JP3453933B2

JP3453933B2 - Ｘ線撮像装置

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Publication number: JP3453933B2
Application number: JP14545395A
Authority: JP
Inventors: 肇武本
Original assignee: Shimadzu Corp
Current assignee: Shimadzu Corp
Priority date: 1995-05-18
Filing date: 1995-05-18
Publication date: 2003-10-06
Anticipated expiration: 2018-10-06
Also published as: JPH08317287A

Description

【発明の詳細な説明】【０００１】【産業上の利用分野】この発明は、被検体の所定の撮像
部位のマスク像とライブ像とを撮像し、これら各画像を
サブトラクションしてその部位のサブトラクション像を
得るＸ線撮像装置に関する。【０００２】【従来の技術】この種のＸ線撮像装置で所定の撮像部位
のサブトラクション像を得る場合、従来、以下のような
手順で行われている。すなわち、まず、被検体に造影剤
を投与していない状態で、所定の撮像部位のＸ線透過像
を撮像しディジタルデータに変換して、これをマスク像
として記憶しておく。次に、被検体に造影剤を投与す
る。そして、造影剤が投与された被検体の上記撮像部位
のＸ線透過像を撮像しディジタルデータに変換して、こ
れをライブ像として記憶しておく。最後に、ライブ像か
らマスク像をサブトラクションしてその部位のサブトラ
クション像（血管像）を得る。【０００３】また、Ｘ線透過像を撮像するためのＸ線透
視撮像装置と、被検体（撮像時は天板上に載置されてい
る）との相対的な位置関係を変位させながら、連続した
複数の撮像部位のマスク像とライブ像を撮像して、各撮
像部位のサブトラクション像を得ることもあるが、この
場合も、各撮像部位のマスク像とライブ像の撮像は２回
に分けて行っている。すなわち、被検体に造影剤を投与
していない状態で、Ｘ線透視撮像装置と被検体との相対
的な位置関係を変位させながら、複数の撮像部位のＸ線
透過像を順次撮像し各々ディジタルデータに変換して、
これらを各撮像部位のマスク像として記憶しておく。次
に、被検体に造影剤を投与し、造影剤が投与された被検
体とＸ線透視撮像装置との相対的な位置関係を変位させ
ながら、各マスク像を撮像したのと同じ撮像部位に対す
るライブ像を撮像して記憶する。そして、各撮像部位ご
とにライブ像からマスク像を各々サブトラクションし
て、各撮像部位のサブトラクション像を得ている。【０００４】ところで、このようにＸ線透視撮像装置と
被検体との相対的な位置関係を変位させながら複数の撮
像部位のマスク像とライブ像とを２回に分けて撮像する
場合、Ｘ線透視撮像装置と被検体との相対的な位置関係
を変位させる機構の機械的な誤差などによって、同じ撮
像部位に対してマスク像とライブ像とを撮像するように
この機構を制御しても、実際には、完全に一致させるの
は難しく、各画像は数画素ずれが生じてしまう。従っ
て、画素のずれが生じているマスク像とライブ像からサ
ブトラクション像を求めることになるので、得られたサ
ブトラクション像には、その画素のずれに起因するアー
ティファクトが発生していた。【０００５】また、１箇所の撮像部位のサブトラクショ
ン像を得る場合であっても、その部位のマスク像とライ
ブ像とを撮像する間に被検体に造影剤を投与したり、マ
スク像を撮像してからすぐにライブ像の撮像が行えない
ので、各画像の撮像の間に被検体が体動し易く、撮像さ
れたマスク像とライブ像との画素のずれが生じ易く、す
なわち、上記と同様に、得られたサブトラクション像に
はマスク像とライブ像の画素のずれに起因するアーティ
ファクトが発生し易かった。【０００６】このような不都合が生じたとき、従来で
は、いわよるリレジストレーションで対応している。す
なわち、得られたサブトラクション像をモニタなどに表
示させ、操作者が、その画像を観察しながら、その画像
のアーティファクトを軽減するように、マスク像かライ
ブ像のいずれか一方の画素をシフトさせるように操作す
る。この操作に追従して、一方の画素シフト後の画像を
用いて再演算して求めたサブトラクション像はリアルタ
イムでモニタなどに表示される。操作者は、順次表示さ
れるサブトラクション像を観察しながら、一番見易い
（サブトラクション像のアーティファクトが最も軽減さ
れた）状態になるように、上記操作を繰り返す。その結
果、マスク像とライブ像の撮像時に生じる各画像の画素
のずれに起因するアーティファクトを軽減させたサブト
ラクション像が得られる。【０００７】【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。すなわち、従来のリレジストレーションは、トラ
イアンドエラーで操作するので、画像をどの方向に何画
素シフトさせればよいかなど、その操作は経験とカンに
頼りがちである。従って、初心者などにとっては操作が
難しいという問題がある。また、熟練者であっても、最
もアーティファクトが少ないサブトラクション像を最終
的に得るまでに時間と手間を要するという問題もある。【０００８】この発明は、このような事情に鑑みてなさ
れたものであって、マスク像とライブ像の画素のずれに
起因するアーティファクトを軽減したサブトラクション
像を、誰でも簡単に短時間で得ることができるＸ線撮像
装置を提供することを目的とする。【０００９】【課題を解決するための手段】この発明は、このような
目的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、この発明は、被検体の所定の撮像部位のマスク像と
ライブ像とを撮像し、これら各画像をサブトラクション
してその部位のサブトラクション像を得るＸ線撮像装置
であって、（ａ）前記撮像部位にＸ線を照射し、前記撮
像部位を透過したＸ線透過像を撮像するＸ線透視撮像手
段と、（ｂ）前記Ｘ線透視像をディジタルデータに変換
するデータ変換手段と、（ｃ）前記撮像部位とともに前
記Ｘ線透視撮像装置によって撮像される、所定の位置に
定置されたＸ線不透過物質を含む指標と、（ｄ）造影剤
が投与されていない被検体の前記撮像部位と前記指標と
を撮像しディジタルデータに変換したＸ線透過像（マス
ク像）と、造影剤が投与された被検体の前記撮像部位と
前記指標とを撮像しディジタルデータに変換したＸ線透
過像（ライブ像）とのサブトラクションを行いその部位
の第１のサブトラクション像を求める第１の演算手段
と、（ｅ）前記第１のサブトラクション像に撮像されて
いる、前記マスク像撮像時の指標と、前記ライブ像撮像
時の指標との画素のずれを検出する画素ずれ検出手段
と、（ｆ）前記画素のずれが無くなるように前記マスク
像または前記ライブ像のいずれかの画像を基準として他
方の画像の各画素をシフトさせる画素シフト手段と、
（ｇ）基準とした画像と画素シフトさせた画像とのサブ
トラクションを行いその部位の第２のサブトラクション
像を求める第２の演算手段と、（ｈ）前記第１のサブト
ラクション像が映し出されたモニタ上で直交した２本の
指標線を設定する操作盤とを備え、（ｉ）前記画素ずれ
検出手段は、前記設定された２本の指標線に沿った画像
の濃淡の変化から前記画素のずれを検出することを特徴
とするものである。【００１０】【作用】この発明の作用は次のとおりである。指標は、
マスク像およびライブ像を撮像する際のＸ線透視撮像手
段の撮像系の撮像領域内の所定位置に定置されている。
すなわち、その指標と被検体（撮像部位）との位置関係
は、マスク像撮像時とライブ像撮像時とで変化しない。
このように指標を定置して、被検体に造影剤を投与して
いない状態で、Ｘ線透視撮像手段で所定の撮像部位に対
して指標を写し込んでＸ線透過像と撮像し、データ変換
手段でディジタルデータに変換し、これをマスク像とす
る。次に、被検体に造影剤を投与し、マスク像撮像と同
様に、造影剤が投与された被検体の上記撮像部位に対し
て指標を写し込んだライブ像を撮像する。そして、第１
の演算手段は、マスク像からライブ像をサブトラクショ
ンして第１のサブトラクション像を求める。【００１１】マスク像とライブ像とに画素のずれが発生
していれば、第１のサブトラクション像に撮像されてい
るマスク像撮像時の指標と、ライブ像撮像時の指標とに
画素のずれが生じている。そこで、操作盤を使って、第
１のサブトラクション像が映し出されたモニタ上で直交
した２本の指標線を設定する。画素ずれ検出手段は、設
定された２本の指標線に沿った画像の濃淡の変化から、
画素のずれ（ずれ方向やずれ量）を検出する。そして、
画素シフト手段は、その画素のずれが無くなるようにマ
スク像またはライブ像のいずれかの画像を基準として他
方の画像の各画素をシフトさせる。これで、基準とした
画像と画素シフトさせた画像との画素のずれは軽減され
ている。第２の演算手段は、基準とした画像と画素シフ
トさせた画像とのサブトラクションを行いその部位の第
２のサブトラクション像を求める。従って、この第２の
サブトラクション像は、マスク像とライブ像の画素のず
れに起因するアーティファクトが軽減された画像とな
る。【００１２】【実施例】以下、図面を参照してこの発明の一実施例を
説明する。図１は、この発明の一実施例に係るＸ線撮像
装置の全体構成図であり、図２は、画像処理部の構成を
示すブロック図、図３は、指標の一例を示す外観斜視図
である。【００１３】この実施例は、ベッド１、Ｘ線透視撮像手
段としてのＸ線透視撮像装置２、指標３、画像処理部
４、モニタ５、制御部６、操作盤７などを備えて構成さ
れている。【００１４】ベッド１は、床面に設置されたベッド基台
１１などの上部に天板１２が支持されて構成されてい
る。この天板１２上に被検体Ｍが載置される。【００１５】Ｘ線透視撮像装置２は、ベッド１の近傍に
配置されており、Ｘ線を照射するＸ線管２１と、イメー
ジインテンシファイアやテレビカメラなどから構成され
る撮像系２２とが、天板１２上の被検体Ｍを挟んで対向
した状態でＣ型アーム２３の両端部に取り付けられて構
成されている。Ｃ型アーム２３は、Ｘ線管２１、撮像系
２２とを被検体Ｍの体軸回りに変位可能に装置基台２４
に支持されており、Ｘ線透過像の撮像方向の調整が可能
となっている。また、装置基台２４は、モータ２５の駆
動によって図１の左右方向に移動可能で、これにより、
被検体Ｍと、Ｘ線管２１、撮像系２２との被検体Ｍの体
軸方向の相対的な位置関係を変位可能に構成している。
モータ２５の駆動制御は、制御部６により行われる。【００１６】このＸ線透視撮像装置２により、被検体Ｍ
の所定の撮像部位のＸ線透過像を撮像する。すなわち、
Ｘ線管２１から天板１２上の被検体Ｍの所定の撮像部位
にＸ線を照射し、被検体Ｍを透過したその部位のＸ線透
過像を撮像系２２で撮像して画像信号（ビデオ信号）と
して画像処理部４に与える。この実施例では、このＸ線
透過像を撮像する際、鉛などのＸ線不透過物質で構成さ
れる指標３（図３参照）を撮像系２２で撮像する領域内
（撮像部位の範囲内）の所定位置に定置してこの指標３
をＸ線透過像に写し込むようにしている。この指標３は
プレート状でその形状は、例えば矩形が好ましい。ま
た、本来の撮像目的である撮像部位内の血管像の観察に
支障がない程度で、かつ、後述する画素のずれの検出が
充分に行なえるサイズが望まれる。例えば、撮像系２２
で撮像される領域の大きさが、直径４０cmの円形領域で
あれば、指標３は１cm×１cmの矩形（正方形）程度が好
ましい。【００１７】画像処理部４は、図２に示すように、デー
タ変換手段としてのＡ／Ｄ（アナログtoディジタル）変
換器４１、第１のスイッチＳＷ１、第１のメモリ４２、
第２のメモリ４３、演算器４４、第３のメモリ４５、ス
イッチＳＷ２、画素ずれ検出手段としての画素ずれ検出
部４６、画素シフト手段としての画素シフト処理部４
７、Ｄ／Ａ（ディジタルtoアナログ）変換器４８で構成
されている。【００１８】撮像系２２からの画像信号（アナログ信
号）は、Ａ／Ｄ変換器４１でディジタルデータに変換さ
れ、第１のスイッチＳＷ１の切替えで第１、第２のメモ
リ４２、４３のいずれかに記憶される。すなわち、第
１、第２のメモリ４２、４３には、後述するように、マ
スク像とライブ像がそれぞれ記憶されることになる。な
お、第１のスイッチＳＷ１の切替えを制御することで、
第１のメモリ４２にマスク像を記憶させ、第２のメモリ
４３にライブ像を記憶させることもできるし、第１のメ
モリ４２にライブ像を記憶させ、第２のメモリ４３にマ
スク像を記憶させることもできる。演算器４４では、第
１のメモリ４２に記憶されている画像（マスク像または
ライブ像）と、第２のメモリ４３に記憶されている画像
（ライブ像またはマスク像）とのサブトラクションを行
い、サブトラクション像（この発明における第１のサブ
トラクション像、第２のサブトラクション像）を求め
て、第３のメモリ４５に記憶する。画素ずれ検出部４６
は、演算器４４の最初の演算で第３のメモリ４５に記憶
されるサブトラクション像（第１のサブトラクション
像）に撮像されている、マスク像撮像時の指標３と、ラ
イブ像撮像時の指標３との画素のずれ（ずれ方向および
ずれ量）を検出する。画素シフト処理部４７は、検出さ
れた各指標３の画素のずれに基づき、第１のメモリ４２
に記憶されている画像を基準として、第２のメモリ４３
に記憶されている画像の各画素をシフトさせ、第２のメ
モリ４３の画像を書き換える。第２のスイッチＳＷ２
は、演算器４４による演算の際にはＡ側に、画素シフト
処理部４７による画素シフト処理の際にはＢ側に切り替
えられる。第１、第２のスイッチＳＷ１、ＳＷ２の切替
え制御やその他各部の駆動制御は、制御部６によって行
われる。また、第３のメモリ４５に記憶されるサブトラ
クション像（第１、第２のサブトラクション像）はＤ／
Ａ変換器４８でアナログデータに変換された後、モニタ
５に表示される。【００１９】なお、この実施例では、第１、第２、第３
のメモリ４２、４３、４５、演算器４４が、この発明に
おける第１の演算手段と第２の演算手段を兼ねている。【００２０】制御部６は、操作盤７からの指示などによ
って各装置、各部の駆動制御を行う。この制御部６は、
後述する動作制御を実現するプログラムを遂行するＣＰ
Ｕ（中央処理装置）で構成されている。【００２１】操作盤７は、撮像部位や条件の設定、処理
開始指示、モニタ５に表示される第１のサブトラクショ
ン像に対する指標線（詳述は後述する）の設定などを操
作者が行うためのものである。【００２２】上記構成を有する実施例装置の動作を以下
に説明する。ここでは、被検体ＭとＸ線透視撮像装置２
との相対的な位置関係を被検体Ｍの体軸方向に変位させ
て、図４に示す下肢領域の複数の連続する撮像部位ＳＢ
１〜ＳＢｎ（相前後する撮像部位は互いに一部が重なっ
ている）に対するサブトラクション像を得る場合の動作
を説明する。【００２３】この場合、撮像系２２で各撮像部位ＳＢ１
〜ＳＢｎを撮像する領域内にそれぞれ指標３が定置され
るように、複数（この場合はｎ個）の指標３₁〜３_nを
天板１２上（天板１２と被検体Ｍとの間）の図４に示す
位置に置かれる。【００２４】そして、まず、被検体Ｍに造影剤を投与し
ない状態で、被検体ＭとＸ線透視撮像装置２との相対的
な位置関係を被検体Ｍの体軸方向に変位させ、Ｘ線管２
１、撮像系２２を各撮像部位ＳＢ１〜ＳＢｎに順次位置
させながら、各撮像部位ＳＢ１〜ＳＢｎのマスク像Ｍ１
〜Ｍｎの撮像が行われる。図４に示すように、各撮像部
位ＳＢ１〜ＳＢｎのマスク像Ｍ１〜Ｍｎにはそれぞれ指
標３₁〜３_nが写し込まれている。なお、各マスク像Ｍ
１〜Ｍｎには骨格などのサブトラクションにおけるバッ
クグランド部分が撮像されているが図４ではそれらの図
示を省略し、指標（マスク像撮像時の各指標３₁〜３_n
をライブ像撮像時の各指標３₁〜３_nと区分するため
に、マスク像撮像時の各指標を３_M1〜３_Mnで表す）のみ
を、実際よりも大きく図示している。このとき、第１の
スイッチＳＷ１はＡ側に切り替えられていて、撮像され
た各撮像部位ＳＢ１〜ＳＢｎのマスク像Ｍ１〜Ｍｎは、
第１のメモリ４２に記憶される。【００２５】次に、被検体Ｍに造影剤を投与し、造影剤
が投与された被検体ＭとＸ線透視撮像装置２との相対的
な位置関係を上記マスク像Ｍ１〜Ｍｎの撮像の場合と同
様に行わせ、各撮像部位ＳＢ１〜ＳＢｎのライブ像Ｌ１
〜Ｌｎを撮像する。図４に示すように、各撮像部位ＳＢ
１〜ＳＢｎのライブ像Ｌ１〜Ｌｎにはそれぞれ指標３₁
〜３_n（ライブ像撮像時の各指標は３_L1〜３_Lnで表す）
が写し込まれている。なお、各ライブ像Ｌ１〜Ｌｎには
骨格などのバックグランド部分と造影剤が投与された血
管像とが撮像されているが図４ではそれらの図示を省略
し、指標３_L1〜３_Ln 実際よりも大きく図示している。
このとき、第１のスイッチＳＷ１はＢ側に切り替えられ
ていて、撮像された各撮像部位ＳＢ１〜ＳＢｎのライブ
像Ｌ１〜Ｌｎは、第２のメモリ４３に記憶される。【００２６】これで、各撮像部位ＳＢ１〜ＳＢｎのマス
ク像Ｍ１〜Ｍｎとライブ像Ｌ１〜Ｌｎの撮像が完了し、
それぞれ第１、第２のメモリ４２、４３に記憶されたこ
とになる。しかしながら、各撮像部位ＳＢ１〜ＳＢｎの
マスク像Ｍ１〜Ｍｎの撮像と、各撮像部位ＳＢ１〜ＳＢ
ｎのライブ像Ｌ１〜Ｌｎの撮像とを２回に分けて行って
いるので、被検体ＭとＸ線透視撮像装置２との相対的な
位置関係を被検体Ｍの体軸方向に変位させる機構（モー
タ２５など）の機械的な誤差などにより、図５に示すよ
うに、互いに対となる撮像部位ＳＢｉ（ｉ＝１〜ｎ）に
対して撮像したマスク像Ｍｉとライブ像Ｌｉとには画素
のずれが発生し易い。この画素がずれたマスク像Ｍｉと
ライブ像Ｌｉとをサブトラクションして得たサブトラク
ション像には、上記画素のずれに起因するアーティファ
クトが発生する。【００２７】そこで、この実施例では、以下のような手
順で、上記画素のずれに起因するアーティファクトを軽
減したサブトラクション像を得るようにしている。な
お、サブトラクション像は各撮像部位ＳＢ１〜ＳＢｎご
とに以下の手順で各々求めるが以下では、ある撮像部位
ＳＢｉのサブトラクション像を得る場合で代表してその
手順を説明する。【００２８】すなわち、まず、画素がずれたままの各画
像Ｍｉ、Ｌｉを演算器４４でサブトラクションして第１
のサブトラクション像を得てこれをモニタ５に表示させ
る。このとき、撮像部位ＳＢｉについてのマスク像Ｍｉ
撮像時と、ライブ像Ｌｉ撮像時とで、指標３_iの絶対位
置（被検体Ｍの撮像部位に対する位置）は変化していな
い。従って、モニタ５に表示される第１のサブトラクシ
ョン像に撮像されている、マスク像Ｍｉ撮像時の指標３
_Miと、ライブ像Ｌｉ撮像時の指標３_Liとは、図６に示す
ように、マスク像Ｍｉとライブ像Ｌｉの画素のずれに応
じてずれることになる。なお、指標３_iは、例えば、色
濃度が高く（黒）各画像Ｍｉ、Ｌｉに写し込まれている
とすると、サブトラクション像は、ライブ像Ｌｉからマ
スク像Ｍｉをサブトラクションして求めるので、ライブ
像Ｌｉ撮像時の指標３_Liのうち、マスク像Ｍｉ撮像時の
指標３_Miと重なっていない部分の画素は色濃度が高い状
態Noで残る（図６では濃い斜線領域で示す）。一方、マ
スク像Ｍｉ撮像時の指標３_Miのうち、ライブ像Ｌｉ撮像
時の指標３_Liと重なっていない部分の画素の色濃度は
「−」の値となるが、モニタ５でこれを白（色濃度が薄
い：図６では空白で示す）として階調変換して表示する
とすると、ライブ像Ｌｉ撮像時の指標３_Liとマスク像Ｍ
ｉ撮像時の指標３_Miとが重なっている部分の画素の色濃
度は「０」となるが、上記「−」値の色濃度を白とした
ことにより、この部分の画素は中間濃度として残ること
になる（図６では淡い斜線領域で示す）。なお、各指標
３_Mi、３_Liが撮像されている以外の周囲の領域は中間濃
度となる。【００２９】操作者は、モニタ５に表示されている第１
のサブトラクション像を観察し、図７に示すように、
Ｘ、Ｙ軸上の指標線ＳＬＸとＳＬＹを操作盤７から設定
する。なお、マスク像Ｍｉ、ライブ像Ｌｉ、（第１、第
２の）サブトラクション像の画素は、Ｘ、Ｙ軸方向に配
列されているものとする。【００３０】画素ずれ検出部４６は、上記指標線ＳＬ
Ｘ、ＳＬＹに沿った第１のサブトラクション像（第３の
メモリ４５に記憶されている）の濃淡の変化を検出す
る。この結果、図７に示すように、第１のサブトラクシ
ョン像に撮像されている、ライブ像Ｌｉ撮像時の指標３
_Liと、マスク像Ｍｉ撮像時の指標３_Miとの画素のずれ方
向とずれ量とが判別できる。【００３１】この実施例では、第１のメモリ４２に記憶
される画像を基準として、第２のメモリ４３に記憶され
る画像の各画素のシフトを行うので、ここでは、第１の
メモリ４２に記憶されているマスク像Ｍｉ撮像時の指標
３_Miを基準として、Ｙ軸方向では、図７の上方向を
「＋」方向、下方向を「−」方向とし、Ｘ軸方向では、
図７の右方向を「＋」方向、左方向を「−」方向とした
とする。指標線ＳＬＸ、ＳＬＹに沿った第１のサブトラ
クション像の濃淡の変化より、図７では、ライブ像Ｌｉ
撮像時の指標３_Liは、マスク像Ｍｉ撮像時の指標３_Miを
基準として、Ｘ軸方向に「−ＥＸ画素」、Ｙ軸方向に
「＋ＥＹ画素」ずれていることがわかる。【００３２】この画素のずれ情報は、画素シフト処理部
４７に与えられ、第２のスイッチＳＷ２がＢ側に切り替
えられて、画素シフト処理部４７は、第２のメモリ４３
に記憶されている撮像部位ＳＢｉのライブ像Ｌｉの各画
素を、上記画素のずれを無くすようにシフトさせる。こ
こでは、Ｘ軸方向に「＋ＥＸ画素」だけ画素シフトさせ
るとともに、Ｙ軸方向に「−ＥＹ画素」だけ画素シフト
させ、第２のメモリ４３の撮像部位ＳＢｉのライブ像Ｌ
ｉを書き換える。この結果、第１のメモリ４２に記憶さ
れている撮像部位ＳＢｉのマスク像Ｍｉと、第２のメモ
リ４３に記憶されている撮像部位ＳＢｉのライブ像Ｌｉ
とは、全体的に画素のずれが軽減され、略同じ位置を撮
像した画像同士となる。【００３３】そして、第２のスイッチＳＷ２を再びＡ側
に切替え、第１のメモリ４２に記憶されている撮像部位
ＳＢｉのマスク像Ｍｉと、第２のメモリ４３に記憶され
ている画素シフト後の撮像部位ＳＢｉのライブ像Ｌｉと
を演算器４４に与え、再びこれら画像Ｍｉ、Ｌｉのサブ
トラクションを行わせ、サブトラクション像（第２のサ
ブトラクション像）を求め、第３にメモリ４５に記憶さ
せ、Ｄ／Ａ変換器４８でＤ／Ａ変換してこのサブトラク
ション像（第２のサブトラクション像）をモニタ５に表
示させる。この第２のサブトラクション像は、マスク像
およびライブ像撮像時に生じる画素のずれを軽減させた
マスク像とライブ像とから求めるので、マスク像および
ライブ像撮像時の画素のずれに起因するアーティファク
トが軽減されている。この第２のサブトラクション像を
撮像部位ＳＢｉのサブトラクション像とする。【００３４】なお、上記動作説明では、第１のメモリ４
２にマスク像を記憶し、第２のメモリ４３にライブ像を
記憶するようにしたが、マスク像撮像時に第１のスイッ
チＳＷ１をＢ側に切り替えてマスク像を第２のメモリ４
３に記憶し、一方、ライブ像撮像時に第１のスイッチＳ
Ｗ１をＡ側に切り替えてライブ像を第１のメモリ４２に
記憶するようにしてもよい。このときには、第１のメモ
リ４２に記憶されたライブ像が画素シフト時の基準とな
る画像となり、第２のメモリ４３に記憶されたマスク像
が画素シフト処理部４７による画素シフトの対象となる
画像になる。【００３５】また、上記構成では、被検体Ｍに対してＸ
線透視撮像装置２を水平方向に移動させることで、被検
体ＭとＸ線透視撮像装置２との相対的な位置関係を被検
体Ｍの体軸方向に変位させるようにしたが、Ｘ線透視撮
像装置２に対して被検体Ｍをを載置する天板１２を水平
方向に移動させることで、被検体ＭとＸ線透視撮像装置
２との相対的な位置関係を被検体Ｍの体軸方向に変位さ
せるようにしてもよい。【００３６】上述したように、この実施例によれば、操
作者はモニタ５に表示される第１のサブトラクション像
に対して適宜の指標線を設定するだけで、マスク像また
はライブ像に対する画素シフトのシフト方向およびシフ
ト量（画素のずれ方向およびずれ量）を自動で検出し、
それ画素のずれ情報に基づき、マスク像またはライブ像
に対する画素シフトを自動で行う。また、指標線の設定
は、モニタ５に表示される第１のサブトラクション像内
の指標を観察して行えるので、その設定は極めて簡単で
ある。すなわち、マスク像、ライブ像撮像時の画素のず
れに起因するアーティファクトが軽減されたサブトラク
ション像を、誰でも簡単な操作で得られ、かつ、処理に
要する時間や手間が大幅に軽減される。【００３７】なお、第１のサブトラクション像に撮像さ
れている、マスク像撮像時の指標３Miと、ライブ像撮像
時の指標３Liとは、図８のようなパターンが考えられ
る。図８（ａ）は、マスク像とライブ像との画素のずれ
が無い場合、図８（ｂ）は、マスク像に対してライブ像
が左上方向にずれている場合、図８（ｃ）は、マスク像
に対してライブ像が左下方向にずれている場合、図８
（ｄ）は、マスク像に対してライブ像が右上方向にずれ
ている場合、図８（ｅ）は、マスク像に対してライブ像
が右下方向にずれている場合である。【００３８】ところで、上記動作説明では、被検体Ｍと
Ｘ線透視撮像装置２との相対的な位置関係を被検体Ｍの
体軸方向に変位させながら、複数の連続する撮像部位Ｓ
Ｂ１〜ＳＢｎに対するサブトラクション像を得る場合を
例に採り説明したが、ある１箇所の撮像部位（例えば、
胸部）のサブトラクション像を得る場合にもこの実施例
は同様に適用できる。【００３９】すなわち、１箇所の撮像部位のサブトラク
ション像を得る場合、被検体に造影剤を投与していない
状態で指定の撮像部位のマスク像を撮像し、次に、被検
体に造影剤を投与し、造影剤が投与された被検体の上記
撮像部位のライブ像を撮像し、これら各画像をサブトラ
クションしてその部位のサブトラクション像を得ること
になる。従って、マスク像を撮像してからライブ像を撮
像するまでの間に、被検体に造影剤を投与しなければな
らないし、また、マスク像の撮像からライブ像の撮像ま
での間にある程度の時間間隔を要するので、その間に被
検体が体動し易い。この被検体の体動によって、マスク
像とライブ像とは画素のずれが生じるので、これら各画
像をサブトラクションして得たサブトラクション像には
その画素のずれに起因するアーティファクトが発生す
る。【００４０】この実施例によれば、このような場合のサ
ブトラクション像のアーティファクトを軽減させること
ができる。ただし、上記動作説明で挙げた例の場合、マ
スク像とライブ像の画素のずれは、撮像系２２で撮像す
る領域が被検体の体軸方向などの位置方向にずれている
ことに起因しているが、上記場合の画素のずれは被検体
の体動に起因している。従って、図９に示すように、撮
像部位ＳＢ内であって指標３を被検体Ｍの上に定置さ
せ、被検体Ｍの体動によるマスク像、ライブ像の画素の
ずれを各画像撮像時の指標の画素のずれに反映させてや
る必要がある。【００４１】なお、上記動作説明の例の場合にも、図１
０に示すように、各指標３₁〜３_nを被検体Ｍの上に定
置させれば、被検体Ｍの体動によるマスク像、ライブ像
の画素のずれで起こる各画像の画素のずれに起因するア
ーティファクトをも軽減したサブトラクション像を得る
ことができる。【００４２】【発明の効果】以上の説明から明らかなように、この発
明によれば、所定の位置に定置された指標をマスク像と
ライブ像にそれぞれ写し込んで、この指標の画素のずれ
に基づき各画像の画素のずれを無くすようにしているの
で、操作者は面倒な操作を行うことなく、また、いずれ
かの画像の各画素のシフトも１回でかつ自動で行われ
る。従って、マスク像とライブ像の画素のずれに起因す
るアーティファクトを軽減したサブトラクション像を、
誰でも簡単に短時間で得ることができる。

【図面の簡単な説明】【図１】この発明の一実施例に係るＸ線撮像装置の全体
構成図である。【図２】画像処理部の構成を示すブロック図である。【図３】指標の一例を示す外観斜視図である。【図４】実施例装置による動作を説明するための図であ
る。【図５】マスク像とライブ像の画素のずれを示す図であ
る。【図６】第１のサブトラクション像に撮像されているマ
スク像撮像時の指標とライブ像撮像時の指標を示す図で
ある。【図７】画素のずれ（ずれ方向、ずれ量）の検出原理を
説明するための図である。【図８】第１のサブトラクション像に撮像されているマ
スク像撮像時の指標とライブ像撮像時の指標とのずれの
パターンを示す図である。【図９】１箇所の撮像部位に対するサブトラクション像
を得る場合の指標の定置位置を示す図である。【図１０】複数の連続する撮像部位に対する各サブトラ
クション像を得る場合の指標の定置位置の変形例を示す
図である。【符号の説明】２ … Ｘ線透視撮像装置３ … 指標４１ … Ｄ／Ａ変換器４２ … 第１のメモリ４３ … 第２のメモリ４４ … 演算器４５ … 第３のメモリ４６ … 画素ずれ検出部４７ … 画素シフト処理部Ｍ … 被検体

Claims

(57)【特許請求の範囲】【請求項１】被検体の所定の撮像部位のマスク像とラ
イブ像とを撮像し、これら各画像をサブトラクションし
てその部位のサブトラクション像を得るＸ線撮像装置で
あって、（ａ）前記撮像部位にＸ線を照射し、前記撮像
部位を透過したＸ線透過像を撮像するＸ線透視撮像手段
と、（ｂ）前記Ｘ線透視像をディジタルデータに変換す
るデータ変換手段と、（ｃ）前記撮像部位とともに前記
Ｘ線透視撮像装置によって撮像される、所定の位置に定
置されたＸ線不透過物質を含む指標と、（ｄ）造影剤が
投与されていない被検体の前記撮像部位と前記指標とを
撮像しディジタルデータに変換したＸ線透過像（マスク
像）と、造影剤が投与された被検体の前記撮像部位と前
記指標とを撮像しディジタルデータに変換したＸ線透過
像（ライブ像）とのサブトラクションを行いその部位の
第１のサブトラクション像を求める第１の演算手段と、
（ｅ）前記第１のサブトラクション像に撮像されてい
る、前記マスク像撮像時の指標と、前記ライブ像撮像時
の指標との画素のずれを検出する画素ずれ検出手段と、
（ｆ）前記画素のずれが無くなるように前記マスク像ま
たは前記ライブ像のいずれかの画像を基準として他方の
画像の各画素をシフトさせる画素シフト手段と、（ｇ）
基準とした画像と画素シフトさせた画像とのサブトラク
ションを行いその部位の第２のサブトラクション像を求
める第２の演算手段と、（ｈ）前記第１のサブトラクシ
ョン像が映し出されたモニタ上で直交した２本の指標線
を設定する操作盤とを備え、（ｉ）前記画素ずれ検出手
段は、前記設定された２本の指標線に沿った画像の濃淡
の変化から前記画素のずれを検出することを特徴とする
Ｘ線撮像装置。