能である。半導体基板２５は、ｘ方向およびｙ方向と平
行に様々な照射位置でオブジェクトテーブル２７を段階
的に変移させることによって、多数の同一集積回路に対
応する多数位置で照射を行うことができる。
【００１５】図１に示されるように支持部材３には、光
リソグラフ装置が平坦なベース面に位置決めされる様に
４つのフレーム支持体３１が下面２９に設けられてい
る。図１に２つの下側フレーム支持体３１のみが示され
ている。光リソグラフ装置は、ベース面（すなわち、ベ
ース）１００に対して、ｚ方向に平行とｚ方向を横切る
方向とに、下側フレーム支持体３１によって低振動数で
スプリング支持されている。これら下側フレーム支持体
の各々には、図１において詳細に示されていないスプリ
ング部材とダンピング部材が設けられていて、マシンフ
レーム１と下側フレーム支持体３１によって形成される
マススプリング系は、１〜約２０Ｈｚの間に６つの機械
的固有振動数を有する。このようにして光リソグラフ装
置の正確な動作に悪影響を与えるベース面の望ましくな
い高い振動数の振動が、下側フレーム支持体３１を介し
てマシンフレーム１とレンズ系１１とに伝達することが
防止される。
【００１６】図２に示されるようにオブジェクトテーブ
ル２７は、静的ガス支持手段が設けられているいわゆる
静的空気脚３３により支持部材３の上面５に沿って案内
される。オブジェクトテーブル２７は、３つのリニア電
気モータ３７、３９、４１を有する位置決め装置３５に
より上面５に沿って移動可能である。図２に示されるよ
うにリシニアモータ３７は、ｘ方向に平行に延在するｘ
ステータ４３とオブジェクトテーブル２７をｘ方向に平
行にｘステータ４３に沿って変移可能とするオブジェク
トテーブル２７に固定されているｘトランスレータ４５
とを有する。リニアモータ３９と４１は、ｘステータ４
３の第一端４９に固定されているｙトランスレータ５１
を有するｙ方向に平行に延在するｙステータ４７と、ｘ
ステータ４３の第二端５５に固定されているｙトランス
レータ５７を有するｙ方向に平行に延在するｙステータ
５３とを各々有する。ｙステータ４７と５３はマウント
ブロック５９、６１、マウントブロック６３、６５によ
り各々支持部材３の上側面５に固定されている。オブジ
ェクトテーブル２７は、ｙ方向に平行に変移可能でかつ
リニアモータ３９および４１の手段によりｚ方向に平行
に延在する回転軸について非常に限定された角度回転可
能である。静的空気脚３３と互いにＨ型に配置されてい
るリニアモータ３７、３９、４１を有する位置決め装置
３５それ自身は、米国特許第４７３７８２３号で知られ
ている。
【００１７】動作中、前述したようにオブジェクトテー
ブル２７は位置決め装置３５によりｘ方向とｙ方向に段
階的に変移する。この段階的な変移は２Ｈｚ〜４Ｈｚの
振動数で行われる。これにより、位置決め装置３５のリ
ニアモータ３７、３９、４１は、マシンフレーム１の支
持部材３にリニアモータ３７、３９、４１がオブジェク
トテーブル２７に与える駆動力に対向する低振動数の反
力を発生させる。前述したように光リソグラフ装置は、
下側フレーム支持体３１によりベース面に対して低振動
数のスプリングで支持されているので、当該反力は新た
な手段が講じられない限り、下側フレーム支持体３１に
マシンフレーム１の振動数の低い正しくダンプ（防振）
されていない揺れを発生させる。マシンフレーム１のこ
のような動きは位置決め装置３０の精度に悪影響を与え
る。
【００１８】図１〜図３の光リソグラフ装置の場合、前
述したマシンフレーム１の揺れは、図２と図３に線図的
に示されている力アクチュエータシステム６７の使用に
より防止できる。力アクチュエータシステム６７には、
各々ｘ方向に平行に動作する第一および第二力アクチュ
エータ６９、７１とｙ方向に動作する第三の力アクチュ
エータ７３とが設けられている。図２が示すように力ア
クチュエータ６９、７１、７３の各々には、ｚ方向に平
行に延在しかつ一端の近くでトランクアーム７９が設け
られている出力軸７７を有するブラッシュレス電気サー
ボモータ７５が設けられている。第一および第二力アク
チュエータ６９、７１のクランクアーム７９はｙ方向に
平行に向けられていて、第三の力アクチュエータ７３ク
ランクアーム７９はｘ方向に平行に向けられている。サ
ーボモータ７５は、ベース面に対して固定された位置を
占める基準フレーム８３の一部分を形成するマウントブ
ロック８１に各々固定されている。更に第一および第二
力アクチュエータ６９、７１には各々ｘ方向に平行に延
在する結合ロッド８５が設けられていて、第三の力アク
チュエータ７３には実質上ｙ方向に延在する結合ロッド
８７が設けられている。結合ロッド８５、８７の各々の
第一端８９は支持部材３にピボット支持されていて、結
合ロッド８５、８７の各々の第二端９１はヒンジピン９
３にピボット支持されていて、これは出力軸７７に対し
て偏芯させて対応するサーボモータ７５のクランクアー
ム７９に固定されている。
【００１９】動作中、力アクチュエータ６９、７１、７
３を有する力アクチュエータシステム６７は、図３に線
図的に示されているフィードフォワード制御システム９
５によりその値と方向が制御されている補償力を支持部
材３上に発生させる。制御システム９５には入力信号ｕ
xsetおよびｕyset（電圧信号）を有する第一電子コント
ローラ９７が設けられている。これらの値がｘおよびｙ
方向でレンズ系１１に対しオブジェクトテーブル２７の
所望の変移の値に比例していてかつ（図３に示されてい
ない）装置のリソグラフ工程を制御する装置のコンピュ
ータシステムにより供給される信号ｕxsetおよびｕyset
は、各々動作中増幅ユニット１０１、増幅ユニット１０
３および増幅ユニット１０５を介して位置決め装置３５
のリニアモータ３７、３９、４１を制御する電子制御ユ
ニット９９に対する入力信号をも形成する。ｘ方向とｙ
方向におけるレンズ系１１に対するオブジェクトテーブ
ル２７の実際の変移を測定し、かつ制御ユニット１０１
にこれをフィードバックさせるトランスデューサシステ
ムは、単純化のために図３には表示されていない。
【００２０】第一コントローラ９７は、入力信号ｕxset
およびｕysetから、連続的にｘ方向およびｙ方向に平行
なオブジェクトテーブル２７の各々の加速度の値、当該
加速度から生じかつ位置決め装置３５により支持部材３
に与えられるｘ方向およびｙ方向に平行な各々の反力Ｆ
rxおよびＦryの値、および反力ＦrxおよびＦryが発生さ
せる光学主軸１３についての機械モーメントＭrxyの値
を計算する。第一コントローラ９７の第一および第二出
力信号ｕc1およびｕc2（電圧信号）は、各々ｘ方向に比
例する第一力アクチュエータ６９により供給される補償
力Ｆc1に比例する値および第二力アクチュエータ７１に
より供給される補償力Ｆc2に比例する値第一コントロー
ラ９７の第三出力信号ｕc3（電圧信号）はｙ方向の第三
力アクチュエータ７３によって供給される補償力Ｆc3に
比例する値を有する。出力信号ｕc1およびｕc2の値は、
補償力Ｆc1およびＦc2の合計が反力Ｆrxに値が同じで方
向が反対でかつ補償力Ｆc1およびＦc2が発生させる光学
主軸１３についての機械モーメントＭcxyが機械モーメ
ントＭrxyの値と等しくかつ方向が反対となるような値
である。出力信号ｕc3の値は、補償力Ｆc3が反力Ｆryに
値が等しくかつ方向が反対となるような値である。補償
力Ｆc3は光学主軸１３を通る画内で動作しかつ光学主軸
１３については何等の機械モーメントを発生させないこ
とに注意すべきである。このようにしてフィードフォワ
ード制御システム９５により制御される力アクチュエー
タシステム６７により、支持部材３とマシンフレーム１
が位置決め装置３５のリニアモータ３７，３９，４１に
よって支持部材３に与えられる反力の影響により望まし
くない動きをすることが防止される。
【００２１】図３に示されるように制御システム９５
は、入力信号ｕa1，ｕa2，ｕa3（電圧信号）を有する第
二電子コントローラ１０９が設けられている負帰還１０
７を更に有している。入力信号ｕa1およびｕa2は、各々
第一加速度トランスデューサ１１１および第二加速度ト
ランスデューサ１１３から導出され、かつ当該加速度ト
ランスデューサ１１１，１１３によって測定されるｘ方
向に平行な方向に於ける支持部材３の絶対加速度に比例
する値を各々有している。入力信号ｕa3は、第三加速度
トランスデューサ１１５から導出され、そして加速度ト
ランスデューサ１１５によって測定されるｙ方向の支持
部材３の絶対加速度に比例する値を有している。第二コ
ントローラ１０９は、入力信号ｕa1，ｕa2，ｕa3からｘ
方向およびｙ方向の支持部材３の加速度および光学主軸
１３の周囲における支持部材３の角加速度を計算する。
第二コントローラ１０９の第一および第二出力信号ｕr1
およびｕr2（電圧信号）は、いずれもｘ方向に向いた力
である、第一力アクチュエータ６９によって与えられる
制御力Ｆr1、および第二力アクチュエータ７１によって
与えられる制御力Ｆr2にそれぞれ比例する値を有し、ま
た第二コントローラ１０９の第三出力信号ｕr3（電圧信
号）はｙ方向において第三力アクチュエータ７３によっ
て与えられる制御力Ｆr3に比例する値を有する。出力信
号ｕr1，ｕr2，ｕr3の値は、加速度トランスデューサ１
１１，１１３，１１５によって測定されたｘ方向および
ｙ方向における支持部材３の加速度と、光学主軸１３の
周囲における支持部材３の測定された角加速度とが、制
御力Ｆr1，Ｆr2，Ｆr3の作用の下で低減化される様な値
である。負帰還１０７の使用により、例えば前記位置決
め装置３５のハンドリング力のような反力以外の力の作
用、またはベース面の低振動数振動の影響の下で生じる
支持部材３とマシンフレーム１のｘ方向およびｙ方向に
対して平行な望ましくない動きや振動が防止される。ま
た、図３に示されるように、制御システム９５には出力
信号ｕs1の第一合算回路１１７が設けられており、出力
信号ｕsiの値は信号ｕc1とｕr1の合計に等しくかつ増幅
器ユニット１１９によって第一力アクチュエータ６９を
通る電流ｉ1に増幅される。制御システム９５の第二お
よび第三合算回路１２１，１２３の各出力信号ｕs2，ｕ
s3は、和「ｕc2＋ｕr2」、「ｕc3＋ｕr3」にそれぞれ等
しい。信号ｕs2，ｕs3は、増幅器ユニット１２５，１２
７によって、第二力アクチュエータ７１を通る電流ｉ2
と、第三力アクチュエータ７３を通る電流ｉ3とに、そ
れぞれ増幅される。合算回路１１７，１２１，１２３の
使用によれば、力アクチュエータ６９，７１，７３の各
々によって加えられるべき補償力Ｆc1，Ｆc2，Ｆc3と、
制御力Ｆr1，Ｆr2，Ｆr3との合計に等しい力が、力アク
チュエータ６９，７１，７３の各々から支持部材３に加
えられる。
【００２２】図４〜図８は、光リソグラフ装置の参考例
を示す。図１〜図３に示される一具体例に係わる光リソ
グラフ装置に対応する部品には同一符号が付されてい
る。この参考例に係わる光リソグラフ装置には、ｚ方向
に一致する光学主軸１３を有しかつ下側でマウント部材
９に固定されている光学レンズ系１１が設けられてい
る。本装置におけるマシンフレーム１の一部を形成する
マウント部材９は、ｚ方向に垂直な面内に延在する三角
形の板として構成されている。この装置には、レンズ系
１１の上端の近傍で、例えば半導体集積回路のパターン
を有するマスク１７に対するマスクマニュプレータ１
５、光源１９、および２つの鏡２１および２３が設けら
れている。実施例装置と同様に参考例装置にも更に、例
えば半導体基板２５のような基板を置くことができるオ
ブジェクトテーブル２７が設けられている。オブジェク
トテーブル２７は、ｚ方向に直角であるｘ方向に対して
平行に、かつｚ方向およびｘ方向に直角であるｙ方向に
対して平行に段階的に変移可能であるため、数多くの照
射位置での半導体基板２５に対する照射が可能となる。
【００２３】三角形のマウント部材９には、各々が下側
フレーム支持体３１に載置されている３つのコーナー部
分１２９が設けられている。図４には２つのコーナー部
分１２９と２つの下側フレーム支持体３１のみが示され
ている。下側フレーム支持体３１は、マシンフレーム１
のベース１３１に位置決めされていて、ベース１３１は
調整部材１３３によって平坦な基台に位置決めされてい
る。この装置は、ｚ方向に平行な方向とｚ方向に横切る
方向で、図４には詳細には示されていないスプリング部
材とダンピング部材が設けられている下側フレーム支持
体３１によって、基台に対して低周波数でスプリング支
持されているため、下側フレーム支持体３１を介してマ
ウント部材９とレンズ系１１に、基台の望ましくない高
振動数の振動が伝わることが防止される。
【００２４】図１〜図３の光リソグラフ装置における場
合と同様に、図４〜図８の装置のオブジェクトテーブル
２７は、長方形花崗岩スラブとして構成されている支持
部材３の上面５に示されかつ静的ガスベアリングが設け
られている静的空気脚３３により誘導される。オブジェ
クトテーブル２７は、既に前述した米国特許第４７３７
８２３号により公知でありかつＨ型に互いに位置決めさ
れているリニアモータ３７，３９，４１が設けられてい
る位置決め装置３５により上面５に渡って変移可能で、
図５に示されるようにリニアモータ３９と４１は支持部
材３の上面でそのコーナーの近くに固定されている位置
決め装置３５のフレーム１３５に固定されている。オブ
ジェクトテーブル２７はリニアモータ３７によってｘ方
向に平行に変移可能であり、オブジェクトテーブル２７
はリニアモータ３９，４１によりｙ方向に平行に変移可
能でかつｚ方向に平行な回転軸について非常に限られた
角度回転可能である。
【００２５】図４、図５に示されるように参考例に係わ
る光リソグラフ装置内の支持部材３と位置決め装置３５
は、ユニット（単位装置）１３７を構成して、マシンフ
レーム１のキャリア１３９に設けられている。図６は、
キャリア１３９が実質的に三角形の板によって形成さ
れ、この板がｚ方向に対して直角に延在しかつ主側辺１
４１を有し、この主側辺１４１の各々が２つの下側フレ
ーム支持体３１の間に延在していることを示す。支持部
材３は、図６に輪郭線のみが示されている３つの締め付
け部品１４３によりキャリア１３９の上面１４５に固定
されている。キャリア１３９は、３つの鋼製板状サスペ
ンション部材（懸架部材）１４７，１４９，１５１によ
り図４に示されているマウント部材９の下面１５３から
懸吊されている。図４には、サスペンション部材１４
９，１５１のみが部分的に示されているが、図６はサス
ペンション部材１４７，１４９，１５１の断面を示して
いる。サスペンション部材１４７，１４９，１５１は各
々ｚ方向に平行な互いに６０°の角度をなす垂直面に延
在する板により形成されている。サスペンション部材１
４７，１４９，１５１の使用によりマウント部材９から
キャリア１３９の懸吊された構成が得られ、これにより
支持部材３と位置決め装置３５から成るユニットが下側
フレーム支持体３１の間に配置される。この様にしてｚ
方向でもｚ方向に対して直角方向で見てもコンパクトで
堅固な構成の光リソグラフ装置が得られる。
【００２６】ｘ方向とｙ方向とに平行な方向にオブジェ
クトテーブル２７を段階的に変移させることは、図１に
示した装置の場合と同様に図４に示した装置においても
振動数２Ｈｚ〜４Ｈｚで行われる。この時位置決め装置
３５のリニアモータ３７，３９，４１は、支持部材３を
介してマシンフレーム１のキャリア１３９に、リニアモ
ータ３７，３９，４１がオブジェクトテーブル２７に与
える駆動力に対して反対向きの低振動数の反力を発生さ
せる。図４〜図８に示された光リソグラフ装置の場合、
当該反力から生ずるマシンフレーム１の望ましくない動
きは、図６に模式的に示される力アクチュエータ１５５
の使用により防止される。力アクチュエータシステム１
５５は３つの電磁石１５７，１５９，１６１を具備し、
これらがマシンフレーム１のベース１３１に固定され、
それぞれ３つの下側フレーム支持体３１のうちの一つの
下に位置している。かくして、調整部材１３３によって
基台に対して固定された位置にセットされるベース１３
１が、力アクチュエータシステム１５５を固定するため
の装置の基準フレームとなる。図６に示されるように電
磁石１５９はｘ方向に作動し、電磁石１５７，１６１は
各々光学主軸１３を横切る水平面内に存在し、かつｘ方
向に対して１２０°回転した位置にある方向に各々作動
する。動作中電磁石１５７，１５９，１６１は、光学主
軸１３から離れた各サスペンション部材１４７，１４
９，１５１の側面に電磁吸引力を加える。電磁石１５
７，１５９，１６１と各サスペンション部材１４７，１
４９，１５１との間の空気間隙の寸法は約１ｍｍであ
る。図６から明らかなように、電磁石１５７，１５９，
１６１によってキャリア１３９に与えられる力の合計は
常に光学主軸１３を通る面内で作動するため、ｘ方向の
補償力Ｆcxとｙ方向の補償力Ｆcyは力アクチュエータシ
ステム１５５により与えられ、その光学主軸１３につい
ての機械的モーメントを常にゼロ（０）に等しくかつ光
学主軸１３についてのマシンフレーム１の望ましくない
回転の動きを阻止することができる。
【００２７】力アクチュエータシステム１５５によりキ
ャリア１３９に与えられる補償力ＦcxおよびＦcyの値と
方向は、図６に示すフィードフォワード制御システム１
６５によって制御される。制御システム１６５には入力
信号ｕxset，ｕyset（電圧信号）を有する電子コントロ
ーラ１６７が設けられている。ｘ方向およびｙ方向にお
ける支持部材３上でのオブジェクトテーブル２７の所望
の変移の大きさに比例する値の信号ｕxsetおよびｕyset
は、光リソグラフ装置のリソグラフ工程を制御するコン
ピュータシステム（図６）によって与えられ、同時に、
その各々は、動作中、増幅器ユニット１７１，１７３，
１７５（図６）を介して位置決め装置３５のリニアモー
タ３７，３９および４１をそれぞれ制御する電子制御ユ
ニット１６９に対する入力信号を形成する。ｘ方向とｙ
方向のレンズ系１１に対するオブジェクトテーブル２７
の実際の変移を測定するトランスデューサシステムは、
簡単化のため図６には示されていない。
【００２８】電子コントローラ１６７は、入力信号ｕ
xsetおよびｕysetから各々ｘ方向とｙ方向のオブジェク
トテーブル２７の加速度の値を計算し、かつ当該加速度
により決められかつ支持部材３を介して位置決め装置３
５によりキャリア１３９に各々与えられるｘ方向および
ｙ方向に平行な反力Ｆrx，Ｆryの値を計算する。コント
ローラ１６７の第一および第二出力信号ｕfx+，ｕ
fx-（電圧信号）は、力アクチュエータシステム１５５
により各々正および負のｘ方向に供給される反力Ｆrxと
同じ値でかつ向きが反対の補償力Ｆcxに比例する値を有
する。コントローラ１６７の第三および第四出力信号ｕ
fy+およびｕfy-は、力アクチュエータシステム１５５に
より供給される各々正および負のｙ方向の、反力Ｆryと
同じ値で向きが反対の補償力Ｆcyに比例する値を有す
る。この様にしてフィードフォワード制御システム１６
５により制御される力アクチュエータシステム１５５
は、反力Ｆrx，Ｆryから生じるｘ方向およびｙ方向に平
行なマシンフレーム１の望ましくない動きのみを阻止す
る。
【００２９】図６に示されるように信号ｕfx+，ｕfx-，
ｕfy+，ｕfy-は、各々出力信号ｕf1，ｕf2，ｕf3を有す
る電子合算回路１７７に対する入力信号を形成する。合
算回路１７７は、信号ｕfx+，ｕfx-，ｕfy+，ｕfy-から
出発して各々電磁石１５７，１５９，１６１によって与
えられる電磁力Ｆem1，Ｆem2，Ｆem3の値を計算する。
この時、出力信号ｕf1，ｕf2，ｕf3は当該電磁力に比例
する値を有する。
【００３０】図７の合算回路１７７の詳細を示し、図７
のｂは電磁力Ｆem1，Ｆem2およびＦem3に対する力のダ
イアグラムを示す。図７のｂから明らかなように、力Ｆ
em2が（０）でかつ力Ｆem1，Ｆem3が各々所望の力Ｆcx
(+)に等しい値を有する場合には、正のｘ方向の補償力
Ｆcx (+)は力Ｆem1とＦem3の重畳によって得られ、それ
故図７のａに示される合算回路１７７において入力信号
ｕfx+は、ブランチ１７９を介して出力信号として信号
ｕf1を有する加算器１８１に与えられ、かつブランチ１
８３を介して出力信号として信号ｕf3を有する加算器１
８５に与えられる。図７のｂから、力Ｆem1とＦem3がゼ
ロ（０）の場合負のｘ方向の補償力Ｆcx (-)は力Ｆem2に
より得られることも明らかである。それ故、合算回路１
７７（図７のａ参照）の場合、入力信号ｕfx-は出力信
号として信号ｕf2を有している加算器１８７にのみに与
えられる。力Ｆem3がゼロ（０）の場合正のｙ方向の補
償力Ｆcy (+)は、力Ｆem1とＦem2との重畳により得ら
れ、そして力Ｆem1とＦem2は所望の力Ｆcy (+)よりも各
々係数２／√３および１／√３だけ大きい。したがっ
て、合算回路１７７の場合入力信号ｕfy+は、ブランチ
１８９を介して加算器１８１に、かつブランチ１９１を
介して加算器１８７に加えられる。ブランチ１８９は信
号ｕfy+に係数２／√３を乗算する増幅器１９３を有
し、ブランチ１９１は信号ｕfy+に係数１／√３を乗算
する増幅器１９５を有している。最後に図７のｂは、力
Ｆem1がゼロ（０）の場合負のｙ方向の補償力Ｆcy (-)は
力Ｆem2とＦem3の重畳によって得られ、かつ力Ｆem2と
Ｆem3は所望の力Ｆcy (-)よりも各々係数１／√３および
係数２／√３だけ大きいことを示している。したがっ
て、合算回路１７７の入力信号ｕfy-は、ブランチ１９
７を介して加算器１８７に与えられ、かつブランチ１９
９を介して加算器１８５に与えられる。ブランチ１９７
はｕfy-に係数１／√３を乗算する増幅器２０１を有
し、かつブランチ１９９は信号ｕfy-に係数２／√３を
乗算する増幅器２０３を有する。
【００３１】電磁石１５７，１５９，１６１の各々によ
って得られる電磁力の値は、当該電磁石１５７，１５
９，１６１を流れる電流の値の２乗に比例しかつ空気間
隙１６３の寸法の２乗に反比例するものと考えられる。
もしも、空気間隙１６３の寸法がベース１３１に対する
キャリア１３９の小さな動きにより変化する場合には、
電磁力の値は別の手段が採用されない限り変化するであ
ろう。したがって、電磁石１５７，１５９，１６１の各
々が制御システム１６５のコントローラ１６７によりそ
の値が決まる力をベース１３１に与える様に、電磁石１
５７，１５９，１６１を力アクチュエータとして使用す
ることは、電磁石１５７，１５９，１６１を流れる電流
が制御されている場合にのみ可能である。図６に示され
るように制御システム１６５には、この目的のために、
電磁石１５７，１５９，１６１の電圧ｕ1，ｕ2，ｕ3の
各々を制御する３つの同一の電子制御回路２０５，２０
７，２０９が設けられている。制御回路２０５，２０
７，２０９は、それらの入力信号に対し各々信号ｕf1，
ｕf2，ｕf3を有している。制御回路２０５，２０７，２
０９の別の入力信号が各々信号ｕmf1，ｕmf2，ｕ
mf3（電圧信号）によって形成される。これらの信号
は、図８に示すように電磁石１５７の磁束密度トランス
デューサ２１１の出力信号であり、電磁石１５９の磁束
密度トランスデューサ２１３および電磁石１６１の磁束
密度トランスデューサ２１５の出力信号である。制御回
路２０５の出力信号ｕu1（電圧信号）は、電磁石１５７
の電流ｉ1を決定する電圧ｕ1にまで増幅器ユニット２１
７によって増幅される。同様に制御回路２０７の出力信
号ｕu2は増幅器ユニット２１９により電磁石１５９の電
流ｉ2を決定する電圧ｕ2にまで増幅され、制御回路２０
９の出力信号ｕu3は増幅器ユニット２２１により電磁石
１６１の電流ｉ3を決定する電圧ｕ3にまで増幅される。
【００３２】図８は電磁石１５７の電子制御回路２０５
を示す。制御回路２０７および２０９も同様に構成され
ている。図８が示すように電磁石１５７によって与えら
れる力Ｆem1に比例する値を有する制御回路２０５の入
力信号ｕf1は、電子平方根エクストラクタ２２３に与え
られる。この平方根エクストラクタ２２３の出力信号ｕ
sqr（電圧信号）は信号ｕf1の平方根に等しい値を有す
る。
【数１】ｕsqr＝√ｕf1 平方根エクストラクタ２２３の電子出力は、出力信号ｕ
hdf1を有する第一電子ハイパスフィルタ２２５の電子入
力端に接続される。以下、制御回路２０５の第一ハイパ
スフィルタ２２５の機能について説明する。
【００３３】図８に示されるように、信号ｕhdf1は、コ
ンパレータ（比較器）２２７の第一電気入力端に与えら
れる。コンパレータ２２７の第二電気入力端は、負帰還
ライン２２９を介して電磁石１５７の二次電気コイルに
よって形成される磁束密度トランスデューサ２１１の電
気出力端に接続される。フラックス密度トランスデュー
サ２１１の出力信号ｕmf1（電圧信号）は二次コイル内
の電磁石１５７の電磁フィールドによって生じた電圧に
よって決定され、かつその値は電磁石１５７の空気間隙
１６３内の磁束密度Ｂm1の値の変化に比例するとみなさ
れる。
【数２】ｕmf1＝Ｃtransducer・（δＢm1／δｔ） この式でＣtransducerは、例えば二次電気コイルの巻数
のような磁束密度トランスデューサ２１１の多くの特性
値によって決定される定数である。空気間隙１６３内の
磁束密度Ｂm1は電磁石１５７の電流ｉ1の値に比例し、
かつ空気間隙１６３のサイズに反比例するものと考えら
れるので、電磁石１５７によって与えられる力Ｆem1は
磁束密度Ｂm1の値の２乗に比例する。
【数３】Ｂm1＝Ｃmagnet1・（ｉ1／ｈ1）
【数４】Ｆem1＝Ｃmagnet2・（Ｂm1）2
【数５】Ｂm1＝√（Ｆem1／Ｃmagnet2） これらの式において、Ｃmagnet1，Ｃmagnet2は、例えば
電磁石１５７の巻数および電磁石１５７に使用される磁
気鉄の透磁率のような電磁石１５７の数多くの特性値に
よって決定される定数である。さらにｈ1は、図８に示
されるように空気間隙１６３の寸法である。
【００３４】また、図８は、負帰還ライン２２９が、電
子積分器２３１を有することを示し、これにより磁束密
度トランスデューサ２１１の出力信号ｕmf1が、その値
が磁束密度Ｂm1に比例する信号ｕb1に積分される。した
がってコンパレータ２２７の入力信号ｕb1は、その値が
磁束密度Ｂm1の特定された値に比例する信号であり、一
方その値が所望の力Ｆem1の平方根に等しい入力信号ｕ
hdf1は磁束密度Ｂm1の所望の値に比例している。コンパ
レータ２２７の出力信号ｕcomはコンパレータ２２７の
２つの入力信号の差ｕhdf1−ｕb1に等しい。
【００３５】前述したように信号ｕmf1は電子積分器２
３１によって信号ｕb1に積分される。このような積分器
の積分機能は理想的には行かず有限時間間隔のみで行わ
れる。その結果、特に非常に低周波数（１０-4Ｈｚより
小）の入力信号ｕmf1で出力信号ｕb1の不正確さが発生
し、これは制御回路２０５の不正確な動作を導く。制御
回路２０５のこの様な不正確な動作を防止するために、
制御回路２０５には入力信号ｕf1の非常に低い周波数の
成分をフィルタ除去する前述の第一ハイパスフィルタ２
２５と、それの電気入力端がコンパレータ２２７の出力
端に接続されていて、かつそれにより出力信号ｕcomの
非常に低い周波数成分をフィルタ除去する出力信号がｕ
hdf2の第二ハイパスフィルタ２３３とが設けられてい
る。
【００３６】図８に示されるように、出力信号ｕ
hdf2は、比例制御アクション（増幅率Ｋp＝１００のオ
ーダ）を有する電子コントローラ２３５に与えられる。
コントローラ２３５の出力信号ｕu1はＫp・ｕhdf2に等
しい値を有しかつ図６に制御回路２０５の出力信号とし
て示されている。動作中磁束密度Ｂm1（信号ｕhdf1）の
所望の値と磁束密度Ｂm1（信号ｕb1）の測定された値の
間に差が生じた場合、電磁石１５７の電圧ｕ1は、コン
トローラ２３５の比例制御アクションによって空気間隙
１６３の所望の磁束密度と測定された磁束密度とが実質
上等しくなるような平衡状態が形成される様な値とされ
る。電磁石１５７によって与えられる力Ｆbm1の値は磁
束密度Ｂm1の値の２乗に比例するため、平方根エクスト
ラクタ２２３の使用によって力Ｆem1を制御回路２０５
の入力信号ｕf1に比例する値にすることができる。この
様にして制御回路２０５により制御される電磁石１５７
は線形力アクチュエータを構成する。電磁石の力は、こ
の様にして空気間隙１６３のサイズに依存しなくなるた
め、ベース１３１の機械的振動が電磁石１５７，１５
９，１６１を介してキャリア１３９に伝達されることが
なくなる。さらに、電磁石１５７，１５９，１６１の使
用によって機械的摩耗のない力アクチュエータシステム
１５５が得られる。
【００３７】ｘ方向とｙ方向のマシンフレーム１の望ま
しくない動きおよび主軸１３についてのマシンフレーム
１の望ましくない回転の動きは、力アクチュエータシス
テム６７と図１〜図３に示された一具体例に係わる光リ
ソグラフ装置の加速度トランスデューサ１１１，１１
３，１１５によって阻止することができる。力アクチュ
エータと加速度トランスデューサを数多く使用すること
により、ｚ方向の望ましくない動きおよび／またはｘ方
向またはｙ方向に平行な回転軸についての回転の動きを
阻止することが可能である。この場合、適用された制御
システムは力アクチュエータシステムとして使用しなけ
ればならないであろう。
【００３８】力アクチュエータシステム１５５のみがｘ
方向とｙ方向とにマシンフレーム１に補償力を与え、こ
の力が、図４〜図８に示された参考例に係わる光リソグ
ラフ装置の位置決め装置３５によって当該方向にキャリ
ア１３９に与えられる反力に等しい値を有することに留
意すべきである。制御システム１６５にキャリア１３９
に固定されている加速度トランスデューサから負帰還を
与えることによって、前記反力以外の力によって生ずる
当該方向での望ましくない動きをも防ぐことができる。
さらに、マシンフレーム１の他の望ましくない動き（例
えば、光学主軸１３についての回転のような動き）もま
た、非常に多くの電磁石の使用によって参考例において
阻止することができる。しかしながら、現実的には装置
の精度は主にｘおよびｙ方向のレンズ系１１に対するキ
ャリア１３９の望ましくない動きによって悪化すること
が見い出された。電磁石１５７，１５９，１６１を３つ
しか使用しないことによってコンパクトで簡単な力アク
チュエータ１５５が得られる。
【００３９】図１〜図３に示された一具体例に係わる光
リソグラフ装置において、力アクチュエータシステム６
７が、力アクチュエータ６９，７１，７３の各々が当該
方向で互いに向いている一対の電磁石により、または、
例えば永久磁石または機械的なスプリングのようなプリ
テンショニング部材と協働しかつ当該方向に１つの電磁
石により置換されている電磁石を有する別の力アクチュ
エータシステムを使用することも可能である点にも注意
されたい。図４〜図８に示された一具体例に係わる光リ
ソグラフ装置において、力アクチュエータシステム１５
５の代わりに実施例装置で使用されている力アクチュエ
ータ６９，７１，７３に対応する３つの力アクチュエー
タが設けられている力アクチュエータシステムを使用す
ることも可能である。この際、結合ロッド８５は、各
々、例えばキャリア１３９の主側辺１４１の一面に平行
に向けられている。
【００４０】磁束密度トランスデューサ２１１に代え
て、それ自身は公知のホールトランスデューサを図８に
示される制御回路２０５に使用することが可能であるこ
とにも注意されたい。その様なホールトランスデューサ
の出力信号は磁束密度Ｂmに比例する値を有するので、
ホールトランスデューサの使用によりインテグレータ２
３１とハイパスフィルタ２２５と２３３を不要とする。
しかしながら多くの場合ホールトランスデューサの使用
はマウント空間が必要となる点から不利である。
【００４１】前記力アクチュエータシステム６７，１５
５は、基板上の各集積回路が場所を変えて照射される光
リソグラフ装置においても使用することができる点にも
留意すべきである。相対的にコンパクトなレンズ系を有
するこの様な光リソグラフ装置の場合は、レンズ系がマ
シンフレームに固定されているが、位置決め装置とマス
クマニュプレータを有する支持部材はレンズ系とマシン
フレームに対して移動可能なキャリアに設けられる。支
持部材上の位置決め装置によって与えられる反力は、そ
の種の装置におけるマシンフレームにキャリアを介して
伝達され、オブジェクトテーブルに対するレンズ系の望
ましくない動きの原因となる。加えてその様な装置の場
合、オブジェクトテーブルに対するレンズ系の望ましく
ない動きが、マシンフレームに対してキャリアが動く時
に発生する。その様な望ましくない動きは、基準フレー
ムに固定され且つマシンフレームに制御力または補償力
を加える力アクチュエータシステムの使用により減少さ
せることができる。
【００４２】前記本発明光リソグラフ装置の実施例は、
集積電子回路の製造の間に半導体基板を照射するのに特
に適している。しかしながら、この様な装置はマスクパ
ターンがこの装置により基板上に画像化されるようなマ
イクロメータの領域の微細な寸法を有する構造を備え
た、他の製造物の製造にも使用することができる。それ
らの例は、集積化された光学システム、コンダクタおよ
び磁気ドメインメモリの検知パターン、および液晶画像
パターンの構造である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明光リソグラフ装置の実施例を示す。
【図２】図１に示す実施例装置の一部を示す斜視図であ
る。
【図３】図１の線ＩＩＩ−ＩＩＩに沿って截断した実施
例装置の断面図を線図的に示す。
【図４】参考例に係わる光リソグラフ装置の斜視図を示
す。
【図５】図４に示す参考例装置における位置決め装置と
支持部材によって形成されるユニットを示す。
【図６】図４に示す参考例装置の断面図を線図的に示
す。
【図７】ａは図４に示す参考例に係わる光リソグラフ装
置の電子制御システムの部品の合算回路を示し、ｂは同
装置における力アクチュエータシステムの力のダイアグ
ラムを示す。
【図８】図４に示す参考例に係わる光リソグラフ装置に
おける電子制御システムの部品の電子制御回路を示す。
【符号の説明】
１ マシンフレーム ３ 支持部材 ５ 上面 ７ 柱 ９ マウント部材 １１ レンズ系 １３ 光学主軸 １５ マスクマニュプレータ １７ マスク １９ 光源 ２１，２３ 鏡 ２５ 半導体基板 ２７ オブジェクトテーブル ２９ 下面 ３１ 下側フレーム支持体 ３３ 静的空気脚 ３５ 位置決め装置 ３７，３９，４１ リニア電気モータ ４３ ｘステータ ４５ ｘトランスレータ ４７，５３ ｙステータ ４９ ｘステータの第一端 ５５ ｘステータの第二端 ５９，６１，６３，６５ マウントブロック ６７ 力アクチュエータシステム ６９ 第一力アクチュエータ ７１ 第二力アクチュエータ ７３ 第三力アクチュエータ ７５ 電気サーボモータ ７７ 出力軸 ７９ クランクアーム ８１ マウントブロック ８３ 基準フレーム ８５，８７ 結合ロッド ９５ 制御システム ９７ 第一コントローラ ９９ 電子制御ユニット１００ ベース １０１，１０３，１０５ 増幅ユニット １０７ 負帰還 １０９ 第二電子コントローラ １１１ 第一加速度トランスデューサ １１３ 第二加速度トランスデューサ １１５ 第三加速度トランスデューサ １３３ 調整部材 １３５ フレーム １３７ ユニット １３９ キャリア １４３ 締め付け部品 １４７，１４９，１５１ 板状スチールサスペンション １５３ 下面 １５５ 力アクチュエータシステム １５７，１５９，１６１ 電磁石 １６３ 空気間隙 １６５ フィードフォワード制御システム １６７ 電子コントローラ １６９ 電子制御ユニット １７１，１７３，１７５ 増幅器ユニット １７７ 合算回路 １７９，１８３，１８９，１９１，１９７，１９９ ブ
ランチ １８１，１８５，１８７ 加算器 １９３，１９５，２０１，２０３ 増幅器 ２０５，２０７，２０９ 制御回路 ２１１，２１３，２１５ 磁束密度トランスデューサ ２１７，２１９，２２１ 増幅器ユニット ２２３ 平方根エクストラクタ ２２５ 第一電子ハイプスフィルタ ２２７ コンパレータ ２２９ 負帰還ライン ２３１ 電子インテグレータ ２３３ 第二ハイパスフィルタ ２３５ 電子コトローラ
フロントページの続き (72)発明者 ゲラルド ファン エンゲレン オランダ国 アインドーフェン フルー ネヴァウツウェッハ １ (72)発明者 ヘンドリクス ヘルマン マリー コク ス オランダ国 アインドーフェン フルー ネヴァウツウェッハ １ (72)発明者 ヘンリクス エルネスト ベークマン オランダ国 アインドーフェン フルー ネヴァウツウェッハ １ (72)発明者 フランシスカス マテイス ヤコブス オランダ国 アインドーフェン フルー ネヴァウツウェッハ １ (56)参考文献 特開 平２−1585（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−242846（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−153819（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−30943（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−199813（ＪＰ，Ａ)

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ｚ方向に平行な垂直光学主軸（１３）を
    有するレンズ系（１１）と、該レンズ系の下にある位置
    決め装置とを具備する光リソグラフ装置であり、 前記レンズ系が光リソグラフ装置のマシンフレーム
    （１；７、９）に固定され、 前記位置決め装置（３５；３７、３９、４１）によっ
    て、オブジェクトテーブル（２７）が、前記位置決め装
    置に結合されている支持部材（３）のガイド面（５）上
    で前記レンズ系に対して変移可能になされており、 前記支持部材（３）のガイド面（５）が、前記ｚ方向に
    対して直角に延在している構成の光リソグラフ装置にお
    いて、 前記支持部材（３）が、前記マシンフレーム（１；７、
    ９）に対して固定され、 前記マシンフレーム（１；７、９）が、光リソグラフ装
    置の基準フレーム（８３）と固定関係にあるベース（１
    ００）上に設けた高周波振動遮断支持体（３１）によっ
    て支持されており、 前記光リソグラフ装置が力アクチュエータシステム（６
    ９、７１、７３）を具備し、 前記力アクチュエータシステム（６９、７１、７３）
    が、前記基準フレーム（８３）に固定され、かつ、フィ
    ードフォワード制御システムによって制御されるように
    なっており、 光リソグラフ装置の運転中に、前記力アクチュエータシ
    ステム（６９、７１、７３）が、前記位置決め装置（３
    ５；３７、３９、４１）によって前記支持部材（３）に
    同時に働く反力の方向と反対方向で且つ前記反力の値と
    実質的に等しい値の補償力を前記支持部材（３）に加え
    るようになっている光リソグラフ装置。
  2. 【請求項２】 前記制御システムが加速度の負帰還を有
    し、前記力アクチュエータシステムが、加速度トランス
    デューサによって測定される前記マシンフレームの加速
    度によって決定される値と方向を有する制御力を前記支
    持部材に加えることを特徴とする請求項１に記載された
    光リソグラフ装置。
  3. 【請求項３】 前記力アクチュエータシステムが、前記
    光学主軸に対して直角である前記位置決め装置の第一変
    移方向と平行に各々動作する第一および第二力アクチュ
    エータと、前記第一変移方向に対して直角であるととも
    に前記光学主軸に対して直角である前記位置決め装置の
    第二変移方向と平行に動作する第三力アクチュエータと
    を有する請求項１または請求項２に記載された光リソグ
    ラフ装置。
  4. 【請求項４】 前記力アクチュエータシステムの各々
    が、前記基準フレーム（３）に固定された電気モータ
    と、関連する変移方向と平行に延在する結合ロッド（８
    ５、８７）とを備え、ロッド第一端部が前記電気モータ
    の出力シャフト（７７）に偏心的にピボット支持され、
    ロッド第二端部が前記支持部材（３）にピボット支持さ
    れている請求項３に記載された光リソグラフ装置。
  5. 【請求項５】 前記力アクチュエータシステムが磁束密
    度トランスデューサを有する少なくとも１つの電磁石を
    有し、該電磁石の発生力を制御可能な電子制御回路の電
    気入力端に前記磁束密度トランスデューサの電気出力端
    が接続されている請求項１または請求項２に記載された
    光リソグラフ装置。
  6. 【請求項６】 前記電子制御回路が電子平方根エクスト
    ラクタを備え、 前記電子平方根エクストラクタに対する入力信号が、前
    記電子制御回路の入力信号によって形成されるととも
    に、前記電磁石に発生させるべき所望の電磁力によって
    定まる値を有することを特徴とする請求項５に記載され
    た光リソグラフ装置。
JP08168792A 1991-03-07 1992-03-03 力が補償されるマシンフレームを有する光リソグラフ装置 Expired - Fee Related JP3524107B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL9100407 1991-03-07
NL9100407A NL9100407A (nl) 1991-03-07 1991-03-07 Optisch lithografische inrichting met een krachtgecompenseerd machinegestel.

Related Child Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001383399A Division JP3491204B2 (ja) 1991-03-07 2001-12-17 力が補償されるマシンフレームを有する光リソグラフ装置
JP2003427623A Division JP3889395B2 (ja) 1991-03-07 2003-12-24 力が補償されるマシンフレームを有する光リソグラフ装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH05121294A JPH05121294A (ja) 1993-05-18
JP3524107B2 true JP3524107B2 (ja) 2004-05-10

Family

ID=19858984

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP08168792A Expired - Fee Related JP3524107B2 (ja) 1991-03-07 1992-03-03 力が補償されるマシンフレームを有する光リソグラフ装置
JP2001383399A Expired - Fee Related JP3491204B2 (ja) 1991-03-07 2001-12-17 力が補償されるマシンフレームを有する光リソグラフ装置
JP2003427623A Expired - Fee Related JP3889395B2 (ja) 1991-03-07 2003-12-24 力が補償されるマシンフレームを有する光リソグラフ装置

Family Applications After (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001383399A Expired - Fee Related JP3491204B2 (ja) 1991-03-07 2001-12-17 力が補償されるマシンフレームを有する光リソグラフ装置
JP2003427623A Expired - Fee Related JP3889395B2 (ja) 1991-03-07 2003-12-24 力が補償されるマシンフレームを有する光リソグラフ装置

Country Status (6)

Country Link
US (1) US5172160A (ja)
EP (1) EP0502578B1 (ja)
JP (3) JP3524107B2 (ja)
KR (1) KR100249379B1 (ja)
DE (1) DE69221915T2 (ja)
NL (1) NL9100407A (ja)

Families Citing this family (86)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7656504B1 (en) 1990-08-21 2010-02-02 Nikon Corporation Projection exposure apparatus with luminous flux distribution
US5239340A (en) * 1990-11-30 1993-08-24 Sharp Kabushiki Kaisha Linear motor device having vibration reduction unit
DE69322983T2 (de) * 1992-02-21 1999-07-15 Canon K.K., Tokio/Tokyo System zum Steuern von Trägerplatten
US5545962A (en) * 1992-08-18 1996-08-13 Canon Kabushiki Kaisha Positioning system
JP3265670B2 (ja) * 1993-01-21 2002-03-11 株式会社ニコン ステージ装置、ステージ駆動方法、及び露光装置
JP3226704B2 (ja) * 1994-03-15 2001-11-05 キヤノン株式会社 露光装置
US5528118A (en) 1994-04-01 1996-06-18 Nikon Precision, Inc. Guideless stage with isolated reaction stage
US6989647B1 (en) 1994-04-01 2006-01-24 Nikon Corporation Positioning device having dynamically isolated frame, and lithographic device provided with such a positioning device
US7365513B1 (en) 1994-04-01 2008-04-29 Nikon Corporation Positioning device having dynamically isolated frame, and lithographic device provided with such a positioning device
US5874820A (en) 1995-04-04 1999-02-23 Nikon Corporation Window frame-guided stage mechanism
JP3363662B2 (ja) 1994-05-19 2003-01-08 キヤノン株式会社 走査ステージ装置およびこれを用いた露光装置
US5850280A (en) * 1994-06-16 1998-12-15 Nikon Corporation Stage unit, drive table, and scanning exposure and apparatus using same
US6246204B1 (en) 1994-06-27 2001-06-12 Nikon Corporation Electromagnetic alignment and scanning apparatus
JP3800616B2 (ja) * 1994-06-27 2006-07-26 株式会社ニコン 目標物移動装置、位置決め装置及び可動ステージ装置
KR100399812B1 (ko) 1994-10-11 2003-12-01 가부시키가이샤 니콘 스테이지용진동방지장치
TW318255B (ja) * 1995-05-30 1997-10-21 Philips Electronics Nv
TW316874B (ja) * 1995-05-30 1997-10-01 Philips Electronics Nv
US5812420A (en) * 1995-09-05 1998-09-22 Nikon Corporation Vibration-preventive apparatus and exposure apparatus
JP3221823B2 (ja) * 1995-11-24 2001-10-22 キヤノン株式会社 投影露光装置およびこれを用いた露光方法ならびに半導体製造方法
JPH09289155A (ja) * 1996-04-19 1997-11-04 Nikon Corp 走査型露光装置
JP3659529B2 (ja) * 1996-06-06 2005-06-15 キヤノン株式会社 露光装置およびデバイス製造方法
KR100483982B1 (ko) * 1996-06-07 2005-08-10 가부시키가이샤 니콘 진동절연장치및노광장치
US6151185A (en) * 1996-09-05 2000-11-21 Canon Kabushiki Kaisha Position detecting apparatus, positioning apparatus, and information recording apparatus using the same
JPH10112433A (ja) * 1996-10-04 1998-04-28 Nikon Corp 除振装置及び露光装置
US6462927B2 (en) * 1997-02-28 2002-10-08 Bae Systems Electronics Limited Apparatus and method for spatially coupling an electro-magnet to a support armature
US6490025B1 (en) 1997-03-17 2002-12-03 Nikon Corporation Exposure apparatus
US20010003028A1 (en) 1997-09-19 2001-06-07 Nikon Corporation Scanning Exposure Method
AU9095798A (en) * 1997-09-19 1999-04-12 Nikon Corporation Stage device, a scanning aligner and a scanning exposure method, and a device manufactured thereby
US6089525A (en) * 1997-10-07 2000-07-18 Ultratech Stepper, Inc. Six axis active vibration isolation and payload reaction force compensation system
JP3535749B2 (ja) 1997-12-10 2004-06-07 キヤノン株式会社 ステージ装置、露光装置、並びにデバイス製造方法
JP3548411B2 (ja) 1997-12-26 2004-07-28 キヤノン株式会社 ステージ装置、およびこれを用いた露光装置、ならびにデバイス製造方法
JPH11189332A (ja) 1997-12-26 1999-07-13 Canon Inc ステージ装置およびこれを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法
US6130517A (en) * 1998-02-12 2000-10-10 Nikon Corporation Magnetic actuator producing large acceleration on fine stage and low RMS power gain
JPH11294520A (ja) 1998-04-08 1999-10-29 Canon Inc 除振装置、これを用いた露光装置およびデバイス製造方法、ならびに除振方法
JP3554186B2 (ja) 1998-04-08 2004-08-18 キヤノン株式会社 露光装置、デバイス製造方法および反力受け方法
JP2000021702A (ja) 1998-06-30 2000-01-21 Canon Inc 露光装置ならびにデバイス製造方法
US6198580B1 (en) 1998-08-17 2001-03-06 Newport Corporation Gimballed optical mount
US6472777B1 (en) 1998-08-25 2002-10-29 Nikon Corporation Capacitive sensor calibration method and apparatus for opposing electro-magnetic actuators
US6144118A (en) * 1998-09-18 2000-11-07 General Scanning, Inc. High-speed precision positioning apparatus
US6835941B1 (en) 1998-11-30 2004-12-28 Nikon Corporation Stage unit and its making method, and exposure apparatus and its making method
TW468090B (en) * 1998-12-17 2001-12-11 Asm Lithography Bv Servo control method, and its application in a lithographic projection apparatus
EP1059021B1 (en) * 1998-12-29 2005-03-09 Assembléon N.V. Component placement machine
US6516130B1 (en) 1998-12-30 2003-02-04 Newport Corporation Clip that aligns a fiber optic cable with a laser diode within a fiber optic module
FR2790115B1 (fr) * 1999-02-23 2001-05-04 Micro Controle Procede et dispositif pour deplacer un mobile sur une base montee elastiquement par rapport au sol
US6511035B1 (en) 1999-08-03 2003-01-28 Newport Corporation Active vibration isolation systems with nonlinear compensation to account for actuator saturation
JP2001148341A (ja) 1999-11-19 2001-05-29 Nikon Corp 露光装置
TW546551B (en) * 1999-12-21 2003-08-11 Asml Netherlands Bv Balanced positioning system for use in lithographic apparatus
JP4474020B2 (ja) 2000-06-23 2010-06-02 キヤノン株式会社 移動装置及び露光装置
US6958808B2 (en) * 2000-11-16 2005-10-25 Nikon Corporation System and method for resetting a reaction mass assembly of a stage assembly
US6885430B2 (en) * 2000-11-16 2005-04-26 Nikon Corporation System and method for resetting a reaction mass assembly of a stage assembly
US6551045B2 (en) * 2000-11-17 2003-04-22 Nikon Corporation Wafer stage chamber
US6655840B2 (en) 2001-02-13 2003-12-02 Newport Corporation Stiff cross roller bearing configuration
EP1243969A1 (en) * 2001-03-20 2002-09-25 Asm Lithography B.V. Lithographic projection apparatus and positioning system
US6601524B2 (en) 2001-03-28 2003-08-05 Newport Corporation Translation table with a spring biased dovetail bearing
US6791058B2 (en) 2001-04-25 2004-09-14 Newport Corporation Automatic laser weld machine for assembling photonic components
US6568666B2 (en) 2001-06-13 2003-05-27 Newport Corporation Method for providing high vertical damping to pneumatic isolators during large amplitude disturbances of isolated payload
US6788385B2 (en) * 2001-06-21 2004-09-07 Nikon Corporation Stage device, exposure apparatus and method
US6619611B2 (en) 2001-07-02 2003-09-16 Newport Corporation Pneumatic vibration isolator utilizing an elastomeric element for isolation and attenuation of horizontal vibration
EP1319986B1 (en) * 2001-12-11 2008-02-27 ASML Netherlands B.V. A litographic apparatus and a device manufacturing method
TWI284921B (en) 2001-12-11 2007-08-01 Asml Netherlands Bv A lithographic apparatus and a device manufacturing method
JP4011919B2 (ja) * 2002-01-16 2007-11-21 キヤノン株式会社 移動装置及び露光装置並びに半導体デバイスの製造方法
JP3977086B2 (ja) * 2002-01-18 2007-09-19 キヤノン株式会社 ステージシステム
JP3679776B2 (ja) * 2002-04-22 2005-08-03 キヤノン株式会社 駆動装置、露光装置及びデバイス製造方法
EP1357429A1 (en) * 2002-04-23 2003-10-29 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
EP1357434A1 (en) * 2002-04-23 2003-10-29 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
EP1369745B1 (en) * 2002-06-07 2013-02-27 ASML Netherlands B.V. Lihographic apparatus and device manufaturing method
JP3947501B2 (ja) 2002-06-07 2007-07-25 エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． リソグラフィ用機器およびデバイスの製造方法
JP3962669B2 (ja) * 2002-10-08 2007-08-22 キヤノン株式会社 移動装置及び露光装置並びにデバイスの製造方法
US6983703B2 (en) * 2002-11-05 2006-01-10 Asm Technology Singapore Pte Ltd Driving means to position a load
EP1457834A3 (en) * 2003-03-14 2008-10-29 Canon Kabushiki Kaisha Positioning apparatus, exposure apparatus and method for producing device
WO2004107416A1 (ja) * 2003-05-27 2004-12-09 Nikon Corporation 露光装置及びデバイスの製造方法
US6914351B2 (en) * 2003-07-02 2005-07-05 Tiax Llc Linear electrical machine for electric power generation or motive drive
US7248339B2 (en) 2003-07-04 2007-07-24 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP4323409B2 (ja) 2003-10-21 2009-09-02 エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． 位置決めシステム及び位置決め方法
JP2005203567A (ja) * 2004-01-15 2005-07-28 Canon Inc 駆動装置、露光装置及びデバイス製造方法
US8231098B2 (en) 2004-12-07 2012-07-31 Newport Corporation Methods and devices for active vibration damping of an optical structure
KR101346957B1 (ko) * 2005-06-02 2014-01-02 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 광학 결상 장치
JP2007027331A (ja) * 2005-07-14 2007-02-01 Canon Inc 駆動装置及びこれを用いた露光装置並びにデバイス製造方法
US20070108850A1 (en) * 2005-11-17 2007-05-17 Tiax Llc Linear electrical machine for electric power generation or motive drive
EP1803967B1 (de) * 2005-12-30 2016-08-03 Integrated Dynamics Engineering GmbH Schwingungsisolationssystem mit Störgrössenaufschaltung von vorhersehbaren Kraftstörungen
JP4834439B2 (ja) * 2006-03-30 2011-12-14 キヤノン株式会社 ステージ装置及びその制御方法、露光装置及びデバイス製造方法
DE102007030202A1 (de) * 2007-06-27 2009-01-22 Vistec Semiconductor Systems Gmbh Koordinaten-Messmaschine mit Schwingungsentkopplung und Verfahren zur Schwingungsentkopplung einer Koordinaten-Messmaschine
US8267388B2 (en) * 2007-09-12 2012-09-18 Xradia, Inc. Alignment assembly
KR101910215B1 (ko) 2010-12-29 2018-12-19 뉴포트 코포레이션 동조 가능한 진동 댐퍼，및 제조 및 동조 방법
NL2009902A (en) 2011-12-27 2013-07-01 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method.
EP4382764A1 (en) 2022-12-09 2024-06-12 Etel S.A. Motion system with a configurable feedforward control

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6032050A (ja) * 1983-08-02 1985-02-19 Canon Inc 露光装置
US4724466A (en) * 1986-01-17 1988-02-09 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Exposure apparatus
US4805000A (en) * 1986-01-17 1989-02-14 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Exposure apparatus
NL8601547A (nl) * 1986-06-16 1988-01-18 Philips Nv Optisch litografische inrichting met verplaatsbaar lenzenstelsel en werkwijze voor het regelen van de afbeeldingseigenschappen van een lenzenstelsel in een dergelijke inrichting.
US5208497A (en) * 1989-04-17 1993-05-04 Sharp Kabushiki Kaisha Linear driving apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
JP3491204B2 (ja) 2004-01-26
DE69221915T2 (de) 1998-03-05
JPH05121294A (ja) 1993-05-18
EP0502578A1 (en) 1992-09-09
DE69221915D1 (de) 1997-10-09
JP2002319535A (ja) 2002-10-31
JP3889395B2 (ja) 2007-03-07
EP0502578B1 (en) 1997-09-03
NL9100407A (nl) 1992-10-01
JP2004140401A (ja) 2004-05-13
KR920018868A (ko) 1992-10-22
KR100249379B1 (ko) 2000-06-01
US5172160A (en) 1992-12-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3524107B2 (ja) 力が補償されるマシンフレームを有する光リソグラフ装置
EP0772801B1 (en) A positioning device with a reference frame for a measuring system
JP3640971B2 (ja) 重心移動を補償するフォースアクチュエータ装置を有する位置決め装置
JP3976783B2 (ja) 振動を受けない物品テーブルを有する位置決め装置
US6281654B1 (en) Method for making apparatus with dynamic support structure isolation and exposure method
US6989647B1 (en) Positioning device having dynamically isolated frame, and lithographic device provided with such a positioning device
EP0772800B1 (en) Lithographic device with a three-dimensionally positionable mask holder
US20080180053A1 (en) Positioning device having dynamically isolated frame, and lithographic device provided with such a positioning device
JP2000274482A (ja) 能動的除振装置、露光装置及び方法並びにデバイス製造方法
JPH11150062A (ja) 除振装置及び露光装置並びに除振台の除振方法
JP2007240396A (ja) 振動検出センサ、防振装置、及び露光装置
JP6566192B2 (ja) 防振装置、露光装置、及びデバイス製造方法
KR100483982B1 (ko) 진동절연장치및노광장치
JP4229347B2 (ja) 能動制振装置、露光装置及びデバイス製造方法
WO2005085671A1 (ja) 防振装置、露光装置、及び防振方法
Arling et al. Six degree of freedom fine motion positioning stage based on magnetic levitation
JP3707575B2 (ja) 除振装置及び露光装置
JP2000012435A (ja) 除振装置および露光装置
JP2003263227A (ja) ステージ制御装置の設計方法、露光装置、及びデバイス製造方法
JP4287781B2 (ja) 測定システム用基準フレームを有する位置決め装置
JP3636337B2 (ja) 除振装置及び露光装置
KR100430493B1 (ko) 3차원으로위치설정가능한마스크홀더를가진리소그래피장치
KR100427428B1 (ko) 중력중심변위보정용힘작동기시스템을가진위치설정장치
KR100434618B1 (ko) 측정시스템용기준프레임을가진위치설정장치
JPH11511905A (ja) 測定システム用基準フレームを有する位置決め装置

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20020426

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20031126

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20031201

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20031224

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20040212

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080220

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080220

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090220

Year of fee payment: 5

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees