JP3370648B2 - 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法Info
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- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
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- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
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- B24B37/04—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces
- B24B37/07—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces characterised by the movement of the work or lapping tool
- B24B37/08—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces characterised by the movement of the work or lapping tool for double side lapping
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- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/8404—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers manufacturing base layers
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体用ガラ
ス基板の製造方法に関し、より詳しくは、磁気記録媒体
用ガラス基板の磁気記録層側の表面外周部の縁ダレが少
なく、磁気記録層側の表面最外周部近傍まで平坦で均質
で且つ表面欠陥が少ない磁気記録媒体用ガラス基板を製
造することができる製造方法に関する。
ス基板の製造方法に関し、より詳しくは、磁気記録媒体
用ガラス基板の磁気記録層側の表面外周部の縁ダレが少
なく、磁気記録層側の表面最外周部近傍まで平坦で均質
で且つ表面欠陥が少ない磁気記録媒体用ガラス基板を製
造することができる製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気記録媒体用基板として、従来は、ア
ルミニウム合金にＮｉ−Ｐメッキを施し、そのメッキし
た主表面を多段階で研磨して得た基板が主として使用さ
れている。しかし、近年は、ノート型パソコン等の携帯
できるパソコンにも磁気ディスク記録装置が採用されて
きており、また、磁気ディスク記録装置の応答速度を高
めるために磁気記録媒体を１００００ｒｐｍ以上で高速
回転させる必要から高強度な磁気記録媒体用基板が必要
とされてきており、これらの必要性を満たすものとして
ガラス基板が用いられて来ている。
ルミニウム合金にＮｉ−Ｐメッキを施し、そのメッキし
た主表面を多段階で研磨して得た基板が主として使用さ
れている。しかし、近年は、ノート型パソコン等の携帯
できるパソコンにも磁気ディスク記録装置が採用されて
きており、また、磁気ディスク記録装置の応答速度を高
めるために磁気記録媒体を１００００ｒｐｍ以上で高速
回転させる必要から高強度な磁気記録媒体用基板が必要
とされてきており、これらの必要性を満たすものとして
ガラス基板が用いられて来ている。
【０００３】このような磁気記録媒体用ガラス基板とし
て、化学強化によって強度アップした化学強化ガラス基
板、及び溶融成形して得られたガラス基板を６００〜８
００℃の高温に長時間保持することによって結晶相を部
分的に析出させた結晶化ガラス基板が主として採用され
ている。
て、化学強化によって強度アップした化学強化ガラス基
板、及び溶融成形して得られたガラス基板を６００〜８
００℃の高温に長時間保持することによって結晶相を部
分的に析出させた結晶化ガラス基板が主として採用され
ている。
【０００４】化学強化ガラス基板は、例えば、溶融成形
して得られた化学強化性ガラス基板を研削、研磨加工し
た後、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム等の溶融塩中に浸
漬することにより表面に圧縮応力層を形成して破壊強度
を高めた化学強化ガラス基板であり、結晶化ガラスは、
４０〜８０％の結晶相と２０〜６０％のアモルファス相
を有し、結晶相の働きで強度を高めたガラスである。
して得られた化学強化性ガラス基板を研削、研磨加工し
た後、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム等の溶融塩中に浸
漬することにより表面に圧縮応力層を形成して破壊強度
を高めた化学強化ガラス基板であり、結晶化ガラスは、
４０〜８０％の結晶相と２０〜６０％のアモルファス相
を有し、結晶相の働きで強度を高めたガラスである。
【０００５】磁気ディスク記録装置の大容量化に伴っ
て、磁気記録媒体一枚当たりの記録容量を高める為に磁
気記録媒体用ガラス基板の磁気記録層側の表面外周端近
くまで磁気記録層を形成し、磁気記録層として利用する
傾向にあり、それで磁気記録層側の表面最外周部近傍ま
での平坦性の向上が求められている。また、記録密度を
高める為に磁気記録媒体の素子は極端に小さくなってお
り、磁気記録媒体用ガラス基板表面の欠陥に関しても、
より小さく、より少なくすることが求められている。
て、磁気記録媒体一枚当たりの記録容量を高める為に磁
気記録媒体用ガラス基板の磁気記録層側の表面外周端近
くまで磁気記録層を形成し、磁気記録層として利用する
傾向にあり、それで磁気記録層側の表面最外周部近傍ま
での平坦性の向上が求められている。また、記録密度を
高める為に磁気記録媒体の素子は極端に小さくなってお
り、磁気記録媒体用ガラス基板表面の欠陥に関しても、
より小さく、より少なくすることが求められている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この様
なガラスから研削加工、研磨加工によって磁気記録媒体
用ガラス基板を製造する際の研磨加工工程において、周
知の技術、即ち、発泡ポリウレタンタイプの硬質研磨
布、又はスエードタイプの軟質研磨布と平均粒子径が
０．５〜２μｍ程度のセリウム系研磨剤を数％程度含有
する研磨液とを用いて研磨する場合には、縁ダレの程度
を要求されるレベルの範囲内に押さえたガラス基板を安
定的に製造することは極めて困難である。
なガラスから研削加工、研磨加工によって磁気記録媒体
用ガラス基板を製造する際の研磨加工工程において、周
知の技術、即ち、発泡ポリウレタンタイプの硬質研磨
布、又はスエードタイプの軟質研磨布と平均粒子径が
０．５〜２μｍ程度のセリウム系研磨剤を数％程度含有
する研磨液とを用いて研磨する場合には、縁ダレの程度
を要求されるレベルの範囲内に押さえたガラス基板を安
定的に製造することは極めて困難である。
【０００７】通常、研磨機メーカが磁気記録媒体用ガラ
ス基板を研磨するための両面研磨機を製造する際には、
研磨仕上げにより定盤表面の平面度を５０μｍ以下に調
整している。実際に使用する両面研磨機に上下の定盤を
取り付けたままの状態では定盤表面の平面度を修整する
ことはできなかったので、研磨機メーカが調整した平面
度の定盤をそのまま使用している。通常、そのような両
面研磨機に用いる研磨布は弾性体であるので、定盤表面
の多少の変形は研磨布の弾性によって吸収される。しか
し、定盤表面に研磨布を貼り付けた状態で研磨加工を続
けると、その使用時の圧力及び研磨加工に伴う発熱によ
り定盤表面が変形し、早期に１００μｍ以上にまで変形
してしまう。この状態では、定盤表面の変形量が研磨布
の弾性量よりも大きいので、研磨布の弾性では定盤の変
形を吸収できなくなる。その結果として、定盤の表面形
状（平面度）の変形が研磨布の表面形状にも現れ、上部
定盤に取り付けた研磨布表面と下部定盤に取り付けた研
磨布表面との平行が出ない状態のまま研磨を行うことに
なり、所望程度の研磨が達成されるまでの時間が長くな
り（従って、単位枚数の研磨布当たりの研磨できるガラ
ス基板の枚数が減少し）、また研磨された基板の表面に
欠陥を発生させてしまい、縁ダレの大きな原因になって
いた。
ス基板を研磨するための両面研磨機を製造する際には、
研磨仕上げにより定盤表面の平面度を５０μｍ以下に調
整している。実際に使用する両面研磨機に上下の定盤を
取り付けたままの状態では定盤表面の平面度を修整する
ことはできなかったので、研磨機メーカが調整した平面
度の定盤をそのまま使用している。通常、そのような両
面研磨機に用いる研磨布は弾性体であるので、定盤表面
の多少の変形は研磨布の弾性によって吸収される。しか
し、定盤表面に研磨布を貼り付けた状態で研磨加工を続
けると、その使用時の圧力及び研磨加工に伴う発熱によ
り定盤表面が変形し、早期に１００μｍ以上にまで変形
してしまう。この状態では、定盤表面の変形量が研磨布
の弾性量よりも大きいので、研磨布の弾性では定盤の変
形を吸収できなくなる。その結果として、定盤の表面形
状（平面度）の変形が研磨布の表面形状にも現れ、上部
定盤に取り付けた研磨布表面と下部定盤に取り付けた研
磨布表面との平行が出ない状態のまま研磨を行うことに
なり、所望程度の研磨が達成されるまでの時間が長くな
り（従って、単位枚数の研磨布当たりの研磨できるガラ
ス基板の枚数が減少し）、また研磨された基板の表面に
欠陥を発生させてしまい、縁ダレの大きな原因になって
いた。
【０００８】本発明は、磁気記録媒体用ガラス基板の磁
気記録層側の表面外周部の縁ダレが少なく、磁気記録層
側の表面最外周部近傍まで平坦で均質で且つ表面欠陥が
少ない磁気記録媒体用ガラス基板を効率よく製造するこ
とができる製造方法を提供することを課題としている。
気記録層側の表面外周部の縁ダレが少なく、磁気記録層
側の表面最外周部近傍まで平坦で均質で且つ表面欠陥が
少ない磁気記録媒体用ガラス基板を効率よく製造するこ
とができる製造方法を提供することを課題としている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記の課
題を達成するために鋭意検討した結果、従来周知の方法
にしたがって磁気記録媒体用ガラス基板を所定の板厚に
なるようにラッピング加工し、その後研磨加工するに当
たり、磁気記録媒体用ガラス基板を研磨するための両面
研磨機に上下の定盤を取り付けた状態で定盤表面を容易
に研磨できること、また、上下の定盤のそれぞれの表面
に研磨布を貼り付けて研磨布外表面の平面精度を改善で
きること、更に、上下の研磨布を相互に摺り合わせて研
磨布外表面の平面精度を更に改善できること、このよう
な改善により上記の課題が達成されることを見いだし、
本発明を完成した。
題を達成するために鋭意検討した結果、従来周知の方法
にしたがって磁気記録媒体用ガラス基板を所定の板厚に
なるようにラッピング加工し、その後研磨加工するに当
たり、磁気記録媒体用ガラス基板を研磨するための両面
研磨機に上下の定盤を取り付けた状態で定盤表面を容易
に研磨できること、また、上下の定盤のそれぞれの表面
に研磨布を貼り付けて研磨布外表面の平面精度を改善で
きること、更に、上下の研磨布を相互に摺り合わせて研
磨布外表面の平面精度を更に改善できること、このよう
な改善により上記の課題が達成されることを見いだし、
本発明を完成した。
【００１０】
【００１１】即ち、本発明の磁気記録媒体用ガラス基板
の製造方法の第１の態様は、磁気記録媒体用ガラス基板
を研磨するための両面研磨機に上下の定盤を取り付けた
状態で、上下の定盤の間に修整用研磨ボードを挟み、冷
却水を供給しながら上下の定盤を逆方向に回転させ、定
盤表面を研磨して定盤表面の平面度を３０μｍ以下と
し、次いで、上下の定盤のそれぞれの表面に研磨布を貼
り付け、上下の研磨布の間に修整用研磨ボードを挟み、
冷却水を供給することなしで上下の定盤を研磨布と共に
回転させて研磨布外表面の平面精度を改善し、その後、
磁気記録媒体用ガラス基板の研磨を繰り返し実施するこ
とを特徴とする。
の製造方法の第１の態様は、磁気記録媒体用ガラス基板
を研磨するための両面研磨機に上下の定盤を取り付けた
状態で、上下の定盤の間に修整用研磨ボードを挟み、冷
却水を供給しながら上下の定盤を逆方向に回転させ、定
盤表面を研磨して定盤表面の平面度を３０μｍ以下と
し、次いで、上下の定盤のそれぞれの表面に研磨布を貼
り付け、上下の研磨布の間に修整用研磨ボードを挟み、
冷却水を供給することなしで上下の定盤を研磨布と共に
回転させて研磨布外表面の平面精度を改善し、その後、
磁気記録媒体用ガラス基板の研磨を繰り返し実施するこ
とを特徴とする。
【００１２】本発明の磁気記録媒体用ガラス基板の製造
方法の第２の態様は、磁気記録媒体用ガラス基板を研磨
するための両面研磨機に上下の定盤を取り付けた状態
で、上下の定盤の間に修整用研磨ボードを挟み、冷却水
を供給しながら上下の定盤を逆方向に回転させ、定盤表
面を研磨して定盤表面の平面度を３０μｍ以下とし、次
いで、上下の定盤のそれぞれの表面に研磨布を貼り付
け、上下の研磨布の間に修整用研磨ボードを挟み、冷却
水を供給することなしで上下の定盤を研磨布と共に回転
させて研磨布外表面の平面精度を改善し、その後修整用
研磨ボードを用いることなしで上下の定盤を研磨布と共
に回転させ、上下の研磨布を相互に摺り合わせて研磨布
外表面の平面精度を更に改善し、その後、磁気記録媒体
用ガラス基板の研磨を繰り返し実施することを特徴とす
る。
方法の第２の態様は、磁気記録媒体用ガラス基板を研磨
するための両面研磨機に上下の定盤を取り付けた状態
で、上下の定盤の間に修整用研磨ボードを挟み、冷却水
を供給しながら上下の定盤を逆方向に回転させ、定盤表
面を研磨して定盤表面の平面度を３０μｍ以下とし、次
いで、上下の定盤のそれぞれの表面に研磨布を貼り付
け、上下の研磨布の間に修整用研磨ボードを挟み、冷却
水を供給することなしで上下の定盤を研磨布と共に回転
させて研磨布外表面の平面精度を改善し、その後修整用
研磨ボードを用いることなしで上下の定盤を研磨布と共
に回転させ、上下の研磨布を相互に摺り合わせて研磨布
外表面の平面精度を更に改善し、その後、磁気記録媒体
用ガラス基板の研磨を繰り返し実施することを特徴とす
る。
【００１３】本発明の磁気記録媒体用ガラス基板の製造
方法の実施においては、上記の第１又は２の態様の製造
方法において磁気記録媒体用ガラス基板の研磨を繰り返
し実施した後、研磨布を取り除き、その後上記の第１又
は２の態様の製造方法を最初から繰り返すことになる。
方法の実施においては、上記の第１又は２の態様の製造
方法において磁気記録媒体用ガラス基板の研磨を繰り返
し実施した後、研磨布を取り除き、その後上記の第１又
は２の態様の製造方法を最初から繰り返すことになる。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下に、本発明について詳細に説
明する。本発明の製造方法においては修整用研磨ボード
としてダイヤモンド、立方晶窒化ホウ素、炭化ホウ素、
炭化珪素、ジルコニア、アルミナ等の砥粒を含むメタル
ボンド砥石、レジノイド砥石、ガラス質で保持した砥石
等を用いることができる。
明する。本発明の製造方法においては修整用研磨ボード
としてダイヤモンド、立方晶窒化ホウ素、炭化ホウ素、
炭化珪素、ジルコニア、アルミナ等の砥粒を含むメタル
ボンド砥石、レジノイド砥石、ガラス質で保持した砥石
等を用いることができる。
【００１５】通常、研磨機メーカが磁気記録媒体用ガラ
ス基板を研磨するための両面研磨機を製造する際には、
研磨仕上げにより定盤表面の平面度を５０μｍ以下に調
整しているが、上記の課題を達成するためには定盤表面
の平面度を３０μｍ以下にする必要があることを本発明
者等は見いだした。上記のような修整用研磨ボードを用
い、磁気記録媒体用ガラス基板を研磨するための両面研
磨機に上下の定盤を取り付けた状態で、上下の定盤の間
に修整用研磨ボードを挟み、冷却水を供給しながら上下
の定盤を逆方向に回転させ、研磨することにより定盤表
面の平面度を容易に３０μｍ以下、好ましくは１０μｍ
以下にすることができる。
ス基板を研磨するための両面研磨機を製造する際には、
研磨仕上げにより定盤表面の平面度を５０μｍ以下に調
整しているが、上記の課題を達成するためには定盤表面
の平面度を３０μｍ以下にする必要があることを本発明
者等は見いだした。上記のような修整用研磨ボードを用
い、磁気記録媒体用ガラス基板を研磨するための両面研
磨機に上下の定盤を取り付けた状態で、上下の定盤の間
に修整用研磨ボードを挟み、冷却水を供給しながら上下
の定盤を逆方向に回転させ、研磨することにより定盤表
面の平面度を容易に３０μｍ以下、好ましくは１０μｍ
以下にすることができる。
【００１６】本発明の製造方法においては研磨布として
通常の研磨加工に使用されているもの、即ち、発泡ポリ
ウレタンタイプの硬質研磨布、又はスエードタイプの軟
質研磨布のどちらでも用いることができるが、より容易
に縁ダレを防止でき、且つ研磨速度が高いことから硬質
研磨布を用いることが好ましい。研磨布を研磨機の定盤
表面に貼り付ける方法としては、接着剤を用いることも
できるが、研磨布の裏面に両面テープを貼り付けてお
き、使用に当たっては研磨機の上下の定盤表面にこの両
面テープにて固定させることが好都合である。
通常の研磨加工に使用されているもの、即ち、発泡ポリ
ウレタンタイプの硬質研磨布、又はスエードタイプの軟
質研磨布のどちらでも用いることができるが、より容易
に縁ダレを防止でき、且つ研磨速度が高いことから硬質
研磨布を用いることが好ましい。研磨布を研磨機の定盤
表面に貼り付ける方法としては、接着剤を用いることも
できるが、研磨布の裏面に両面テープを貼り付けてお
き、使用に当たっては研磨機の上下の定盤表面にこの両
面テープにて固定させることが好都合である。
【００１７】上記のようにして定盤表面に研磨布を貼り
付けた状態で磁気記録媒体用ガラス基板の研磨を繰り返
し実施することができるが、定盤表面に貼り付けた研磨
布により研磨加工を実施する際に、上方の研磨布と下方
の研磨布との平行度及びそれぞれの研磨布の平面度を管
理することが好ましい。その管理方法としては、定盤の
修整と同様に上下の研磨布の間に修整用研磨ボードを挟
み、冷却水を供給することなしで上下の定盤を研磨布と
共に回転させて研磨布外表面の平面精度を改善し、平行
度を改善することが好ましい。この際に、間に挾む修整
用研磨ボードの自転方向をコントロールすることが一層
効果的である。その後修整用研磨ボードを用いることな
しで上下の定盤を研磨布と共に回転させ、上下の研磨布
を相互に摺り合わせて研磨布外表面の平面精度を更に改
善し、平行度を更に改善することが更に好ましい。
付けた状態で磁気記録媒体用ガラス基板の研磨を繰り返
し実施することができるが、定盤表面に貼り付けた研磨
布により研磨加工を実施する際に、上方の研磨布と下方
の研磨布との平行度及びそれぞれの研磨布の平面度を管
理することが好ましい。その管理方法としては、定盤の
修整と同様に上下の研磨布の間に修整用研磨ボードを挟
み、冷却水を供給することなしで上下の定盤を研磨布と
共に回転させて研磨布外表面の平面精度を改善し、平行
度を改善することが好ましい。この際に、間に挾む修整
用研磨ボードの自転方向をコントロールすることが一層
効果的である。その後修整用研磨ボードを用いることな
しで上下の定盤を研磨布と共に回転させ、上下の研磨布
を相互に摺り合わせて研磨布外表面の平面精度を更に改
善し、平行度を更に改善することが更に好ましい。
【００１８】上記したように、定盤表面の平面度を管理
し、更には研磨布の平行度及びそれぞれの研磨布の平面
度を管理して磁気記録媒体用ガラス基板を研磨加工する
ことにより、通常の研磨加工で生じる縁ダレよりも格段
に縁ダレの少ない磁気記録媒体用ガラス基板を製造する
ことが可能である。
し、更には研磨布の平行度及びそれぞれの研磨布の平面
度を管理して磁気記録媒体用ガラス基板を研磨加工する
ことにより、通常の研磨加工で生じる縁ダレよりも格段
に縁ダレの少ない磁気記録媒体用ガラス基板を製造する
ことが可能である。
【００１９】なお、磁気記録媒体用ガラス基板の研磨を
繰り返し実施する際には、一般に、最初及び途中で、即
ち何回か繰り返した後で、修整用研磨ボード４枚を上下
の研磨布の間に挟み、冷却水を供給しながら上下の定盤
を逆方向に回転させて研磨布の外表面を研磨して研磨布
表面を調整しており、本発明の製造方法においても同様
に実施することが好ましい。また、本発明の製造方法に
おいては研磨材として通常の研磨加工に使用されている
もの、例えば平均粒子径が０．５〜２μｍのセリウム系
研磨材を用い、固形分濃度で数％にした研磨液として用
いる。
繰り返し実施する際には、一般に、最初及び途中で、即
ち何回か繰り返した後で、修整用研磨ボード４枚を上下
の研磨布の間に挟み、冷却水を供給しながら上下の定盤
を逆方向に回転させて研磨布の外表面を研磨して研磨布
表面を調整しており、本発明の製造方法においても同様
に実施することが好ましい。また、本発明の製造方法に
おいては研磨材として通常の研磨加工に使用されている
もの、例えば平均粒子径が０．５〜２μｍのセリウム系
研磨材を用い、固形分濃度で数％にした研磨液として用
いる。
【００２０】
【実施例】以下に、実施例及び比較例によって本発明を
更に具体的に説明する。以下の実施例及び比較例におい
て平面度及び縁ダレの評価は次の方法で実施した。
更に具体的に説明する。以下の実施例及び比較例におい
て平面度及び縁ダレの評価は次の方法で実施した。
【００２１】平面度：磁気記録媒体用ガラス基板を研磨
するための両面研磨機の定盤の外周から半径方向内側に
５０ｍｍ、２００ｍｍ及び３５０ｍｍ入った３箇所の位
置で同時に測定できるように、株式会社ミツトヨ製のダ
イヤルゲージ（最小目盛１μｍ）を３個組み組み入れて
製作した測定治具用い、基準プレート上でダイヤルゲー
ジをゼロセットした後、定盤上の円周角で９０度変位し
た４箇所で測定（合計で１２箇所で測定）し、その最大
値を平面度とした。
するための両面研磨機の定盤の外周から半径方向内側に
５０ｍｍ、２００ｍｍ及び３５０ｍｍ入った３箇所の位
置で同時に測定できるように、株式会社ミツトヨ製のダ
イヤルゲージ（最小目盛１μｍ）を３個組み組み入れて
製作した測定治具用い、基準プレート上でダイヤルゲー
ジをゼロセットした後、定盤上の円周角で９０度変位し
た４箇所で測定（合計で１２箇所で測定）し、その最大
値を平面度とした。
【００２２】縁ダレ：ＩＤＥＭＡ（International Disk
Drive Equipment and Materials）スタンダード、ドキ
ュメントＮｏ．Ｄ２−９１で定義されているロールオフ
（Roll-off）（マイナスの場合）又はスキージャンプ
（Ski Jump）（プラスの場合）の大きさを東京精密株式
会社製サーフコム５９０Ａ（触針式表面粗さ計）で計測
し、γ＝３１．５ｍｍの位置での基準線からの偏位量
（μｍ）を縁ダレとした。３枚のガラス基板について各
ガラス基板で１箇所計測し、平均値として求めた。
Drive Equipment and Materials）スタンダード、ドキ
ュメントＮｏ．Ｄ２−９１で定義されているロールオフ
（Roll-off）（マイナスの場合）又はスキージャンプ
（Ski Jump）（プラスの場合）の大きさを東京精密株式
会社製サーフコム５９０Ａ（触針式表面粗さ計）で計測
し、γ＝３１．５ｍｍの位置での基準線からの偏位量
（μｍ）を縁ダレとした。３枚のガラス基板について各
ガラス基板で１箇所計測し、平均値として求めた。
【００２３】比較例１
通常の磁気記録媒体用ガラス基板の作製手順に従って、
リチウムシリケート結晶化ガラス板（株式会社オハラ
製：ＴＳ−１０ＳＸ、石英・クリストバライトが７０〜
８０％、残りがアモルファス）を内外径加工し、ラッピ
ング加工して、外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍ、板厚０.
６８ｍｍの多数のドーナツ状基板を作製した。
リチウムシリケート結晶化ガラス板（株式会社オハラ
製：ＴＳ−１０ＳＸ、石英・クリストバライトが７０〜
８０％、残りがアモルファス）を内外径加工し、ラッピ
ング加工して、外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍ、板厚０.
６８ｍｍの多数のドーナツ状基板を作製した。
【００２４】粒度４０〜６０μｍのダイヤモンドをニッ
ケル合金で保持している直径２０ｍｍのペレットを直径
４２０ｍｍのアルミニウム合金製のボードの両面に、片
面当たり６０個取り付けて修整用研磨ボードを作製し
た。浜井株式会社製の１６Ｂ両面研磨機に上下の定盤を
取り付けた状態で、上下の定盤の間にこの修整用研磨ボ
ード４枚を挟み、冷却水を供給しながら上下の定盤を逆
方向に回転させて定盤表面を研磨した。この際の上下の
定盤の回転数はそれぞれ２０ｒｐｍであり、荷重は１４
７０Ｎであり、研磨時間は２０分間であった。研磨前の
定盤表面の平面度が４０μｍであったが、この研磨によ
り定盤表面の平面度が１０μｍに改善された。
ケル合金で保持している直径２０ｍｍのペレットを直径
４２０ｍｍのアルミニウム合金製のボードの両面に、片
面当たり６０個取り付けて修整用研磨ボードを作製し
た。浜井株式会社製の１６Ｂ両面研磨機に上下の定盤を
取り付けた状態で、上下の定盤の間にこの修整用研磨ボ
ード４枚を挟み、冷却水を供給しながら上下の定盤を逆
方向に回転させて定盤表面を研磨した。この際の上下の
定盤の回転数はそれぞれ２０ｒｐｍであり、荷重は１４
７０Ｎであり、研磨時間は２０分間であった。研磨前の
定盤表面の平面度が４０μｍであったが、この研磨によ
り定盤表面の平面度が１０μｍに改善された。
【００２５】研磨布としてロデールニッタ製のＭＨＣ１
５Ａ（発泡ウレタン）をこの平面度の改善された定盤の
表面に両面テープで貼り付けた。磁気記録媒体用ガラス
基板の研磨を繰り返し実施する前に、上記の修整用研磨
ボード４枚を上下の研磨布の間に挟み、冷却水を供給し
ながら上下の定盤を逆方向に回転させて研磨布の外表面
を研磨して研磨布表面を調整した。この際の上下の定盤
の回転数はそれぞれ６０ｒｐｍであり、荷重は９８０Ｎ
であり、研磨時間は２０分間であった。
５Ａ（発泡ウレタン）をこの平面度の改善された定盤の
表面に両面テープで貼り付けた。磁気記録媒体用ガラス
基板の研磨を繰り返し実施する前に、上記の修整用研磨
ボード４枚を上下の研磨布の間に挟み、冷却水を供給し
ながら上下の定盤を逆方向に回転させて研磨布の外表面
を研磨して研磨布表面を調整した。この際の上下の定盤
の回転数はそれぞれ６０ｒｐｍであり、荷重は９８０Ｎ
であり、研磨時間は２０分間であった。
【００２６】次に、研磨材として三井金属鉱業株式会社
製のミレーク８０１（ＣｅＯ2 系研磨材、平均粒径Ｄ50
＝１. ５μｍ）を用いて、上記のドーナツ状基板を研磨
した。この際の上下の定盤の回転数はそれぞれ４０ｒｐ
ｍであり、研磨圧力は９８００Ｐａであり、研磨量は片
面当たり１５μｍであった。この研磨操作を５回繰り返
し、各回毎のガラス基板の縁ダレを求めた。その結果は
次の通りであった。 研磨操作回数 １回目 ２回目 ３回目 ４回目 ５回目 ロールオフ値（μｍ） ０ ０ 0.025 0.025 0.05
製のミレーク８０１（ＣｅＯ2 系研磨材、平均粒径Ｄ50
＝１. ５μｍ）を用いて、上記のドーナツ状基板を研磨
した。この際の上下の定盤の回転数はそれぞれ４０ｒｐ
ｍであり、研磨圧力は９８００Ｐａであり、研磨量は片
面当たり１５μｍであった。この研磨操作を５回繰り返
し、各回毎のガラス基板の縁ダレを求めた。その結果は
次の通りであった。 研磨操作回数 １回目 ２回目 ３回目 ４回目 ５回目 ロールオフ値（μｍ） ０ ０ 0.025 0.025 0.05
【００２７】比較例２
なお、研磨布としてロデールニッタ製のＭＨＣ１５Ａ
（発泡ウレタン）を平面度を改善する前の定盤の表面に
両面テープで貼り付けた以外は比較例１と同様にして上
記のドーナツ状基板を研磨した。この研磨操作を５回繰
り返し、各回毎のガラス基板の縁ダレを求めた。その結
果は次の通りであった。 研磨操作回数 １回目 ２回目 ３回目 ４回目 ５回目 ロールオフ値（μｍ） 0.2 0.15 0.25 0.25 0.3
（発泡ウレタン）を平面度を改善する前の定盤の表面に
両面テープで貼り付けた以外は比較例１と同様にして上
記のドーナツ状基板を研磨した。この研磨操作を５回繰
り返し、各回毎のガラス基板の縁ダレを求めた。その結
果は次の通りであった。 研磨操作回数 １回目 ２回目 ３回目 ４回目 ５回目 ロールオフ値（μｍ） 0.2 0.15 0.25 0.25 0.3
【００２８】実施例１ 比較例１
の場合と同一の条件下で浜井株式会社製の１６
Ｂ両面研磨機の上下の定盤表面を研磨した。定盤の半径
方向で測定した定盤表面の平面度は１０μｍであった。
Ｂ両面研磨機の上下の定盤表面を研磨した。定盤の半径
方向で測定した定盤表面の平面度は１０μｍであった。
【００２９】研磨布としてロデールニッタ製のＭＨＣ１
５Ａ（発泡ウレタン）をこの平面度の改善された定盤の
表面に両面テープで貼り付け、上下の研磨布の間に実施
例１で用いた修整用研磨ボード４枚を挟み、冷却水を供
給することなしで上下の定盤を逆方向に回転させて研磨
布外表面を研磨して平面度を改善させた。この際の上下
の定盤の回転数はそれぞれ２０ｒｐｍであり、荷重は１
４７０Ｎであり、研磨時間は３０分間であった。
５Ａ（発泡ウレタン）をこの平面度の改善された定盤の
表面に両面テープで貼り付け、上下の研磨布の間に実施
例１で用いた修整用研磨ボード４枚を挟み、冷却水を供
給することなしで上下の定盤を逆方向に回転させて研磨
布外表面を研磨して平面度を改善させた。この際の上下
の定盤の回転数はそれぞれ２０ｒｐｍであり、荷重は１
４７０Ｎであり、研磨時間は３０分間であった。
【００３０】磁気記録媒体用ガラス基板の研磨を繰り返
し実施する前に、上記の修整用研磨ボード４枚を上下の
研磨布の間に挟み、冷却水を供給しながら上下の定盤を
逆方向に回転させて研磨布の外表面を研磨して研磨布表
面を調整した。この際の上下の定盤の回転数はそれぞれ
６０ｒｐｍであり、荷重は９８０Ｎであり、研磨時間は
２０分間であった。
し実施する前に、上記の修整用研磨ボード４枚を上下の
研磨布の間に挟み、冷却水を供給しながら上下の定盤を
逆方向に回転させて研磨布の外表面を研磨して研磨布表
面を調整した。この際の上下の定盤の回転数はそれぞれ
６０ｒｐｍであり、荷重は９８０Ｎであり、研磨時間は
２０分間であった。
【００３１】次に、研磨材として三井金属鉱業株式会社
製のミレーク８０１（ＣｅＯ2 系研磨材、平均粒径Ｄ50
＝１. ５μｍ）を用いて、上記のドーナツ状基板を研磨
した。この際の上下の定盤の回転数はそれぞれ４０ｒｐ
ｍであり、研磨圧力は９８００Ｐａであり、研磨量は片
面当たり１５μｍであった。この研磨操作を５回繰り返
し、各回毎のガラス基板の縁ダレを求めた。その結果は
次の通りであった。 研磨操作回数 １回目 ２回目 ３回目 ４回目 ５回目 ロールオフ値（μｍ） ０ ０ ０ ０ 0.05
製のミレーク８０１（ＣｅＯ2 系研磨材、平均粒径Ｄ50
＝１. ５μｍ）を用いて、上記のドーナツ状基板を研磨
した。この際の上下の定盤の回転数はそれぞれ４０ｒｐ
ｍであり、研磨圧力は９８００Ｐａであり、研磨量は片
面当たり１５μｍであった。この研磨操作を５回繰り返
し、各回毎のガラス基板の縁ダレを求めた。その結果は
次の通りであった。 研磨操作回数 １回目 ２回目 ３回目 ４回目 ５回目 ロールオフ値（μｍ） ０ ０ ０ ０ 0.05
【００３２】実施例２ 比較例１
の場合と同一の条件下で浜井株式会社製の１６
Ｂ両面研磨機の上下の定盤表面を研磨し、実施例１の場
合と同一の条件下で研磨布の外表面を研磨して平面度を
改善した。次いで、修整用研磨ボードを用いることなし
で上下の定盤を研磨布と共に回転させ、上下の研磨布を
相互に摺り合わせて研磨布外表面の平面精度を更に改善
した。この摺り合わせの際の上下の定盤の回転数はそれ
ぞれ３０ｒｐｍであり、荷重は９８０Ｎであり、摺り合
わせ時間は１０分間であった。
Ｂ両面研磨機の上下の定盤表面を研磨し、実施例１の場
合と同一の条件下で研磨布の外表面を研磨して平面度を
改善した。次いで、修整用研磨ボードを用いることなし
で上下の定盤を研磨布と共に回転させ、上下の研磨布を
相互に摺り合わせて研磨布外表面の平面精度を更に改善
した。この摺り合わせの際の上下の定盤の回転数はそれ
ぞれ３０ｒｐｍであり、荷重は９８０Ｎであり、摺り合
わせ時間は１０分間であった。
【００３３】磁気記録媒体用ガラス基板の研磨を繰り返
し実施する前に、上記の修整用研磨ボード４枚を上下の
研磨布の間に挟み、冷却水を供給しながら上下の定盤を
逆方向に回転させて研磨布の外表面を研磨して研磨布表
面を調整した。この際の上下の定盤の回転数はそれぞれ
６０ｒｐｍであり、荷重は９８０Ｎであり、研磨時間は
２０分間であった。
し実施する前に、上記の修整用研磨ボード４枚を上下の
研磨布の間に挟み、冷却水を供給しながら上下の定盤を
逆方向に回転させて研磨布の外表面を研磨して研磨布表
面を調整した。この際の上下の定盤の回転数はそれぞれ
６０ｒｐｍであり、荷重は９８０Ｎであり、研磨時間は
２０分間であった。
【００３４】次に、研磨材として三井金属鉱業株式会社
製のミレーク８０１（ＣｅＯ2 系研磨材、平均粒径Ｄ50
＝１. ５μｍ）を用いて、上記のドーナツ状基板を研磨
した。この際の上下の定盤の回転数はそれぞれ４０ｒｐ
ｍであり、研磨圧力は９８００Ｐａであり、研磨量は片
面当たり１５μｍであった。この研磨操作を５回繰り返
し、各回毎のガラス基板の縁ダレを求めた。その結果は
次の通りであった。 研磨操作回数 １回目 ２回目 ３回目 ４回目 ５回目 ロールオフ値（μｍ） ０ ０ ０ ０ ０
製のミレーク８０１（ＣｅＯ2 系研磨材、平均粒径Ｄ50
＝１. ５μｍ）を用いて、上記のドーナツ状基板を研磨
した。この際の上下の定盤の回転数はそれぞれ４０ｒｐ
ｍであり、研磨圧力は９８００Ｐａであり、研磨量は片
面当たり１５μｍであった。この研磨操作を５回繰り返
し、各回毎のガラス基板の縁ダレを求めた。その結果は
次の通りであった。 研磨操作回数 １回目 ２回目 ３回目 ４回目 ５回目 ロールオフ値（μｍ） ０ ０ ０ ０ ０
【００３５】
【発明の効果】本発明の製造方法によって磁気記録媒体
用ガラス基板を製造することにより、磁気記録媒体用ガ
ラス基板の磁気記録層側の表面外周部の縁ダレが少な
く、磁気記録層側の表面最外周部近傍まで平坦で均質で
且つ表面欠陥が少ない磁気記録媒体用ガラス基板を効率
よく製造することができる。
用ガラス基板を製造することにより、磁気記録媒体用ガ
ラス基板の磁気記録層側の表面外周部の縁ダレが少な
く、磁気記録層側の表面最外周部近傍まで平坦で均質で
且つ表面欠陥が少ない磁気記録媒体用ガラス基板を効率
よく製造することができる。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平９−193002（ＪＰ，Ａ)
特開 平６−226616（ＪＰ，Ａ)
特開 平11−10522（ＪＰ，Ａ)
特開 平11−254302（ＪＰ，Ａ)
特開2000−135671（ＪＰ，Ａ)
実開 平６−74259（ＪＰ，Ｕ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G11B 5/84 - 5/858
B24B 37/00
B24D 3/00
C03C 19/00
Claims (4)
- 【請求項１】磁気記録媒体用ガラス基板を研磨するため
の両面研磨機に上下の定盤を取り付けた状態で、上下の
定盤の間に修整用研磨ボードを挟み、冷却水を供給しな
がら上下の定盤を逆方向に回転させて定盤表面を研磨
し、定盤表面の平面度を３０μｍ以下とし、 次いで、上下の定盤のそれぞれの表面に研磨布を貼り付
け、上下の研磨布の間に修整用研磨ボードを挟み、冷却
水を供給することなしで上下の定盤を研磨布と共に回転
させて研磨布外表面の平面精度を改善し、 その後、磁気記録媒体用ガラス基板の研磨を繰り返し実
施することを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製
造方法。 - 【請求項２】磁気記録媒体用ガラス基板を研磨するため
の両面研磨機に上下の定盤を取り付けた状態で、上下の
定盤の間に修整用研磨ボードを挟み、冷却水を供給しな
がら上下の定盤を逆方向に回転させ、定盤表面を研磨し
て定盤表面の平面度を３０μｍ以下とし、 次いで、上下の定盤のそれぞれの表面に研磨布を貼り付
け、上下の研磨布の間に修整用研磨ボードを挟み、冷却
水を供給することなしで上下の定盤を研磨布と共に回転
させて研磨布外表面の平面精度を改善し、 その後、修整用研磨ボードを用いることなしで上下の定
盤を研磨布と共に回転させ、上下の研磨布を相互に摺り
合わせて研磨布外表面の平面精度を更に改善し、 その後、磁気記録媒体用ガラス基板の研磨を繰り返し実
施することを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製
造方法。 - 【請求項３】請求項１又は２記載の製造方法において磁
気記録媒体用ガラス基板の研磨を繰り返し実施した後、
研磨布を取り除き、その後請求項１又は２記載の製造方
法を最初から繰り返すことを特徴とする磁気記録媒体用
ガラス基板の製造方法。 - 【請求項４】修整用研磨ボードがダイヤモンド、立方晶
窒化ホウ素、炭化ホウ素、炭化珪素、ジルコニア又はア
ルミナの砥粒を含むメタルボンド砥石又はレジノイド砥
石である請求項１〜３の何れかに記載の製造方法。
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| JP2004001165A (ja) * | 2002-04-11 | 2004-01-08 | Showa Denko Kk | 金属被覆研削材、金属被覆研削材を用いた砥石および金属被覆研削材の製造方法 |
| JP4234991B2 (ja) | 2002-12-26 | 2009-03-04 | Ｈｏｙａ株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及びその製造方法によって製造される情報記録媒体用ガラス基板 |
| WO2009049044A1 (en) * | 2007-10-09 | 2009-04-16 | Arch Aluminium & Glass Co., Inc. | Method and apparatus for producing ceramic frit-coated glass |
| JP5407693B2 (ja) * | 2009-09-17 | 2014-02-05 | 旭硝子株式会社 | ガラス基板の製造方法、研磨方法及び研磨装置、並びにガラス基板 |
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| JP3172313B2 (ja) | 1993-01-29 | 2001-06-04 | スピードファム株式会社 | 平面研磨装置における定盤の修正方法及び装置 |
| JPH09193002A (ja) * | 1996-01-12 | 1997-07-29 | Nippon Steel Corp | ウェーハ用ラップ機の定盤修正キャリヤ |
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| JPH11254302A (ja) | 1998-03-06 | 1999-09-21 | Fujikoshi Mach Corp | 両面研磨装置 |
| JP2000135671A (ja) * | 1998-10-30 | 2000-05-16 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | ウェーハ研磨用定盤、その製造方法及び ウェーハ研磨装置 |
| JP3097913B1 (ja) * | 1999-07-01 | 2000-10-10 | 日本ミクロコーティング株式会社 | ガラス基板の鏡面仕上げ方法 |
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