JP5256091B2 - 磁気ディスク用基板の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明の磁気ディスク用基板の製造方法においては、一対の定盤の間に挟持され、複数の磁気ディスク用基板を保持した状態で自転しながら公転するキャリアを備えた研磨装置で前記磁気ディスク用基板を研磨加工する際に、研磨終了後に下側定盤の回転数を上側定盤の回転数に対して相対的に大きくする。
(1)素材加工工程及び第1研削工程
まず、素材加工工程においては、ガラス基板となるガラス基材(ブランクス)は、例えば溶融ガラスを材料として、プレス法やフロート法、ダウンドロー法、リドロー法、フュージョン法など、公知の製造方法を用いて製造することができる。これらの方法うち、プレス法を用いれば、板状ガラスを廉価に製造することができる。
コアリング工程においては、例えば、円筒状のダイヤモンドドリルを用いて、このガラス基板の中心部に内孔を形成し、円環状のガラス基板とする。チャンファリング工程においては、内周端面及び外周端面をダイヤモンド砥石によって研削し、所定の面取り加工を施す。
第2研削工程においては、得られたガラス基板の両主表面について、第1研削工程と同様に、第2研削加工を行う。この第2研削工程を行うことにより、前工程において主表面に形成された微細な凹凸形状/表面ダメージ・傷などを除去し、かつ第1研削よりもさらに表面粗さを低減することで、後続の主表面に対する研磨工程を短時間で完了させることができるようになる。
端面研磨工程においては、ガラス基板の外周端面及び内周端面について、ブラシ研磨方法により、鏡面研磨を行う。このとき、研磨砥粒としては、例えば、酸化セリウム砥粒を含むスラリー(遊離砥粒)を用いることができる。この端面研磨工程により、ガラス基板の端面での汚染・ダメージ・傷の除去を行うことで、ナトリウムやカリウムのようなコロージョンの原因となるイオン析出の発生を防止できる状態になる。
主表面研磨工程として、まず第1研磨工程を施す。主表面研磨加工においては、例えば、図1に示す遊星歯車機構を用いた研磨装置を用いて行う。図1は、磁気ディスク用基板の製造方法で用いる研磨装置の概略構成を示す図である。この遊星歯車機構は、図1に示すように、上下一対の研磨定盤1,2を有している。これらの研磨定盤1,2は平板状に形成されている。これらの研磨定盤1,2の表面には、研磨材を供給するための複数の溝3が格子状に形成されている。また、研磨定盤1,2の表面には、軟質ポリシャ(スウェード)の研磨パッドが貼り付けられる。
次に、最終研磨工程として、第2研磨工程を施す。第2研磨工程は、両主表面のうち記録面となる面のみを鏡面状に仕上げることを目的とする工程である。この第2研磨工程においても、上記と同様にして遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、軟質発泡樹脂ポリッシャを用いて、主表面の鏡面研磨を行う。スラリーとしては、第1研磨工程で用いた酸化セリウム砥粒よりも微細な酸化セリウム砥粒やコロイダルシリカなどを用いることがきる。
化学強化工程においては、前述のラッピング工程及び研磨工程を終えたガラス基板に化学強化を施す。化学強化に用いる化学強化液としては、例えば、硝酸カリウム(60%)と硝酸ナトリウム(40%)の混合溶液などを用いることができる。化学強化においては、化学強化液を300℃〜400℃に加熱し、洗浄済みのガラス基板を200℃〜300℃に予熱し、化学強化溶液中に3時間〜4時間浸漬することによって行う。この浸漬の際には、ガラス基板の表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラス基板が端面で保持されるように、ホルダに収納した状態で行うことが好ましい。
(実施例)
まず、溶融させたアルミノシリケートガラスを上型、下型、胴型を用いたダイレクトプレスによりディスク形状に成型し、アモルファスの板状ガラス素材(ブランクス)を得た。この時点でブランクスの直径は66mmであった。次に、このブランクスの両主表面を第1ラッピング加工した後、円筒状のコアドリルを用いて、このガラス基板の中心部に穴部を形成して円環状のガラス基板に加工(コアリング)した。そして端部(外周端部及び内周端部)に面取り面を形成するチャンファリング加工(面取り面形成工程))を施して、直径2.5インチのガラス基板とした。
研磨終了後に上側定盤と下側定盤の回転を同時に停止したこと以外は実施例と同様にして磁気ディスク用基板の研磨加工を行った。基板をアンロードする際に1バッチ(100枚)中の上側定盤に貼り付いた基板の数を調べた。その結果を図2に併記する。
2 上研磨定盤
3 溝
4 ガラス基板
5 キャリア
5a 穴部
6 太陽歯車
7 内歯車
8 歯部
Claims (3)
- 研磨パッドが貼り付けられた一対の定盤の間に挟持され、複数の磁気ディスク用基板を保持した状態で自転しながら公転するキャリアを備えた研磨装置で、研磨材を供給しながら前記磁気ディスク用基板を研磨加工する工程を含む磁気ディスク用基板の製造方法であって、前記研磨加工終了後に、前記磁気ディスク用基板の下側定盤側の研磨パッドに対する吸着力が前記磁気ディスク用基板の上側定盤側の研磨パッドに対する吸着力よりも大きくなるように、前記磁気ディスク用基板と前記下側定盤に貼り付けられている前記研磨パッドとの間に存在する前記研磨材を外部に排出することができる範囲で、前記下側定盤の回転数を前記上側定盤の回転数に対して相対的に大きくすることを特徴とする磁気ディスク用基板の製造方法。
- 前記研磨加工において、研磨加工終了後に前記下側定盤のみを回転させることを特徴とする請求項1記載の磁気ディスク用基板の製造方法。
- 前記磁気ディスク用基板がガラス基板であることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の磁気ディスク用基板の製造方法。
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